JPH05242197A - 図形演算処理装置および図形演算処理方式 - Google Patents
図形演算処理装置および図形演算処理方式Info
- Publication number
- JPH05242197A JPH05242197A JP4078192A JP7819292A JPH05242197A JP H05242197 A JPH05242197 A JP H05242197A JP 4078192 A JP4078192 A JP 4078192A JP 7819292 A JP7819292 A JP 7819292A JP H05242197 A JPH05242197 A JP H05242197A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vertex
- points
- length
- chamfering
- data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体集積回路の設計データから電子線描画
パターンデータを作成する場合に、スルーホール内での
アルミ消失不良を防止できるようなパターン設計を人手
を要することなく短時間に行なえるようにする。 【構成】 方形図形の各辺の長さと頂点位置および頂点
からの削除長が与えられたときに、頂点を形成する２辺
に沿って頂点からの削除長だけ離れた点の座標を求め、
これらの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算出し
かつ前記２点と頂点とを結ぶ直線を削除する角取り演算
手段を、図形演算処理装置に持たせるようにした。
パターンデータを作成する場合に、スルーホール内での
アルミ消失不良を防止できるようなパターン設計を人手
を要することなく短時間に行なえるようにする。 【構成】 方形図形の各辺の長さと頂点位置および頂点
からの削除長が与えられたときに、頂点を形成する２辺
に沿って頂点からの削除長だけ離れた点の座標を求め、
これらの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算出し
かつ前記２点と頂点とを結ぶ直線を削除する角取り演算
手段を、図形演算処理装置に持たせるようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、図形データ処理技術さ
らには方形図形の角取り演算に適用して特に有効な技術
に関し、例えば半導体集積回路の設計データから電子線
描画パターンデータを作成する場合に利用して有効な技
術に関する。
らには方形図形の角取り演算に適用して特に有効な技術
に関し、例えば半導体集積回路の設計データから電子線
描画パターンデータを作成する場合に利用して有効な技
術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体集積回路の設計データから
電子線描画パターンデータを作成する場合、アルミ配線
間を接続するスルーホールに関しては方形状をなすよう
設計するのが一般的であった。これは、パターン設計に
おいては方形パターンが最も計算が簡単であるという理
由による。
電子線描画パターンデータを作成する場合、アルミ配線
間を接続するスルーホールに関しては方形状をなすよう
設計するのが一般的であった。これは、パターン設計に
おいては方形パターンが最も計算が簡単であるという理
由による。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た技術には、次のような問題のあることが本発明者らに
よってあきらかとされた。すなわち、スルーホールが方
形状であると、内側に充填されたアルミの断面も方形と
なるので、まわりの絶縁膜からアルミに対して歪等によ
る力が働いたときにスルーホール内のアルミの角部に応
力が集中してアルミ消失不良が発生するというものであ
る。
た技術には、次のような問題のあることが本発明者らに
よってあきらかとされた。すなわち、スルーホールが方
形状であると、内側に充填されたアルミの断面も方形と
なるので、まわりの絶縁膜からアルミに対して歪等によ
る力が働いたときにスルーホール内のアルミの角部に応
力が集中してアルミ消失不良が発生するというものであ
る。
【０００４】そこで、本発明者等は回路の設計データか
ら電子線描画パターンデータを作成する際に、スルーホ
ールの角取りを行なうことについて検討した。その結
果、従来の図形演算処理装置は、方形図形の角取り演算
機能を備えていないため、角取り処理は手作業によらざ
るを得ない。しかしながら、ＬＳＩのパターン設計にお
いては、スルーホールの数が膨大であるため、手作業に
よる角取り処理では時間がかかりすぎて実用化できない
ことが分かった
ら電子線描画パターンデータを作成する際に、スルーホ
ールの角取りを行なうことについて検討した。その結
果、従来の図形演算処理装置は、方形図形の角取り演算
機能を備えていないため、角取り処理は手作業によらざ
るを得ない。しかしながら、ＬＳＩのパターン設計にお
いては、スルーホールの数が膨大であるため、手作業に
よる角取り処理では時間がかかりすぎて実用化できない
ことが分かった
【０００５】この発明は上記の問題点に着目してなされ
たもので、その目的とするところは、スルーホール内で
のアルミ消失不良を防止できるようなパターン設計を人
手を要することなく短時間に行なえるようにすることに
ある。本発明の他の目的は、スルーホールのレイアウト
密度を高め、ＬＳＩの集積度を向上させることにある。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
たもので、その目的とするところは、スルーホール内で
のアルミ消失不良を防止できるようなパターン設計を人
手を要することなく短時間に行なえるようにすることに
ある。本発明の他の目的は、スルーホールのレイアウト
密度を高め、ＬＳＩの集積度を向上させることにある。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。すなわち、図形演算処理装置に、方形図形
の各辺の長さと頂点位置および頂点からの削除長が与え
られたときに、頂点を形成する２辺に沿って頂点からの
削除長だけ離れた点の座標を求め、これらの２点間を結
ぶ直線、曲線もしくは折線を算出しかつ前記２点と頂点
とを結ぶ直線を削除する角取り演算手段を持たせるよう
にしたものである。
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。すなわち、図形演算処理装置に、方形図形
の各辺の長さと頂点位置および頂点からの削除長が与え
られたときに、頂点を形成する２辺に沿って頂点からの
削除長だけ離れた点の座標を求め、これらの２点間を結
ぶ直線、曲線もしくは折線を算出しかつ前記２点と頂点
とを結ぶ直線を削除する角取り演算手段を持たせるよう
にしたものである。
【０００７】
【作用】上記した手段によれば、方形図形の各辺の長さ
と頂点位置および頂点から角取りしたい位置までの長さ
（以下、削除長と称する）を与え、方形図形の各頂点に
ついて角取り演算を繰り返させるだけで、スルーホール
内でのアルミ消失不良を防止できるようなパターン設計
を人手を要することなく短時間に行なえるようになる。
また、スルーホールの形状が角部のない形状となるた
め、Ｘ，Ｙ直交軸に対して斜めの方向に位置するスルー
ホール間の距離を、スルーホールの形状が方形である場
合に比べて短くすることができ、これによってスルーホ
ールのレイアウト密度を高め、ＬＳＩの集積度を向上さ
せることができる。
と頂点位置および頂点から角取りしたい位置までの長さ
（以下、削除長と称する）を与え、方形図形の各頂点に
ついて角取り演算を繰り返させるだけで、スルーホール
内でのアルミ消失不良を防止できるようなパターン設計
を人手を要することなく短時間に行なえるようになる。
また、スルーホールの形状が角部のない形状となるた
め、Ｘ，Ｙ直交軸に対して斜めの方向に位置するスルー
ホール間の距離を、スルーホールの形状が方形である場
合に比べて短くすることができ、これによってスルーホ
ールのレイアウト密度を高め、ＬＳＩの集積度を向上さ
せることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づい
て説明する。図１には、本発明に係る図形演算処理装置
による図形データ作成処理手順の流れが示されている。
回路設計データから具体的な電子線描画パターンや露光
用マスクパターンのデータを作成する場合、図形演算処
理装置はまず入力図形データおよび削除長等の加工デー
タを読み込む（ステップＳ１）。次に、読み込んだ図形
データに基づいて、図形同士の重なり除去等の図形演算
処理を行なう（ステップＳ２）。それから、角取り処理
を必要とする図形があるか否か調べてある場合には全部
の頂点について角取り演算処理を行なう（ステップＳ
３）。しかる後、加工された図形データについて再び図
形演算処理を行なう（ステップＳ４）。そして、最後に
得られた図形データを外部に出力して終了する（ステッ
プＳ５）。
て説明する。図１には、本発明に係る図形演算処理装置
による図形データ作成処理手順の流れが示されている。
回路設計データから具体的な電子線描画パターンや露光
用マスクパターンのデータを作成する場合、図形演算処
理装置はまず入力図形データおよび削除長等の加工デー
タを読み込む（ステップＳ１）。次に、読み込んだ図形
データに基づいて、図形同士の重なり除去等の図形演算
処理を行なう（ステップＳ２）。それから、角取り処理
を必要とする図形があるか否か調べてある場合には全部
の頂点について角取り演算処理を行なう（ステップＳ
３）。しかる後、加工された図形データについて再び図
形演算処理を行なう（ステップＳ４）。そして、最後に
得られた図形データを外部に出力して終了する（ステッ
プＳ５）。
【０００９】図２には、上記図形データ作成処理中にお
ける角取り演算処理の具体的手法の一例が示されてい
る。この処理が開始されると、先ず角取り処理をすべき
方形図形があるか否か判定する（ステップＳ３１）。具
体的には、例えばゼロでない削除長が与えられているか
（≠０）否か判定することで行なう。ここで、角取り処
理をすべき方形図形がなければそのまま処理を終了し、
あればその中の一つの頂点に関するデータ（頂点の座
標、その頂点を含む辺の長さ、突出量等）を読み込む
（ステップＳ３２）。次に、各辺の長さが削除長の２倍
よりも長いか否か判定する（ステップＳ３３）。削除長
の２倍の方が長ければ角取りができないからである。
ける角取り演算処理の具体的手法の一例が示されてい
る。この処理が開始されると、先ず角取り処理をすべき
方形図形があるか否か判定する（ステップＳ３１）。具
体的には、例えばゼロでない削除長が与えられているか
（≠０）否か判定することで行なう。ここで、角取り処
理をすべき方形図形がなければそのまま処理を終了し、
あればその中の一つの頂点に関するデータ（頂点の座
標、その頂点を含む辺の長さ、突出量等）を読み込む
（ステップＳ３２）。次に、各辺の長さが削除長の２倍
よりも長いか否か判定する（ステップＳ３３）。削除長
の２倍の方が長ければ角取りができないからである。
【００１０】ステップＳ３３で“Ｎｏ”のときはステッ
プＳ４０へ移行してすべての頂点について角取り処理が
終了したか判定する。また、ステップＳ３３で“Ｙｅ
ｓ”のときはステップＳ３４へ進み、角取りの仕方とし
て折線近似が指定されているか直線近似が指定されてい
るか判定する。直線近似が指定されている場合には、ス
テップＳ３５へ移行して、図３に示すように、着目する
頂点Ａから各辺に沿って削除長ｄだけ離れた点Ｂ，Ｃの
座標を計算し、次にその２点を結ぶ直線Ｌ１のデータを
図形データに付加する（ステップＳ３６）。それから、
直線ＡＢおよびＡＣのデータを図形データから削除する
（ステップＳ３９）。
プＳ４０へ移行してすべての頂点について角取り処理が
終了したか判定する。また、ステップＳ３３で“Ｙｅ
ｓ”のときはステップＳ３４へ進み、角取りの仕方とし
て折線近似が指定されているか直線近似が指定されてい
るか判定する。直線近似が指定されている場合には、ス
テップＳ３５へ移行して、図３に示すように、着目する
頂点Ａから各辺に沿って削除長ｄだけ離れた点Ｂ，Ｃの
座標を計算し、次にその２点を結ぶ直線Ｌ１のデータを
図形データに付加する（ステップＳ３６）。それから、
直線ＡＢおよびＡＣのデータを図形データから削除する
（ステップＳ３９）。
【００１１】一方、折線近似が指定されている場合に
は、ステップＳ３７へ進んで、折線近似点を求める。具
体的には、まず上記ステップＳ３５と同様にして着目す
る頂点Ａから各辺に沿って削除長ｄだけ離れた点Ｂ，Ｃ
の座標を計算して、図４に示すように、点Ｂから突出量
Δ（ステップＳ３２で読み込まれている）だけ離れた点
Ｄ１の座標を求めそれを第１の折線近似点とするととも
に、さらに点Ｄ１から直交する方向に折れ線長ｌ（ステ
ップＳ３２で読み込まれている）だけ離れた点Ｄ２の座
標を計算しそれを第２の折線近似点とする。このように
して次々と折線近似点Ｄ３，……を求め、最後にそれら
の点間を結ぶ折線Ｌ２のデータを図形データに付加し
（ステップＳ３８）、直線ＡＢおよびＡＣのデータを図
形データから削除する（ステップＳ３９）。
は、ステップＳ３７へ進んで、折線近似点を求める。具
体的には、まず上記ステップＳ３５と同様にして着目す
る頂点Ａから各辺に沿って削除長ｄだけ離れた点Ｂ，Ｃ
の座標を計算して、図４に示すように、点Ｂから突出量
Δ（ステップＳ３２で読み込まれている）だけ離れた点
Ｄ１の座標を求めそれを第１の折線近似点とするととも
に、さらに点Ｄ１から直交する方向に折れ線長ｌ（ステ
ップＳ３２で読み込まれている）だけ離れた点Ｄ２の座
標を計算しそれを第２の折線近似点とする。このように
して次々と折線近似点Ｄ３，……を求め、最後にそれら
の点間を結ぶ折線Ｌ２のデータを図形データに付加し
（ステップＳ３８）、直線ＡＢおよびＡＣのデータを図
形データから削除する（ステップＳ３９）。
【００１２】その後、ステップＳ４０へ進んで、すべて
の頂点について角取り演算が終了したか判定し、“Ｙｅ
ｓ”なら処理を終了し、“Ｎｏ”ならステップＳ３２へ
戻って次の頂点に関するデータを読込み、上記と同様の
手順に従って角取り処理を行なう。なお、上記実施例で
は、角取り処理として直線近似と階段状の折線近似を行
なう場合について説明したが、図５に示すような曲線Ｌ
３あるいは図６に示すような多角形状の折線Ｌ４で角取
りを行なうようにしてもよい。
の頂点について角取り演算が終了したか判定し、“Ｙｅ
ｓ”なら処理を終了し、“Ｎｏ”ならステップＳ３２へ
戻って次の頂点に関するデータを読込み、上記と同様の
手順に従って角取り処理を行なう。なお、上記実施例で
は、角取り処理として直線近似と階段状の折線近似を行
なう場合について説明したが、図５に示すような曲線Ｌ
３あるいは図６に示すような多角形状の折線Ｌ４で角取
りを行なうようにしてもよい。
【００１３】以上説明したように上記実施例は、図形演
算処理装置に、方形図形の各辺の長さと頂点位置および
頂点からの削除長が与えられたときに、頂点を形成する
２辺に沿って頂点からの削除長だけ離れた点の座標を求
め、これらの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算
出かつ前記２点と頂点とを結ぶ直線を削除する角取り演
算手段を持たせるようにしたので、方形図形の各辺の長
さと頂点位置および頂点からの削除長を与え、方形図形
の各頂点について角取り演算を繰り返させるだけでスル
ーホール内でのアルミ消失不良を防止できるようなパタ
ーン設計を人手を要することなく短時間に行なえるよう
になる。また、スルーホールの形状が角部のない形状と
なるため、Ｘ，Ｙ直交軸に対して斜めの方向に位置する
スルーホール間の距離を、スルーホールの形状が方形状
である場合に比べて短くすることができ、これによって
スルーホールのレイアウト密度を高め、ＬＳＩの集積度
を向上させることができるという効果がある。
算処理装置に、方形図形の各辺の長さと頂点位置および
頂点からの削除長が与えられたときに、頂点を形成する
２辺に沿って頂点からの削除長だけ離れた点の座標を求
め、これらの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算
出かつ前記２点と頂点とを結ぶ直線を削除する角取り演
算手段を持たせるようにしたので、方形図形の各辺の長
さと頂点位置および頂点からの削除長を与え、方形図形
の各頂点について角取り演算を繰り返させるだけでスル
ーホール内でのアルミ消失不良を防止できるようなパタ
ーン設計を人手を要することなく短時間に行なえるよう
になる。また、スルーホールの形状が角部のない形状と
なるため、Ｘ，Ｙ直交軸に対して斜めの方向に位置する
スルーホール間の距離を、スルーホールの形状が方形状
である場合に比べて短くすることができ、これによって
スルーホールのレイアウト密度を高め、ＬＳＩの集積度
を向上させることができるという効果がある。
【００１４】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、角
取り処理は頂点からの削除長を用いた上記手法に限定さ
れず、例えば各辺の長さに応じて２点を決定して直線、
曲線もしくは折線で結ぶようにしても良い。また、角取
りの対象となる図形は、方形図形に限定されず、斜め辺
を含む任意の頂点数の多角形であっても良い。以上の説
明では主として本発明者によってなされた発明をその背
景となった利用分野である電子線描画パターンデータの
作成に適用した場合について説明したが、この発明はＣ
ＡＤその他の図形演算処理一般あるいはグラフィック表
示システムにおける描画データの作成に利用することが
できる。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、角
取り処理は頂点からの削除長を用いた上記手法に限定さ
れず、例えば各辺の長さに応じて２点を決定して直線、
曲線もしくは折線で結ぶようにしても良い。また、角取
りの対象となる図形は、方形図形に限定されず、斜め辺
を含む任意の頂点数の多角形であっても良い。以上の説
明では主として本発明者によってなされた発明をその背
景となった利用分野である電子線描画パターンデータの
作成に適用した場合について説明したが、この発明はＣ
ＡＤその他の図形演算処理一般あるいはグラフィック表
示システムにおける描画データの作成に利用することが
できる。
【００１５】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。すなわち、半導体集積回路の設計デー
タから電子線描画パターンデータを作成する場合に、ス
ルーホール内でのアルミ消失不良を防止できるようなパ
ターン設計を人手を要することなく短時間に行なえるよ
うになる。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。すなわち、半導体集積回路の設計デー
タから電子線描画パターンデータを作成する場合に、ス
ルーホール内でのアルミ消失不良を防止できるようなパ
ターン設計を人手を要することなく短時間に行なえるよ
うになる。
【図１】本発明に係る図形演算処理装置による図形デー
タ作成処理手順の一例を示すフローチャートである。
タ作成処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図２】図１の図形データ作成処理中における角取り演
算処理の具体的手法の一例を示すフローチャートであ
る。
算処理の具体的手法の一例を示すフローチャートであ
る。
【図３】直線近似による角取り処理を行なった場合の図
形の変化を示す説明図である。
形の変化を示す説明図である。
【図４】折線近似による角取り処理を行なった場合の図
形の変化を示す説明図である。
形の変化を示す説明図である。
【図５】他の近似法（丸め演算）による角取り処理を行
なった場合の図形の変化を示す説明図である。
なった場合の図形の変化を示す説明図である。
【図６】他の近似法（多角形状折線近似）による角取り
処理を行なった場合の図形の変化を示す説明図である。
処理を行なった場合の図形の変化を示す説明図である。
Ａ 頂点 Ｂ，Ｃ Ａより辺に沿ってｄだけ離れた点 Ｄ１〜Ｄ７ 折線近似によって求まる点 Ｌ１ 角取りによってつくられる辺 Ｌ２ 折線近似によってつくられる辺 Ｌ３ 丸め演算によってつくられる円弧 Ｌ４ 多角形状折線近似によってつくられる辺 ｄ 削除長 ｌ 折線長 △ 突出量
Claims (2)
- 【請求項１】 方形図形の各辺の長さと頂点位置および
頂点からの削除長が与えられたときに、頂点を形成する
２辺に沿って頂点からの削除長だけ離れた点の座標を求
め、これらの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算
出しかつ前記２点と頂点とを結ぶ直線を削除する角取り
演算手段を備えてなることを特徴とする図形演算処理装
置。 - 【請求項２】 与えられた頂点位置および頂点からの削
除長とに基づいて頂点を形成する２辺に沿って頂点から
の削除長だけ離れた点の座標を求めるステップと、これ
らの２点間を結ぶ直線、曲線もしくは折線を算出するス
テップと、前記算出された２点と頂点とを結ぶ直線を削
除するステップとを含むことを特徴とする図形演算処理
方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4078192A JPH05242197A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 図形演算処理装置および図形演算処理方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4078192A JPH05242197A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 図形演算処理装置および図形演算処理方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242197A true JPH05242197A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=13655136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4078192A Pending JPH05242197A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 図形演算処理装置および図形演算処理方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05242197A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012168730A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | 図形処理プログラム、方法及び装置 |
| JP2013148840A (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
-
1992
- 1992-02-27 JP JP4078192A patent/JPH05242197A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012168730A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | 図形処理プログラム、方法及び装置 |
| US8847971B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-09-30 | Fujitsu Limited | Graphic processing device, graphic processing method, and non-transitory medium for storing graphic processing program for generating corrected graphic data |
| JP2013148840A (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 露光描画装置、露光描画システム、プログラム及び露光描画方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH05242197A (ja) | 図形演算処理装置および図形演算処理方式 | |
| JP2004013095A (ja) | パターン画像比較方法、パターン画像比較装置及びプログラム | |
| JP2837584B2 (ja) | 地形データの作成方法 | |
| US5526279A (en) | Nested overlap removal for physical design data using frames | |
| US6842174B2 (en) | Graphics data generating method, graphics generating apparatus and components thereof | |
| JPH07262243A (ja) | 形状データチェック方法 | |
| JP2874711B2 (ja) | 離散化格子の生成装置 | |
| JP3022401B2 (ja) | プロセスシミュレーション方法 | |
| JP3249652B2 (ja) | 曲面分割方法および装置 | |
| JP3123533B2 (ja) | プロセスシミュレーション方法 | |
| JP2718720B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JP2868675B2 (ja) | 文字列のサイズを１文字ごとに任意に変える電子組版装置 | |
| JPH05274394A (ja) | 半導体形状処理装置 | |
| JP2004301892A (ja) | パターン作成方法及び装置 | |
| JPH09245181A (ja) | アンチエイリアシング処理方法 | |
| JP3139431B2 (ja) | 接続判定装置、方法及び記録媒体 | |
| JP3139400B2 (ja) | 半導体集積回路のレイアウト方法 | |
| JPH02183554A (ja) | Ｉｃパターン設計装置 | |
| JP2757544B2 (ja) | 電子回路設計装置 | |
| JP3096112B2 (ja) | Ｉｃパターン設計システム | |
| JPH08235225A (ja) | 集積回路マスクパターンの設計方法 | |
| JPH0644350A (ja) | 平面表示による６面体を主とした有限要素法の固体要素生成方法 | |
| JP2000207433A (ja) | ３次元形状生成方法および装置 | |
| JPH0877239A (ja) | フレームデータ作成方法 | |
| JPH0628432A (ja) | 有限要素解析のための自動メッシュ発生方法 |