JPH05239678A - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄装置Info
- Publication number
- JPH05239678A JPH05239678A JP7574392A JP7574392A JPH05239678A JP H05239678 A JPH05239678 A JP H05239678A JP 7574392 A JP7574392 A JP 7574392A JP 7574392 A JP7574392 A JP 7574392A JP H05239678 A JPH05239678 A JP H05239678A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- water
- surfactant
- cleaned
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 オゾン層破壊の恐れがなく、且つ、少量の界
面活性剤で高い洗浄効果を低コストで得ることができる
洗浄方法および洗浄装置を提供する。 【構成】 被洗浄物17に水を吹き付ける第1洗浄室8
と、界面活性剤を含む水を吹き付ける第2洗浄室9と、
水を吹き付ける第3洗浄室10とを備え、上記第1洗浄
室8には第1再生処理ユニツト23を設け、第2洗浄室
9には第2再生処理ユニット30を設け、第3洗浄室1
0には第3再生処理ユニット32を設けることで、洗浄
作業を洗浄機能ごとに段階的に分割し、それぞれに排水
の再生処理を行う。
面活性剤で高い洗浄効果を低コストで得ることができる
洗浄方法および洗浄装置を提供する。 【構成】 被洗浄物17に水を吹き付ける第1洗浄室8
と、界面活性剤を含む水を吹き付ける第2洗浄室9と、
水を吹き付ける第3洗浄室10とを備え、上記第1洗浄
室8には第1再生処理ユニツト23を設け、第2洗浄室
9には第2再生処理ユニット30を設け、第3洗浄室1
0には第3再生処理ユニット32を設けることで、洗浄
作業を洗浄機能ごとに段階的に分割し、それぞれに排水
の再生処理を行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フロン(フロン113
またはCFC113)・トリクロロエタン(1,1,1
トリクロロエタンまたはメチルクロロホルム)等のオゾ
ン層を破壊する物質を使わずに物品に付着した油を洗浄
する方法および装置に係り、特に洗浄液として水と界面
活性剤を使用する洗浄方法および洗浄装置に関する。
またはCFC113)・トリクロロエタン(1,1,1
トリクロロエタンまたはメチルクロロホルム)等のオゾ
ン層を破壊する物質を使わずに物品に付着した油を洗浄
する方法および装置に係り、特に洗浄液として水と界面
活性剤を使用する洗浄方法および洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、精密加工部品等に付着した切
削油等を洗浄するために、フロンやトリクロロエタン等
が多く使用されていた。しかしながら、これらの溶剤は
大気中に放出するとオゾン層を破壊してしまうため、生
産および使用の規制が行われつつある。こうしたオゾン
層破壊の原因となる溶剤を使用しない場合には非常に高
価ではあるが代替え物質を使用することが考えられる。
しかし、こうした代替え物質は部品洗浄のコストを安価
に抑えるという要求に答えられるものではない。また洗
浄コストを低く抑えるために界面活性剤を使用すること
が考えられるが、この場合加工部品に付着した油を効果
的に除去するためには洗浄槽内の界面活性剤の濃度を高
くする必要がある。界面活性剤の濃度を高くすると自然
環境保護のための大規模な排水処理設備が必要となり、
設置の際には敷地の面で大きな制約を受けることにな
る。また、洗浄液と油の分離が困難になるため定期的に
洗浄槽内の洗浄液を全て取り替える必要もあり、コスト
面で大きな負担となる。
削油等を洗浄するために、フロンやトリクロロエタン等
が多く使用されていた。しかしながら、これらの溶剤は
大気中に放出するとオゾン層を破壊してしまうため、生
産および使用の規制が行われつつある。こうしたオゾン
層破壊の原因となる溶剤を使用しない場合には非常に高
価ではあるが代替え物質を使用することが考えられる。
しかし、こうした代替え物質は部品洗浄のコストを安価
に抑えるという要求に答えられるものではない。また洗
浄コストを低く抑えるために界面活性剤を使用すること
が考えられるが、この場合加工部品に付着した油を効果
的に除去するためには洗浄槽内の界面活性剤の濃度を高
くする必要がある。界面活性剤の濃度を高くすると自然
環境保護のための大規模な排水処理設備が必要となり、
設置の際には敷地の面で大きな制約を受けることにな
る。また、洗浄液と油の分離が困難になるため定期的に
洗浄槽内の洗浄液を全て取り替える必要もあり、コスト
面で大きな負担となる。
【0003】このため、界面活性剤を使用してフロンや
トリクロロエタン等を使用した場合と同等若しくはそれ
以上の洗浄効果を持ち、且つ、洗浄液中の界面活性剤の
濃度を低く抑えることができれば、排水処理設備の簡易
化、小型化を実現できる。さらに、自然環境保護を実現
しながら洗浄費用を低コストに抑えることができる。
トリクロロエタン等を使用した場合と同等若しくはそれ
以上の洗浄効果を持ち、且つ、洗浄液中の界面活性剤の
濃度を低く抑えることができれば、排水処理設備の簡易
化、小型化を実現できる。さらに、自然環境保護を実現
しながら洗浄費用を低コストに抑えることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題に着
目してなされたものであり、界面活性剤を使用し、この
界面活性剤の使用量を従来の洗浄より減少することで排
水処理設備の簡易化、小型化を実現するとともに、フロ
ンやトリクロロエタン等を使用した場合と同等若しくは
それ以上の洗浄効果を得ることができ、洗浄コストと排
水処理設備コストを低減する洗浄方法おび洗浄装置を提
供することを目的とする。
目してなされたものであり、界面活性剤を使用し、この
界面活性剤の使用量を従来の洗浄より減少することで排
水処理設備の簡易化、小型化を実現するとともに、フロ
ンやトリクロロエタン等を使用した場合と同等若しくは
それ以上の洗浄効果を得ることができ、洗浄コストと排
水処理設備コストを低減する洗浄方法おび洗浄装置を提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は第1洗浄工程で
被洗浄物に水を吹きつけることで付着した油をたたき落
とし、第2洗浄工程で被洗浄物に界面活性剤を含む水を
吹きつけて残存する油と界面活性剤を置き換え、第3洗
浄工程で水を吹きつけることで界面活性剤をすすぎ落と
す洗浄方法にある。
被洗浄物に水を吹きつけることで付着した油をたたき落
とし、第2洗浄工程で被洗浄物に界面活性剤を含む水を
吹きつけて残存する油と界面活性剤を置き換え、第3洗
浄工程で水を吹きつけることで界面活性剤をすすぎ落と
す洗浄方法にある。
【0006】また、本発明は油が付着した被洗浄物に水
を吹きつけることで油をたたき落とす第1洗浄手段を設
け、この第1洗浄手段で使用した水と油を排水処理する
第1排水処理手段を設け、上記第1洗浄手段で洗浄後の
被洗浄物に界面活性剤を含む水を吹きつけることで界面
活性剤を残存する油に置き換える第2洗浄手段を設け、
この第2洗浄手段に付属して第2洗浄手段で使用した界
面活性剤を含む水と油とを排水処理する第2排水処理手
段を設け、上記第2洗浄手段で洗浄後の被洗浄物に水を
吹きつけて界面活性剤をすすぎ落とす第3洗浄手段を設
け、この第3洗浄手段に付属して第3洗浄手段で使用し
た水と油および界面活性剤を排水処理する第3排水処理
手段を設けた洗浄装置にある。
を吹きつけることで油をたたき落とす第1洗浄手段を設
け、この第1洗浄手段で使用した水と油を排水処理する
第1排水処理手段を設け、上記第1洗浄手段で洗浄後の
被洗浄物に界面活性剤を含む水を吹きつけることで界面
活性剤を残存する油に置き換える第2洗浄手段を設け、
この第2洗浄手段に付属して第2洗浄手段で使用した界
面活性剤を含む水と油とを排水処理する第2排水処理手
段を設け、上記第2洗浄手段で洗浄後の被洗浄物に水を
吹きつけて界面活性剤をすすぎ落とす第3洗浄手段を設
け、この第3洗浄手段に付属して第3洗浄手段で使用し
た水と油および界面活性剤を排水処理する第3排水処理
手段を設けた洗浄装置にある。
【0007】
【作用】本発明によれば、第1洗浄工程により被洗浄物
に水を吹きつけることで付着した油の大部分をたたき落
とすことができ、第2洗浄工程で界面活性剤を含む水を
吹きつけ被洗浄物に残った油を界面活性剤に置き換え、
第3洗浄工程で水により界面活性剤をすすぎ落とすこと
ができる。
に水を吹きつけることで付着した油の大部分をたたき落
とすことができ、第2洗浄工程で界面活性剤を含む水を
吹きつけ被洗浄物に残った油を界面活性剤に置き換え、
第3洗浄工程で水により界面活性剤をすすぎ落とすこと
ができる。
【0008】また、本発明によれば第1洗浄手段により
被洗浄物に所定圧力の水を吹きつけることで付着した油
の大部分をたたき落とし、第1洗浄手段で使用後の排水
を第1排水処理手段により排水処理し、第2洗浄手段に
より第1洗浄処理後の被洗浄物に界面活性剤を含む水を
吹きつけることで界面活性剤を残存する油に置き換え、
第2洗浄手段で使用した界面活性剤を含む水と油を第2
排水処理手段により排水処理し、第3洗浄手段で被洗浄
物に水を吹きつけることで界面活性剤をすすぎ落とし、
第3洗浄手段で使用した水と油および界面活性剤を第3
排水処理手段により排水処理するので、洗浄段階ごとに
分割でき、排水処理が容易になる。
被洗浄物に所定圧力の水を吹きつけることで付着した油
の大部分をたたき落とし、第1洗浄手段で使用後の排水
を第1排水処理手段により排水処理し、第2洗浄手段に
より第1洗浄処理後の被洗浄物に界面活性剤を含む水を
吹きつけることで界面活性剤を残存する油に置き換え、
第2洗浄手段で使用した界面活性剤を含む水と油を第2
排水処理手段により排水処理し、第3洗浄手段で被洗浄
物に水を吹きつけることで界面活性剤をすすぎ落とし、
第3洗浄手段で使用した水と油および界面活性剤を第3
排水処理手段により排水処理するので、洗浄段階ごとに
分割でき、排水処理が容易になる。
【0009】
【実施例】本発明の第1実施例を図1乃至図4を参照し
て説明する。図中に示される洗浄装置1は洗浄装置本体
2とこの一端に配置された挿入コンベヤ3と上昇機4お
よび他端に配置された取り出しコンベヤ5と下降機6と
を備えている。
て説明する。図中に示される洗浄装置1は洗浄装置本体
2とこの一端に配置された挿入コンベヤ3と上昇機4お
よび他端に配置された取り出しコンベヤ5と下降機6と
を備えている。
【0010】また、洗浄装置本体2は略矩形箱状に形成
され中央部に搬送手段としての搬送コンベヤ7が挿通さ
れている。この搬送コンベヤ7は図4に示されるように
左右に1本づつ配設されたレール7c,7cを備えてい
る。これら一対のレール7c,7cにはそれぞれ図示し
ない駆動モ−タからの駆動力を伝達する複数のローラ7
aが配設されており被洗浄物17を乗せて走行する枠状
のパレット7bをレール7c,7cに掛け渡し状態に乗
せると所定の搬送条件で進退し搬送するように構成され
ている。そして、これらのパレット7bは搬送を終える
と上記取り出しコンベヤ5の取り出し端でレールから離
脱し、再度、挿入コンベヤ3の挿入端から汚れた被洗浄
物17を乗せて供給するようになっている。
され中央部に搬送手段としての搬送コンベヤ7が挿通さ
れている。この搬送コンベヤ7は図4に示されるように
左右に1本づつ配設されたレール7c,7cを備えてい
る。これら一対のレール7c,7cにはそれぞれ図示し
ない駆動モ−タからの駆動力を伝達する複数のローラ7
aが配設されており被洗浄物17を乗せて走行する枠状
のパレット7bをレール7c,7cに掛け渡し状態に乗
せると所定の搬送条件で進退し搬送するように構成され
ている。そして、これらのパレット7bは搬送を終える
と上記取り出しコンベヤ5の取り出し端でレールから離
脱し、再度、挿入コンベヤ3の挿入端から汚れた被洗浄
物17を乗せて供給するようになっている。
【0011】上記洗浄装置本体2は上記搬送コンベヤ7
の送り方向に沿って延長され且つ複数の洗浄室に仕切ら
れている。
の送り方向に沿って延長され且つ複数の洗浄室に仕切ら
れている。
【0012】そして、上記洗浄装置本体2には上記上昇
機4が設けられた一端側から第1洗浄室8、第2洗浄室
9、第3洗浄室10、第4洗浄室11および第5洗浄室
12が順次形成されている。また、上記第1洗浄室8と
第2洗浄室9との間には第1水切り室13が設けられ、
第2洗浄室9と第3洗浄室10との間にも第2水切り室
14が設けられている。さらに上記第5洗浄室12と下
降機6との間にも第3水切り室15が設けられている。
機4が設けられた一端側から第1洗浄室8、第2洗浄室
9、第3洗浄室10、第4洗浄室11および第5洗浄室
12が順次形成されている。また、上記第1洗浄室8と
第2洗浄室9との間には第1水切り室13が設けられ、
第2洗浄室9と第3洗浄室10との間にも第2水切り室
14が設けられている。さらに上記第5洗浄室12と下
降機6との間にも第3水切り室15が設けられている。
【0013】さらに、上記第3水切り室15と下降機6
との間には真空乾燥室16が設けられている。
との間には真空乾燥室16が設けられている。
【0014】以下、洗浄装置本体2の各部について詳細
に説明する。
に説明する。
【0015】まず、上記第1洗浄室8は上記搬送コンベ
ヤ7上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射
用のノズルaが複数配設されている。これらのノズルa
の先端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位
置するように配置されており、これらのノズルaの基端
側の配管bは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側
に延長され水を収容した第1タンク19に接続されてい
る。ここで、上記配管bの中途部にはノズルaから噴出
される水を加熱および加圧するヒータ20とポンプ21
とが設けられている。これらヒータ20およびポンプ2
1とにより、上記ノズルaから噴出される水は約45℃
〜55℃まで加熱され、且つ噴射圧が約1Kg/cm2 に加
圧される。ここで、上記第1洗浄室8とノズルaと配管
bと第1タンク19とヒータ20およびポンプ21とに
より第1洗浄手段が構成されている。
ヤ7上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射
用のノズルaが複数配設されている。これらのノズルa
の先端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位
置するように配置されており、これらのノズルaの基端
側の配管bは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側
に延長され水を収容した第1タンク19に接続されてい
る。ここで、上記配管bの中途部にはノズルaから噴出
される水を加熱および加圧するヒータ20とポンプ21
とが設けられている。これらヒータ20およびポンプ2
1とにより、上記ノズルaから噴出される水は約45℃
〜55℃まで加熱され、且つ噴射圧が約1Kg/cm2 に加
圧される。ここで、上記第1洗浄室8とノズルaと配管
bと第1タンク19とヒータ20およびポンプ21とに
より第1洗浄手段が構成されている。
【0016】また、上記第1洗浄室8の底部は仕切り板
22を隔てて形成された上記第1水切り室13の底部と
連通しており、洗浄に使用した水および水切りされた水
を集留するようになっている。ここで集留された水は第
1排水処理手段としての第1再生処理ユニット23を通
過して上記第1タンク19に再供給される。この第1再
生処理ユニット23は図示しない遠心ろ過器とボイラ等
からなる加熱器とを備えている。上記遠心ろ過器は洗浄
に使用した水に含まれる固形物や油水の分離を行い、加
熱器はペーハー(以下pHと記す)調整のための脱気と
殺菌を行い、再生処理する。
22を隔てて形成された上記第1水切り室13の底部と
連通しており、洗浄に使用した水および水切りされた水
を集留するようになっている。ここで集留された水は第
1排水処理手段としての第1再生処理ユニット23を通
過して上記第1タンク19に再供給される。この第1再
生処理ユニット23は図示しない遠心ろ過器とボイラ等
からなる加熱器とを備えている。上記遠心ろ過器は洗浄
に使用した水に含まれる固形物や油水の分離を行い、加
熱器はペーハー(以下pHと記す)調整のための脱気と
殺菌を行い、再生処理する。
【0017】また、上記第1タンク19には純水タンク
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第1タンク19内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第1タンク19内の水のほとんどは第
1再生処理ユニット23によって再生処理された水であ
る。
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第1タンク19内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第1タンク19内の水のほとんどは第
1再生処理ユニット23によって再生処理された水であ
る。
【0018】次に、上記第2洗浄室9は上記搬送コンベ
ヤ7上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射
用のノズルdが複数配設されている。これらのノズルd
の先端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位
置するように配置されており、これらのノズルdの基端
側の配管eは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側
に延長され第2タンク28に接続されている。ここで、
上記第2タンク28には界面活性剤を所定量含む水(以
下洗浄液と記す)が収容されている。また、上記配管e
の中途部にはノズルdから噴出される洗浄液を加熱およ
び加圧するヒータ20とポンプ21とが設けられてい
る。これらヒータ20およびポンプ21とにより、上記
ノズルdから噴出される洗浄液は45℃〜55℃まで加
熱され、且つ噴射圧が約1Kg/cm2 に加圧される。そし
て、上記第2洗浄室9とノズルdと配管eと第2タンク
28とヒータ20およびポンプ21とにより第2洗浄手
段が構成されている。なお、上記界面活性剤の曇点は約
45℃〜55℃であり、洗浄に使用する水および洗浄液
を界面活性剤の曇点付近まで加熱することで洗浄力を高
めている。
ヤ7上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射
用のノズルdが複数配設されている。これらのノズルd
の先端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位
置するように配置されており、これらのノズルdの基端
側の配管eは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側
に延長され第2タンク28に接続されている。ここで、
上記第2タンク28には界面活性剤を所定量含む水(以
下洗浄液と記す)が収容されている。また、上記配管e
の中途部にはノズルdから噴出される洗浄液を加熱およ
び加圧するヒータ20とポンプ21とが設けられてい
る。これらヒータ20およびポンプ21とにより、上記
ノズルdから噴出される洗浄液は45℃〜55℃まで加
熱され、且つ噴射圧が約1Kg/cm2 に加圧される。そし
て、上記第2洗浄室9とノズルdと配管eと第2タンク
28とヒータ20およびポンプ21とにより第2洗浄手
段が構成されている。なお、上記界面活性剤の曇点は約
45℃〜55℃であり、洗浄に使用する水および洗浄液
を界面活性剤の曇点付近まで加熱することで洗浄力を高
めている。
【0019】また、上記第2洗浄室9の底部は仕切り板
29を隔てて形成された上記第2水切り室14の底部と
連通しており、洗浄に使用した洗浄液および水切りされ
た洗浄液を集留するようになっている。ここで集留され
た洗浄液は第2排水処理手段としての第2再生処理ユニ
ット30を通過して上記第2タンク28に再供給され
る。この第2再生処理ユニット30は図示しない界面活
性剤非吸着タイプの静電フィルタを備えており、この静
電フィルタによって油が分離された洗浄液の通過点には
図示しない導電率計が設けられている。この導電率計を
設けることで洗浄液中のケイ酸塩の濃度を検出し界面活
性剤の濃度管理ができるようになっている。つまり、上
記第2再生処理ユニット30は上記界面活性剤非吸着タ
イプの静電フィルタにより、洗浄液中の油を吸着して分
離し、洗浄液中の界面活性剤の濃度を管理して再使用で
きるようにしている。
29を隔てて形成された上記第2水切り室14の底部と
連通しており、洗浄に使用した洗浄液および水切りされ
た洗浄液を集留するようになっている。ここで集留され
た洗浄液は第2排水処理手段としての第2再生処理ユニ
ット30を通過して上記第2タンク28に再供給され
る。この第2再生処理ユニット30は図示しない界面活
性剤非吸着タイプの静電フィルタを備えており、この静
電フィルタによって油が分離された洗浄液の通過点には
図示しない導電率計が設けられている。この導電率計を
設けることで洗浄液中のケイ酸塩の濃度を検出し界面活
性剤の濃度管理ができるようになっている。つまり、上
記第2再生処理ユニット30は上記界面活性剤非吸着タ
イプの静電フィルタにより、洗浄液中の油を吸着して分
離し、洗浄液中の界面活性剤の濃度を管理して再使用で
きるようにしている。
【0020】また、上記第2タンク28には純水タンク
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第2タンク28内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第2タンク28内の洗浄液のほとんど
は上記第2再生処理ユニット30によって再生処理され
たものである。
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第2タンク28内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第2タンク28内の洗浄液のほとんど
は上記第2再生処理ユニット30によって再生処理され
たものである。
【0021】上記第3洗浄室10は上記搬送コンベヤ7
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルfが複数配設されている。これらのノズルfの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルfの基端側の
配管gは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第3タンク31に接続されている。ここで、上記
第3タンク31には水が収容されている。また、上記配
管gの中途部にはノズルfから噴出される水を加熱およ
び加圧するヒータ20とポンプ21とが設けられてい
る。これらヒータ20およびポンプ21とにより、上記
ノズルfから噴出される水は45℃〜55℃まで加熱さ
れ、且つ噴射圧が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上
記第3洗浄室10とノズルfと配管gと第3タンク31
とヒータ20およびポンプ21とにより第3洗浄手段が
構成されている。
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルfが複数配設されている。これらのノズルfの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルfの基端側の
配管gは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第3タンク31に接続されている。ここで、上記
第3タンク31には水が収容されている。また、上記配
管gの中途部にはノズルfから噴出される水を加熱およ
び加圧するヒータ20とポンプ21とが設けられてい
る。これらヒータ20およびポンプ21とにより、上記
ノズルfから噴出される水は45℃〜55℃まで加熱さ
れ、且つ噴射圧が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上
記第3洗浄室10とノズルfと配管gと第3タンク31
とヒータ20およびポンプ21とにより第3洗浄手段が
構成されている。
【0022】また、上記第3洗浄室10の底部は洗浄に
使用した水を集留するようになっており、集留された水
は第3排水処理手段としての第3再生処理ユニット32
を通過して上記第3タンク31に再供給される。この第
3再生処理ユニット32は図示しない界面活性剤吸着タ
イプの静電フィルタを備えており、この静電フィルタに
よって水と油および界面活性剤がそれぞれに分離され
る。そして、上記界面活性剤吸着タイプの静電フィルタ
を通過させることで水を再使用できるようにしている。
使用した水を集留するようになっており、集留された水
は第3排水処理手段としての第3再生処理ユニット32
を通過して上記第3タンク31に再供給される。この第
3再生処理ユニット32は図示しない界面活性剤吸着タ
イプの静電フィルタを備えており、この静電フィルタに
よって水と油および界面活性剤がそれぞれに分離され
る。そして、上記界面活性剤吸着タイプの静電フィルタ
を通過させることで水を再使用できるようにしている。
【0023】また、上記第3タンク31には純水タンク
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第3タンク31内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第3タンク31内の水のほとんどは上
記第3再生処理ユニット32によって再生処理された水
である。
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第3タンク31内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第3タンク31内の水のほとんどは上
記第3再生処理ユニット32によって再生処理された水
である。
【0024】上記第4洗浄室11は上記搬送コンベヤ7
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルhが複数配設されている。これらのノズルhの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルhの基端側の
配管jは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第4タンク33に接続されている。ここで、上記
第4タンク33には純水が収容されており、この第4タ
ンク33内の純水は上記第3タンク31内の水より純度
が高く設定されている。また、上記配管jの中途部には
ノズルhから噴出される純水を加熱および加圧するヒー
タ20とポンプ21とが設けられている。これらヒータ
20およびポンプ21とにより、上記ノズルhから噴出
される純水は45℃〜55℃まで加熱され、且つ噴射圧
が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上記第4洗浄室1
1とノズルhと配管jと第4タンク33とヒータ20お
よびポンプ21とにより第4洗浄手段が構成されてい
る。
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルhが複数配設されている。これらのノズルhの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルhの基端側の
配管jは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第4タンク33に接続されている。ここで、上記
第4タンク33には純水が収容されており、この第4タ
ンク33内の純水は上記第3タンク31内の水より純度
が高く設定されている。また、上記配管jの中途部には
ノズルhから噴出される純水を加熱および加圧するヒー
タ20とポンプ21とが設けられている。これらヒータ
20およびポンプ21とにより、上記ノズルhから噴出
される純水は45℃〜55℃まで加熱され、且つ噴射圧
が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上記第4洗浄室1
1とノズルhと配管jと第4タンク33とヒータ20お
よびポンプ21とにより第4洗浄手段が構成されてい
る。
【0025】また、上記第4洗浄室11の底部は洗浄に
使用した純水を集留するようになっており、集留された
純水は第4再生処理ユニット34を通過して上記第4タ
ンク33に再供給される。この第4再生処理ユニット3
4は図示しない活性炭フィルタを備えており、この活性
炭フィルタによってすすぎに使用した純水中の有機物を
吸着し、純水を再使用できるようにしている。
使用した純水を集留するようになっており、集留された
純水は第4再生処理ユニット34を通過して上記第4タ
ンク33に再供給される。この第4再生処理ユニット3
4は図示しない活性炭フィルタを備えており、この活性
炭フィルタによってすすぎに使用した純水中の有機物を
吸着し、純水を再使用できるようにしている。
【0026】また、上記第4タンク33には純水タンク
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第4タンク33内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第4タンク33内の純水のほとんどは
上記第4再生処理ユニット34によって再生処理された
純水である。
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第4タンク33内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第4タンク33内の純水のほとんどは
上記第4再生処理ユニット34によって再生処理された
純水である。
【0027】上記第5洗浄室12は上記搬送コンベヤ7
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルkが複数配設されている。これらのノズルkの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルkの基端側の
配管mは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第5タンク35に接続されている。ここで、上記
第5タンク35には第4タンク33の純水よりも純度の
高い純水が収容されている。また、上記配管mの中途部
にはノズルkから噴出される純水を加熱および加圧する
ヒータ20とポンプ21とが設けられている。これらヒ
ータ20およびポンプ21とにより、上記ノズルkから
噴出される純水は45℃〜55℃まで加熱され、且つ噴
射圧が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上記第5洗浄
室12とノズルkと配管mと第5タンク35とヒータ2
0およびポンプ21とにより第5洗浄手段が構成されて
いる。
上の被洗浄物17を上下から洗浄するシャワー噴射用の
ノズルkが複数配設されている。これらのノズルkの先
端は被洗浄物17の表面から約50mmの距離に位置す
るように配置されており、これらのノズルkの基端側の
配管mは上記洗浄装置本体2の壁面を貫通して外側に延
長され第5タンク35に接続されている。ここで、上記
第5タンク35には第4タンク33の純水よりも純度の
高い純水が収容されている。また、上記配管mの中途部
にはノズルkから噴出される純水を加熱および加圧する
ヒータ20とポンプ21とが設けられている。これらヒ
ータ20およびポンプ21とにより、上記ノズルkから
噴出される純水は45℃〜55℃まで加熱され、且つ噴
射圧が1Kg/cm2 に加圧される。そして、上記第5洗浄
室12とノズルkと配管mと第5タンク35とヒータ2
0およびポンプ21とにより第5洗浄手段が構成されて
いる。
【0028】また、上記第5洗浄室12の底部は仕切り
板37を隔てて形成された上記第3水切り室15の底部
と連通しており、すすぎに使用した純水および水切りさ
れた純水を集留するようになっている。ここで集留され
た純水は第5再生処理ユニット36を通過して上記第5
タンク35に再供給される。この第5再生処理ユニット
36はイオン交換式の図示しない純水製造装置を備えて
おり、この純水製造装置によって、すすぎに使用した純
水中の有機物を吸着し、純水を再使用できるようにして
いる。
板37を隔てて形成された上記第3水切り室15の底部
と連通しており、すすぎに使用した純水および水切りさ
れた純水を集留するようになっている。ここで集留され
た純水は第5再生処理ユニット36を通過して上記第5
タンク35に再供給される。この第5再生処理ユニット
36はイオン交換式の図示しない純水製造装置を備えて
おり、この純水製造装置によって、すすぎに使用した純
水中の有機物を吸着し、純水を再使用できるようにして
いる。
【0029】また、上記第5タンク35には純水タンク
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第5タンク35内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第5タンク35内の純水のほとんどは
上記第5再生処理ユニット36によって再生処理された
純水である。ここで、純水タンク24内の純水は第5タ
ンク35内の純水と同等以上の純度をもっている。
24からの供給管25が接続されておりポンプ26によ
って純水が圧送され、バルブ27によって供給量を調整
するようになっている。ここで、上記純水タンク24の
純水は上記第5タンク35内の水量が減少した場合に供
給されるもので、第5タンク35内の純水のほとんどは
上記第5再生処理ユニット36によって再生処理された
純水である。ここで、純水タンク24内の純水は第5タ
ンク35内の純水と同等以上の純度をもっている。
【0030】また、上記第1乃至第3水切り室13,1
4,15には搬送コンベヤ7上の被洗浄物17上下から
水切りするエアー噴射用のノズルnが複数配設されてい
る。これらのノズルnの先端は被洗浄物17の表面から
約50mmの距離に位置するように配置されており、ノ
ズルnの基端側の配管rは上記洗浄装置本体2の壁面を
貫通して外側に延長されコンプレッサ39に接続されて
いる。これらのノズルnは被洗浄物17に所定圧力のエ
アーを吹きつけて水切りを行う。つまり、上記水切り室
13,14,15は被洗浄物17が次の工程に移動する
場合に次工程の洗浄室等を汚染しないように配設されて
いる。
4,15には搬送コンベヤ7上の被洗浄物17上下から
水切りするエアー噴射用のノズルnが複数配設されてい
る。これらのノズルnの先端は被洗浄物17の表面から
約50mmの距離に位置するように配置されており、ノ
ズルnの基端側の配管rは上記洗浄装置本体2の壁面を
貫通して外側に延長されコンプレッサ39に接続されて
いる。これらのノズルnは被洗浄物17に所定圧力のエ
アーを吹きつけて水切りを行う。つまり、上記水切り室
13,14,15は被洗浄物17が次の工程に移動する
場合に次工程の洗浄室等を汚染しないように配設されて
いる。
【0031】また、上記真空乾燥室16は開閉式の扉1
6a,16bを備えており、搬送コンベヤ7によって搬
送されてくる被洗浄物17を所定数量収容するごとに、
扉16a,16bを閉鎖して真空乾燥室16内を減圧
し、乾燥を促進するようになっている。なお、この真空
乾燥室16内に収容させる以前に被洗浄物17は各工程
ごとに約45℃〜55℃の純水等が吹き付けられている
から乾燥しやすい状態まで十分に加熱されている。
6a,16bを備えており、搬送コンベヤ7によって搬
送されてくる被洗浄物17を所定数量収容するごとに、
扉16a,16bを閉鎖して真空乾燥室16内を減圧
し、乾燥を促進するようになっている。なお、この真空
乾燥室16内に収容させる以前に被洗浄物17は各工程
ごとに約45℃〜55℃の純水等が吹き付けられている
から乾燥しやすい状態まで十分に加熱されている。
【0032】上述のように構成された洗浄装置1を使用
することにより、以下に説明するような洗浄を行うこと
ができる。
することにより、以下に説明するような洗浄を行うこと
ができる。
【0033】上記被洗浄物17は例えば図3に示される
ような複雑な形状に切削された金属製の円筒部品17で
あり、この円筒部品17の下面には複数の盲穴17aが
穿設されており、表面および盲穴17aには切削油や切
り粉等が多量に付着している。
ような複雑な形状に切削された金属製の円筒部品17で
あり、この円筒部品17の下面には複数の盲穴17aが
穿設されており、表面および盲穴17aには切削油や切
り粉等が多量に付着している。
【0034】このような被洗浄物17を上記挿入コンベ
ヤ3上に載置すると、この挿入コンベヤ3は被洗浄物1
7を上昇機4に供給する。上昇機4は被洗浄物17を搬
送コンベヤ7上に供給する。このとき被洗浄物17の盲
穴17aは下向きに開口するように載置する。
ヤ3上に載置すると、この挿入コンベヤ3は被洗浄物1
7を上昇機4に供給する。上昇機4は被洗浄物17を搬
送コンベヤ7上に供給する。このとき被洗浄物17の盲
穴17aは下向きに開口するように載置する。
【0035】そして、搬送コンベヤ7上に供給された被
洗浄物17は、まず第1洗浄室8に収容され、第1洗浄
手段により第1洗浄工程が行われる。上記ノズルaから
は加熱および加圧された水が噴出し、被洗浄物17に付
着した切削油や切り粉等の大部分が吹き飛ばされる。特
に油は付着量の約98%が除去される。また、上記搬送
コンベヤ7は上記ノズルaからのシャワーが吹き付ける
範囲、つまり第1洗浄室8内で進行方向に進退移動し洗
浄効果を高めるように制御される。この搬送コンベヤ7
の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a内にも十
分に水が吹き付けられる。一般に水は油を洗浄する化学
的機能が低いものであるが、多量の油を機械的にたたき
落とす場合には所定の条件の下で非常に高い洗浄機能を
発揮するものである。つまり、フロンやトリクロロエタ
ン等を使用できない場合に、段階的な洗浄の初期の時点
で水による機械的洗浄を行うことは非常に高い効果を持
つものである。
洗浄物17は、まず第1洗浄室8に収容され、第1洗浄
手段により第1洗浄工程が行われる。上記ノズルaから
は加熱および加圧された水が噴出し、被洗浄物17に付
着した切削油や切り粉等の大部分が吹き飛ばされる。特
に油は付着量の約98%が除去される。また、上記搬送
コンベヤ7は上記ノズルaからのシャワーが吹き付ける
範囲、つまり第1洗浄室8内で進行方向に進退移動し洗
浄効果を高めるように制御される。この搬送コンベヤ7
の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a内にも十
分に水が吹き付けられる。一般に水は油を洗浄する化学
的機能が低いものであるが、多量の油を機械的にたたき
落とす場合には所定の条件の下で非常に高い洗浄機能を
発揮するものである。つまり、フロンやトリクロロエタ
ン等を使用できない場合に、段階的な洗浄の初期の時点
で水による機械的洗浄を行うことは非常に高い効果を持
つものである。
【0036】さらに、上記第1洗浄室8で使用した水は
底部で集留され、第1再生処理ユニット23を通過する
ことで遠心ろ過されpH調整処理されることで水と油お
よび切り粉等の固形物とに分離され、且つ脱気と殺菌が
なされ再生処理される。この第1再生処理ユニット23
によって再生処理された水は第1タンク19に供給さ
れ、第1洗浄工程で再使用される。第1再生処理ユニッ
ト23において水と油は非常に分離しやすい性質をもっ
ているので、再生処理は安価な装置で容易に行うことが
でき、第1洗浄工程で使用したほとんどの水が再使用さ
れる。
底部で集留され、第1再生処理ユニット23を通過する
ことで遠心ろ過されpH調整処理されることで水と油お
よび切り粉等の固形物とに分離され、且つ脱気と殺菌が
なされ再生処理される。この第1再生処理ユニット23
によって再生処理された水は第1タンク19に供給さ
れ、第1洗浄工程で再使用される。第1再生処理ユニッ
ト23において水と油は非常に分離しやすい性質をもっ
ているので、再生処理は安価な装置で容易に行うことが
でき、第1洗浄工程で使用したほとんどの水が再使用さ
れる。
【0037】第1洗浄室8での第1洗浄工程を終える
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第1水切り室13
に搬送する。この第1水切り室13では所定圧力のエア
ーを吹き付けて、被洗浄物17に付着している水を吹き
落とす第1水切り工程を行う。ここで吹き落とされた水
は底部に集留され上記第1再生処理ユニット23を通過
して再生処理される。この第1水切り室13を通過する
ことで上記被洗浄物17は表面に残存した微量の油(ほ
ぼ油膜の状態)をのぞき他の付着物のほとんどは除去さ
れ、且つ、除去された付着物は第2洗浄室9に侵入しな
い。
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第1水切り室13
に搬送する。この第1水切り室13では所定圧力のエア
ーを吹き付けて、被洗浄物17に付着している水を吹き
落とす第1水切り工程を行う。ここで吹き落とされた水
は底部に集留され上記第1再生処理ユニット23を通過
して再生処理される。この第1水切り室13を通過する
ことで上記被洗浄物17は表面に残存した微量の油(ほ
ぼ油膜の状態)をのぞき他の付着物のほとんどは除去さ
れ、且つ、除去された付着物は第2洗浄室9に侵入しな
い。
【0038】次に、第1水切り工程を終えると、搬送コ
ンベヤ7は被洗浄物17を第2洗浄室9に搬送する。こ
の第2洗浄室9では上記ノズルdから加熱および加圧さ
れた洗浄液(所定量の界面活性剤を含む水)が噴出し、
被洗浄物17に付着した油と上記界面活性剤を置き換え
る第2洗浄工程を行う。この洗浄工程により油は界面活
性剤に置き換えられることで被洗浄物17の表面および
盲穴17aから除去される。また、上記搬送コンベヤ7
は上記ノズルdからのシャワーが吹き付ける範囲、つま
り第2洗浄室9内で進行方向に進退移動し洗浄効果を高
めるように制御される。この搬送コンベヤ7の進退移動
により、被洗浄物17の盲穴17a内にも十分に洗浄液
が吹き付けられる。
ンベヤ7は被洗浄物17を第2洗浄室9に搬送する。こ
の第2洗浄室9では上記ノズルdから加熱および加圧さ
れた洗浄液(所定量の界面活性剤を含む水)が噴出し、
被洗浄物17に付着した油と上記界面活性剤を置き換え
る第2洗浄工程を行う。この洗浄工程により油は界面活
性剤に置き換えられることで被洗浄物17の表面および
盲穴17aから除去される。また、上記搬送コンベヤ7
は上記ノズルdからのシャワーが吹き付ける範囲、つま
り第2洗浄室9内で進行方向に進退移動し洗浄効果を高
めるように制御される。この搬送コンベヤ7の進退移動
により、被洗浄物17の盲穴17a内にも十分に洗浄液
が吹き付けられる。
【0039】段階的な洗浄の初期の時点で水による機械
的洗浄を行うことで、第2洗浄工程で使用する洗浄液中
の界面活性剤の濃度は通常洗浄の場合に比較して非常に
低く抑えることができ、洗浄時間の短縮ができ、且つ、
後述する再生処理を安価な設備で行うことができる。
的洗浄を行うことで、第2洗浄工程で使用する洗浄液中
の界面活性剤の濃度は通常洗浄の場合に比較して非常に
低く抑えることができ、洗浄時間の短縮ができ、且つ、
後述する再生処理を安価な設備で行うことができる。
【0040】上記第2洗浄室9で使用した洗浄液は底部
で集留され、第2再生処理ユニット30を通過すること
で油と洗浄液が分離され、また、界面活性剤の濃度調整
が行われて再生処理される。この第2再生処理ユニット
30によって再生処理された洗浄液は第2タンク28に
供給され、第2洗浄工程で再使用される。第2再生処理
ユニット30において洗浄液と油とが分離され、第2洗
浄工程で使用したほとんどの洗浄液が再使用される。
で集留され、第2再生処理ユニット30を通過すること
で油と洗浄液が分離され、また、界面活性剤の濃度調整
が行われて再生処理される。この第2再生処理ユニット
30によって再生処理された洗浄液は第2タンク28に
供給され、第2洗浄工程で再使用される。第2再生処理
ユニット30において洗浄液と油とが分離され、第2洗
浄工程で使用したほとんどの洗浄液が再使用される。
【0041】第2洗浄室9での第2洗浄工程を終える
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第2水切り室14
に搬送する。この第2水切り室14では所定圧力のエア
ーを吹き付けて、被洗浄物17に付着している洗浄液を
吹き落とす第2水切り工程を行う。ここで吹き落とされ
た洗浄液は底部に集留され上記第2再生処理ユニット3
0を通過して再生処理される。この第2水切り室14を
通過することで上記被洗浄物17は表面に残存した微量
の界面活性剤をのぞき他の付着物のほとんどは除去さ
れ、且つ、除去された付着物は第3洗浄室10に侵入し
ない。
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第2水切り室14
に搬送する。この第2水切り室14では所定圧力のエア
ーを吹き付けて、被洗浄物17に付着している洗浄液を
吹き落とす第2水切り工程を行う。ここで吹き落とされ
た洗浄液は底部に集留され上記第2再生処理ユニット3
0を通過して再生処理される。この第2水切り室14を
通過することで上記被洗浄物17は表面に残存した微量
の界面活性剤をのぞき他の付着物のほとんどは除去さ
れ、且つ、除去された付着物は第3洗浄室10に侵入し
ない。
【0042】次に、第2水切り工程を終えると、搬送コ
ンベヤ7は被洗浄物17を第3洗浄室10に搬送する。
この第3洗浄室10では上記ノズルfから加熱および加
圧された水が噴出し、被洗浄物17に付着した界面活性
剤をすすぎ落とす第3洗浄工程を行う。この洗浄工程に
より界面活性剤は被洗浄物17の表面および盲穴17a
から除去される。また、上記搬送コンベヤ7は上記ノズ
ルfからのシャワーが吹き付ける範囲、つまり第3洗浄
室10内で進行方向に進退移動しすすぎ効果を高めるよ
うに制御される。この搬送コンベヤ7の進退移動によ
り、被洗浄物17の盲穴17a内にも十分に水が吹き付
けられる。
ンベヤ7は被洗浄物17を第3洗浄室10に搬送する。
この第3洗浄室10では上記ノズルfから加熱および加
圧された水が噴出し、被洗浄物17に付着した界面活性
剤をすすぎ落とす第3洗浄工程を行う。この洗浄工程に
より界面活性剤は被洗浄物17の表面および盲穴17a
から除去される。また、上記搬送コンベヤ7は上記ノズ
ルfからのシャワーが吹き付ける範囲、つまり第3洗浄
室10内で進行方向に進退移動しすすぎ効果を高めるよ
うに制御される。この搬送コンベヤ7の進退移動によ
り、被洗浄物17の盲穴17a内にも十分に水が吹き付
けられる。
【0043】段階的な洗浄の初期の時点で水による機械
的洗浄を行うことで、使用する界面活性剤の濃度を低く
抑えることができるので第3洗浄工程で使用する水中の
界面活性剤の濃度は極めて低いものとなる。
的洗浄を行うことで、使用する界面活性剤の濃度を低く
抑えることができるので第3洗浄工程で使用する水中の
界面活性剤の濃度は極めて低いものとなる。
【0044】上記第3洗浄室10で使用した水は底部で
集留され、第3再生処理ユニット32を通過することで
界面活性剤と水とが分離され再生処理される。この第3
再生処理ユニット32によって再生処理された洗浄液は
第3タンク31に供給され、第3洗浄工程で再使用され
る。第3再生処理ユニット32において界面活性剤と水
とが分離され、第3洗浄工程で使用したほとんどの水が
再使用される。
集留され、第3再生処理ユニット32を通過することで
界面活性剤と水とが分離され再生処理される。この第3
再生処理ユニット32によって再生処理された洗浄液は
第3タンク31に供給され、第3洗浄工程で再使用され
る。第3再生処理ユニット32において界面活性剤と水
とが分離され、第3洗浄工程で使用したほとんどの水が
再使用される。
【0045】以上第1から第3洗浄工程を経ることによ
り、本発明の所期目的は達成され得るが、この実施例に
おいては、より一層洗浄効果を高めるために、以下に説
明する第4洗浄工程と第5洗浄工程を行う。
り、本発明の所期目的は達成され得るが、この実施例に
おいては、より一層洗浄効果を高めるために、以下に説
明する第4洗浄工程と第5洗浄工程を行う。
【0046】第3洗浄室10での第3洗浄工程を終える
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第4洗浄室11に
搬送する。この第4洗浄室11では上記ノズルhから加
熱および加圧された純水が噴出し、被洗浄物17に残存
した界面活性剤をすすぎ落とす第4洗浄工程を行う。こ
の洗浄工程により界面活性剤は被洗浄物17の表面およ
び盲穴17aからほぼ完全に除去される。また、上記搬
送コンベヤ7は上記ノズルhからのシャワーが吹き付け
る範囲、つまり第4洗浄室11内で進行方向に進退移動
し、すすぎ効果を高めるように制御される。この搬送コ
ンベヤ7の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a
内にも十分に純水が吹き付けられる。
と、搬送コンベヤ7は被洗浄物17を第4洗浄室11に
搬送する。この第4洗浄室11では上記ノズルhから加
熱および加圧された純水が噴出し、被洗浄物17に残存
した界面活性剤をすすぎ落とす第4洗浄工程を行う。こ
の洗浄工程により界面活性剤は被洗浄物17の表面およ
び盲穴17aからほぼ完全に除去される。また、上記搬
送コンベヤ7は上記ノズルhからのシャワーが吹き付け
る範囲、つまり第4洗浄室11内で進行方向に進退移動
し、すすぎ効果を高めるように制御される。この搬送コ
ンベヤ7の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a
内にも十分に純水が吹き付けられる。
【0047】上記第4洗浄室11で使用した純水は底部
で集留され、第4再生処理ユニット34を通過すること
で界面活性剤と水とが分離され再生処理される。この第
4再生処理ユニット34によって再生処理された洗浄液
は第4タンク33に供給され、第4洗浄工程で再使用さ
れる。第4再生処理ユニット34において界面活性剤と
純水とが分離され、第4洗浄工程で使用したほとんどの
純水が再使用される。
で集留され、第4再生処理ユニット34を通過すること
で界面活性剤と水とが分離され再生処理される。この第
4再生処理ユニット34によって再生処理された洗浄液
は第4タンク33に供給され、第4洗浄工程で再使用さ
れる。第4再生処理ユニット34において界面活性剤と
純水とが分離され、第4洗浄工程で使用したほとんどの
純水が再使用される。
【0048】次に、第4洗浄工程を終了した被洗浄物1
7は搬送コンベヤ7によって第5洗浄室12に搬送され
る。この第5洗浄室12では上記ノズルkから加熱およ
び加圧された純水が噴出し、被洗浄物17に残存した界
面活性剤を更にすすぎ落とす第5洗浄工程を行う。この
洗浄工程により界面活性剤は被洗浄物17の表面および
盲穴17aから完全に除去される。また、上記搬送コン
ベヤ7は上記ノズルkからのシャワーが吹き付ける範
囲、つまり第5洗浄室12内で進行方向に進退移動し、
すすぎ効果を高めるように制御される。この搬送コンベ
ヤ7の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a内に
も十分に純水が吹き付けられる。
7は搬送コンベヤ7によって第5洗浄室12に搬送され
る。この第5洗浄室12では上記ノズルkから加熱およ
び加圧された純水が噴出し、被洗浄物17に残存した界
面活性剤を更にすすぎ落とす第5洗浄工程を行う。この
洗浄工程により界面活性剤は被洗浄物17の表面および
盲穴17aから完全に除去される。また、上記搬送コン
ベヤ7は上記ノズルkからのシャワーが吹き付ける範
囲、つまり第5洗浄室12内で進行方向に進退移動し、
すすぎ効果を高めるように制御される。この搬送コンベ
ヤ7の進退移動により、被洗浄物17の盲穴17a内に
も十分に純水が吹き付けられる。
【0049】上記第5洗浄室12で使用した純水は底部
で集留され、第5再生処理ユニット36を通過すること
で界面活性剤と純水とが分離され再生処理される。この
第5再生処理ユニット36によって再生処理された純水
は第5タンク35に供給され、第5洗浄工程で再使用さ
れる。第5再生処理ユニット36において界面活性剤と
純水とが分離され、第5洗浄工程で使用したほとんどの
純水が再使用される。
で集留され、第5再生処理ユニット36を通過すること
で界面活性剤と純水とが分離され再生処理される。この
第5再生処理ユニット36によって再生処理された純水
は第5タンク35に供給され、第5洗浄工程で再使用さ
れる。第5再生処理ユニット36において界面活性剤と
純水とが分離され、第5洗浄工程で使用したほとんどの
純水が再使用される。
【0050】上述のように被洗浄物17に付着した界面
活性剤を第3乃至第5洗浄室ごとにすすぎ落とすことに
より、段階的に界面活性剤の濃度を減少して、最終段階
では、完全に界面活性剤を除去することができる。
活性剤を第3乃至第5洗浄室ごとにすすぎ落とすことに
より、段階的に界面活性剤の濃度を減少して、最終段階
では、完全に界面活性剤を除去することができる。
【0051】このようにして第5洗浄室での第5洗浄工
程が終了した被洗浄物17は搬送コンベヤ7により第3
水切り室15に搬送される。この第3水切り室15では
被洗浄物17に所定圧力のエアーを吹き付けて、付着し
ている純水を吹き落とす第3水切り工程を行う。ここで
吹き落とされた純水は底部に集留され上記第5再生処理
ユニット36を通過して再生処理される。この第3水切
り室15を通過することで上記被洗浄物17は表面に残
存した純水のほとんどを除去され、且つ、除去された純
水は真空乾燥室16に侵入しない。つまり、被洗浄物1
7の表面および盲穴17a内に残存する純水を除去し、
乾燥後の染みの発生を防止する。
程が終了した被洗浄物17は搬送コンベヤ7により第3
水切り室15に搬送される。この第3水切り室15では
被洗浄物17に所定圧力のエアーを吹き付けて、付着し
ている純水を吹き落とす第3水切り工程を行う。ここで
吹き落とされた純水は底部に集留され上記第5再生処理
ユニット36を通過して再生処理される。この第3水切
り室15を通過することで上記被洗浄物17は表面に残
存した純水のほとんどを除去され、且つ、除去された純
水は真空乾燥室16に侵入しない。つまり、被洗浄物1
7の表面および盲穴17a内に残存する純水を除去し、
乾燥後の染みの発生を防止する。
【0052】第3水切り工程を終了した被洗浄物17は
真空乾燥室16内に所定数量まとめられて収容される。
ここで、真空乾燥室16内に収容される被洗浄物17の
数量は、真空乾燥に要する時間内に上記第3水切り室1
5から搬出される数量に一致するように設定されてい
る。そして、真空乾燥室16は被洗浄物17を収容した
後に扉16a,16bが図示しない駆動手段により閉鎖
され、図示しない真空ポンプ等の減圧手段により所定圧
力状態まで減圧される。この減圧により、被洗浄物17
に付着した純水は蒸発し、乾燥が行われる。このとき上
記純水等により被洗浄物17の温度は45℃〜55℃付
近まで高められているため、蒸発は速やかに進行する。
真空乾燥室16内に所定数量まとめられて収容される。
ここで、真空乾燥室16内に収容される被洗浄物17の
数量は、真空乾燥に要する時間内に上記第3水切り室1
5から搬出される数量に一致するように設定されてい
る。そして、真空乾燥室16は被洗浄物17を収容した
後に扉16a,16bが図示しない駆動手段により閉鎖
され、図示しない真空ポンプ等の減圧手段により所定圧
力状態まで減圧される。この減圧により、被洗浄物17
に付着した純水は蒸発し、乾燥が行われる。このとき上
記純水等により被洗浄物17の温度は45℃〜55℃付
近まで高められているため、蒸発は速やかに進行する。
【0053】真空乾燥室16は被洗浄物17の乾燥を終
了すると扉16a,16bを開放し、上記搬送コンベヤ
7が被洗浄物17を真空乾燥室16の外に搬出する。搬
出された被洗浄物17は下降機6によって取り出しコン
ベヤ5まで降下され、取り出しコンベヤ5によって取り
出し側に搬送される。
了すると扉16a,16bを開放し、上記搬送コンベヤ
7が被洗浄物17を真空乾燥室16の外に搬出する。搬
出された被洗浄物17は下降機6によって取り出しコン
ベヤ5まで降下され、取り出しコンベヤ5によって取り
出し側に搬送される。
【0054】上述のように、第1乃至第5洗浄工程に分
割し各段階ごとの洗浄を行う洗浄装置1を使用すること
により、洗浄に使用する純水と水および洗浄液を汚染状
態ごとに段階的に分割し、それぞれの汚染状態ごとに再
生処理をすることができる。この汚染状態ごとの再生処
理は比較的容易であり、それぞれの設備は小型且つ安価
に設定することができ、従来の汚水処理システムのよう
な大規模且つ高価な汚水処理槽をいくつも必要とするも
のではない。
割し各段階ごとの洗浄を行う洗浄装置1を使用すること
により、洗浄に使用する純水と水および洗浄液を汚染状
態ごとに段階的に分割し、それぞれの汚染状態ごとに再
生処理をすることができる。この汚染状態ごとの再生処
理は比較的容易であり、それぞれの設備は小型且つ安価
に設定することができ、従来の汚水処理システムのよう
な大規模且つ高価な汚水処理槽をいくつも必要とするも
のではない。
【0055】そして、第1洗浄工程で、水の吹き付けに
より被洗浄物17の付着物のほとんどを除去する。第2
洗浄工程で、洗浄液を吹き付けることにより被洗浄物1
7にわずかに残存した油を界面活性剤に置き換える。そ
して、第3洗浄工程で、水を吹き付けることにより、界
面活性剤をすすぎ落とす。第4洗浄工程により、第3洗
浄工程で使用した水よりも純度の高い純水で更に残存し
た界面活性剤を除去する。この後、第5洗浄工程により
第4洗浄工程で使用した純水よりも純度の高い純水で更
にすすぎを行う。次に真空乾燥室16で乾燥することに
より、純水を除去して被洗浄物17に染みを残すことな
く洗浄を完了することができる。そして、第1水切り工
程と第2水切り工程および第3水切り工程とを洗浄機能
領域の境界に配置することにより、隣接する異なる洗浄
機能領域間でそれぞれの汚染状態を維持できるようにな
っている。ここで、上記洗浄機能領域とは水で油をたた
き落とす第1洗浄室8、洗浄液を使用する第2洗浄室
9、水および純水を使用する第3〜第5洗浄室10,1
1,12、被洗浄物17を乾燥する真空乾燥室16のそ
れぞれを示す。上述のように搬送コンベヤ7によって被
洗浄物17を搬送しながら洗浄工程を順次進行させるこ
とにより、製造ラインの端末に上記洗浄装置1を連続し
て配置することで、ブランク状態から加工をした製品が
完成状態では洗浄を完了して搬出されるという、極めて
効率的な製造ラインを完成することができる。
より被洗浄物17の付着物のほとんどを除去する。第2
洗浄工程で、洗浄液を吹き付けることにより被洗浄物1
7にわずかに残存した油を界面活性剤に置き換える。そ
して、第3洗浄工程で、水を吹き付けることにより、界
面活性剤をすすぎ落とす。第4洗浄工程により、第3洗
浄工程で使用した水よりも純度の高い純水で更に残存し
た界面活性剤を除去する。この後、第5洗浄工程により
第4洗浄工程で使用した純水よりも純度の高い純水で更
にすすぎを行う。次に真空乾燥室16で乾燥することに
より、純水を除去して被洗浄物17に染みを残すことな
く洗浄を完了することができる。そして、第1水切り工
程と第2水切り工程および第3水切り工程とを洗浄機能
領域の境界に配置することにより、隣接する異なる洗浄
機能領域間でそれぞれの汚染状態を維持できるようにな
っている。ここで、上記洗浄機能領域とは水で油をたた
き落とす第1洗浄室8、洗浄液を使用する第2洗浄室
9、水および純水を使用する第3〜第5洗浄室10,1
1,12、被洗浄物17を乾燥する真空乾燥室16のそ
れぞれを示す。上述のように搬送コンベヤ7によって被
洗浄物17を搬送しながら洗浄工程を順次進行させるこ
とにより、製造ラインの端末に上記洗浄装置1を連続し
て配置することで、ブランク状態から加工をした製品が
完成状態では洗浄を完了して搬出されるという、極めて
効率的な製造ラインを完成することができる。
【0056】なお、上述した洗浄装置1を引継ぎ部分4
0を設ける等して図2に示すように配置することにより
小スペースに設置することも可能である。つまり、小型
の再生処理ユニットを各洗浄室の下に配置することで、
高密度の設備配置が可能となり、且つほぼC字形に配置
されることで被洗浄物17の供給と搬出が一ヵ所で行え
るので洗浄作業の効率化と省力化を図ることができる。
0を設ける等して図2に示すように配置することにより
小スペースに設置することも可能である。つまり、小型
の再生処理ユニットを各洗浄室の下に配置することで、
高密度の設備配置が可能となり、且つほぼC字形に配置
されることで被洗浄物17の供給と搬出が一ヵ所で行え
るので洗浄作業の効率化と省力化を図ることができる。
【0057】以下本発明の第2実施例について図5を参
照して説明するが、洗浄装置の基本構成は第1実施例で
説明したものと同一なので、相違部分についてのみ説明
する。図中に示される乾燥装置50は第1実施例の洗浄
装置1における真空乾燥室16に替わるものである。こ
の乾燥装置50は第1実施例の一連の洗浄工程および水
切り工程が終了した被洗浄物17を乾燥するために使用
される。
照して説明するが、洗浄装置の基本構成は第1実施例で
説明したものと同一なので、相違部分についてのみ説明
する。図中に示される乾燥装置50は第1実施例の洗浄
装置1における真空乾燥室16に替わるものである。こ
の乾燥装置50は第1実施例の一連の洗浄工程および水
切り工程が終了した被洗浄物17を乾燥するために使用
される。
【0058】この乾燥装置50は上部が開口した乾燥容
器51を備えており、この乾燥容器51の下側にはパー
フロロカーボン52が収容されている。また、乾燥容器
51の上部内側壁面には螺旋状の冷却管53が配設され
ており、この冷却管53は乾燥容器51の外側に設けら
れた冷凍サイクル装置54に接続されている。つまり、
冷却管53中には冷媒が循環されており、熱交換するよ
うになっている。さらに、この冷却管53の下側には樋
状の鍔部55が環状に配設されて上記乾燥容器51の内
壁面に液密に結合されている。また、上記乾燥容器51
の底部外側にはヒータ56が設けられ、乾燥容器51内
に収容されたパーフロロカーボン52を加熱するように
なっている。さらに、上記乾燥装置50は乾燥容器51
の他に比重分離槽57が設けられている。この比重分離
槽57の壁面の上下方向中央部には上記乾燥容器51の
鍔部55に対応する壁面の内側に連通する集留管58が
接続され、また、比重分離槽57の下側壁面には上記乾
燥容器51の下側壁面の内側に連通する供給管59が接
続されている。
器51を備えており、この乾燥容器51の下側にはパー
フロロカーボン52が収容されている。また、乾燥容器
51の上部内側壁面には螺旋状の冷却管53が配設され
ており、この冷却管53は乾燥容器51の外側に設けら
れた冷凍サイクル装置54に接続されている。つまり、
冷却管53中には冷媒が循環されており、熱交換するよ
うになっている。さらに、この冷却管53の下側には樋
状の鍔部55が環状に配設されて上記乾燥容器51の内
壁面に液密に結合されている。また、上記乾燥容器51
の底部外側にはヒータ56が設けられ、乾燥容器51内
に収容されたパーフロロカーボン52を加熱するように
なっている。さらに、上記乾燥装置50は乾燥容器51
の他に比重分離槽57が設けられている。この比重分離
槽57の壁面の上下方向中央部には上記乾燥容器51の
鍔部55に対応する壁面の内側に連通する集留管58が
接続され、また、比重分離槽57の下側壁面には上記乾
燥容器51の下側壁面の内側に連通する供給管59が接
続されている。
【0059】そして、上記乾燥容器51は上記搬送コン
ベヤ7の下側に位置して、搬送コンベヤ7と乾燥容器5
1の内側での被洗浄物17の昇降作業を行う昇降機60
が設けられている。
ベヤ7の下側に位置して、搬送コンベヤ7と乾燥容器5
1の内側での被洗浄物17の昇降作業を行う昇降機60
が設けられている。
【0060】このように構成された乾燥装置50はパー
フロロカーボン52を上記ヒータ56によって大気圧中
において約101℃〜110℃の沸騰状態まで加熱す
る。また、上記冷却管53は蒸発する水とパーフロロカ
ーボン52を凝縮するともに気圧差の発生によって冷却
管53に向かう矢印W方向に風を発生させる。
フロロカーボン52を上記ヒータ56によって大気圧中
において約101℃〜110℃の沸騰状態まで加熱す
る。また、上記冷却管53は蒸発する水とパーフロロカ
ーボン52を凝縮するともに気圧差の発生によって冷却
管53に向かう矢印W方向に風を発生させる。
【0061】そして、上記搬送コンベヤ7により搬送さ
れてきた被洗浄物17を上記昇降機60が上記パーフロ
ロカーボン52に没するまで降下させる。パーフロロカ
ーボン52に没した被洗浄物17の表面に残存していた
純水は100℃を越えて加熱され沸騰状態で除去され
る。沸騰したパーフロロカーボン52と純水は蒸発状態
で上記冷却管53に向かう風に乗り、冷却管53付近で
液化して上記鍔部55に集留される。上記被洗浄物17
は昇降機60によって上記搬送コンベヤ7上に搬送され
る。このとき被洗浄物17は乾燥完了状態にあり、取り
出しコンベヤ側に搬送される。
れてきた被洗浄物17を上記昇降機60が上記パーフロ
ロカーボン52に没するまで降下させる。パーフロロカ
ーボン52に没した被洗浄物17の表面に残存していた
純水は100℃を越えて加熱され沸騰状態で除去され
る。沸騰したパーフロロカーボン52と純水は蒸発状態
で上記冷却管53に向かう風に乗り、冷却管53付近で
液化して上記鍔部55に集留される。上記被洗浄物17
は昇降機60によって上記搬送コンベヤ7上に搬送され
る。このとき被洗浄物17は乾燥完了状態にあり、取り
出しコンベヤ側に搬送される。
【0062】上述のように乾燥を行った後には上記鍔部
55に集留されたパーフロロカーボン52および純水は
集留管58を通じて比重分離槽57に流入する。ここ
で、上記パーフロロカーボンは純水に溶けず、且つ水と
の比重差が大きいとともに、上述のごとく沸点が水より
もわずかに高いという性質をもっている。そして、上記
比重分離槽57に流入したパーフロロカーボン52は水
との比重差により自然分離する。上記比重分離槽57内
で下側に分離したパーフロロカーボン52は上記供給管
59を通じて乾燥容器51側に供給される。
55に集留されたパーフロロカーボン52および純水は
集留管58を通じて比重分離槽57に流入する。ここ
で、上記パーフロロカーボンは純水に溶けず、且つ水と
の比重差が大きいとともに、上述のごとく沸点が水より
もわずかに高いという性質をもっている。そして、上記
比重分離槽57に流入したパーフロロカーボン52は水
との比重差により自然分離する。上記比重分離槽57内
で下側に分離したパーフロロカーボン52は上記供給管
59を通じて乾燥容器51側に供給される。
【0063】上記乾燥装置50は比重差による自然分離
を利用した排水処理手段を備えており、安価で且つパー
フロロカーボンを効率的に再利用することができる。
を利用した排水処理手段を備えており、安価で且つパー
フロロカーボンを効率的に再利用することができる。
【0064】さらに、上記パーフロロカーボンは人体に
対する毒性が無く、オゾン層破壊係数もゼロであり、環
境破壊の恐れがないという特性をもっている。
対する毒性が無く、オゾン層破壊係数もゼロであり、環
境破壊の恐れがないという特性をもっている。
【0065】以下、本発明における第3実施例について
図6を参照して説明するが、洗浄装置の基本構成は第1
実施例で説明したものと同一なので、相違部分について
のみ説明する。図中に示される洗浄ユニット60は上記
第1実施例中の第1洗浄室8に対応するものであり、水
による第1洗浄工程を行うものである。この洗浄ユニッ
ト60は洗浄室61を備え、この洗浄室61の中央部を
貫通して搬送コンベヤ7が設けられている。この搬送コ
ンベヤ7上には被洗浄物17が載置され、図面の紙面に
垂直な方向に搬送するようになっている。そして、この
被洗浄物17に上下から約50mm離れた位置に配置さ
れて水を吹き付ける複数のノズルsが設けられている。
これらのノズルsの基端には給水管62の先端側が接続
されており、この給水管62の基端側は上記洗浄室61
の壁面を貫通して外側に延長され排水処理手段としての
比重分離槽63の底部に接続されている。この給水管6
2の中途部には上記ノズルsに向けいて水を圧送するポ
ンプ64が設けられている。このポンプ64により上記
ノズルsから噴射される水の圧力は上記被洗浄物17の
表面で約1Kg/cm2 になるよう設定されている。また、
上記比重分離槽63は上記洗浄室61よりも底部が下側
に位置しており、この洗浄室61の底部に接続された集
留管65が比重分離槽63の上下方向中途部の壁面に接
続されている。
図6を参照して説明するが、洗浄装置の基本構成は第1
実施例で説明したものと同一なので、相違部分について
のみ説明する。図中に示される洗浄ユニット60は上記
第1実施例中の第1洗浄室8に対応するものであり、水
による第1洗浄工程を行うものである。この洗浄ユニッ
ト60は洗浄室61を備え、この洗浄室61の中央部を
貫通して搬送コンベヤ7が設けられている。この搬送コ
ンベヤ7上には被洗浄物17が載置され、図面の紙面に
垂直な方向に搬送するようになっている。そして、この
被洗浄物17に上下から約50mm離れた位置に配置さ
れて水を吹き付ける複数のノズルsが設けられている。
これらのノズルsの基端には給水管62の先端側が接続
されており、この給水管62の基端側は上記洗浄室61
の壁面を貫通して外側に延長され排水処理手段としての
比重分離槽63の底部に接続されている。この給水管6
2の中途部には上記ノズルsに向けいて水を圧送するポ
ンプ64が設けられている。このポンプ64により上記
ノズルsから噴射される水の圧力は上記被洗浄物17の
表面で約1Kg/cm2 になるよう設定されている。また、
上記比重分離槽63は上記洗浄室61よりも底部が下側
に位置しており、この洗浄室61の底部に接続された集
留管65が比重分離槽63の上下方向中途部の壁面に接
続されている。
【0066】上述のように構成された洗浄ユニット60
は所定量の水66を収容し、この水66を再生処理して
洗浄を行うものである。上記被洗浄物17に対してノズ
ルsから上記所定の圧力により水を吹き付け、被洗浄物
17に付着した油等の付着物の大部分をたたき落とす。
この洗浄に使用された水66は洗浄室61の底部に集留
され、さらに、上記集留管65を通じて比重分離槽63
に流入する。つまり、上記洗浄室61と比重分離槽63
の底部の高低差により水66は自然に比重分離槽63側
に流れる。また、集留管65の中途部に設けられたろ過
器65aで油水以外の固形物を除去する。この比重分離
槽63内に流入した水66は油67との比重差により自
然分離する。そして、上記ポンプ64が給水管62を通
じて比重分離槽63の下側に分離した水66のみを上記
ノズルsに向けて圧送する。なお、上記洗浄中に水の噴
射範囲内で上記搬送コンベヤ7を搬送方向に複数回進退
移動させることで、洗浄効果を高めることができる。ま
た、比重分離槽63の油67が分離される高さ位置の壁
面には排油バルブ68が設けられて油67のみを排出で
きるようになっている。
は所定量の水66を収容し、この水66を再生処理して
洗浄を行うものである。上記被洗浄物17に対してノズ
ルsから上記所定の圧力により水を吹き付け、被洗浄物
17に付着した油等の付着物の大部分をたたき落とす。
この洗浄に使用された水66は洗浄室61の底部に集留
され、さらに、上記集留管65を通じて比重分離槽63
に流入する。つまり、上記洗浄室61と比重分離槽63
の底部の高低差により水66は自然に比重分離槽63側
に流れる。また、集留管65の中途部に設けられたろ過
器65aで油水以外の固形物を除去する。この比重分離
槽63内に流入した水66は油67との比重差により自
然分離する。そして、上記ポンプ64が給水管62を通
じて比重分離槽63の下側に分離した水66のみを上記
ノズルsに向けて圧送する。なお、上記洗浄中に水の噴
射範囲内で上記搬送コンベヤ7を搬送方向に複数回進退
移動させることで、洗浄効果を高めることができる。ま
た、比重分離槽63の油67が分離される高さ位置の壁
面には排油バルブ68が設けられて油67のみを排出で
きるようになっている。
【0067】上述のような洗浄ユニット60によれば、
水66の再生処理に特別な再生処理を加えることなく、
油67と自然分離できるので、極めて安価で且つ小型の
洗浄装置を提供することができる。また、この洗浄ユニ
ット60によって被洗浄物17に付着した油の大部分を
除去できるので、後の洗浄工程に使用される界面活性剤
の濃度を低く抑えることができ、さらには後工程の洗浄
液の再生処理をも容易に行えるものにできる。段階的に
分割された洗浄工程の初期の段階で上記洗浄ユニット6
0を使用することで排水の再生処理の負担を軽減し装置
の小規模化を図ることができる。
水66の再生処理に特別な再生処理を加えることなく、
油67と自然分離できるので、極めて安価で且つ小型の
洗浄装置を提供することができる。また、この洗浄ユニ
ット60によって被洗浄物17に付着した油の大部分を
除去できるので、後の洗浄工程に使用される界面活性剤
の濃度を低く抑えることができ、さらには後工程の洗浄
液の再生処理をも容易に行えるものにできる。段階的に
分割された洗浄工程の初期の段階で上記洗浄ユニット6
0を使用することで排水の再生処理の負担を軽減し装置
の小規模化を図ることができる。
【0068】なお、上記各実施例では、第1から第5再
生処理ユニット23,30,32,34,36で再生処
理した水や純水及び界面活性剤は、それぞれが第1から
第5タンク19,28,31,33,35に再供給さ
れ、再度洗浄に使用されるよう構成されていたが、これ
に限定されるものではない。
生処理ユニット23,30,32,34,36で再生処
理した水や純水及び界面活性剤は、それぞれが第1から
第5タンク19,28,31,33,35に再供給さ
れ、再度洗浄に使用されるよう構成されていたが、これ
に限定されるものではない。
【0069】例えば第1再生処理ユニット23を図示し
ない第1排水処理ユニットに変更し、第1タンク19に
は新しい水を供給するように構成することで、被洗浄物
17に水を吹きつけ、付着した油の大部分をたたき落と
す第1洗浄工程を行うこともできる。このとき第1排水
処理ユニットでは油水の分離を行い、水のみを排水し、
油は所定量になるまで保管し、別途廃油処理する。ここ
で、第1排水処理ユニットの基本的構成は第1再生処理
ユニット23と同様であり、油、切削屑、水を分離し、
水のみを排水するようになっている。
ない第1排水処理ユニットに変更し、第1タンク19に
は新しい水を供給するように構成することで、被洗浄物
17に水を吹きつけ、付着した油の大部分をたたき落と
す第1洗浄工程を行うこともできる。このとき第1排水
処理ユニットでは油水の分離を行い、水のみを排水し、
油は所定量になるまで保管し、別途廃油処理する。ここ
で、第1排水処理ユニットの基本的構成は第1再生処理
ユニット23と同様であり、油、切削屑、水を分離し、
水のみを排水するようになっている。
【0070】また、第2再生処理ユニット30を図示し
ない第2排水処理ユニットに変更し、第2タンク28に
は新しい洗浄液を供給するように構成することで、被洗
浄物17に洗浄液を吹きつけ、付着した油と界面活性剤
を置き換える第2洗浄工程を行うことができる。そし
て、上記第2排水処理ユニットは、界面活性剤非吸着タ
イプの静電フィルタ及び界面活性剤吸着タイプの静電フ
ィルタをそれぞれ備えており、油、界面活性剤、水を分
離し、水のみを排水するようになっている。油および界
面活性剤は所定量になるまで、それぞれ保管し、別途、
界面活性剤の廃棄処理および廃油処理を行う。
ない第2排水処理ユニットに変更し、第2タンク28に
は新しい洗浄液を供給するように構成することで、被洗
浄物17に洗浄液を吹きつけ、付着した油と界面活性剤
を置き換える第2洗浄工程を行うことができる。そし
て、上記第2排水処理ユニットは、界面活性剤非吸着タ
イプの静電フィルタ及び界面活性剤吸着タイプの静電フ
ィルタをそれぞれ備えており、油、界面活性剤、水を分
離し、水のみを排水するようになっている。油および界
面活性剤は所定量になるまで、それぞれ保管し、別途、
界面活性剤の廃棄処理および廃油処理を行う。
【0071】さらに、第3再生処理ユニット32を図示
しない第3排水処理ユニットに変更し、第3タンク31
には新しい純水を供給するように構成することで、被洗
浄物17に純水を吹きつけ、付着した界面活性剤をすす
ぎ落とす第3洗浄工程を行うことができる。第3排水処
理ユニットの基本的構成は第3再生処理ユニット32と
同様であり、界面活性剤吸着タイプの静電フィルタを備
えており、界面活性剤と水を分離し、水のみを排水する
ようになっている。界面活性剤は所定量になるまで保管
し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行う。
しない第3排水処理ユニットに変更し、第3タンク31
には新しい純水を供給するように構成することで、被洗
浄物17に純水を吹きつけ、付着した界面活性剤をすす
ぎ落とす第3洗浄工程を行うことができる。第3排水処
理ユニットの基本的構成は第3再生処理ユニット32と
同様であり、界面活性剤吸着タイプの静電フィルタを備
えており、界面活性剤と水を分離し、水のみを排水する
ようになっている。界面活性剤は所定量になるまで保管
し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行う。
【0072】第1から第3洗浄工程を行うことで、所期
目的は達成されるが、洗浄効果を一層高めるために以下
に説明する第4および第5洗浄工程を行う。
目的は達成されるが、洗浄効果を一層高めるために以下
に説明する第4および第5洗浄工程を行う。
【0073】第4再生処理ユニット34を図示しない第
4排水処理ユニットに変更し、第4タンク33には新し
い純水を供給するように構成することで、被洗浄物17
に純水を吹きつけ、残存する界面活性剤をさらにすすぎ
落とす第4洗浄工程を行うことができる。第4排水処理
ユニットは界面活性剤吸着タイプの静電フィルタを備え
ており、界面活性剤と水を分離し、水のみを排水するよ
うになっている。分離された界面活性剤は所定量になる
まで保管し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行う。
4排水処理ユニットに変更し、第4タンク33には新し
い純水を供給するように構成することで、被洗浄物17
に純水を吹きつけ、残存する界面活性剤をさらにすすぎ
落とす第4洗浄工程を行うことができる。第4排水処理
ユニットは界面活性剤吸着タイプの静電フィルタを備え
ており、界面活性剤と水を分離し、水のみを排水するよ
うになっている。分離された界面活性剤は所定量になる
まで保管し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行う。
【0074】また、第5再生処理ユニット36を図示し
ない第5排水処理ユニットに変更し、第5タンク35に
は新しい純水を供給するように構成することで、被洗浄
物17に純水を吹きつけ、残存する界面活性剤をさらに
すすぎ落とす第5洗浄工程を行うことができる。第5排
水処理ユニットは界面活性剤吸着タイプの静電フィルタ
を備えており、界面活性剤を水と分離し、水のみを排水
するようになっている。分離された界面活性剤は所定量
になるまで保管し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行
う。
ない第5排水処理ユニットに変更し、第5タンク35に
は新しい純水を供給するように構成することで、被洗浄
物17に純水を吹きつけ、残存する界面活性剤をさらに
すすぎ落とす第5洗浄工程を行うことができる。第5排
水処理ユニットは界面活性剤吸着タイプの静電フィルタ
を備えており、界面活性剤を水と分離し、水のみを排水
するようになっている。分離された界面活性剤は所定量
になるまで保管し、別途、界面活性剤の廃棄処理を行
う。
【0075】以上、説明したように、第1から第5の洗
浄工程により、上記第1実施例と同様の洗浄効果を上げ
ることができる。上記第1から第5排水処理ユニット
は、段階的な排水処理により、個々に要求される処理能
力が低いので、排水処理ユニットを小型にすることがで
きる。また、これらの排水処理ユニットから排水された
水は油および界面活性剤とは分離されており、自然環境
に悪影響を与える恐れがない。
浄工程により、上記第1実施例と同様の洗浄効果を上げ
ることができる。上記第1から第5排水処理ユニット
は、段階的な排水処理により、個々に要求される処理能
力が低いので、排水処理ユニットを小型にすることがで
きる。また、これらの排水処理ユニットから排水された
水は油および界面活性剤とは分離されており、自然環境
に悪影響を与える恐れがない。
【0076】また、第1実施例中の第1から第5再生処
理ユニット23,30,32,34,36は水と油およ
び界面活性剤を、それぞれの条件に基づいて分離処理し
ていたが、排水処理はこれに限定されず、化学的処理等
によって排水を処理しても、上述した段階的に分割され
た排水処理施設によれば、従来の排水処理施設に比較し
て小型化ができ、洗浄コストと設備コストの低減を図る
ことができる。
理ユニット23,30,32,34,36は水と油およ
び界面活性剤を、それぞれの条件に基づいて分離処理し
ていたが、排水処理はこれに限定されず、化学的処理等
によって排水を処理しても、上述した段階的に分割され
た排水処理施設によれば、従来の排水処理施設に比較し
て小型化ができ、洗浄コストと設備コストの低減を図る
ことができる。
【0077】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1洗浄工程で被洗浄物に水を吹き付け油をたたき落と
すことで、第2洗浄工程で使用する水の界面活性剤濃度
を低くしても高い洗浄効果を得ることができる。従っ
て、従来の洗浄方法に比較して低コストの洗浄を実現で
きる。また、第2洗浄工程で使用する界面活性剤の濃度
が低いので、排水処理設備の小型化と簡易化を実現でき
る。これにより従来の洗浄では大型の排水処理槽が複数
必要であるが、これに比較して極めて低コストの洗浄を
実現できる。従って、本発明によれば従来のオゾン層を
破壊する溶剤を用いることなく、それを用いた場合と同
等若しくはそれ以上の洗浄効果を低コストで実現できる
こととなる。
第1洗浄工程で被洗浄物に水を吹き付け油をたたき落と
すことで、第2洗浄工程で使用する水の界面活性剤濃度
を低くしても高い洗浄効果を得ることができる。従っ
て、従来の洗浄方法に比較して低コストの洗浄を実現で
きる。また、第2洗浄工程で使用する界面活性剤の濃度
が低いので、排水処理設備の小型化と簡易化を実現でき
る。これにより従来の洗浄では大型の排水処理槽が複数
必要であるが、これに比較して極めて低コストの洗浄を
実現できる。従って、本発明によれば従来のオゾン層を
破壊する溶剤を用いることなく、それを用いた場合と同
等若しくはそれ以上の洗浄効果を低コストで実現できる
こととなる。
【0078】また、本発明によれば、第1洗浄手段で被
洗浄物に水を吹き付けて油をたたき落とすことで、第2
洗浄手段で使用する界面活性剤の濃度を低くすることが
できる。第2洗浄手段では被洗浄物に残存した油と界面
活性剤を置き換える作業を行うが、第1洗浄手段による
油の除去がこの置き換え作業を容易にし、界面活性剤の
濃度の低減と洗浄時間の短縮ができる。さらに、第3洗
浄手段で被洗浄物に水を吹きかけることで第2洗浄手段
で付着した界面活性剤をすすぎ落とすが、少量の油に置
き換えられる界面活性剤の濃度は低く抑えられるので、
すすぎ作業時間を短縮できる。このように洗浄手段を洗
浄の機能ごとに段階的に分割し、それぞれの洗浄機能ご
とに排水処理手段を設けることにより、排水処理手段の
個々の負担を軽減することができる。この排水処理手段
の個々に要求される排水処理能力を軽減することによ
り、排水処理設備の低コスト化を図ることができ、且
つ、小型化を図ることができる。さらに、小型化された
排水処理設備は洗浄装置への内蔵が可能となり、従来は
野外に大規模な排水処理設備を必要としていたが、こう
した設置面積の制約を無くすことができる。
洗浄物に水を吹き付けて油をたたき落とすことで、第2
洗浄手段で使用する界面活性剤の濃度を低くすることが
できる。第2洗浄手段では被洗浄物に残存した油と界面
活性剤を置き換える作業を行うが、第1洗浄手段による
油の除去がこの置き換え作業を容易にし、界面活性剤の
濃度の低減と洗浄時間の短縮ができる。さらに、第3洗
浄手段で被洗浄物に水を吹きかけることで第2洗浄手段
で付着した界面活性剤をすすぎ落とすが、少量の油に置
き換えられる界面活性剤の濃度は低く抑えられるので、
すすぎ作業時間を短縮できる。このように洗浄手段を洗
浄の機能ごとに段階的に分割し、それぞれの洗浄機能ご
とに排水処理手段を設けることにより、排水処理手段の
個々の負担を軽減することができる。この排水処理手段
の個々に要求される排水処理能力を軽減することによ
り、排水処理設備の低コスト化を図ることができ、且
つ、小型化を図ることができる。さらに、小型化された
排水処理設備は洗浄装置への内蔵が可能となり、従来は
野外に大規模な排水処理設備を必要としていたが、こう
した設置面積の制約を無くすことができる。
【図1】本発明における第1実施例の洗浄装置の概略構
成を示す側断面図である。
成を示す側断面図である。
【図2】本発明における第1実施例の洗浄装置のレイア
ウト例を概略的に示す平面図である。
ウト例を概略的に示す平面図である。
【図3】本発明における第1実施例の洗浄装置で洗浄さ
れる被洗浄物の形状を示す正断面図である。
れる被洗浄物の形状を示す正断面図である。
【図4】本発明における第1実施例の洗浄装置に使用さ
れる搬送コンベヤを示す説明図である。
れる搬送コンベヤを示す説明図である。
【図5】本発明における第2実施例の洗浄装置の乾燥装
置を概略的に示す側断面図である。
置を概略的に示す側断面図である。
【図6】本発明における第3実施例の洗浄装置の第1洗
浄室を構成する洗浄ユニットを示す側断面図である。
浄室を構成する洗浄ユニットを示す側断面図である。
【符号の説明】 1 洗浄装置 8 第1洗浄室(第1洗浄手段) 9 第2洗浄室(第2洗浄手段) 10 第3洗浄室(第3洗浄手段) 23 第1再生処理ユニット(第1排水処理手段) 30 第2再生処理ユニット(第2排水処理手段) 32 第3再生処理ユニット(第3排水処理手段)
Claims (2)
- 【請求項1】 油が付着した被洗浄物に水を吹きつける
ことで油をたたき落とす第1洗浄工程と、第1洗浄工程
の後に上記被洗浄物に界面活性剤を含む水を吹きつける
ことで界面活性剤を油と置き換える第2洗浄工程と、第
2洗浄工程の後に被洗浄物に水を吹きつけて界面活性剤
をすすぎ落とす第3洗浄工程とを有することを特徴とす
る洗浄方法。 - 【請求項2】 被洗浄物に所定の圧力で水を吹き付ける
第1洗浄手段と、この第1洗浄手段に付属して使用した
水を排水処理する第1排水処理手段と、上記第1洗浄後
の被洗浄物に所定の圧力で界面活性剤を含む水を吹きつ
ける第2洗浄手段と、この第2洗浄手段に付属して第2
洗浄手段で使用した上記界面活性剤を含む水と油とを排
水処理する第2排水処理手段と、第2洗浄手段で洗浄後
の被洗浄物に水を吹きかける第3洗浄手段と、この第3
洗浄手段に付属して第3洗浄手段で使用した上記水と油
および界面活性剤を排水処理する第3排水処理手段とを
備えたことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7574392A JPH05239678A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7574392A JPH05239678A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239678A true JPH05239678A (ja) | 1993-09-17 |
Family
ID=13585070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7574392A Pending JPH05239678A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05239678A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07214014A (ja) * | 1994-01-28 | 1995-08-15 | Ishikawa Seisakusho:Kk | 洗浄装置 |
| JP2006223994A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2011083683A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Miura Co Ltd | 洗浄水供給システム及び洗浄方法 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP7574392A patent/JPH05239678A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07214014A (ja) * | 1994-01-28 | 1995-08-15 | Ishikawa Seisakusho:Kk | 洗浄装置 |
| JP2006223994A (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-31 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2011083683A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Miura Co Ltd | 洗浄水供給システム及び洗浄方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990713 |