JPH05228341A - 窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法 - Google Patents
窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法Info
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- JPH05228341A JPH05228341A JP4142490A JP14249092A JPH05228341A JP H05228341 A JPH05228341 A JP H05228341A JP 4142490 A JP4142490 A JP 4142490A JP 14249092 A JP14249092 A JP 14249092A JP H05228341 A JPH05228341 A JP H05228341A
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- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱す
る方法を提供する。 【構成】 触媒表面を運転温度に加熱して、比較的低温
の煙道ガスの存在における接触還元反応を促進する。慣
例の複雑な事態を避けるため、粒状物制御工程及び脱硫
工程の両方の下流で接触還元反応を行う。すなわち、触
媒表面自体を煙突の直前に配置する。本発明の方法は、
煙道ガスが大気中に放出される前に、煙道ガスを再加熱
する。
る方法を提供する。 【構成】 触媒表面を運転温度に加熱して、比較的低温
の煙道ガスの存在における接触還元反応を促進する。慣
例の複雑な事態を避けるため、粒状物制御工程及び脱硫
工程の両方の下流で接触還元反応を行う。すなわち、触
媒表面自体を煙突の直前に配置する。本発明の方法は、
煙道ガスが大気中に放出される前に、煙道ガスを再加熱
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、煙道ガスの脱硫工程及
び粒状物制御工程の下流で接触還元反応を行う、窒素酸
化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法に関する。
び粒状物制御工程の下流で接触還元反応を行う、窒素酸
化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガスタービン、エンジン、及び発電機を
含む慣例の窒素酸化物を発生する技術では、化石燃料を
燃焼して熱エネルギーを発生させる。この燃焼の副生物
が煙道ガスである。煙道ガスは、各種の汚染物質、例え
ば窒素酸化物(NOx)や硫黄酸化物(SOx)、を含
有する。特定の連邦環境規制に従い、NOxやSOxの
放出は、大気中に煙道ガスが放出される前に最少限に抑
える必要がある。NOxやSOxの煙道ガスを除去する
ため、以下により詳細に説明するように、それぞれ接触
還元工程や脱硫工程を利用することが慣例となってい
る。
含む慣例の窒素酸化物を発生する技術では、化石燃料を
燃焼して熱エネルギーを発生させる。この燃焼の副生物
が煙道ガスである。煙道ガスは、各種の汚染物質、例え
ば窒素酸化物(NOx)や硫黄酸化物(SOx)、を含
有する。特定の連邦環境規制に従い、NOxやSOxの
放出は、大気中に煙道ガスが放出される前に最少限に抑
える必要がある。NOxやSOxの煙道ガスを除去する
ため、以下により詳細に説明するように、それぞれ接触
還元工程や脱硫工程を利用することが慣例となってい
る。
【0003】接触還元工程は還元剤と触媒表面を使用す
る。触媒表面の上流で、還元剤例えばアンモニア(NH
3)を煙道ガス中に圧入する。触媒表面で還元反応が起こ
る。触媒表面は一般に、アルミナを担体とするバナジウ
ムやタングステンの酸化物である。
る。触媒表面の上流で、還元剤例えばアンモニア(NH
3)を煙道ガス中に圧入する。触媒表面で還元反応が起こ
る。触媒表面は一般に、アルミナを担体とするバナジウ
ムやタングステンの酸化物である。
【0004】以下に示すように、接触還元反応では、N
H3 が触媒表面でNOxと反応して、窒素と水蒸気を生
成する: 4NH3 +4NO+O2 ─── → 4N2 +6H
2 O 4NH3 +2NO2 +O2 ─── → 3N2 +6H
2 O
H3 が触媒表面でNOxと反応して、窒素と水蒸気を生
成する: 4NH3 +4NO+O2 ─── → 4N2 +6H
2 O 4NH3 +2NO2 +O2 ─── → 3N2 +6H
2 O
【0005】接触還元反応は、触媒表面において、特定
の運転温度によって主に制御される速度で起こる。上述
の接触還元反応は、十分な反応速度を達成するためには
600〜850°F(約316〜約454℃)の運転温
度を必要とする。すなわち、この反応は、煙道ガスが触
媒表面に接触してそれを通過する限られた時間内に起こ
らなければならない。煙道ガスが触媒表面の下流へ移動
してしまうと、反応は本質的に停止し、さらなるNOx
の除去は不可能となる。適当な運転温度を提供しない
と、接触還元の速度が低下して、反応が不完全になりう
る。
の運転温度によって主に制御される速度で起こる。上述
の接触還元反応は、十分な反応速度を達成するためには
600〜850°F(約316〜約454℃)の運転温
度を必要とする。すなわち、この反応は、煙道ガスが触
媒表面に接触してそれを通過する限られた時間内に起こ
らなければならない。煙道ガスが触媒表面の下流へ移動
してしまうと、反応は本質的に停止し、さらなるNOx
の除去は不可能となる。適当な運転温度を提供しない
と、接触還元の速度が低下して、反応が不完全になりう
る。
【0006】慣例的には、特定の触媒反応に必要な運転
温度は、ボイラーから出るときの高温の煙道ガスによっ
て達成されている。ボイラーから出るときの煙道ガスの
温度は約600〜800°F(約316〜約427℃)
であり、そして別の再加熱工程がない場合には、温度は
煙道ガスが冷却装置を通って移動するにつれて低下し、
大気中に入る前に約175°F(約79℃)程度に到達
する。こうして、煙道ガスが約600〜850°F(約
316〜約454℃)の運転範囲温度を獲得することが
期待できる冷却装置中のボイラーに近い地点に、触媒表
面を配置することが普通である。
温度は、ボイラーから出るときの高温の煙道ガスによっ
て達成されている。ボイラーから出るときの煙道ガスの
温度は約600〜800°F(約316〜約427℃)
であり、そして別の再加熱工程がない場合には、温度は
煙道ガスが冷却装置を通って移動するにつれて低下し、
大気中に入る前に約175°F(約79℃)程度に到達
する。こうして、煙道ガスが約600〜850°F(約
316〜約454℃)の運転範囲温度を獲得することが
期待できる冷却装置中のボイラーに近い地点に、触媒表
面を配置することが普通である。
【0007】図1に示したように、慣例のボイラー用途
では、必要な運転温度を達成するために、触媒表面6′
を、ボイラー2′の後ろでしかも節約装置4′と空気加
熱器8′との間に配置する。この配置では、触媒表面は
粒状物制御装置10′と煙道ガス脱硫装置12′の上流
にある。この慣例の配置では、接触還元反応が、以下に
詳細に説明する煙道ガス脱硫工程及び粒状物制御工程の
両方の前で起こる。しかしながら、この配置順序は、少
なくとも以下の理由のために不十分であることがわかっ
ている。
では、必要な運転温度を達成するために、触媒表面6′
を、ボイラー2′の後ろでしかも節約装置4′と空気加
熱器8′との間に配置する。この配置では、触媒表面は
粒状物制御装置10′と煙道ガス脱硫装置12′の上流
にある。この慣例の配置では、接触還元反応が、以下に
詳細に説明する煙道ガス脱硫工程及び粒状物制御工程の
両方の前で起こる。しかしながら、この配置順序は、少
なくとも以下の理由のために不十分であることがわかっ
ている。
【0008】図1に示された慣例の工程順序では、煙道
ガスの脱硫工程(ここで硫黄酸化物(SOx)汚染物質
が、工場設備から出る前に煙道ガスから除去される)に
先立って、触媒工程が起こる。結果として、接触還元工
程の際にSOx汚染物質が煙道ガス中に存在する。この
ことが雑多な問題を生み出す。
ガスの脱硫工程(ここで硫黄酸化物(SOx)汚染物質
が、工場設備から出る前に煙道ガスから除去される)に
先立って、触媒工程が起こる。結果として、接触還元工
程の際にSOx汚染物質が煙道ガス中に存在する。この
ことが雑多な問題を生み出す。
【0009】例えば、NH3 はSO3 汚染物質と反応し
て、硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウムの細かい粘
着性の白色粒状物を生成しうる。孔質のハネカム材料で
ある触媒表面は、硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウ
ムを受容するためのポケット領域を提供する。触媒表面
は、目詰まりして役に立たなくなりうる。その後は、不
可能ではないにしろ、触媒表面から硫酸アンモニウムや
重硫酸アンモニウムを除去することは困難となりうる。
その結果、触媒表面を交換しなければならず、機械の停
止期間を余儀なくし、運転効率を妨害することになる。
て、硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウムの細かい粘
着性の白色粒状物を生成しうる。孔質のハネカム材料で
ある触媒表面は、硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウ
ムを受容するためのポケット領域を提供する。触媒表面
は、目詰まりして役に立たなくなりうる。その後は、不
可能ではないにしろ、触媒表面から硫酸アンモニウムや
重硫酸アンモニウムを除去することは困難となりうる。
その結果、触媒表面を交換しなければならず、機械の停
止期間を余儀なくし、運転効率を妨害することになる。
【0010】硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウムは
また、空気加熱器の表面をも汚染または目詰まりさせう
る。そうなると、空気加熱器を運転停止して、水噴射や
蒸気を使用して手動的に清浄しなければならない可能性
がある。機械効率のさらなる損失をもたらす。さらに、
硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウムは細かい粒状物
を形成する可能性があり、その粒状物が煙の雲として作
用して煙突のプルーム(plume)の不透明度を増大
させうる。そのうえ、NH3 はSO2 のSO3への転化
を促進する。高濃度のSO3 は、凝縮により硫酸液滴が
生成する温度である煙道ガスの酸露点を上昇させる。そ
の結果、空気加熱器中での酸凝縮を回避するため、出口
温度を上昇させなければならない。エネルギー系の損失
がもたらされ、そしてボイラー全体の効率が危ぶまれ
る。
また、空気加熱器の表面をも汚染または目詰まりさせう
る。そうなると、空気加熱器を運転停止して、水噴射や
蒸気を使用して手動的に清浄しなければならない可能性
がある。機械効率のさらなる損失をもたらす。さらに、
硫酸アンモニウムや重硫酸アンモニウムは細かい粒状物
を形成する可能性があり、その粒状物が煙の雲として作
用して煙突のプルーム(plume)の不透明度を増大
させうる。そのうえ、NH3 はSO2 のSO3への転化
を促進する。高濃度のSO3 は、凝縮により硫酸液滴が
生成する温度である煙道ガスの酸露点を上昇させる。そ
の結果、空気加熱器中での酸凝縮を回避するため、出口
温度を上昇させなければならない。エネルギー系の損失
がもたらされ、そしてボイラー全体の効率が危ぶまれ
る。
【0011】慣例の配置において粒状物制御工程の前に
触媒表面を配置することは、さらに多くの問題を生み出
す。熱エネルギーを発生させるために典型的に燃焼され
る石炭は、煙道ガス中にシリカ系フライアッシュの残留
複合物を残す。このシリカ系フライアッシュは硫黄酸化
物(SO2)及びアルカリ金属を含有する。図1に示した
ように、このフライアッシュは、接触還元工程の下流の
煙道ガス温度が300°F(約149℃)の範囲に低下
している装置内の地点に配置された電気集塵器または粒
状物制御装置によって除去されることが普通である。
触媒表面を配置することは、さらに多くの問題を生み出
す。熱エネルギーを発生させるために典型的に燃焼され
る石炭は、煙道ガス中にシリカ系フライアッシュの残留
複合物を残す。このシリカ系フライアッシュは硫黄酸化
物(SO2)及びアルカリ金属を含有する。図1に示した
ように、このフライアッシュは、接触還元工程の下流の
煙道ガス温度が300°F(約149℃)の範囲に低下
している装置内の地点に配置された電気集塵器または粒
状物制御装置によって除去されることが普通である。
【0012】粒状物制御工程の前に接触還元反応を行う
ことは、接触還元反応の際にフライアッシュが煙道ガス
中に残存していることを実質的に意味する。接触還元反
応の際のフライアッシュの存在は、いくつかの問題を引
き起こす。触媒表面は、フライアッシュに含まれるアル
カリ金属の凝縮または硫黄酸化物の吸収によって汚染さ
れうる。触媒表面は本質的に無効になりうる。さらに、
触媒表面はフライアッシュにより汚染及び/または腐食
されうる。
ことは、接触還元反応の際にフライアッシュが煙道ガス
中に残存していることを実質的に意味する。接触還元反
応の際のフライアッシュの存在は、いくつかの問題を引
き起こす。触媒表面は、フライアッシュに含まれるアル
カリ金属の凝縮または硫黄酸化物の吸収によって汚染さ
れうる。触媒表面は本質的に無効になりうる。さらに、
触媒表面はフライアッシュにより汚染及び/または腐食
されうる。
【0013】本発明とのさらなる関連は、大気中へ出る
前に冷えている特定の種類の煙道ガスを再加熱する慣例
の要望である。この工程は、175°F(約79.4
℃)未満の温度を示す比較的低温の煙道ガスと関連して
必要である。これは、比較的低温の煙道ガスが煙突から
工場設備内に出るところでは、水の凝縮が即座に起こ
り、蒸気析出物の見苦しい白色の曇りを引き起こすから
である。この白色析出物を防止するには、図1に例示し
たように、煙突から出る直前に煙道ガスを再加熱するの
が典型的である。この再加熱手順が煙道ガス温度を17
5°F(約79.4℃)以上に上昇させて、煙道ガスの
上方向への速度または浮揚力を促進する。その結果、煙
道ガスを大気中へより良好に分散させることができる。
それでもやはり、別の再加熱工程は過度のエネルギー消
費を必要とし、コストのかかる手順である。
前に冷えている特定の種類の煙道ガスを再加熱する慣例
の要望である。この工程は、175°F(約79.4
℃)未満の温度を示す比較的低温の煙道ガスと関連して
必要である。これは、比較的低温の煙道ガスが煙突から
工場設備内に出るところでは、水の凝縮が即座に起こ
り、蒸気析出物の見苦しい白色の曇りを引き起こすから
である。この白色析出物を防止するには、図1に例示し
たように、煙突から出る直前に煙道ガスを再加熱するの
が典型的である。この再加熱手順が煙道ガス温度を17
5°F(約79.4℃)以上に上昇させて、煙道ガスの
上方向への速度または浮揚力を促進する。その結果、煙
道ガスを大気中へより良好に分散させることができる。
それでもやはり、別の再加熱工程は過度のエネルギー消
費を必要とし、コストのかかる手順である。
【0014】本発明は、先に述べた慣例の接触還元工程
の問題を解決すると同時に、煙道ガスを再加熱するため
の効率的な手段を提供する。本発明は、上述のような煙
道ガスの脱硫工程及び粒状物制御工程の両方の上流に接
触還元工程を採用する方法に固有の障害を、接触還元工
程をそれら両工程の下流に配置することによって除外す
る。本発明では、接触還元工程を、煙突からの煙道ガス
の出口直前に配置する。その結果、接触還元工程に遭遇
すると煙道ガスの温度が付随的に上昇する。窒素酸化物
が除去され、しかも煙道ガスが再加熱されるという二重
の利益がもたらされる。別の再加熱工程は省かれ、エネ
ルギーは節約され、そしてそうでなければ装置のエネル
ギー損失であるものが有益となる。
の問題を解決すると同時に、煙道ガスを再加熱するため
の効率的な手段を提供する。本発明は、上述のような煙
道ガスの脱硫工程及び粒状物制御工程の両方の上流に接
触還元工程を採用する方法に固有の障害を、接触還元工
程をそれら両工程の下流に配置することによって除外す
る。本発明では、接触還元工程を、煙突からの煙道ガス
の出口直前に配置する。その結果、接触還元工程に遭遇
すると煙道ガスの温度が付随的に上昇する。窒素酸化物
が除去され、しかも煙道ガスが再加熱されるという二重
の利益がもたらされる。別の再加熱工程は省かれ、エネ
ルギーは節約され、そしてそうでなければ装置のエネル
ギー損失であるものが有益となる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における問題点や欠点を克服することである。
技術における問題点や欠点を克服することである。
【0016】本発明の別の目的及び利点は、以下の記述
において部分的に述べられるか、あるいは本発明の実施
によって習得されることができる。本発明の目的及び利
点は、添付の特許請求の範囲に特に示した要素及び組合
せによって実現され且つ達成される。
において部分的に述べられるか、あるいは本発明の実施
によって習得されることができる。本発明の目的及び利
点は、添付の特許請求の範囲に特に示した要素及び組合
せによって実現され且つ達成される。
【0017】本発明の目的を達成するため、本明細書に
広く記載され且つ具体化されているように、本発明は、
触媒表面を加熱して接触還元反応に必要な運転温度を提
供する段階、比較的低温の煙道ガスを触媒表面に配送し
て窒素酸化物を除去する段階、並びに触媒表面から熱を
煙道ガスへ伝達して煙道ガスの再加熱を引き起こし、よ
って煙突排気における水の凝縮を防止する段階を含んで
成る、窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方
法から成る。本発明の方法は、煙道ガスの脱硫工程及び
粒状物制御工程の後で接触還元反応を行う。
広く記載され且つ具体化されているように、本発明は、
触媒表面を加熱して接触還元反応に必要な運転温度を提
供する段階、比較的低温の煙道ガスを触媒表面に配送し
て窒素酸化物を除去する段階、並びに触媒表面から熱を
煙道ガスへ伝達して煙道ガスの再加熱を引き起こし、よ
って煙突排気における水の凝縮を防止する段階を含んで
成る、窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方
法から成る。本発明の方法は、煙道ガスの脱硫工程及び
粒状物制御工程の後で接触還元反応を行う。
【0018】
【課題を解決するための手段、作用、及び効果】本発明
は、比較的低温の煙道ガスの存在において接触還元反応
を促進するために触媒表面を運転温度に加熱する、窒素
酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法に関す
る。装置順序に関連する上述の慣例の複雑な事態を避け
るため、粒状物制御工程及び脱硫工程の両方の下流で接
触還元反応を行う。すなわち、触媒表面自体を煙突の直
前に配置する。その結果、接触還元反応が、粒状物制御
工程及び脱硫工程の両方に続いて起こる。本発明の方法
は、煙道ガスが大気中に放出される前に、煙道ガスを同
時に再加熱する段階をさらに提供する。
は、比較的低温の煙道ガスの存在において接触還元反応
を促進するために触媒表面を運転温度に加熱する、窒素
酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法に関す
る。装置順序に関連する上述の慣例の複雑な事態を避け
るため、粒状物制御工程及び脱硫工程の両方の下流で接
触還元反応を行う。すなわち、触媒表面自体を煙突の直
前に配置する。その結果、接触還元反応が、粒状物制御
工程及び脱硫工程の両方に続いて起こる。本発明の方法
は、煙道ガスが大気中に放出される前に、煙道ガスを同
時に再加熱する段階をさらに提供する。
【0019】本発明は、比較的低温のガス及び高温の触
媒表面を用いて接触還元を達成する。本発明は、煙道ガ
スの脱硫及び粒状物制御装置の下流に触媒表面を配置す
ることを意図している。加熱されて、接触還元反応のた
めに必要な運転温度を提供するのは本発明の触媒表面で
あり、煙道ガスの温度は無関係である。実際に、本発明
は、接触還元反応の開始前に煙道ガス温度が175°F
(約79.4℃)未満に低下することを許容する。
媒表面を用いて接触還元を達成する。本発明は、煙道ガ
スの脱硫及び粒状物制御装置の下流に触媒表面を配置す
ることを意図している。加熱されて、接触還元反応のた
めに必要な運転温度を提供するのは本発明の触媒表面で
あり、煙道ガスの温度は無関係である。実際に、本発明
は、接触還元反応の開始前に煙道ガス温度が175°F
(約79.4℃)未満に低下することを許容する。
【0020】本発明では、触媒表面が600〜850°
F(約316〜約454℃)の範囲の運転温度に加熱さ
れることが好ましい。本発明は、触媒表面が、構造内の
抵抗電線もしくは蒸気路、外部輻射加熱器、マイクロ波
輻射線、または輻射線によって加熱されうることを意図
している。
F(約316〜約454℃)の範囲の運転温度に加熱さ
れることが好ましい。本発明は、触媒表面が、構造内の
抵抗電線もしくは蒸気路、外部輻射加熱器、マイクロ波
輻射線、または輻射線によって加熱されうることを意図
している。
【0021】好ましい加熱手段は、触媒の組成や構造に
関係する。輻射加熱は、例えば赤外線加熱器を触媒上で
照らすことによって簡単に使用できるが、それは、すべ
ての表面が熱源から見える触媒構造を必要とする。
関係する。輻射加熱は、例えば赤外線加熱器を触媒上で
照らすことによって簡単に使用できるが、それは、すべ
ての表面が熱源から見える触媒構造を必要とする。
【0022】代わりに、図3及び4に示したように、触
媒材料が蒸気加熱コイルに堆積している場合には、蒸気
加熱を行うことができる。実際には、蒸気加熱が、他の
加熱手段に代わる安価な加熱を提供する。図3は、蒸気
加熱コイルを含む蒸気加熱装置を示しており、煙道ガス
は矢印20の方向でその構造に入る。蒸気配送管22に
よって蒸気熱が装置から出る。図4は、表面に配置され
た触媒材料26を有する1本の加熱管24の破断図を示
している。
媒材料が蒸気加熱コイルに堆積している場合には、蒸気
加熱を行うことができる。実際には、蒸気加熱が、他の
加熱手段に代わる安価な加熱を提供する。図3は、蒸気
加熱コイルを含む蒸気加熱装置を示しており、煙道ガス
は矢印20の方向でその構造に入る。蒸気配送管22に
よって蒸気熱が装置から出る。図4は、表面に配置され
た触媒材料26を有する1本の加熱管24の破断図を示
している。
【0023】さらに、米国特許第3,774,389号
明細書(Kitznerら)は、NOx除去とは関係ないが、図
5に示したような電気加熱式の自動車用触媒転化器28
を提供する。本発明は、Kitzner の特許のものに類似し
た電気導体を使用して触媒表面を加熱することを意図す
る。
明細書(Kitznerら)は、NOx除去とは関係ないが、図
5に示したような電気加熱式の自動車用触媒転化器28
を提供する。本発明は、Kitzner の特許のものに類似し
た電気導体を使用して触媒表面を加熱することを意図す
る。
【0024】本発明では、まず触媒を運転温度にしてか
ら煙道ガスを通過させる。これは、他の装置を始動する
いくらか前に熱源のスイッチを入れるか、あるいは触媒
を予備加熱することによって行われる。
ら煙道ガスを通過させる。これは、他の装置を始動する
いくらか前に熱源のスイッチを入れるか、あるいは触媒
を予備加熱することによって行われる。
【0025】本発明の方法では、高温の触媒表面と低温
のガスとの間で熱伝達が起こる。結果として、煙道ガス
が触媒表面に当たると煙道ガスの温度が上昇し、その後
煙道ガスは触媒表面から去っていく。換言すれば、煙道
ガスは本発明の高温の触媒によって付随的に再加熱され
る。熱の伝達量または煙道ガス温度の上昇量は、触媒の
表面積や触媒とガスとの温度差の関数となる。
のガスとの間で熱伝達が起こる。結果として、煙道ガス
が触媒表面に当たると煙道ガスの温度が上昇し、その後
煙道ガスは触媒表面から去っていく。換言すれば、煙道
ガスは本発明の高温の触媒によって付随的に再加熱され
る。熱の伝達量または煙道ガス温度の上昇量は、触媒の
表面積や触媒とガスとの温度差の関数となる。
【0026】触媒表面からガスへの熱の伝達量は、以下
の熱伝達方程式で与えられる: q=hAΔT (上式中、hは熱伝達係数であり、Aは表面積であり、
そしてΔTは表面とガスとの温度差である)
の熱伝達方程式で与えられる: q=hAΔT (上式中、hは熱伝達係数であり、Aは表面積であり、
そしてΔTは表面とガスとの温度差である)
【0027】本発明は、高温ガスを使用して高温触媒を
維持することなく、煙道ガスの温度とは無関係に十分な
接触還元反応を達成できることを発見した。従って、低
温ガス中の高温触媒が、高温ガス中の高温触媒と同等の
十分な接触還元を生み出す。窒素酸化物とアンモニアと
の間の還元反応によって分子窒素と水を生成する速度
は、高温触媒の存在によって増加する。ほとんどすべて
のガス反応の速度が高温表面との接触によって大幅に増
加し、そして特定の表面例えばバナジウムが最大の速度
増加を生み出す。これらの触媒反応では、触媒表面は高
温でなければならないが、ガス自体が高温である必要は
ない。
維持することなく、煙道ガスの温度とは無関係に十分な
接触還元反応を達成できることを発見した。従って、低
温ガス中の高温触媒が、高温ガス中の高温触媒と同等の
十分な接触還元を生み出す。窒素酸化物とアンモニアと
の間の還元反応によって分子窒素と水を生成する速度
は、高温触媒の存在によって増加する。ほとんどすべて
のガス反応の速度が高温表面との接触によって大幅に増
加し、そして特定の表面例えばバナジウムが最大の速度
増加を生み出す。これらの触媒反応では、触媒表面は高
温でなければならないが、ガス自体が高温である必要は
ない。
【0028】接触還元反応に必要な運転温度を提供する
ために本発明の加熱した触媒表面を使用すると、慣例の
触媒配置とは対照的に、複数の利益が提供される。接触
還元反応は煙道ガスの脱硫工程の下流で起こるので、上
述のSO2 やSO3 に関連する問題が回避される。さら
に、本発明の接触還元反応は粒状物制御装置の下流で起
こるために、フライアッシュに基因する困難が最小限に
抑えられる。その上、触媒温度がガス温度とは独立に制
御できるので、ボイラーの負荷変動の際にも良好なNO
x制御の維持が可能である。最後に、本発明では、スク
ラバーの下流に別のガス再加熱装置を設ける必要がな
い。
ために本発明の加熱した触媒表面を使用すると、慣例の
触媒配置とは対照的に、複数の利益が提供される。接触
還元反応は煙道ガスの脱硫工程の下流で起こるので、上
述のSO2 やSO3 に関連する問題が回避される。さら
に、本発明の接触還元反応は粒状物制御装置の下流で起
こるために、フライアッシュに基因する困難が最小限に
抑えられる。その上、触媒温度がガス温度とは独立に制
御できるので、ボイラーの負荷変動の際にも良好なNO
x制御の維持が可能である。最後に、本発明では、スク
ラバーの下流に別のガス再加熱装置を設ける必要がな
い。
【図1】慣例の接触還元法を示す工程図である。
【図2】本発明の接触還元及び煙道ガスの再加熱法を示
す工程図である。
す工程図である。
【図3】本発明の触媒表面を加熱するためのコイルを含
む蒸気加熱装置である。
む蒸気加熱装置である。
【図4】本発明の加熱コイル管の拡大断面図である。
【図5】慣例の電気加熱式触媒転化器である。
22…蒸気配送管 24…加熱管 26…触媒材料 28…電気加熱式触媒転化器
Claims (10)
- 【請求項1】 煙道ガスに、脱硫工程及び粒状物制御工
程の少なくとも一方を施す段階;前記脱硫工程及び粒状
物制御工程の少なくとも一方の下流に設けられた触媒表
面を加熱して、接触還元反応に必要な運転温度を提供す
る段階;及び前記脱硫工程及び粒状物制御工程の少なく
とも一方からの煙道ガスと反応体とを前記触媒表面に配
送して、窒素酸化物を除去するための接触還元反応を生
ぜしめる段階を含んで成る、窒素酸化物を還元し且つ煙
道ガスを再加熱する方法において、 前記加熱段階の際に、前記触媒表面を煙道ガスからの熱
伝達とは別の手段によって単に加熱すること、並びに熱
を前記触媒表面から前記煙道ガスへ伝達することで前記
煙道ガスを再加熱して、煙突排気中の水の凝縮を防止す
る段階をさらに含んで成ること、を特徴とする前記方
法。 - 【請求項2】 前記触媒表面の加熱段階が、触媒表面を
約600〜850°F(約316〜約454℃)の運転
温度に加熱する工程を含んで成る、請求項1記載の方
法。 - 【請求項3】 前記触媒表面に接触させる前に、前記煙
道ガスを冷却させることを許容する段階をさらに含んで
成る、請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 前記触媒表面の加熱段階が抵抗電線によ
って行われる、請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 前記触媒表面の加熱段階が内部蒸気路に
よって行われる、請求項1記載の方法。 - 【請求項6】 前記触媒表面の加熱段階が外部輻射加熱
器によって行われる、請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 前記触媒表面の加熱段階がマイクロ波輻
射線によって行われる、請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 前記触媒表面の加熱段階が輻射線によっ
て行われる、請求項1記載の方法。 - 【請求項9】 前記触媒表面に煙道ガスを配送する段階
の際に、前記触媒表面と接触する前の前記煙道ガス温度
が175°F(約79.4℃)未満であり、そして前記
触媒表面と接触した後の前記煙道ガス温度が175°F
(約79.4℃)以上である、請求項1記載の方法。 - 【請求項10】 前記触媒表面と接触する前に、前記煙
道ガスが600°F〜800°F(約316〜約427
℃)の温度範囲から175°F(約79.4℃)未満へ
冷却される、請求項3記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/709,815 US5213780A (en) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | Method for nitrogen oxide reduction and flue gas reheating |
| US709815 | 1991-06-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05228341A true JPH05228341A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=24851400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4142490A Pending JPH05228341A (ja) | 1991-06-04 | 1992-06-03 | 窒素酸化物を還元し且つ煙道ガスを再加熱する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5213780A (ja) |
| EP (1) | EP0517514A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05228341A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1987006357A1 (fr) * | 1986-04-09 | 1987-10-22 | Sapporo Breweries, Ltd. | Microscope pourvu d'un dispositif de balayage automatique |
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| JP3196044B2 (ja) * | 1992-09-30 | 2001-08-06 | 株式会社日本ケミカル・プラント・コンサルタント | 気体加熱装置 |
| US5785932A (en) * | 1996-02-22 | 1998-07-28 | Environmental Elements Corp. | Catalytic reactor for oxidizing mercury vapor |
| US7373791B1 (en) | 1999-07-13 | 2008-05-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of forming particulate glass batch compositions |
| US20060106636A1 (en) * | 2004-04-08 | 2006-05-18 | Hillel Segal | Internet-based job placement system for creating proposals for screened and pre-qualified participants |
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| EP2724766A1 (en) | 2012-10-26 | 2014-04-30 | Alstom Technology Ltd | A method of treating a carbon dioxide rich flue gas and a flue gas treatment system |
| CN117323817A (zh) * | 2023-11-17 | 2024-01-02 | 中冶京诚工程技术有限公司 | 电热脱硝装置 |
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| JPS5547121A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Starting of operation in exhaust smoke denitration apparatus |
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| JPS50101275A (ja) * | 1974-01-14 | 1975-08-11 | ||
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1991
- 1991-06-04 US US07/709,815 patent/US5213780A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-06-03 JP JP4142490A patent/JPH05228341A/ja active Pending
- 1992-06-04 EP EP92305118A patent/EP0517514A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
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| JPS5547121A (en) * | 1978-09-29 | 1980-04-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Starting of operation in exhaust smoke denitration apparatus |
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| WO1987006357A1 (fr) * | 1986-04-09 | 1987-10-22 | Sapporo Breweries, Ltd. | Microscope pourvu d'un dispositif de balayage automatique |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5213780A (en) | 1993-05-25 |
| EP0517514A1 (en) | 1992-12-09 |
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