JPH0523412B2 - - Google Patents

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JPH0523412B2
JPH0523412B2 JP21672084A JP21672084A JPH0523412B2 JP H0523412 B2 JPH0523412 B2 JP H0523412B2 JP 21672084 A JP21672084 A JP 21672084A JP 21672084 A JP21672084 A JP 21672084A JP H0523412 B2 JPH0523412 B2 JP H0523412B2
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JP
Japan
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wavelength conversion
fundamental wave
optical
substrate
linbo
Prior art date
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Application number
JP21672084A
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English (en)
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JPS6194031A (ja
Inventor
Tetsuo Yanai
Kazuhisa Yamamoto
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、短波長の小型レーザ光源を実現する
ための半導体レーザを用いた光波長変換装置に関
するものであり、利用分野は、光メモリ、光デイ
スプレイ等の光情報処理分野である。
従来例の構成とその問題点 安息香酸などを用いたイオン交換処理をほどこ
したLiNbO3単結晶は、Li+−H+置換により異常
光屈折率が0.12〜0.13増加することを利用して、
光導波路を形成することができる。そこで、光を
閉じ込めるために、アルミニユーム等をマスクに
用いて、横幅1〜5μm、厚み0.3〜3μm程度の3
次元光導波路が形成され、光変調装置、光波長変
換装置の研究が行なわれている。
第1図は、このような方法で作られた光波長変
換装置の従来例(特願昭59−139889号)の構成図
であり、LiNbO3基板1の表面にイオン交換法に
より形成された光導波路2の端面に、半導体レー
ザ光3(波長λ1=0.84μm)を結合し、LiNbO3
板1の内部に第2高調波4(以下SH波と略す、
波長λ2=0.42μm)を放射させる光波長変換器で
ある。
しかしながら、この方法には次のような問題点
があつた。
(i) イオン交換処理において、LiNbO3のY軸方
向にケミカルダメージ(結晶格子欠陥に寄因す
る)が生じ、3次元光導波路の側面が乱れるこ
とによる散乱が大きく、伝送損失が2〜3dB/
cmと大きい。
(ii) 従つて、入力光パワーの2乗に比例して発生
するSH波の変換効率が小さい。
発明の目的 本発明の目的は、光導波路の伝送ロスを低減す
ることにより、高効率な高波長変換装置を提供す
ることにある。
発明の構成 従来例のように、マスクを通して厚み方向と横
方向に同時に進行するイオン交換法では、どちら
かの方向にケミカルダメージがはいりやすく低ロ
ス化が難しい。そこで本発明は、厚み方向の光の
閉じ込めはイオン交換法を用い、横方向の光の閉
じ込めは装荷型光導波構造(光ストリツプガイド
とも呼ぶ)を採用することにより、ケミカルダメ
ージを避け、低ロス化を実現した点を特徴とする
ものである。
実施例の説明 第2図は、本発明の第1実施例であり、
LiNbO3基板1の表面を240℃、13分安息香酸中
で処理することにより薄膜状屈折率増加部5を形
成し、その上面にSiO2を電子ビーム蒸着法によ
り、横幅2.0μm、厚み0.5μmの装荷部6を形成し
た。光は装荷部6の下の薄膜状屈折率増加部7に
主として閉じ込められて伝搬するために、半導体
レーザ光3の入射光は低ロスで伝搬し、高効率な
波長変換を行なうことができた。
本発明による伝送ロスは0.5〜1dB/cmと従来
に比べかなり小さく、光波長変換効率も30〜50%
従来より改善できた。本実施例における光波長変
換の原理は、LiNbO3の最大の非線形光学定数d33
を用い、基本波の導波モードと高調波の基板放射
モードの間で位相整合をとるものであり、SH波
4はLiNbO3基板内に放射する。
第3図は、本発明にかかる第2実施例の側面図
であり、基本波との結合効率を向上させるために
光入力部8としてイオン交換を2〜5μmと深く
行ない、光波長変換部9(厚みは0.4〜0.6μm)
となめらかにテーパ状に結合させ、半導体レーザ
10の光を高効率で波長変換を行なうものであ
る。
発明の効果 イオン交換法は、大きな屈折率変化と耐光ダメ
ージ特性をもつた光導波路を形成することがで
き、光波長変換素子に有効であるが、3次元導波
路の伝送ロスが大きいという短所があつた。本発
明は、この短所を取り除くもので、ここで述べた
光波長変換装置以外にもイオン交換法を用いる光
変調器などのデバイスにも有効であることは言う
までもない。
光波長変換装置としては、基本波長より最適な
導波路サイズは異なるが、いずれの波長において
も本発明のイオン交換法と装荷型光導波構造の組
み合わせは有効であり、特に、基本波長が0.8〜
0.9μmの半導体レーザを使用する時に散乱ロスの
点で有効である。
イオン交換時の条件としては、安息香酸中で、
160〜250℃、5〜20分と目的に応じて処理すれば
良く、また、安息香酸以外にもリチウム安息香酸
なども使用可能である。
装荷物体としては、SiO2以外にはAl2O3
Ta2O3の高周波スパツタ膜なども使用可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光波長変換装置の概略斜視構成
図、第2図は本発明の第1実施例の光波長変換装
置の概略斜視構成図、第3図は本発明の第2実施
例の光波長変換装置の概略断面図である。 1……LiNbO3結晶基板、3……半導体レーザ
光(基本波)、4……SH波、5……イオン交換法
により形成された薄膜状屈折率増加部、6……装
荷部、7……光が閉じ込められる部分、8……光
入射部、9……光波長変換部、10……半導体レ
ーザ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基本波を放射する半導体レーザと、 LiNbO3単結晶基板と、 前記LiNbO3単結晶基板の一主面全面をイオン
    交換して形成した薄膜状屈折率増加部と、 前記増加部上に形成したストライプ状の装荷部
    とを備え、 前記半導体レーザから出射した基本波を、前記
    装荷部直下の前記増加部端面に入射させ、前記基
    本波を前記基板の厚み方向には前記増加部により
    閉じ込め、横方向には前記装荷部により閉じ込
    め、前記基板中に放射する高調波を取り出し、 前記高調波の取り出し方法が、前記基本波の導
    波モードと前記高調波の基板への放射モードの実
    効屈折率を一致させる位相整合法であることを特
    徴とする光波長変換装置。 2 薄膜状屈折率増加部の基本波を入射させる端
    部の厚みを増加させることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の光波長変換装置。
JP59216720A 1984-10-16 1984-10-16 光波長変換装置 Granted JPS6194031A (ja)

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JP59216720A JPS6194031A (ja) 1984-10-16 1984-10-16 光波長変換装置

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JP59216720A JPS6194031A (ja) 1984-10-16 1984-10-16 光波長変換装置

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JPS6194031A JPS6194031A (ja) 1986-05-12
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DE69637984D1 (de) * 1995-12-28 2009-09-17 Panasonic Corp Optischer Wellenleiter, Vorrichtung zur Umwandlung optischer Wellenlängen und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP4776589B2 (ja) * 2007-06-19 2011-09-21 敏彦 仁科 薬剤服用補助容器

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