JPH0523328A - 回転陰極ｘ線管 - Google Patents
回転陰極ｘ線管Info
- Publication number
- JPH0523328A JPH0523328A JP3181379A JP18137991A JPH0523328A JP H0523328 A JPH0523328 A JP H0523328A JP 3181379 A JP3181379 A JP 3181379A JP 18137991 A JP18137991 A JP 18137991A JP H0523328 A JPH0523328 A JP H0523328A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- slip ring
- brush
- ray tube
- ring
- Prior art date
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- Pending
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- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】回転陰極への給電手段として摺動するスリップ
リングとブラシが摩擦して発生する磨耗粉塵の真空容器
内への飛散を防止し、耐電圧性能の向上を図った回転陰
極Ｘ線管を得ることを目的とする。 【構成】円環状の真空容器１内に回転可能に支承された
陰極を有するリング状の回転体７に配設されたスリップ
リング８とそれに摺接するブラシ９を磁性体で形成し、
両者の摺接部の近傍に永久磁石１０を配設した。
リングとブラシが摩擦して発生する磨耗粉塵の真空容器
内への飛散を防止し、耐電圧性能の向上を図った回転陰
極Ｘ線管を得ることを目的とする。 【構成】円環状の真空容器１内に回転可能に支承された
陰極を有するリング状の回転体７に配設されたスリップ
リング８とそれに摺接するブラシ９を磁性体で形成し、
両者の摺接部の近傍に永久磁石１０を配設した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線ＣＴ装置におい
て、特に高速度撮影を行う超高速Ｘ線ＣＴ装置に使用さ
れる回転陰極Ｘ線管に関する。
て、特に高速度撮影を行う超高速Ｘ線ＣＴ装置に使用さ
れる回転陰極Ｘ線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】回転陰極Ｘ線管は、図２に示す通り円環
状の真空容器１内にリング状の陽極２が固着され外部の
高電圧発生器（図示せず）と電気的に接続されている。
状の真空容器１内にリング状の陽極２が固着され外部の
高電圧発生器（図示せず）と電気的に接続されている。
【０００３】７は磁気軸受５により回転自在に支承さ
れ、且つステ−タ６と電磁気的に結合して回転駆動され
るリング状の回転体で、この回転体７の前記リング状陽
極２の対向面には集束電極３ａとその内に収容されたフ
ィラメント３ｂよりなる少なくとも一つの陰極３が配設
されており、この陰極３と回転体７とで回転陰極を構成
している。
れ、且つステ−タ６と電磁気的に結合して回転駆動され
るリング状の回転体で、この回転体７の前記リング状陽
極２の対向面には集束電極３ａとその内に収容されたフ
ィラメント３ｂよりなる少なくとも一つの陰極３が配設
されており、この陰極３と回転体７とで回転陰極を構成
している。
【０００４】８' は前記回転体７の前記陰極３との対向
面に固定され、且つ前記陰極３と電気的に接続するスリ
ップリング、９' は前記スリップリング８' に一端が摺
接するブラシで、他端の真空容器１外への導出端はフィ
ラメント加熱電源（図示せず）ならびに高電圧電源（図
示せず）に接続されており、回転する陰極３への給電は
スリップリング方式で行われる。なお、スリップリング
８' およびブラシ９'には真空中での潤滑性に優れたＡ
ｇ、Ｃｕ、Ｃ、ＭｏＳ2 などが用いられる。
面に固定され、且つ前記陰極３と電気的に接続するスリ
ップリング、９' は前記スリップリング８' に一端が摺
接するブラシで、他端の真空容器１外への導出端はフィ
ラメント加熱電源（図示せず）ならびに高電圧電源（図
示せず）に接続されており、回転する陰極３への給電は
スリップリング方式で行われる。なお、スリップリング
８' およびブラシ９'には真空中での潤滑性に優れたＡ
ｇ、Ｃｕ、Ｃ、ＭｏＳ2 などが用いられる。
【０００５】上記構成において、陰極３に給電され、且
つ陽極２−陰極３間に高電圧が印加されると、フィラメ
ント３ｂよりの熱電子は加速・集束されて陽極２上に焦
点を形成しＸ線が発生する。
つ陽極２−陰極３間に高電圧が印加されると、フィラメ
ント３ｂよりの熱電子は加速・集束されて陽極２上に焦
点を形成しＸ線が発生する。
【０００６】一方、回転体７はステ−タ６の回転磁界で
高速に回転するので、焦点は陽極２の焦点軌道上を高速
移動し、真空容器１の空洞内に位置された被検者に全周
方向からＸ線を照射することができる。
高速に回転するので、焦点は陽極２の焦点軌道上を高速
移動し、真空容器１の空洞内に位置された被検者に全周
方向からＸ線を照射することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記の通り、回転陰極
３への外部からの給電はスリップリング方式であり、ス
リップリング８' 上を外部電源に接続されたブラシ９'
が摺動するので、両者間の摺動摩擦は磨耗粉塵を発生さ
せ、これら磨耗粉塵は真空容器１の壁や絶縁体・電極に
飛散付着して絶縁耐圧を劣化させ、Ｘ線発生特性の安定
性を低下させる。なお、回転体７で区画される陽極２と
陰極３とが対向位置するＡ室へ、スリップリング８' と
ブラシ９' の位置するＢ室で発生した粉塵が流れないよ
うに回転体７と真空容器１との間隙を狭くしたり、室間
分離板を設けるなどの対策がなされているが、いずれも
回転体７が回転するための間隙を皆無にすることはでき
ない。
３への外部からの給電はスリップリング方式であり、ス
リップリング８' 上を外部電源に接続されたブラシ９'
が摺動するので、両者間の摺動摩擦は磨耗粉塵を発生さ
せ、これら磨耗粉塵は真空容器１の壁や絶縁体・電極に
飛散付着して絶縁耐圧を劣化させ、Ｘ線発生特性の安定
性を低下させる。なお、回転体７で区画される陽極２と
陰極３とが対向位置するＡ室へ、スリップリング８' と
ブラシ９' の位置するＢ室で発生した粉塵が流れないよ
うに回転体７と真空容器１との間隙を狭くしたり、室間
分離板を設けるなどの対策がなされているが、いずれも
回転体７が回転するための間隙を皆無にすることはでき
ない。
【０００８】本発明は上述の事由に鑑みなされたもの
で、スリップリングとブラシの摺動摩擦により発生する
磨耗粉塵の真空容器内への飛散を防止し、絶縁耐電圧性
能の向上・安定化を図った回転陰極Ｘ線管を提供するこ
とを目的とする。
で、スリップリングとブラシの摺動摩擦により発生する
磨耗粉塵の真空容器内への飛散を防止し、絶縁耐電圧性
能の向上・安定化を図った回転陰極Ｘ線管を提供するこ
とを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、回転陰極への給電をスリップリングとブラ
シよりなるスリップリング方式で行うようにした回転陰
極Ｘ線管において、前記スリップリングとブラシを磁性
材で形成すると共に前記スリップリングとブラシとの摺
接近傍に永久磁石を配設したことを特徴とする。
するために、回転陰極への給電をスリップリングとブラ
シよりなるスリップリング方式で行うようにした回転陰
極Ｘ線管において、前記スリップリングとブラシを磁性
材で形成すると共に前記スリップリングとブラシとの摺
接近傍に永久磁石を配設したことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明によれば、スリップリングとブラシは磁
性体であるので両者の摺動摩擦によって発生する磨耗粉
塵は磁性粉塵である。したがって、スリップリングとブ
ラシとの摺接部に配設した永久磁石が上記磁性粉塵を吸
着・保持する。この結果、磨耗粉塵が真空容器の壁や絶
縁体・電極に飛散付着することを完全に防止することが
でき、Ｘ線管の絶縁耐電圧性能が安定しＸ線発生特性が
低下することがなくなり、常に安定したＸ線を発生でき
る。
性体であるので両者の摺動摩擦によって発生する磨耗粉
塵は磁性粉塵である。したがって、スリップリングとブ
ラシとの摺接部に配設した永久磁石が上記磁性粉塵を吸
着・保持する。この結果、磨耗粉塵が真空容器の壁や絶
縁体・電極に飛散付着することを完全に防止することが
でき、Ｘ線管の絶縁耐電圧性能が安定しＸ線発生特性が
低下することがなくなり、常に安定したＸ線を発生でき
る。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例を図１により説明する。な
お、図２と同一構成部品には同一符号を付し、その説明
を省略する。
お、図２と同一構成部品には同一符号を付し、その説明
を省略する。
【００１２】図において、８はスリップリング、９はブ
ラシでＮｉ、Ｆｅおよびこれらの合金などの磁性体で形
成されている。１０はスリップリング８とブラシ９が摺
接する位置に配設された永久磁石で、実施例では摺接部
周辺を覆うようにコ字型の永久磁石が用いられており、
図示しない支持材を介して真空容器１に付設されてい
る。
ラシでＮｉ、Ｆｅおよびこれらの合金などの磁性体で形
成されている。１０はスリップリング８とブラシ９が摺
接する位置に配設された永久磁石で、実施例では摺接部
周辺を覆うようにコ字型の永久磁石が用いられており、
図示しない支持材を介して真空容器１に付設されてい
る。
【００１３】スリップリング８とブラシ９が摺動摩擦し
て発生する磁性体の磨耗粉塵は、永久磁石１０で吸着さ
れ磨耗粉塵が真空容器壁や絶縁体・電極に飛散付着する
ことを完全に防止できる。なお、磁性体の磨耗粉塵を集
塵する永久磁石１０は、磁場が安定しているので磁気軸
受５への影響はそれの制御手段で補償でき、前記回転体
７の回転軸を精度良く制御でき、陽極２と陰極３の対応
を正確に行うことができる。
て発生する磁性体の磨耗粉塵は、永久磁石１０で吸着さ
れ磨耗粉塵が真空容器壁や絶縁体・電極に飛散付着する
ことを完全に防止できる。なお、磁性体の磨耗粉塵を集
塵する永久磁石１０は、磁場が安定しているので磁気軸
受５への影響はそれの制御手段で補償でき、前記回転体
７の回転軸を精度良く制御でき、陽極２と陰極３の対応
を正確に行うことができる。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明のとおり、スリップリングと
ブラシを磁性体にすることにより発生した磨耗粉塵を永
久磁石で吸着でき、磨耗粉塵が飛散して真空容器壁や絶
縁体などに付着することがなくなり真空容器の絶縁耐電
圧性能が安定し、且つ常に安定したＸ線を発生できる回
転陰極Ｘ線管が得られる。
ブラシを磁性体にすることにより発生した磨耗粉塵を永
久磁石で吸着でき、磨耗粉塵が飛散して真空容器壁や絶
縁体などに付着することがなくなり真空容器の絶縁耐電
圧性能が安定し、且つ常に安定したＸ線を発生できる回
転陰極Ｘ線管が得られる。
【図１】本発明の一実施例にかかる回転陰極Ｘ線管の構
成を示す図で、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−
Ｘ' 視図である。
成を示す図で、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−
Ｘ' 視図である。
【図２】従来の回転陰極Ｘ線管の概略構造を示す図で、
（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ' 視図であ
る。
（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ' 視図であ
る。
１…真空容器 ２…陽極 ３…陰極 ３ａ…集束電極 ３ｂ…フ
ィラメント ５…磁気軸受 ６…ステ−タ ７…回転体 ８、８' …スリップリング ９、９' …ブラシ １０…永久磁石
ィラメント ５…磁気軸受 ６…ステ−タ ７…回転体 ８、８' …スリップリング ９、９' …ブラシ １０…永久磁石
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】円環状の真空容器内に固設されたリング状
の陽極と、これに対向して電子線放出部を有する陰極を
リング状の回転体に配設した回転陰極および該回転陰極
への給電手段としてスリップリングとブラシを備えた回
転陰極Ｘ線管において、前記スリップリングとブラシを
磁性材で形成すると共に前記スリップリングとブラシの
摺接部近傍に永久磁石を配設したことを特徴とする回転
陰極Ｘ線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3181379A JPH0523328A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 回転陰極ｘ線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3181379A JPH0523328A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 回転陰極ｘ線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0523328A true JPH0523328A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16099703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3181379A Pending JPH0523328A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 回転陰極ｘ線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0523328A (ja) |
-
1991
- 1991-07-23 JP JP3181379A patent/JPH0523328A/ja active Pending
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