JPH05238785A - フォトクロミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラス - Google Patents
フォトクロミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラスInfo
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- JPH05238785A JPH05238785A JP4044437A JP4443792A JPH05238785A JP H05238785 A JPH05238785 A JP H05238785A JP 4044437 A JP4044437 A JP 4044437A JP 4443792 A JP4443792 A JP 4443792A JP H05238785 A JPH05238785 A JP H05238785A
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- Japan
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- photochromic
- glass
- compound
- group
- carbon atoms
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アルコキシシリル基を付与したフォトクロミ
ック化合物（アルコキシシリルスピロ化合物）とアリコ
キシシラン化合物の反応により生成された耐熱性の向上
したフォトクロミック層を有したガラスを得る。 【構成】 ガラス板上にフォトクロミック層が形成され
ているフォトクロミックガラスであって、該フォトクロ
ミック層は、スピロ構造を有するフォトクロミック化合
物にアルコキシシリル基が付与された化合物、アルコキ
シシラン化合物および酸触媒を含有する溶液をガラス板
上に塗布、乾燥して形成されるフォトクロミックガラ
ス。
ック化合物（アルコキシシリルスピロ化合物）とアリコ
キシシラン化合物の反応により生成された耐熱性の向上
したフォトクロミック層を有したガラスを得る。 【構成】 ガラス板上にフォトクロミック層が形成され
ているフォトクロミックガラスであって、該フォトクロ
ミック層は、スピロ構造を有するフォトクロミック化合
物にアルコキシシリル基が付与された化合物、アルコキ
シシラン化合物および酸触媒を含有する溶液をガラス板
上に塗布、乾燥して形成されるフォトクロミックガラ
ス。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、建物の開口部、車両の
窓、間仕切り（パーティション）、および眼鏡などに使
用されるフォトクロミックガラスおよびそれを用いたフ
ォトクロミック合わせガラスに関する。
窓、間仕切り（パーティション）、および眼鏡などに使
用されるフォトクロミックガラスおよびそれを用いたフ
ォトクロミック合わせガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】フォトクロミック化合物は、ＵＶ光が照
射および除去されることによってその色が可逆的に変化
する性質を有する。フォトクロミックガラスは、このフ
ォトクロミック化合物をガラス体に応用することによっ
て形成され、ＵＶ光が照射されることによって着色し、
その光線透過率が変化する機能を有する。このようなフ
ォトクロミックガラスは様々な分野に用いられており、
省エネルギー、ファッション性を高める等の効果を奏し
ている。
射および除去されることによってその色が可逆的に変化
する性質を有する。フォトクロミックガラスは、このフ
ォトクロミック化合物をガラス体に応用することによっ
て形成され、ＵＶ光が照射されることによって着色し、
その光線透過率が変化する機能を有する。このようなフ
ォトクロミックガラスは様々な分野に用いられており、
省エネルギー、ファッション性を高める等の効果を奏し
ている。
【０００３】上記フォトクロミック化合物としては、従
来、下記式〔III〕に示すようなスピロベンゾピラン化
合物および下記式〔IV〕に示すようなスピロナフトオキ
サジン化合物等が用いられており、例えば、特公昭４５
−２８８９２号公報、特公昭４９−６８６５号公報、特
開昭５５−３６２８４号公報および特開昭６２−２９９
８０２号公報において上記化合物を用いて形成されたフ
ォトクロミックガラスが開示されている。
来、下記式〔III〕に示すようなスピロベンゾピラン化
合物および下記式〔IV〕に示すようなスピロナフトオキ
サジン化合物等が用いられており、例えば、特公昭４５
−２８８９２号公報、特公昭４９−６８６５号公報、特
開昭５５−３６２８４号公報および特開昭６２−２９９
８０２号公報において上記化合物を用いて形成されたフ
ォトクロミックガラスが開示されている。
【０００４】
【化３】
【０００５】
【化４】
【０００６】しかしながら、従来用いられてきたフォト
クロミック化合物は耐熱性に劣り、該ガラスを炎天下で
長期間使用した場合、フォトクロミック機能が低下し耐
久性に劣るという欠点がある。また、上記フォトクロミ
ック化合物を用いたガラスを、合わせガラスに加工する
ため加熱工程に供すると上記と同様にフォトクロミック
機能が低下するという欠点がある。さらに、作製した合
わせガラスを高温下で長時間使用することによりフォト
クロミック機能が劣るという欠点がある。
クロミック化合物は耐熱性に劣り、該ガラスを炎天下で
長期間使用した場合、フォトクロミック機能が低下し耐
久性に劣るという欠点がある。また、上記フォトクロミ
ック化合物を用いたガラスを、合わせガラスに加工する
ため加熱工程に供すると上記と同様にフォトクロミック
機能が低下するという欠点がある。さらに、作製した合
わせガラスを高温下で長時間使用することによりフォト
クロミック機能が劣るという欠点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の欠点を
解決しようとするもので、その目的は、耐熱性に優れ、
高温下においてもフォトクロミック機能が低下しないフ
ォトクロミックガラスおよびそれを用いたフォトクロミ
ック合わせガラスを提供することにある。
解決しようとするもので、その目的は、耐熱性に優れ、
高温下においてもフォトクロミック機能が低下しないフ
ォトクロミックガラスおよびそれを用いたフォトクロミ
ック合わせガラスを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトクロミッ
クガラスは、ガラス板上にフォトクロミック層が形成さ
れているフォトクロミックガラスであって、該フォトク
ロミック層が、スピロ構造を有するフォトクロミック化
合物にアルコキシシリル基が付与された化合物とアルコ
キシシラン化合物との反応生成物であることを特徴と
し、そのことにより上記目的が達成される。
クガラスは、ガラス板上にフォトクロミック層が形成さ
れているフォトクロミックガラスであって、該フォトク
ロミック層が、スピロ構造を有するフォトクロミック化
合物にアルコキシシリル基が付与された化合物とアルコ
キシシラン化合物との反応生成物であることを特徴と
し、そのことにより上記目的が達成される。
【０００９】本発明のフォトクロミック合わせガラス
は、本発明の上記フォトクロミックガラスを少なくとも
１枚有する複数枚の透明板が接着性樹脂により積層され
てなることを特徴とし、そのことにより上記目的が達成
される。
は、本発明の上記フォトクロミックガラスを少なくとも
１枚有する複数枚の透明板が接着性樹脂により積層され
てなることを特徴とし、そのことにより上記目的が達成
される。
【００１０】本発明のフォトクロミックガラスに使用さ
れる上記フォトクロミック化合物は、スピロ構造を有す
るフォトクロミック化合物である。
れる上記フォトクロミック化合物は、スピロ構造を有す
るフォトクロミック化合物である。
【００１１】上記スピロ構造とは、２つの環に共通な１
個の炭素原子を含む構造のことをいう。このような構造
をもつ化合物（以下、スピロ化合物という）としては、
例えば、下記式〔V〕に示したスピロピラン化合物、下
記式〔VI〕に示したスピロチイン化合物および下記式
〔VII〕に示したスピロオキサジン化合物等が挙げられ
る。
個の炭素原子を含む構造のことをいう。このような構造
をもつ化合物（以下、スピロ化合物という）としては、
例えば、下記式〔V〕に示したスピロピラン化合物、下
記式〔VI〕に示したスピロチイン化合物および下記式
〔VII〕に示したスピロオキサジン化合物等が挙げられ
る。
【００１２】
【化５】
【００１３】
【化６】
【００１４】
【化７】
【００１５】上記スピロ化合物のうち、フォトクロミッ
ク性を有する化合物の例としては、下記式〔I〕に示し
たスピロベンゾピラン化合物、下記式〔VIII〕に示した
スピロチイン化合物および下記式〔II〕に示したスピロ
ナフトオキサジン化合物などが挙げられる。
ク性を有する化合物の例としては、下記式〔I〕に示し
たスピロベンゾピラン化合物、下記式〔VIII〕に示した
スピロチイン化合物および下記式〔II〕に示したスピロ
ナフトオキサジン化合物などが挙げられる。
【００１６】
【化８】
【００１７】
【化９】
【００１８】
【化１０】
【００１９】（上記式中、Ｒ1、Ｒ3は水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基または炭
素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ1とＲ3は同一でも
異なってもよい。Ｒ2は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、−（ＣＨ2）m
ＣＯＯＨまたは−（ＣＨ2）mＣＯＯＲ4（ｍは１〜４の
整数、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基を表す）を表
す）。
ン原子、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基または炭
素数１〜６のアルコキシ基を表し、Ｒ1とＲ3は同一でも
異なってもよい。Ｒ2は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、−（ＣＨ2）m
ＣＯＯＨまたは−（ＣＨ2）mＣＯＯＲ4（ｍは１〜４の
整数、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基を表す）を表
す）。
【００２０】上記式〔II〕で表したスピロナフトオキサ
ジン化合物としては、1,3,3-トリメチルスピロ〔インド
リン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕、1,
3,3,5-テトラメチルスピロ〔インドリン-2,3'-ナフト
（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕、5-クロロ-1,3,3-トリ
メチルスピロ〔インドリン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,
4）-オキサジン〕5-メトキシ-1,3,3-トリメチルスピロ
〔インドリン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジ
ン〕、1-イソプロピル-3,3-ジメチルスピロ〔インドリ
ン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕等が挙
げられる。
ジン化合物としては、1,3,3-トリメチルスピロ〔インド
リン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕、1,
3,3,5-テトラメチルスピロ〔インドリン-2,3'-ナフト
（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕、5-クロロ-1,3,3-トリ
メチルスピロ〔インドリン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,
4）-オキサジン〕5-メトキシ-1,3,3-トリメチルスピロ
〔インドリン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジ
ン〕、1-イソプロピル-3,3-ジメチルスピロ〔インドリ
ン-2,3'-ナフト（2,1-b）（1,4）-オキサジン〕等が挙
げられる。
【００２１】本発明に用いられるスピロ構造を有するフ
ォトクロミック化合物にアルコキシシリル基が付与され
た化合物は、アルコキシシリル基をもち、かつスピロ構
造を有するフォトクロミック化合物であり、例えば、下
記式〔IX〕、〔X〕および〔XI〕に例示するように、ス
ピロ構造をもつフォトクロミック化合物にアルコキシシ
リル基が付与れた化合物である。
ォトクロミック化合物にアルコキシシリル基が付与され
た化合物は、アルコキシシリル基をもち、かつスピロ構
造を有するフォトクロミック化合物であり、例えば、下
記式〔IX〕、〔X〕および〔XI〕に例示するように、ス
ピロ構造をもつフォトクロミック化合物にアルコキシシ
リル基が付与れた化合物である。
【００２２】
【化１１】
【００２３】
【化１２】
【００２４】
【化１３】
【００２５】このアルコキシシリル基は、ケイ素原子に
１個以上のアルコキシ基が結合した基であり、例えば、
−Ｓｉ（ＯＲ5）3、−Ｓｉ（ＯＲ5）2Ｒ6、−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ5）Ｒ6Ｒ7（式中、Ｒ5はアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7
は水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は同一で
も異なってもよい）等が挙げられる。このアルコキシシ
リル基は、特に限定されないが、メトキシシリル基およ
びエトキシシリル基が好ましい。具体的には、−Ｓｉ
（ＯＭｅ）3、−Ｓｉ（ＯＥｔ）3、−Ｓｉ（ＯＭｅ）2
Ｍｅ、−Ｓｉ（ＯＥｔ）2Ｍｅなどが挙げられる。
１個以上のアルコキシ基が結合した基であり、例えば、
−Ｓｉ（ＯＲ5）3、−Ｓｉ（ＯＲ5）2Ｒ6、−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ5）Ｒ6Ｒ7（式中、Ｒ5はアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7
は水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は同一で
も異なってもよい）等が挙げられる。このアルコキシシ
リル基は、特に限定されないが、メトキシシリル基およ
びエトキシシリル基が好ましい。具体的には、−Ｓｉ
（ＯＭｅ）3、−Ｓｉ（ＯＥｔ）3、−Ｓｉ（ＯＭｅ）2
Ｍｅ、−Ｓｉ（ＯＥｔ）2Ｍｅなどが挙げられる。
【００２６】上記アルコキシシリル基は、上記フォトク
ロミック化合物に直接結合していても、
ロミック化合物に直接結合していても、
【００２７】
【化１４】
【００２８】（式中、ｎは１〜５の整数を表す）で表さ
れるアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわ
ち、−（ＣＨ2）n−Ｓｉ（ＯＲ5）3、−（ＣＨ2）n−Ｓ
ｉ（ＯＲ5）2Ｒ6、−（ＣＨ2）n−Ｓｉ（ＯＲ5）Ｒ6Ｒ7
（式中、Ｒ5はアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子
またはアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は同一でも異なって
もよい）の形で結合してもよい。このときｎによる差は
あまりないが、通常ｎが３のプロピレン基が用いられ、
例えば、−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3、−（ＣＨ2）3
Ｓｉ（ＯＭｅ）3などが好ましい。
れるアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわ
ち、−（ＣＨ2）n−Ｓｉ（ＯＲ5）3、−（ＣＨ2）n−Ｓ
ｉ（ＯＲ5）2Ｒ6、−（ＣＨ2）n−Ｓｉ（ＯＲ5）Ｒ6Ｒ7
（式中、Ｒ5はアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は水素原子
またはアルキル基を表し、Ｒ6、Ｒ7は同一でも異なって
もよい）の形で結合してもよい。このときｎによる差は
あまりないが、通常ｎが３のプロピレン基が用いられ、
例えば、−（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3、−（ＣＨ2）3
Ｓｉ（ＯＭｅ）3などが好ましい。
【００２９】本発明に用いられるアルコキシシリル基を
もち、かつスピロ構造を有するフォトクロミック化合物
（以下、アルコキシシリルスピロ化合物という）を調製
する方法としては、以下の方法が挙げられる。
もち、かつスピロ構造を有するフォトクロミック化合物
（以下、アルコキシシリルスピロ化合物という）を調製
する方法としては、以下の方法が挙げられる。
【００３０】無水アセトンに溶解したヨウ化ナトリウム
にアルコキシシランを加え還流し、アルコキシヨードア
ルキルシラン（化合物Ａ）を得る。2,3,3-トリメチルイ
ンドレニンをアセトニトリルに溶かし、この溶液に上記
化合物Ａを加えて還流し、反応混合物にトリエチルアミ
ンを加え、2ーメチレンインドリンを得る。これに、5-ニ
トロサリチルアルデヒド、あるいは1ーニトロソー2ーナフ
トールを加え、還流、精製してアルコキシシリルスピロ
化合物を得る。
にアルコキシシランを加え還流し、アルコキシヨードア
ルキルシラン（化合物Ａ）を得る。2,3,3-トリメチルイ
ンドレニンをアセトニトリルに溶かし、この溶液に上記
化合物Ａを加えて還流し、反応混合物にトリエチルアミ
ンを加え、2ーメチレンインドリンを得る。これに、5-ニ
トロサリチルアルデヒド、あるいは1ーニトロソー2ーナフ
トールを加え、還流、精製してアルコキシシリルスピロ
化合物を得る。
【００３１】本発明のフォトクロミックガラスは、上記
アルコキシシリルスピロ化合物、アルコキシシラン化合
物および塩酸等の酸触媒を含有する溶液を、基材となる
ガラス板上に塗布、乾燥し、フォトクロミック層を形成
して得られる。上記基材としては通常のガラス板を用い
ることができ、種類、厚みおよび形状を問わない。さら
に、透明でかつ強度を有し上記ガラス板の代用となり得
る材料であればいずれのものでも使用可能である。一般
には、平板状フロートガラスが用いられる。
アルコキシシリルスピロ化合物、アルコキシシラン化合
物および塩酸等の酸触媒を含有する溶液を、基材となる
ガラス板上に塗布、乾燥し、フォトクロミック層を形成
して得られる。上記基材としては通常のガラス板を用い
ることができ、種類、厚みおよび形状を問わない。さら
に、透明でかつ強度を有し上記ガラス板の代用となり得
る材料であればいずれのものでも使用可能である。一般
には、平板状フロートガラスが用いられる。
【００３２】塗布方法としては、アルコキシシリルスピ
ロ化合物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を含有
する溶液にガラス板を浸漬し、等速でガラス板引き上げ
る等速引き上げ塗布法、アルコキシシリルスピロ化合
物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を含有する溶
液をスプレーでガラス板上に噴霧する方法、ガラス板を
回転板に取り付けて回転させ、そこにアルコキシシリル
スピロ化合物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を
含有する溶液を滴下するスピンコート法、ロッドを用い
る方法、ブレードを用いる方法、ロールを用いる方法等
が挙げられる。等速引き上げ塗布法およびスピンコート
法が好ましく用いられる。
ロ化合物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を含有
する溶液にガラス板を浸漬し、等速でガラス板引き上げ
る等速引き上げ塗布法、アルコキシシリルスピロ化合
物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を含有する溶
液をスプレーでガラス板上に噴霧する方法、ガラス板を
回転板に取り付けて回転させ、そこにアルコキシシリル
スピロ化合物、アルコキシシラン化合物および酸触媒を
含有する溶液を滴下するスピンコート法、ロッドを用い
る方法、ブレードを用いる方法、ロールを用いる方法等
が挙げられる。等速引き上げ塗布法およびスピンコート
法が好ましく用いられる。
【００３３】本発明のフォトクロミック合わせガラス
は、上記で得られたフォトクロミックガラスと、同様の
フォトクロミックガラス、あるいは普通のガラス板、透
明樹脂板またはシートとを中間膜を介して接着すること
により得られる。
は、上記で得られたフォトクロミックガラスと、同様の
フォトクロミックガラス、あるいは普通のガラス板、透
明樹脂板またはシートとを中間膜を介して接着すること
により得られる。
【００３４】上記中間膜としては、合わせガラス用とし
て一般に市販されている中間膜を使用することができ
る。例えば、ポリビニルブチラールの可塑化物、塩化ビ
ニル系中間膜、ウレタン系中間膜、ＥＶＡ系中間膜等が
挙げられる。
て一般に市販されている中間膜を使用することができ
る。例えば、ポリビニルブチラールの可塑化物、塩化ビ
ニル系中間膜、ウレタン系中間膜、ＥＶＡ系中間膜等が
挙げられる。
【００３５】合わせガラスの製造方法としては、通常の
合わせガラスの製造方法を適用することができる。例え
ば、ポリビニルブチラール可塑化物からなる中間膜を用
いた場合は、上記フォトクロミックガラスと普通のガラ
ス板あるいはシートの間に上記中間膜をはさみ、真空法
によって予備脱気した後、オートクレーブ装置を用いて
１３ｋｇ／ｃｍ2、１４０℃にて２０分間加熱圧着する
ことによって、フォトクロミック合わせガラスを作製す
ることができる。
合わせガラスの製造方法を適用することができる。例え
ば、ポリビニルブチラール可塑化物からなる中間膜を用
いた場合は、上記フォトクロミックガラスと普通のガラ
ス板あるいはシートの間に上記中間膜をはさみ、真空法
によって予備脱気した後、オートクレーブ装置を用いて
１３ｋｇ／ｃｍ2、１４０℃にて２０分間加熱圧着する
ことによって、フォトクロミック合わせガラスを作製す
ることができる。
【００３６】
【作用】スピロ構造を有するフォトクロミック化合物が
アルコキシシリル基を持つことによって、上記アルコキ
シシリルスピロ化合物、アルコキシシラン化合物および
酸触媒を含有する溶液をガラス板上に塗布、乾燥して形
成されたフォトクロミック層を有するフォトクロミック
ガラスは、上記スピロ構造を有するフォトクロミック化
合物が本来有するフォトクロミック機能と、シリル基に
起因する耐熱性の両方が備えられる。
アルコキシシリル基を持つことによって、上記アルコキ
シシリルスピロ化合物、アルコキシシラン化合物および
酸触媒を含有する溶液をガラス板上に塗布、乾燥して形
成されたフォトクロミック層を有するフォトクロミック
ガラスは、上記スピロ構造を有するフォトクロミック化
合物が本来有するフォトクロミック機能と、シリル基に
起因する耐熱性の両方が備えられる。
【００３７】つまり、ガラス板上で上記アルコキシシリ
ルスピロ化合物分子内の−Ｓｉ−ＯＲが加水分解される
ことによって−Ｓｉ−ＯＨとなり、これがガラス板表面
の−Ｓｉ−ＯＨおよび加えたアルコキシシラン化合物と
反応して縮合し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を生成し、シロキ
サンネットワークを作るので、上記アルコキシシリルス
ピロ化合物はガラス板表面に強く固定される。
ルスピロ化合物分子内の−Ｓｉ−ＯＲが加水分解される
ことによって−Ｓｉ−ＯＨとなり、これがガラス板表面
の−Ｓｉ−ＯＨおよび加えたアルコキシシラン化合物と
反応して縮合し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を生成し、シロキ
サンネットワークを作るので、上記アルコキシシリルス
ピロ化合物はガラス板表面に強く固定される。
【００３８】
【実施例】以下、本発明に係るフォトクロミックガラス
およびフォトクロミック合わせガラスの実施例について
説明する。
およびフォトクロミック合わせガラスの実施例について
説明する。
【００３９】実施例１ （ａ）アルコキシシリルスピロ化合物の調製 i)トリエトキシー3ーヨードプロピルシラン（Ｉ（ＣＨ2）
3Ｓｉ（０Ｅｔ）3）の合成 ヨウ化ナトリウムＩ４５ｇを無水アセトンに溶かし、こ
れに3ークロロプロピルトリエトキシシラン（Ｃｌ（ＣＨ
2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3、チッソ社製）２５ｇを加えた。
この混合液を８時間還流し、冷却後生じた沈澱（塩化ナ
トリウム）を濾過して取り除いた。得られた濾液を減圧
濃縮した後、蒸留してトリエトキシー3ーヨードプロピル
シランを得た。得られたトリエトキシー3ーヨードプロピ
ルシランの沸点は、７８℃／１ｍｍＨｇであり、収率は
８０％であった。
3Ｓｉ（０Ｅｔ）3）の合成 ヨウ化ナトリウムＩ４５ｇを無水アセトンに溶かし、こ
れに3ークロロプロピルトリエトキシシラン（Ｃｌ（ＣＨ
2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3、チッソ社製）２５ｇを加えた。
この混合液を８時間還流し、冷却後生じた沈澱（塩化ナ
トリウム）を濾過して取り除いた。得られた濾液を減圧
濃縮した後、蒸留してトリエトキシー3ーヨードプロピル
シランを得た。得られたトリエトキシー3ーヨードプロピ
ルシランの沸点は、７８℃／１ｍｍＨｇであり、収率は
８０％であった。
【００４０】ii)2,3,3-トリメチルインドレニンの４級
化 下記式〔XII〕に示す2,3,3-トリメエチルインドレニン
（東京化成製）１５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶か
し、この溶液に上記i)で得たトリエトキシー3ーヨードプ
ロピルシラン２５ｇを加え、５時間還流し、図１の反応
式に示すように、2,3,3-トリメチルインドレニンの４級
化を行った。
化 下記式〔XII〕に示す2,3,3-トリメエチルインドレニン
（東京化成製）１５ｇをアセトニトリル５０ｍｌに溶か
し、この溶液に上記i)で得たトリエトキシー3ーヨードプ
ロピルシラン２５ｇを加え、５時間還流し、図１の反応
式に示すように、2,3,3-トリメチルインドレニンの４級
化を行った。
【００４１】
【化１５】
【００４２】iii)スピロベンゾピランの合成 上記ii)で得られた４級化された2,3,3-トリメチルイン
ドレニンを含有する溶液の１／４にトリエチルアミン３
ｍｌを添加し、図２の反応式に示すように、下記式〔VI
II〕で示す2ーメチレンインドリンを生成した。
ドレニンを含有する溶液の１／４にトリエチルアミン３
ｍｌを添加し、図２の反応式に示すように、下記式〔VI
II〕で示す2ーメチレンインドリンを生成した。
【００４３】
【化１６】
【００４４】その反応溶液に、さらに5ーニトロサリチル
アルデヒド（０2Ｎ-Ｃ3Ｈ6（ＯＨ）ＣＨＯ、東京化成
製）３ｇを加えて、２時間還流した。還流後、アセトニ
トリルを留去し、残留物を得た。この残留物からベンゼ
ン可溶物を取り出し、ベンゼンを濃縮した後、エタノー
ルに溶解し再結晶させ、粗生成物７．６ｇを得た。この
粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル、ベ
ンゼン）によって精製して得られた生成物を、さらにエ
タノールで再結晶させ、下記式〔XIV〕で表されるスピ
ロベンゾピラン化合物の純品３．６ｇを得た。
アルデヒド（０2Ｎ-Ｃ3Ｈ6（ＯＨ）ＣＨＯ、東京化成
製）３ｇを加えて、２時間還流した。還流後、アセトニ
トリルを留去し、残留物を得た。この残留物からベンゼ
ン可溶物を取り出し、ベンゼンを濃縮した後、エタノー
ルに溶解し再結晶させ、粗生成物７．６ｇを得た。この
粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル、ベ
ンゼン）によって精製して得られた生成物を、さらにエ
タノールで再結晶させ、下記式〔XIV〕で表されるスピ
ロベンゾピラン化合物の純品３．６ｇを得た。
【００４５】
【化１７】
【００４６】（ｂ）アルコキシシリルスピロ化合物とア
ルコキシシラン化合物を含有する溶液の調製 上記スピロピラン化合物〔XIV〕０．００２５ｇ、Ｃｌ
（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3（チッソ製）およびエチル
アルコール０．２ｍｌを混合し、さらにこの溶液に０．
１４Ｎ塩酸０．０５ｍｌを加え、混合溶液を得た。
ルコキシシラン化合物を含有する溶液の調製 上記スピロピラン化合物〔XIV〕０．００２５ｇ、Ｃｌ
（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3（チッソ製）およびエチル
アルコール０．２ｍｌを混合し、さらにこの溶液に０．
１４Ｎ塩酸０．０５ｍｌを加え、混合溶液を得た。
【００４７】（ｃ）フォトクロミックガラスの製造 上記（ｂ）で得られた混合溶液をガラス板表面に滴下し
た後、ただちにこのガラス板を垂直にして余分な混合溶
液を流れ落とした。その後、ガラス板上に残った混合溶
液を、室温にて２４時間、さらに７５℃にて４８時間乾
燥させることにより反応が進み、該ガラス板上にスピロ
ベンゾピランがシロキサンネットワークに組み込まれた
フォトクロミック層が形成されたフォトクロミックガラ
スを得た。
た後、ただちにこのガラス板を垂直にして余分な混合溶
液を流れ落とした。その後、ガラス板上に残った混合溶
液を、室温にて２４時間、さらに７５℃にて４８時間乾
燥させることにより反応が進み、該ガラス板上にスピロ
ベンゾピランがシロキサンネットワークに組み込まれた
フォトクロミック層が形成されたフォトクロミックガラ
スを得た。
【００４８】（ｄ）中間膜の調製 ポリビニルブチラール樹脂（重合度１７００、ブチラー
ル化度６６ｍｏｌ％）１００ｇと可塑剤としてトリエチ
レングリコールジ-2-エチルブチレート４０ｇを混合
し、１１０℃のロールで練って厚み０．５ｍｍのシート
を得、これを中間膜とした。
ル化度６６ｍｏｌ％）１００ｇと可塑剤としてトリエチ
レングリコールジ-2-エチルブチレート４０ｇを混合
し、１１０℃のロールで練って厚み０．５ｍｍのシート
を得、これを中間膜とした。
【００４９】（ｅ）フォトクロミック合わせガラスの作
製 上記（ｃ）で得られたフォトクロミックガラスのフォト
クロミック層形成面上に、上記（ｄ）で得られたシー
ト、ガラス板の順序でこれらを積層した。
製 上記（ｃ）で得られたフォトクロミックガラスのフォト
クロミック層形成面上に、上記（ｄ）で得られたシー
ト、ガラス板の順序でこれらを積層した。
【００５０】この積層構成体をゴム製バッグに入れ、真
空度１０ｔｏｒｒに減圧した後、全系を１２０℃に加温
し３０分保持した。その後、冷却して減圧を解き、該積
層構成体をゴム製バッグから取り出した。取り出した該
積層構成体をオートクレーブ容器に入れて１４０℃、１
３ｋｇ／ｃｍ2の恒温恒圧下にて２０分間保持した。冷
却後、圧力解放して積層構成体を取り出し、合わせガラ
スを得た。
空度１０ｔｏｒｒに減圧した後、全系を１２０℃に加温
し３０分保持した。その後、冷却して減圧を解き、該積
層構成体をゴム製バッグから取り出した。取り出した該
積層構成体をオートクレーブ容器に入れて１４０℃、１
３ｋｇ／ｃｍ2の恒温恒圧下にて２０分間保持した。冷
却後、圧力解放して積層構成体を取り出し、合わせガラ
スを得た。
【００５１】得られた合わせガラスは、透明で発泡のな
いきれいな状態であり、各層どうしの接着状態も良好で
あった。
いきれいな状態であり、各層どうしの接着状態も良好で
あった。
【００５２】（ｆ）フォトクロミック特性の評価と合わ
せガラスの評価 得られたフォトクロミックガラスおよびフォトクロミッ
ク合わせガラスについて、以下のような試験を行い、評
価した。その結果を下記表２に示すが、以下の試験項目
のうち、可視光線透過率およびＵＶ光照射直後の可視光
線透過率は、ガラス板の状態での測定値と合わせガラス
にした状態での測定値に変化がなかったので、合わせガ
ラスについての測定値のみを示した。後述の実施例２〜
４および比較例１〜４の結果についても合わせて表２に
示す。
せガラスの評価 得られたフォトクロミックガラスおよびフォトクロミッ
ク合わせガラスについて、以下のような試験を行い、評
価した。その結果を下記表２に示すが、以下の試験項目
のうち、可視光線透過率およびＵＶ光照射直後の可視光
線透過率は、ガラス板の状態での測定値と合わせガラス
にした状態での測定値に変化がなかったので、合わせガ
ラスについての測定値のみを示した。後述の実施例２〜
４および比較例１〜４の結果についても合わせて表２に
示す。
【００５３】〈初期物性〉 可視光線透過率：ＪＩＳ Ｒ３２１２に準拠し、試験を
行った。
行った。
【００５４】ＵＶ光照射直後の可視光線透過率：１０ｗ
の殺菌灯を１０ｃｍの距離から１分間照射下後の可視光
線透過率を測定した。
の殺菌灯を１０ｃｍの距離から１分間照射下後の可視光
線透過率を測定した。
【００５５】パンメル試験：合わせガラスを−１８℃±
０．６℃の温度に１６±４時間放置して調整し、これを
ハンマーで打って、粉砕されたガラスが部分剥離した後
の中間膜の露出度を、下記表１に示したように、あらか
じめグレード付けした限度見本で判定した。
０．６℃の温度に１６±４時間放置して調整し、これを
ハンマーで打って、粉砕されたガラスが部分剥離した後
の中間膜の露出度を、下記表１に示したように、あらか
じめグレード付けした限度見本で判定した。
【００５６】
【表１】
【００５７】自動車用安全ガラス試験：ＪＩＳ Ｒ３２
１２に準拠し、耐熱性試験、耐光性試験、耐湿性試験、
耐貫通性試験および耐衝撃性試験を行った。
１２に準拠し、耐熱性試験、耐光性試験、耐湿性試験、
耐貫通性試験および耐衝撃性試験を行った。
【００５８】〈経時物性〉上記フォトクロミックガラス
およびフォトクロミック合わせガラスを、１００℃にて
１カ月放置した後、上記と同様にして試験を行い評価し
た。
およびフォトクロミック合わせガラスを、１００℃にて
１カ月放置した後、上記と同様にして試験を行い評価し
た。
【００５９】上記自動車安全ガラス試験については、初
期の段階でも経時の段階でも良好な結果が得られ、自動
車安全ガラスとしての要求品質を満足するものであっ
た。後述の実施例２〜４および比較例１〜４において
も、同様に良好な結果が得られた。
期の段階でも経時の段階でも良好な結果が得られ、自動
車安全ガラスとしての要求品質を満足するものであっ
た。後述の実施例２〜４および比較例１〜４において
も、同様に良好な結果が得られた。
【００６０】実施例２ アルコキシシラン化合物としてＣｌ（ＣＨ2）3Ｓｉ（Ｏ
Ｍｅ）3（東芝シリコーン（株）製、ＴＳＬ８３２０）
を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフォトクロ
ミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラスを作
製し、実施例１と同様に試験を行った。
Ｍｅ）3（東芝シリコーン（株）製、ＴＳＬ８３２０）
を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフォトクロ
ミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラスを作
製し、実施例１と同様に試験を行った。
【００６１】実施例３ アルコキシシリルスピロ化合物として下記式〔XV〕で表
される化合物を０．００２７ｇ用いたこと以外は、実施
例１と同様にしてフォトクロミックガラスおよびフォト
クロミック合わせガラスを作製し、実施例１と同様にし
て試験を行った。
される化合物を０．００２７ｇ用いたこと以外は、実施
例１と同様にしてフォトクロミックガラスおよびフォト
クロミック合わせガラスを作製し、実施例１と同様にし
て試験を行った。
【００６２】
【化１８】
【００６３】上記式〔XV〕に示した化合物の調製は、以
下のように行った。2ーメチレンインドリンを生成した
後、下記式〔XVI〕に示す1-ニトロソ-2-ナフトール（和
光製、３．２ｇ）を加えて３時間還流したこと以外は、
実施例１のiii)と同様にして、上記式〔XV〕で示した化
合物の純品を得た。
下のように行った。2ーメチレンインドリンを生成した
後、下記式〔XVI〕に示す1-ニトロソ-2-ナフトール（和
光製、３．２ｇ）を加えて３時間還流したこと以外は、
実施例１のiii)と同様にして、上記式〔XV〕で示した化
合物の純品を得た。
【００６４】
【化１９】
【００６５】実施例４ アルコキシシリルスピロ化合物として上記式〔XV〕で表
される化合物を０．００２７ｇ用いたこと以外は、実施
例２と同様にしてフォトクロミックガラスおよびフォト
クロミック合わせガラスを作製し、実施例１と同様にし
て試験を行った。
される化合物を０．００２７ｇ用いたこと以外は、実施
例２と同様にしてフォトクロミックガラスおよびフォト
クロミック合わせガラスを作製し、実施例１と同様にし
て試験を行った。
【００６６】比較例１〜４ アルコキシシラン化合物および塩酸を加えなかったこと
以外は、実施例１〜４と同様にしてフォトクロミックガ
ラスおよびフォトクロミック合わせガラスを作製し、実
施例１と同様にして試験を行った。
以外は、実施例１〜４と同様にしてフォトクロミックガ
ラスおよびフォトクロミック合わせガラスを作製し、実
施例１と同様にして試験を行った。
【００６７】
【表２】
【００６８】
【発明の効果】本発明によれば、耐熱性および耐久性に
優れ、高温下にて長期間経過した後もフォトクロミック
機能を保持することができるフォトクロミックガラスお
よびフォトクロミック合わせガラスを提供することがで
きる。本発明で得られたフォトクロミックガラスおよび
フォトクロミック合わせガラスは、窓ガラス、間仕切
り、、眼鏡などに好適に用いられる。
優れ、高温下にて長期間経過した後もフォトクロミック
機能を保持することができるフォトクロミックガラスお
よびフォトクロミック合わせガラスを提供することがで
きる。本発明で得られたフォトクロミックガラスおよび
フォトクロミック合わせガラスは、窓ガラス、間仕切
り、、眼鏡などに好適に用いられる。
【図１】2,3,3-トリメチルインドレニンの４級化を示す
反応式である。
反応式である。
【図２】2-メチレンインドレニンの生成反応を示す反応
式である。
式である。
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス板上にフォトクロミック層が形成さ
れているフォトクロミックガラスであって、該フォトク
ロミック層が、スピロ構造を有するフォトクロミック化
合物にアルコキシシリル基が付与された化合物とアルコ
キシシラン化合物との反応生成物であることを特徴とす
るフォトクロミックガラス。 - 【請求項２】上記フォトクロミック化合物が、下記式
〔I〕で表されるスピロベンゾピラン化合物または下記
〔II〕で表されるスピロナフトオキサジン化合物である
請求項１記載のフォトクロミックガラス。 【化１】 【化２】 （上記式中、Ｒ1、Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６の
アルコキシ基を表し、Ｒ1とＲ3は同一でも異なってもよ
い。Ｒ2は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素
数１〜６のアルコキシル基、−（ＣＨ2）mＣＯＯＨまた
は−（ＣＨ2）mＣＯＯＲ4（ｍは１〜４の整数、Ｒ4は炭
素数１〜６のアルキル基を表す）を表す。） - 【請求項３】上記スピロ構造を有するフォトクロミック
化合物に付与したアルコキシシリル基および、アルコキ
シシラン化合物のアルコキシシリル基が、メトキシシリ
ル基およびエトキシシリル基のうちの少なくとも一方で
ある請求項１または請求項２に記載のフォトクロミック
ガラス。 - 【請求項４】請求項１、請求項２または請求項３に記載
のフォトクロミックガラスを少なくとも１枚有する複数
枚の透明板が接着性樹脂により積層されてなることを特
徴とするフォトクロミック合わせガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044437A JPH05238785A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | フォトクロミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044437A JPH05238785A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | フォトクロミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05238785A true JPH05238785A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=12691470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4044437A Pending JPH05238785A (ja) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | フォトクロミックガラスおよびフォトクロミック合わせガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05238785A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999035102A1 (fr) * | 1998-01-09 | 1999-07-15 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Plaque transparente ignifuge et resistant au feu, absorbant les ultraviolets |
| WO2001090268A1 (de) * | 2000-05-25 | 2001-11-29 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Hybridpolymermaterial für photochrome beschichtungen und damit beschichtete optische gegenstände und verglasungen |
| CN113773341A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-10 | 上海橡实化学有限公司 | 一种光致变色硅烷偶联剂及其制备方法和应用 |
-
1992
- 1992-03-02 JP JP4044437A patent/JPH05238785A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999035102A1 (fr) * | 1998-01-09 | 1999-07-15 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Plaque transparente ignifuge et resistant au feu, absorbant les ultraviolets |
| WO2001090268A1 (de) * | 2000-05-25 | 2001-11-29 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Hybridpolymermaterial für photochrome beschichtungen und damit beschichtete optische gegenstände und verglasungen |
| CN113773341A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-10 | 上海橡实化学有限公司 | 一种光致变色硅烷偶联剂及其制备方法和应用 |
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