JPH05243778A - 金属間化合物系超電導磁気シールド体およびその製造方法 - Google Patents
金属間化合物系超電導磁気シールド体およびその製造方法Info
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- JPH05243778A JPH05243778A JP4043207A JP4320792A JPH05243778A JP H05243778 A JPH05243778 A JP H05243778A JP 4043207 A JP4043207 A JP 4043207A JP 4320792 A JP4320792 A JP 4320792A JP H05243778 A JPH05243778 A JP H05243778A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属間化合物超電導材料を用いた磁気シール
ド用底附き円筒において超電導遮蔽電流を妨害する欠陥
がなく、漏洩磁場を抑えられることと、加工性が良く常
電導金属との多層化、大面積化が容易であること。 【構成】 X金属元素の層とY金属元素かまたはYを含
む合金からなる層とが板の厚さ方向に1層以上ずつ交互
に積層され、かつ両者の全界面には組成X3 Yの金属間
化合物系超電導層が形成されてなる磁気シールド用底附
き円筒体とクラッド圧延および深絞り等を用いてなるそ
の製造法。 【効果】 従来は接合のない底附き円筒容器が開発され
ておらず両端開口部からの漏洩磁場が大きかったが、本
発明によれば底附きである上、開口端の穴を小さくする
ことも可能であり、漏洩磁場を大幅に抑えられる。また
クラッド圧延、深絞り等の採用により円筒の大型化も容
易になった。
ド用底附き円筒において超電導遮蔽電流を妨害する欠陥
がなく、漏洩磁場を抑えられることと、加工性が良く常
電導金属との多層化、大面積化が容易であること。 【構成】 X金属元素の層とY金属元素かまたはYを含
む合金からなる層とが板の厚さ方向に1層以上ずつ交互
に積層され、かつ両者の全界面には組成X3 Yの金属間
化合物系超電導層が形成されてなる磁気シールド用底附
き円筒体とクラッド圧延および深絞り等を用いてなるそ
の製造法。 【効果】 従来は接合のない底附き円筒容器が開発され
ておらず両端開口部からの漏洩磁場が大きかったが、本
発明によれば底附きである上、開口端の穴を小さくする
ことも可能であり、漏洩磁場を大幅に抑えられる。また
クラッド圧延、深絞り等の採用により円筒の大型化も容
易になった。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属間化合物系超電導体
を用いた磁気シールド体およびその製造方法に関するも
のである。
を用いた磁気シールド体およびその製造方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】底付き筒形容器または底無し筒形の超電
導体は、外部磁場がある値になるまではその内部を高い
効率で磁気シールドすることができる。図2に底無し円
筒体7を示すが、これは外部磁場8による磁束を打ち消
すように、超電導体中に超電導遮蔽電流9が外部磁場の
向きとは垂直な方向に閉ループを作って流れることによ
る。そのため従来から本形状の磁気シールド体が各種考
案され、中には実用化されたものもある。万一この閉ル
ープの途中に超電導体の切れ目や接続部があると、超電
導遮蔽電流が流れなくなったり大幅に減衰したりするた
め磁気シールド特性もそれに準じていた。
導体は、外部磁場がある値になるまではその内部を高い
効率で磁気シールドすることができる。図2に底無し円
筒体7を示すが、これは外部磁場8による磁束を打ち消
すように、超電導体中に超電導遮蔽電流9が外部磁場の
向きとは垂直な方向に閉ループを作って流れることによ
る。そのため従来から本形状の磁気シールド体が各種考
案され、中には実用化されたものもある。万一この閉ル
ープの途中に超電導体の切れ目や接続部があると、超電
導遮蔽電流が流れなくなったり大幅に減衰したりするた
め磁気シールド特性もそれに準じていた。
【0003】ここで超電導体の中でもX3 Yなる組成の
金属間化合物系超電導体は臨界温度(Tc)、臨界磁場
(Bc2 )、臨界電流密度(Jc)の主要三特性が、実
用材として大量に製造されているNb−Ti合金系超電
導体に比べ非常に高いものがある。例えばNb3 Snや
V3 GaではTcおよびBc2 がNb−Ti合金系のそ
れの約2倍高く、かつ高磁場中でのJcも高いため、線
材化されて高磁場発生用マグネット等に使用されてい
る。したがってすぐれた超電導特性を有するX3Yなる
組成の金属間化合物系超電導体からなる円筒は、強磁場
中での磁気シールド応用に高いポテンシャルを有すると
いえる。
金属間化合物系超電導体は臨界温度(Tc)、臨界磁場
(Bc2 )、臨界電流密度(Jc)の主要三特性が、実
用材として大量に製造されているNb−Ti合金系超電
導体に比べ非常に高いものがある。例えばNb3 Snや
V3 GaではTcおよびBc2 がNb−Ti合金系のそ
れの約2倍高く、かつ高磁場中でのJcも高いため、線
材化されて高磁場発生用マグネット等に使用されてい
る。したがってすぐれた超電導特性を有するX3Yなる
組成の金属間化合物系超電導体からなる円筒は、強磁場
中での磁気シールド応用に高いポテンシャルを有すると
いえる。
【0004】このX3 Yなる金属間化合物系超電導層が
板の厚さ方向に常電導金属層と交互に多層化された構造
を有する底無し円筒は例は少ないが存在する。例えば図
3に示すようにCu−Sn合金管10とNb管11を同
心状に多層化し、中心にCu−Sn合金棒10′を配し
て熱間押出しによって縮径し一体化した丸棒状にする。
次に内部のCu−Sn合金芯部に適当な径の穴を穿孔し
て図4に示すような多層底無し円筒13となし、適当な
熱処理を行ってCu−Sn合金3中のSnをNb層2中
に拡散させてNb3 Sn層4を形成させる方法である。
板の厚さ方向に常電導金属層と交互に多層化された構造
を有する底無し円筒は例は少ないが存在する。例えば図
3に示すようにCu−Sn合金管10とNb管11を同
心状に多層化し、中心にCu−Sn合金棒10′を配し
て熱間押出しによって縮径し一体化した丸棒状にする。
次に内部のCu−Sn合金芯部に適当な径の穴を穿孔し
て図4に示すような多層底無し円筒13となし、適当な
熱処理を行ってCu−Sn合金3中のSnをNb層2中
に拡散させてNb3 Sn層4を形成させる方法である。
【0005】また図5に示すようにNb3 Snテープ1
4をボビン15に螺旋状に巻き付け、テープ間隙に半田
16を含浸させて各テープ層間を電気的に導通させて円
筒体17とする方法も行われていた。
4をボビン15に螺旋状に巻き付け、テープ間隙に半田
16を含浸させて各テープ層間を電気的に導通させて円
筒体17とする方法も行われていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図3に示すような多層
構造体12を熱間押出しで縮径し円筒とする方法は最後
に穴をあけなければならず、あまりに長い円筒を作るこ
とは穿孔の技術上不可能である。また押出しであるため
円筒の径は初めの多層構造体の径以下にならざるを得な
い。したがって直径の大きな円筒体を作るにはそれ以上
の、望ましくはそれよりも大きな直径の多層構造体を押
出すことのできる押出し機が必要であるが、押出し力の
増大、設備の大型化、それによる高コスト化等により非
常な困難がともなった。さらに異種金属同士が完全に接
合していなければその後の良加工性も得られないので、
接合面に垂直な方向へのある程度の減面加工が必要であ
る。ちなみにこの減面加工時は、一般に材料が軟化した
方が接合性が良いのである程度の高温にするのが望まし
く、この理由から従来法では熱間押出し法がとられてい
た。この方法によれば、異種金属からなる多層構造体か
ら良好な接合性を有する円筒を得ることはできたが、そ
の直径または長さには大きな制約があり、それらサイズ
の大きい多層複合円筒を得ることは非常に困難であっ
た。
構造体12を熱間押出しで縮径し円筒とする方法は最後
に穴をあけなければならず、あまりに長い円筒を作るこ
とは穿孔の技術上不可能である。また押出しであるため
円筒の径は初めの多層構造体の径以下にならざるを得な
い。したがって直径の大きな円筒体を作るにはそれ以上
の、望ましくはそれよりも大きな直径の多層構造体を押
出すことのできる押出し機が必要であるが、押出し力の
増大、設備の大型化、それによる高コスト化等により非
常な困難がともなった。さらに異種金属同士が完全に接
合していなければその後の良加工性も得られないので、
接合面に垂直な方向へのある程度の減面加工が必要であ
る。ちなみにこの減面加工時は、一般に材料が軟化した
方が接合性が良いのである程度の高温にするのが望まし
く、この理由から従来法では熱間押出し法がとられてい
た。この方法によれば、異種金属からなる多層構造体か
ら良好な接合性を有する円筒を得ることはできたが、そ
の直径または長さには大きな制約があり、それらサイズ
の大きい多層複合円筒を得ることは非常に困難であっ
た。
【0007】また図5に示すような方法で作製した円筒
の場合、その軸に平行な印加磁場成分に対してはテープ
線材の長手方向と超電導遮蔽電流の方向が一致するた
め、若干のテープ間隙中の半田を横切る必要があっても
その数が非常に少ないため、かなり良い磁気シールド特
性を示す。しかし軸と垂直な磁場成分に対しては、超電
導遮蔽電流が半田による接合部を多数横切るため、先に
記した理由により磁気シールド特性はきわめて低かっ
た。
の場合、その軸に平行な印加磁場成分に対してはテープ
線材の長手方向と超電導遮蔽電流の方向が一致するた
め、若干のテープ間隙中の半田を横切る必要があっても
その数が非常に少ないため、かなり良い磁気シールド特
性を示す。しかし軸と垂直な磁場成分に対しては、超電
導遮蔽電流が半田による接合部を多数横切るため、先に
記した理由により磁気シールド特性はきわめて低かっ
た。
【0008】
【課題を解決するための手段】したがって本発明は上記
課題を克服するため鋭意研究開発に努めた結果、組成X
3 Yなる金属間化合物系超電導層が存在する一体化した
多層複合板からなり、金属間化合物系超電導体の各層に
おいては軸方向および周方向に切れ目または接続部が全
くなく、開口端が減るため漏洩磁場を大幅に減らすこと
のできる底付き筒形容器形状をした超電導磁気シールド
体、および異種金属層間の良好な接合が得られる上、大
直径または大きな長さを有し、かつ磁気遮蔽電流を流さ
ないかまたは減衰させてしまう原因となる切れ目または
接続部が円筒の軸方向および周方向に全く存在しない長
所を有する、底付き筒形容器または底無し筒形形状の金
属間化合物系超電導磁気シールド体の容易な製造方法を
提供しようとするものである。
課題を克服するため鋭意研究開発に努めた結果、組成X
3 Yなる金属間化合物系超電導層が存在する一体化した
多層複合板からなり、金属間化合物系超電導体の各層に
おいては軸方向および周方向に切れ目または接続部が全
くなく、開口端が減るため漏洩磁場を大幅に減らすこと
のできる底付き筒形容器形状をした超電導磁気シールド
体、および異種金属層間の良好な接合が得られる上、大
直径または大きな長さを有し、かつ磁気遮蔽電流を流さ
ないかまたは減衰させてしまう原因となる切れ目または
接続部が円筒の軸方向および周方向に全く存在しない長
所を有する、底付き筒形容器または底無し筒形形状の金
属間化合物系超電導磁気シールド体の容易な製造方法を
提供しようとするものである。
【0009】本発明は図1に示すようにNbまたはVの
いずれかであるX金属元素からなる層2と、Sn,G
a,Si,Al,Geのうち少なくとも1種以上である
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金からな
る層3とが板の厚さ方向に少なくとも1層以上ずつ交互
に積層され、かつ両者のすべての界面にはX元素または
Y元素の拡散により形成された組成X3 Yなる金属間化
合物系超電導層4が存在する多層複合板5からなる、各
超電導層が軸方向および周方向に切れ目または接続部の
ない、底6が付いた筒形容器形状をした金属間化合物系
超電導磁気シールド体1であることを特徴とする。組成
X3 Yなる金属間化合物系超電導体としては、例えば代
表的なものとしてNb3 Sn,V3 Ga,Nb3 Al,
Nb3 (Al,Ge),Nb3 Ge等が挙げられる。Y
が成分をなす成分としてはCu合金、またはAl合金が
加工性等の点で扱いやすい。
いずれかであるX金属元素からなる層2と、Sn,G
a,Si,Al,Geのうち少なくとも1種以上である
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金からな
る層3とが板の厚さ方向に少なくとも1層以上ずつ交互
に積層され、かつ両者のすべての界面にはX元素または
Y元素の拡散により形成された組成X3 Yなる金属間化
合物系超電導層4が存在する多層複合板5からなる、各
超電導層が軸方向および周方向に切れ目または接続部の
ない、底6が付いた筒形容器形状をした金属間化合物系
超電導磁気シールド体1であることを特徴とする。組成
X3 Yなる金属間化合物系超電導体としては、例えば代
表的なものとしてNb3 Sn,V3 Ga,Nb3 Al,
Nb3 (Al,Ge),Nb3 Ge等が挙げられる。Y
が成分をなす成分としてはCu合金、またはAl合金が
加工性等の点で扱いやすい。
【0010】また上記多層複合板の最外層と最内層がC
uまたはAlのいずれかで、これらとXまたはYからな
る金属、合金、または金属間化合物の多層複合部との境
界にはNb,Ta,または両者の合金からなる層が存在
することを特徴とする。
uまたはAlのいずれかで、これらとXまたはYからな
る金属、合金、または金属間化合物の多層複合部との境
界にはNb,Ta,または両者の合金からなる層が存在
することを特徴とする。
【0011】ここで金属間化合物系超電導層が2種類の
金属層に挟まれながら交互に積層されている、すなわち
多層化されているのであるが、トータルの超電導層の厚
さが同じ場合、超電導単層の厚さが小さいほど、すなわ
ち層数が多いほど超電導安定性の観点からは望ましい。
ただしその超電導単層厚さは超電導状態を保持するため
に最小でもコヒーレンス長の2倍以上でなければならな
い。
金属層に挟まれながら交互に積層されている、すなわち
多層化されているのであるが、トータルの超電導層の厚
さが同じ場合、超電導単層の厚さが小さいほど、すなわ
ち層数が多いほど超電導安定性の観点からは望ましい。
ただしその超電導単層厚さは超電導状態を保持するため
に最小でもコヒーレンス長の2倍以上でなければならな
い。
【0012】また、図6(a)に示すように、開口端1
9を有する底付き筒形容器1′において底6′には必要
に応じ適当な径の穴18があいていることも可能であ
る。センサーや被シールド体等の出し入れや冷媒の出入
りをさせて冷却性能を高めるといった効果がある。場合
によっては図6(b)に示すように、底6と反対側に、
部分的に穴のあいた底6′を切れ目、接続部がなく形成
させた底付き筒形容器1″とすることもできる。このタ
イプは漏洩磁場を抑える観点からは非常に好ましい。こ
こで両開口端を全く底でふさいだ場合も考えられるが、
製造技術、物の出し入れが不可能である等、あまり現実
的ではない。また筒形とは円筒および断面が楕円形や多
角形である筒形を総称した呼び名である。
9を有する底付き筒形容器1′において底6′には必要
に応じ適当な径の穴18があいていることも可能であ
る。センサーや被シールド体等の出し入れや冷媒の出入
りをさせて冷却性能を高めるといった効果がある。場合
によっては図6(b)に示すように、底6と反対側に、
部分的に穴のあいた底6′を切れ目、接続部がなく形成
させた底付き筒形容器1″とすることもできる。このタ
イプは漏洩磁場を抑える観点からは非常に好ましい。こ
こで両開口端を全く底でふさいだ場合も考えられるが、
製造技術、物の出し入れが不可能である等、あまり現実
的ではない。また筒形とは円筒および断面が楕円形や多
角形である筒形を総称した呼び名である。
【0013】また図7(a)に示すように、金属板から
なる筐体状または円筒状中空体20中に、X金属元素か
らなる板21が1層以上と、Y金属元素からなる板また
はYが成分をなす合金板22が1層以上を交互に充填積
層し、端部をふさいで溶接密封した後、必要に応じて熱
処理を加えつつ圧延または鍛造を施して複合板とし、し
かる後プレス成形または管圧延を施して軸方向および周
方向に切れ目または接続部のない底付き筒形容器を製造
し、必要に応じて底部を切断して底無し筒形としてから
熱処理を施して、両異種金属層の界面に組成X3 Yなる
金属間化合物系超電導層を形成させることを特徴とす
る。また上記中空体をなす金属板はY金属元素からなる
板またはYが成分をなす合金板であってもなんら差し支
えない。
なる筐体状または円筒状中空体20中に、X金属元素か
らなる板21が1層以上と、Y金属元素からなる板また
はYが成分をなす合金板22が1層以上を交互に充填積
層し、端部をふさいで溶接密封した後、必要に応じて熱
処理を加えつつ圧延または鍛造を施して複合板とし、し
かる後プレス成形または管圧延を施して軸方向および周
方向に切れ目または接続部のない底付き筒形容器を製造
し、必要に応じて底部を切断して底無し筒形としてから
熱処理を施して、両異種金属層の界面に組成X3 Yなる
金属間化合物系超電導層を形成させることを特徴とす
る。また上記中空体をなす金属板はY金属元素からなる
板またはYが成分をなす合金板であってもなんら差し支
えない。
【0014】上記プレス成形法としては、深絞り成形
法、張り出し成形法、鍛造成形法等がある。特に深絞り
成形法においては、底付き筒形容器の軸方向の長さを大
きくするために、しごき深絞り成形法や、再深絞り成形
法およびその繰り返しや、液圧成形をすることもでき
る。管圧延法は一旦深絞りで底付き円筒容器を作った
後、軸方向の長さを伸ばして深さ比(深さ/直径)を大
きくする場合に都合が良い。具体的にはスピニング法等
が挙げられる。
法、張り出し成形法、鍛造成形法等がある。特に深絞り
成形法においては、底付き筒形容器の軸方向の長さを大
きくするために、しごき深絞り成形法や、再深絞り成形
法およびその繰り返しや、液圧成形をすることもでき
る。管圧延法は一旦深絞りで底付き円筒容器を作った
後、軸方向の長さを伸ばして深さ比(深さ/直径)を大
きくする場合に都合が良い。具体的にはスピニング法等
が挙げられる。
【0015】また図8(a)に示すように、金属からな
る同心状に積層した2個の直径の異なる円筒24および
24′の間隙か、または最内側の円筒24′のかわりに
丸棒24″を置いた間隙に、X金属元素からなる円筒2
5と、Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金
からなる円筒26各1層以上を、同心状に積層してなる
円筒状複合体または柱状複合体を、必要に応じて熱処理
を加えつつ管圧延加工、スピニング加工、穿孔押出し加
工、または穿孔ダイス引き抜き加工のうち1種類以上を
用いて軸方向および周方向に切れ目または接続部のない
一体化した底無し円筒としてから、熱処理を施して両異
種金属層の界面にX3 Yなる金属間化合物系超電導層を
形成させることを特徴とする。直径の異なる同心状に積
層した2個の金属円筒24,24′または丸棒24″が
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金であっ
てもなんら差し支えない。
る同心状に積層した2個の直径の異なる円筒24および
24′の間隙か、または最内側の円筒24′のかわりに
丸棒24″を置いた間隙に、X金属元素からなる円筒2
5と、Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金
からなる円筒26各1層以上を、同心状に積層してなる
円筒状複合体または柱状複合体を、必要に応じて熱処理
を加えつつ管圧延加工、スピニング加工、穿孔押出し加
工、または穿孔ダイス引き抜き加工のうち1種類以上を
用いて軸方向および周方向に切れ目または接続部のない
一体化した底無し円筒としてから、熱処理を施して両異
種金属層の界面にX3 Yなる金属間化合物系超電導層を
形成させることを特徴とする。直径の異なる同心状に積
層した2個の金属円筒24,24′または丸棒24″が
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金であっ
てもなんら差し支えない。
【0016】また図7(b),図8(b)に示すよう
に、上記X金属元素からなる板または円筒1層以上と、
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金からな
る板または円筒1層以上を交互に充填積層する際に、両
者のすべての界面にCu板23又はCu円筒27を挿入
することを特徴とする。
に、上記X金属元素からなる板または円筒1層以上と、
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金からな
る板または円筒1層以上を交互に充填積層する際に、両
者のすべての界面にCu板23又はCu円筒27を挿入
することを特徴とする。
【0017】さらには金属間化合物系超電導体のJcを
向上させるために、X金属元素からなる板または円筒の
組織中か、またはY金属元素からなるかYが成分をなす
合金からなる板または円筒の組織中か、または両者のす
べての界面に挿入されるCuからなる板または円筒の組
織中に、Ti,Zr,Ta,Hf,Mg,Gaのうちの
少なくとも1種以上を微量添加することも可能である。
向上させるために、X金属元素からなる板または円筒の
組織中か、またはY金属元素からなるかYが成分をなす
合金からなる板または円筒の組織中か、または両者のす
べての界面に挿入されるCuからなる板または円筒の組
織中に、Ti,Zr,Ta,Hf,Mg,Gaのうちの
少なくとも1種以上を微量添加することも可能である。
【0018】また金属板からなる筐体状または円筒状中
空体、または金属からなる同心状に積層した2個の直径
の異なる円筒、または最内側の円筒のかわりに円形棒が
CuまたはAlのいずれかで、これら中空体内面と充填
される板または円筒の積層体との間にはすべてNb,T
aまたは両者の合金のうちのいずれかからなる板または
円筒を挿入することを特徴とする。
空体、または金属からなる同心状に積層した2個の直径
の異なる円筒、または最内側の円筒のかわりに円形棒が
CuまたはAlのいずれかで、これら中空体内面と充填
される板または円筒の積層体との間にはすべてNb,T
aまたは両者の合金のうちのいずれかからなる板または
円筒を挿入することを特徴とする。
【0019】ところで上記溶接密封時の雰囲気は複合材
加工による異種材料の接合性の観点からは真空中が望ま
しい。また筐体状または円筒状中空体中に充填後に密封
せず、片端あるいは両端を開放したまま加工することも
可能である。
加工による異種材料の接合性の観点からは真空中が望ま
しい。また筐体状または円筒状中空体中に充填後に密封
せず、片端あるいは両端を開放したまま加工することも
可能である。
【0020】
【作用】本発明による磁気シールド体は、従来技術によ
り作られた組成X3 Yなる金属間化合物系超電導体から
なりかつ開口端が両端にある底無し円筒に比べ、切れ目
または接続部がない底付き円筒容器であるため開口端が
片側しかなく、外部磁場からの内部シールドであれ、ま
たは内部磁場源からの外部シールドであれ漏洩磁場を大
幅に低減できる。従来は組成X3 Yなる金属間化合物系
超電導体からなる複合体で底と円筒が一体となり、かつ
その軸方向および周方向に超電導層の切れ目または接続
部が全くない筒形容器はなかったので、両者を組み合わ
せた場合必然的に境界に超電導体の切れ目または接合部
を生じていた。組成X3 Yなる金属間化合物系超電導体
は第二種超電導体であるが、これに磁束が侵入してきた
時に磁気シールド効果を発生させるのは、磁場中で閉ル
ープを作って流れる超電導遮蔽電流である。切れ目はこ
れを全く遮断してしまうし、接合部はというと、超電導
層同士が直接正常部と全く同じ状態で接合しているのが
理想であるが、これはほとんど不可能といってよく、大
幅な特性低下は避けられなかった。
り作られた組成X3 Yなる金属間化合物系超電導体から
なりかつ開口端が両端にある底無し円筒に比べ、切れ目
または接続部がない底付き円筒容器であるため開口端が
片側しかなく、外部磁場からの内部シールドであれ、ま
たは内部磁場源からの外部シールドであれ漏洩磁場を大
幅に低減できる。従来は組成X3 Yなる金属間化合物系
超電導体からなる複合体で底と円筒が一体となり、かつ
その軸方向および周方向に超電導層の切れ目または接続
部が全くない筒形容器はなかったので、両者を組み合わ
せた場合必然的に境界に超電導体の切れ目または接合部
を生じていた。組成X3 Yなる金属間化合物系超電導体
は第二種超電導体であるが、これに磁束が侵入してきた
時に磁気シールド効果を発生させるのは、磁場中で閉ル
ープを作って流れる超電導遮蔽電流である。切れ目はこ
れを全く遮断してしまうし、接合部はというと、超電導
層同士が直接正常部と全く同じ状態で接合しているのが
理想であるが、これはほとんど不可能といってよく、大
幅な特性低下は避けられなかった。
【0021】本発明による磁気シールド体は底と円筒が
切れ目または接続部がなくつながっているので、磁場の
強さにもよるがこの境界からの漏洩磁場を全くなくすこ
とができる。したがって図6(b)に示すように、底と
反対側にも部分的に穴のあいた底がある場合は、図6
(a)に示すような片端の底が全くない場合、すなわち
片端全面開放の場合に比較してさらに漏洩磁場を減らす
ことができる。
切れ目または接続部がなくつながっているので、磁場の
強さにもよるがこの境界からの漏洩磁場を全くなくすこ
とができる。したがって図6(b)に示すように、底と
反対側にも部分的に穴のあいた底がある場合は、図6
(a)に示すような片端の底が全くない場合、すなわち
片端全面開放の場合に比較してさらに漏洩磁場を減らす
ことができる。
【0022】また上記多層複合板の最外層と最内層がC
uまたはAlのいずれかである高導電金属を用いること
で磁気シールド体の超電導安定性が向上する。これは超
電導体中に何らかの原因で常電導の芽ができた時に、高
導電金属の熱伝導性が記述のY金属元素からなるかYが
成分をなす合金よりもすぐれていることにより、すみや
かにその熱を奪って冷媒中へ放散することによる。また
高導電金属とこれら多層複合部が直に接している場合、
特に拡散速度の大きいY金属元素を含む金属または合金
と接している場合は、熱処理中等の高温加熱時にY金属
元素が拡散して合金化し、導電率ひいては熱伝導率が大
幅に減少して超電導安定化効果も低下する。したがって
Y金属元素の拡散速度の非常に小さいNb,Taまたは
両者の合金のいずれかからなる層をその境界に設けて高
導電金属中への拡散バリヤーとするものである。
uまたはAlのいずれかである高導電金属を用いること
で磁気シールド体の超電導安定性が向上する。これは超
電導体中に何らかの原因で常電導の芽ができた時に、高
導電金属の熱伝導性が記述のY金属元素からなるかYが
成分をなす合金よりもすぐれていることにより、すみや
かにその熱を奪って冷媒中へ放散することによる。また
高導電金属とこれら多層複合部が直に接している場合、
特に拡散速度の大きいY金属元素を含む金属または合金
と接している場合は、熱処理中等の高温加熱時にY金属
元素が拡散して合金化し、導電率ひいては熱伝導率が大
幅に減少して超電導安定化効果も低下する。したがって
Y金属元素の拡散速度の非常に小さいNb,Taまたは
両者の合金のいずれかからなる層をその境界に設けて高
導電金属中への拡散バリヤーとするものである。
【0023】また上記底付き筒形容器または底無し筒形
を作る方法として、本発明では組成X3 Yの各金属元素
成分X,Yを含む2種類の金属板または合金板を交互に
積層し、金属の中空体に密封した後、必要に応じて熱処
理を加えつつ圧延または鍛造して複合板とすることで、
各異種金属層間が良好に接合した多層板が容易に得られ
る。間に常電導層をはさんだ多層超電導層はトータルの
超電導層の厚さが同じ場合、超電導単層の厚さが小さい
ほど、すなわち多層化の層数が増えるほど超電導安定性
向上の観点からは望ましい。理由の一つは変動磁場中で
の単位体積当りヒステリシス損失は単層厚さが小さいほ
ど減少するからである。またもう一つの理由として、何
らかの原因で超電導層中に局部的に発熱があり、常電導
の芽が発生した場合、隣接した常電導層は金属であり、
比較的熱伝導性が良好なので放熱媒体としての役割も有
しており、超電導単層厚さが小さい方が放熱特性は向上
する。したがって上記のように重要な効果を有する板に
おける多層化が本発明の製造方法によれば容易に可能に
なるものである。
を作る方法として、本発明では組成X3 Yの各金属元素
成分X,Yを含む2種類の金属板または合金板を交互に
積層し、金属の中空体に密封した後、必要に応じて熱処
理を加えつつ圧延または鍛造して複合板とすることで、
各異種金属層間が良好に接合した多層板が容易に得られ
る。間に常電導層をはさんだ多層超電導層はトータルの
超電導層の厚さが同じ場合、超電導単層の厚さが小さい
ほど、すなわち多層化の層数が増えるほど超電導安定性
向上の観点からは望ましい。理由の一つは変動磁場中で
の単位体積当りヒステリシス損失は単層厚さが小さいほ
ど減少するからである。またもう一つの理由として、何
らかの原因で超電導層中に局部的に発熱があり、常電導
の芽が発生した場合、隣接した常電導層は金属であり、
比較的熱伝導性が良好なので放熱媒体としての役割も有
しており、超電導単層厚さが小さい方が放熱特性は向上
する。したがって上記のように重要な効果を有する板に
おける多層化が本発明の製造方法によれば容易に可能に
なるものである。
【0024】また上記多層複合板は各層間に良好に接合
していることで加工性も良く、研究の結果プレス成形
性、特に深絞り性にもすぐれることがわかった。深絞り
法で作った場合すでに記したような利点を有する。各超
電導層の切れ目、接合部の無い底付き円筒容器ができ
る。従って上記複合体に対し、クラッド圧延の後で深絞
りを行なうことで大サイズの筒形を作ることができる。
さらにこれに例えばスピニングを加えることで軸方向に
長い、すなわち深さ比の大きい筒形を作ることもでき
る。この比が大きい方が筒の中心部あるいは底部付近で
の開口端からの漏洩磁場が小さくなり、すなわち磁気シ
ールド効果も向上する。かかる後、すべての加工が終了
した最終サイズにおいて適当な熱処理を施すことによっ
て金属元素XまたはYの拡散によって組成X3 Yなる層
状の金属間化合物が各異種金属層間の全界面に形成され
る。最終サイズで熱処理を行なうのは、金属間化合物が
きわめて脆い機械的特性を有するので、形成させた後で
は加工が事実上不可能になるからである。
していることで加工性も良く、研究の結果プレス成形
性、特に深絞り性にもすぐれることがわかった。深絞り
法で作った場合すでに記したような利点を有する。各超
電導層の切れ目、接合部の無い底付き円筒容器ができ
る。従って上記複合体に対し、クラッド圧延の後で深絞
りを行なうことで大サイズの筒形を作ることができる。
さらにこれに例えばスピニングを加えることで軸方向に
長い、すなわち深さ比の大きい筒形を作ることもでき
る。この比が大きい方が筒の中心部あるいは底部付近で
の開口端からの漏洩磁場が小さくなり、すなわち磁気シ
ールド効果も向上する。かかる後、すべての加工が終了
した最終サイズにおいて適当な熱処理を施すことによっ
て金属元素XまたはYの拡散によって組成X3 Yなる層
状の金属間化合物が各異種金属層間の全界面に形成され
る。最終サイズで熱処理を行なうのは、金属間化合物が
きわめて脆い機械的特性を有するので、形成させた後で
は加工が事実上不可能になるからである。
【0025】この形成される金属間化合物超電導層の厚
さは実用的には約1μm前後〜10μm前後が望まし
い。理由としてはあまり大きいと曲げ歪に対しより敏感
になることと、熱処理時間が温度にもよるが長くなり過
ぎる、熱処理温度が高いと層厚は増えるが化合物の結晶
粒が粗大化しJcが低下する等が挙げられる。例えばN
b3 Sn,V3 Ga等では結晶粒界がJc向上の重要因
子であるピン止め点であるといわれており、化合物層の
厚さを大きくするよりも結晶粒微細化がJc向上にとっ
て非常に重要である。また耐曲げ歪特性向上のために
は、機械的強度にすぐれ、よりフレキシブルな未反応N
b層が残存している方が望ましい。
さは実用的には約1μm前後〜10μm前後が望まし
い。理由としてはあまり大きいと曲げ歪に対しより敏感
になることと、熱処理時間が温度にもよるが長くなり過
ぎる、熱処理温度が高いと層厚は増えるが化合物の結晶
粒が粗大化しJcが低下する等が挙げられる。例えばN
b3 Sn,V3 Ga等では結晶粒界がJc向上の重要因
子であるピン止め点であるといわれており、化合物層の
厚さを大きくするよりも結晶粒微細化がJc向上にとっ
て非常に重要である。また耐曲げ歪特性向上のために
は、機械的強度にすぐれ、よりフレキシブルな未反応N
b層が残存している方が望ましい。
【0026】またX金属元素であるNbまたはVは純金
属でも加工性が良いが、Y金属元素はSnのように純金
属では軟らか過ぎたり、Geのように脆かったりするた
め、加工性を向上させるためにYを含む合金にするもの
である。ただし合金元素としては加工性の良いことはも
ちろん、超電導体X3 Yの生成や特性に悪影響を及ぼさ
ないものであることも必要である。さらに例えばNb3
SnにおいてSnが成分をなす合金としてCu−Sn合
金を用いるが、超電導体である化学量論比のNb3 Sn
が熱処理によって形成される際に、Cuが触媒的な作用
をなすという効果もある。
属でも加工性が良いが、Y金属元素はSnのように純金
属では軟らか過ぎたり、Geのように脆かったりするた
め、加工性を向上させるためにYを含む合金にするもの
である。ただし合金元素としては加工性の良いことはも
ちろん、超電導体X3 Yの生成や特性に悪影響を及ぼさ
ないものであることも必要である。さらに例えばNb3
SnにおいてSnが成分をなす合金としてCu−Sn合
金を用いるが、超電導体である化学量論比のNb3 Sn
が熱処理によって形成される際に、Cuが触媒的な作用
をなすという効果もある。
【0027】また同心状に異種金属円筒を積層した円筒
状複合体、または柱状複合体を、必要に応じて熱処理を
加えつつ管圧延加工、スピニング加工、穿孔押出し加
工、または穿孔ダイス引き抜き加工のうち1種類以上を
用いて軸方向および周方向に切れ目または接続部のない
一体化した底無し円筒とすることによって、開口端は円
筒の両側にできるので漏洩磁場は底付き円筒よりも若干
大きいが、直径または軸長の大きな底無し円筒を容易に
得ることができる。これら製造方法は特に大口径の円筒
や軸方向に長大な円筒の製造に適している。したがって
これによって大空間や非常に細長い空間等に対し、強力
な磁気シールド体として利用することが可能になる。
状複合体、または柱状複合体を、必要に応じて熱処理を
加えつつ管圧延加工、スピニング加工、穿孔押出し加
工、または穿孔ダイス引き抜き加工のうち1種類以上を
用いて軸方向および周方向に切れ目または接続部のない
一体化した底無し円筒とすることによって、開口端は円
筒の両側にできるので漏洩磁場は底付き円筒よりも若干
大きいが、直径または軸長の大きな底無し円筒を容易に
得ることができる。これら製造方法は特に大口径の円筒
や軸方向に長大な円筒の製造に適している。したがって
これによって大空間や非常に細長い空間等に対し、強力
な磁気シールド体として利用することが可能になる。
【0028】またY金属元素を合金化しないか、しかも
第2番目以降の他金属元素の量がわずかである場合、Y
の濃度が高いので超電導体X3 Yの生成には一般に都合
が良い。しかしこの場合は触媒作用を有するCuが不足
することになるので、このCuを板または円筒の形でX
金属元素とY金属元素またはYが成分をなす合金からな
る板または円筒の交互積層された全界面に挿入し、以後
はすでに記したような加工を施すものである。
第2番目以降の他金属元素の量がわずかである場合、Y
の濃度が高いので超電導体X3 Yの生成には一般に都合
が良い。しかしこの場合は触媒作用を有するCuが不足
することになるので、このCuを板または円筒の形でX
金属元素とY金属元素またはYが成分をなす合金からな
る板または円筒の交互積層された全界面に挿入し、以後
はすでに記したような加工を施すものである。
【0029】また板または円筒の積層体を充填する筐体
状または円筒状中空体をCuまたはAlの高導電金属に
するのは、これら金属が超電導安定性を向上させる効果
があるためである。ただしこの場合、金属間化合物系超
電導層形成のための熱処理の際に、高導電金属が金属元
素XやYが拡散してきて合金化し導電率が低下するのを
防ぐために、中空体内表面と交互多層化された板または
円筒の外周部との間に、NbやTaまたは両者の合金か
らなる拡散バリヤーとなるべき板または円筒を挿入する
ものである。
状または円筒状中空体をCuまたはAlの高導電金属に
するのは、これら金属が超電導安定性を向上させる効果
があるためである。ただしこの場合、金属間化合物系超
電導層形成のための熱処理の際に、高導電金属が金属元
素XやYが拡散してきて合金化し導電率が低下するのを
防ぐために、中空体内表面と交互多層化された板または
円筒の外周部との間に、NbやTaまたは両者の合金か
らなる拡散バリヤーとなるべき板または円筒を挿入する
ものである。
【0030】以上記してきたように、組成X3 Yなる金
属間化合物系超電導体はNb−Ti合金系超電導体(T
c〜9K,Bc2 〜12T)に比べてTc,Bc2 が高
く、例えばNb3 Sn,V3 GaのようなTcが17〜
18K、Bc2 が20T強といった高特性のものを上記
のような利用ができることによって、高価な液体He
(沸点4.2K)に使わずに冷凍機だけを用いたHeガ
ス冷却(12K位まで容易に冷却可能)によっても磁気
シールドが可能になり、大幅な冷却コストの低減が可能
になる。
属間化合物系超電導体はNb−Ti合金系超電導体(T
c〜9K,Bc2 〜12T)に比べてTc,Bc2 が高
く、例えばNb3 Sn,V3 GaのようなTcが17〜
18K、Bc2 が20T強といった高特性のものを上記
のような利用ができることによって、高価な液体He
(沸点4.2K)に使わずに冷凍機だけを用いたHeガ
ス冷却(12K位まで容易に冷却可能)によっても磁気
シールドが可能になり、大幅な冷却コストの低減が可能
になる。
【0031】
【実施例】実施例1 図7(a)に示すように交互積層した複合体をクラッド
圧延法により加工して厚さ30μmのCuリッチ−Sn
合金が9層とNbの10層を交互に積層し、最表面は両
側とも厚さ100μmのCu−Sn合金層とした厚さ
0.77mmの多層複合板を得た。この時筐体状中空体は
多層板と同じCuリッチ−Sn合金を用いたものであ
る。それを直径70mmの円形ブランクとし、外径25mm
のポンチと内径27.7mmのダイスにより深絞り加工を
行なった。これにより図1に示すように内径25mm,肉
厚0.77mm,高さ約30mmの底付き円筒容器を得た。
Cu−Sn合金が加工硬化するため途中適宜中間焼鈍を
行なったところ、加工性は良好で途中での材料破損や欠
陥は発生しなかった。また最終形状にて熱処理を不活性
ガス中で行ない各界面につき厚さ5μm前後のNb3 S
n層を得た。Cu−Sn合金層を硝酸で溶解して露出し
た層がNb3 Snであることをオージェ分析装置で確認
した。
圧延法により加工して厚さ30μmのCuリッチ−Sn
合金が9層とNbの10層を交互に積層し、最表面は両
側とも厚さ100μmのCu−Sn合金層とした厚さ
0.77mmの多層複合板を得た。この時筐体状中空体は
多層板と同じCuリッチ−Sn合金を用いたものであ
る。それを直径70mmの円形ブランクとし、外径25mm
のポンチと内径27.7mmのダイスにより深絞り加工を
行なった。これにより図1に示すように内径25mm,肉
厚0.77mm,高さ約30mmの底付き円筒容器を得た。
Cu−Sn合金が加工硬化するため途中適宜中間焼鈍を
行なったところ、加工性は良好で途中での材料破損や欠
陥は発生しなかった。また最終形状にて熱処理を不活性
ガス中で行ない各界面につき厚さ5μm前後のNb3 S
n層を得た。Cu−Sn合金層を硝酸で溶解して露出し
た層がNb3 Snであることをオージェ分析装置で確認
した。
【0032】次いで図9に示すようにこれをソレノイド
型超電導コイル28のボアー中心部に、円筒容器1の中
心軸29とコイルの発生する磁場30とが平行になるよ
うに上記円筒容器を配置し、さらに容器中心部に直径5
mmのホール素子31をセットし、これらを液体He中に
浸漬して超電導磁気シールド特性を調べた。
型超電導コイル28のボアー中心部に、円筒容器1の中
心軸29とコイルの発生する磁場30とが平行になるよ
うに上記円筒容器を配置し、さらに容器中心部に直径5
mmのホール素子31をセットし、これらを液体He中に
浸漬して超電導磁気シールド特性を調べた。
【0033】これによりコイルの発生磁場が0.6Tま
でシールド効率が98%以上である良好な磁気シールド
特性が得られた。それに対し上記円筒容器の底部を切断
して、両端開口にした場合で0.6Tの時シールド効率
は92%であり、底部を円筒の元あった箇所に置いた場
合で0.6Tの時シールド効率は94%であった。ここ
でシールド効率は次の式による。 シールド効率(%)=(コイル発生1磁場−円筒内磁場)/コ
イル発生磁場×100
でシールド効率が98%以上である良好な磁気シールド
特性が得られた。それに対し上記円筒容器の底部を切断
して、両端開口にした場合で0.6Tの時シールド効率
は92%であり、底部を円筒の元あった箇所に置いた場
合で0.6Tの時シールド効率は94%であった。ここ
でシールド効率は次の式による。 シールド効率(%)=(コイル発生1磁場−円筒内磁場)/コ
イル発生磁場×100
【0034】またNb層のかわりにV層、Cu−Sn合
金層のかわりにCu−Ga合金層を用いたほかは同じ条
件の円筒容器を製作した。そして最終形状にて熱処理を
不活性ガス中で行ない各界面につきV3 Ga層を得た
後、上記Nb3 Sn円筒容器と同じ要領で磁気シールド
特性を調べたところ、コイルの発生磁場が0.8Tまで
シールド効率が98%以上である良好な磁気シールド特
性が得られた。
金層のかわりにCu−Ga合金層を用いたほかは同じ条
件の円筒容器を製作した。そして最終形状にて熱処理を
不活性ガス中で行ない各界面につきV3 Ga層を得た
後、上記Nb3 Sn円筒容器と同じ要領で磁気シールド
特性を調べたところ、コイルの発生磁場が0.8Tまで
シールド効率が98%以上である良好な磁気シールド特
性が得られた。
【0035】実施例2 図7(a)に示す複合体において、交互積層した板を挿
入する筐体状中空体を実施例1におけるCuリッチ−S
n合金のかわりにCuとし、Cu層と他金属層の全界面
には厚さ10μmのNbバリヤー層がある以外は、実施
例1と同じようにほぼ同一サイズの底付き円筒容器を得
て、同様に超電導磁気シールド特性を調べたところほぼ
同じ特性が得られた。ただし実施例1のNb3 Sn円筒
容器の特性測定の際、コイル発生磁場の励磁速度を大き
くすると、急激な磁束跳躍が生じて磁気シールド特性が
全くゼロになってしまったが、本例の場合は励磁速度を
2倍にしても磁束跳躍が起こらなかった。すなわち超電
導安定性が純Cuの被覆により向上した。
入する筐体状中空体を実施例1におけるCuリッチ−S
n合金のかわりにCuとし、Cu層と他金属層の全界面
には厚さ10μmのNbバリヤー層がある以外は、実施
例1と同じようにほぼ同一サイズの底付き円筒容器を得
て、同様に超電導磁気シールド特性を調べたところほぼ
同じ特性が得られた。ただし実施例1のNb3 Sn円筒
容器の特性測定の際、コイル発生磁場の励磁速度を大き
くすると、急激な磁束跳躍が生じて磁気シールド特性が
全くゼロになってしまったが、本例の場合は励磁速度を
2倍にしても磁束跳躍が起こらなかった。すなわち超電
導安定性が純Cuの被覆により向上した。
【0036】また図7(b),図8(a),(b)に示
す各複合体においても同様に最外層の部分を純Cuに置
き換えたところ同様の効果があった。また上のいずれの
例においてもCuをAlに置き換えてもほぼ同様の結果
が得られた。
す各複合体においても同様に最外層の部分を純Cuに置
き換えたところ同様の効果があった。また上のいずれの
例においてもCuをAlに置き換えてもほぼ同様の結果
が得られた。
【0037】実施例3 図7(b)に示すように交互積層した複合体をクラッド
圧延法により加工して厚さ20μmのCu−Snリッチ
合金が9層と厚さ30μmのNb10層を交互に積層
し、両者の全界面には最表面は厚さ5μmのCu層が挿
入され、最外側は厚さ100μmのCu層とした厚さ
0.78mmの多層複合板を得た。これはCu−Sn合金
がSnリッチであるので加工硬化しないため中間焼鈍は
必要なく、加工性が良好で途中での材料破損や欠陥は発
生しなかった。以下実施例1と同様の方法で同サイズの
底付き円筒容器を得た。この後最終形状にて熱処理を不
活性ガス中で行ない各界面につきNb3 Sn層を形成さ
せ、以下実施例1と同様の方法で超電導磁気シールド特
性を調べた。コイルの発生磁場が0.6Tまでシールド
効率が98%以上である良好な磁気シールド特性が得ら
れた。
圧延法により加工して厚さ20μmのCu−Snリッチ
合金が9層と厚さ30μmのNb10層を交互に積層
し、両者の全界面には最表面は厚さ5μmのCu層が挿
入され、最外側は厚さ100μmのCu層とした厚さ
0.78mmの多層複合板を得た。これはCu−Sn合金
がSnリッチであるので加工硬化しないため中間焼鈍は
必要なく、加工性が良好で途中での材料破損や欠陥は発
生しなかった。以下実施例1と同様の方法で同サイズの
底付き円筒容器を得た。この後最終形状にて熱処理を不
活性ガス中で行ない各界面につきNb3 Sn層を形成さ
せ、以下実施例1と同様の方法で超電導磁気シールド特
性を調べた。コイルの発生磁場が0.6Tまでシールド
効率が98%以上である良好な磁気シールド特性が得ら
れた。
【0038】実施例4 図8(a)に示すように交互積層した複合体を管圧延法
により加工して厚さ30μmのCuリッチ−Sn合金が
9層とNbの10層を交互に積層し、最表面は両側とも
厚さ100μmのCu−Sn合金層とした内径25mm,
肉厚0.77mm,高さ約30mmの底無し多層複合円筒を
得た。Cu−Sn合金が加工硬化するため途中適宜中間
焼鈍を行なったところ、加工性は良好で途中での材料破
損や欠陥は発生しなかった。また最終形状にて熱処理を
不活性ガス中で行ない各界面につきNb3 Sn層を得
た。以下実施例1と同様の方法で超電導磁気シールド特
性を調べた。コイルの発生磁場が0.6Tまでシールド
効率が92%以上である良好な磁気シールド特性が得ら
れた。
により加工して厚さ30μmのCuリッチ−Sn合金が
9層とNbの10層を交互に積層し、最表面は両側とも
厚さ100μmのCu−Sn合金層とした内径25mm,
肉厚0.77mm,高さ約30mmの底無し多層複合円筒を
得た。Cu−Sn合金が加工硬化するため途中適宜中間
焼鈍を行なったところ、加工性は良好で途中での材料破
損や欠陥は発生しなかった。また最終形状にて熱処理を
不活性ガス中で行ない各界面につきNb3 Sn層を得
た。以下実施例1と同様の方法で超電導磁気シールド特
性を調べた。コイルの発生磁場が0.6Tまでシールド
効率が92%以上である良好な磁気シールド特性が得ら
れた。
【0039】実施例5 図8(b)に示すように交互積層した複合体を管圧延法
により加工して厚さ20μmのCu−Snリッチ合金が
9層と厚さ30μmのNb10層を交互に積層し、両者
の全界面には最表面は厚さ5μmのCu層が挿入され、
最外側は厚さ100μmのCu層とした内径25mm,肉
厚0.78mm,高さ約30mmの底無し多層複合円筒を得
た。これはCu−Sn合金がSnリッチであるので加工
硬化しないため中間焼鈍は必要なく、加工性が良好で途
中での材料破損や欠陥は発生しなかった。以下実施例1
と同様の方法で同サイズの底付き円筒容器を得た。この
後最終形状にて熱処理を不活性ガス中で行ない各界面に
つきNb3 Sn層を形成させ、以下実施例1と同様の方
法で超電導磁気シールド特性を調べた。コイルの発生磁
場が0.6Tまでシールド効率が92%以上である良好
な磁気シールド特性が得られた。
により加工して厚さ20μmのCu−Snリッチ合金が
9層と厚さ30μmのNb10層を交互に積層し、両者
の全界面には最表面は厚さ5μmのCu層が挿入され、
最外側は厚さ100μmのCu層とした内径25mm,肉
厚0.78mm,高さ約30mmの底無し多層複合円筒を得
た。これはCu−Sn合金がSnリッチであるので加工
硬化しないため中間焼鈍は必要なく、加工性が良好で途
中での材料破損や欠陥は発生しなかった。以下実施例1
と同様の方法で同サイズの底付き円筒容器を得た。この
後最終形状にて熱処理を不活性ガス中で行ない各界面に
つきNb3 Sn層を形成させ、以下実施例1と同様の方
法で超電導磁気シールド特性を調べた。コイルの発生磁
場が0.6Tまでシールド効率が92%以上である良好
な磁気シールド特性が得られた。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば組
成X3 Yなる金属間化合物系超電導層と常電導金属層と
が交互に積層され一体化した多層複合板からなる、各超
電導層が軸方向および周方向に切れ目または接続部のな
い底付き筒形容器や底無し筒形を得ることができる。超
電導遮蔽電流は上記磁気シールド体のいずれの方向にも
流れることができるので、超電導状態にあるかぎり安定
した高い磁気シールド特性を得ることができる。また本
発明の製造法によれば、上記のような長所を有する底付
き筒形容器や底無し筒形で直径または軸長方向にサイズ
の大きな物を容易に作ることが可能になり、その工業的
な利用価値は非常に高いものである。
成X3 Yなる金属間化合物系超電導層と常電導金属層と
が交互に積層され一体化した多層複合板からなる、各超
電導層が軸方向および周方向に切れ目または接続部のな
い底付き筒形容器や底無し筒形を得ることができる。超
電導遮蔽電流は上記磁気シールド体のいずれの方向にも
流れることができるので、超電導状態にあるかぎり安定
した高い磁気シールド特性を得ることができる。また本
発明の製造法によれば、上記のような長所を有する底付
き筒形容器や底無し筒形で直径または軸長方向にサイズ
の大きな物を容易に作ることが可能になり、その工業的
な利用価値は非常に高いものである。
【図1】金属間化合物系超電導層と常電導金属層が交互
に多層化された底付き円筒容器を示す図。
に多層化された底付き円筒容器を示す図。
【図2】磁場中にある底無し超電導円筒体に超電導遮蔽
電流が流れて円筒体内部を磁気シールドしているところ
を示す図。
電流が流れて円筒体内部を磁気シールドしているところ
を示す図。
【図3】Cu−Sn合金管とNb管を同心状に交互に多
層化し、中心にCu−Sn合金棒10′を配した円柱状
複合体を示す図。
層化し、中心にCu−Sn合金棒10′を配した円柱状
複合体を示す図。
【図4】図3の複合体を熱間押出しによって縮径した
後、内部のCu−Sn合金芯部に穴を穿孔して作った底
無し多層円筒を示す図。
後、内部のCu−Sn合金芯部に穴を穿孔して作った底
無し多層円筒を示す図。
【図5】(a)はNb3 Snテープを円筒状ボビンに螺
旋状に巻き付け、テープ間隙に半田を含浸させてつくっ
た底無し円筒を示し、(b)はその一部断面拡大図。
旋状に巻き付け、テープ間隙に半田を含浸させてつくっ
た底無し円筒を示し、(b)はその一部断面拡大図。
【図6】(a)は一端が一部穴のあいた底を有し、他端
は開放された円筒を示し、(b)は一端が一部穴のあい
た底を有し、他端は完全な底を有する円筒を示す図。
は開放された円筒を示し、(b)は一端が一部穴のあい
た底を有し、他端は完全な底を有する円筒を示す図。
【図7】(a)はX金属板とYが成分をなす金属板を交
互に積層して筐体状中空体に挿入しているところ、
(b)はX金属板とYが一成分をなす金属板を交互に積
層し、かつそれらの全界面に超電導層X3 Yを形成させ
るための触媒作用を有する金属板を挿入したものを筐体
状中空体に挿入しているところを示す図。
互に積層して筐体状中空体に挿入しているところ、
(b)はX金属板とYが一成分をなす金属板を交互に積
層し、かつそれらの全界面に超電導層X3 Yを形成させ
るための触媒作用を有する金属板を挿入したものを筐体
状中空体に挿入しているところを示す図。
【図8】(a)はX金属円筒とYが成分をなす金属円筒
を交互に積層して、同心状の2個の円筒状中空体の間隙
に挿入しているところ、(b)はX金属円筒とYが成分
をなす金属円筒を交互に積層し、かつそれらの全界面に
超電導層X3 Yを形成させるための触媒作用を有する金
属円筒を挿入したものを円筒状中空体に挿入していると
ころを示す図。
を交互に積層して、同心状の2個の円筒状中空体の間隙
に挿入しているところ、(b)はX金属円筒とYが成分
をなす金属円筒を交互に積層し、かつそれらの全界面に
超電導層X3 Yを形成させるための触媒作用を有する金
属円筒を挿入したものを円筒状中空体に挿入していると
ころを示す図。
【図9】底付き円筒容器を超電導コイルの中空部に置
き、円筒容器中心部にはホール素子を配して外部から軸
に平行な磁場を印加させた時の超電導磁気シールドを測
定している要領を示す図。
き、円筒容器中心部にはホール素子を配して外部から軸
に平行な磁場を印加させた時の超電導磁気シールドを測
定している要領を示す図。
1 底付き円筒容器形状をした多層金属間化合物系
超電導磁気シールド体 1′ 部分的に穴のあいた底を有する円筒 1″ 1の底付き円筒の開口端側に部分的に穴のあい
た底が附いた円筒 2 X金属元素からなる層 3 Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合
金からなる層 4 組成X3 Yなる金属間化合物系超電導層 5 多層複合板 6 底付き円筒容器の底 6′ 部分的に
穴のあいた底 7 底無し円筒体 8 外部磁場 9 超電導遮蔽電流 10 Cu−Sn合金管 10′ Cu−S
n合金棒 11 Nb管 12 熱間押出
し用多層複合円柱 13 底無し多層円筒 14 Nb3 S
nテープ 15 ボビン 16 半田 17 Nb3 Snテープを巻き付けた円筒 18 底にあいた穴 19 開口端 20 筐体状中空体 21 X金属元
素からなる板 22 Y金属元素からなる板またはYが成分をなす合
金板 23 組成X3 Yなる金属間化合物形成の際の触媒作
用を有する金属板 24 同心状に積層した直径の異なる2個の円筒のう
ち外側の円筒 24′ 同心状に積層した直径の異なる2個の円筒のう
ち内側の円筒 24″ 金属の円形棒 25 X金属元素からなる円筒 26 Y金属元素からなる円筒またはYが成分をなす
合金円筒 27 組成X3 Yなる金属間化合物形成の際の触媒作
用を有する金属円筒 28 超電導コイル 29 円筒容器
の中心軸 30 コイルの発生する磁場 31 ホール素
子
超電導磁気シールド体 1′ 部分的に穴のあいた底を有する円筒 1″ 1の底付き円筒の開口端側に部分的に穴のあい
た底が附いた円筒 2 X金属元素からなる層 3 Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合
金からなる層 4 組成X3 Yなる金属間化合物系超電導層 5 多層複合板 6 底付き円筒容器の底 6′ 部分的に
穴のあいた底 7 底無し円筒体 8 外部磁場 9 超電導遮蔽電流 10 Cu−Sn合金管 10′ Cu−S
n合金棒 11 Nb管 12 熱間押出
し用多層複合円柱 13 底無し多層円筒 14 Nb3 S
nテープ 15 ボビン 16 半田 17 Nb3 Snテープを巻き付けた円筒 18 底にあいた穴 19 開口端 20 筐体状中空体 21 X金属元
素からなる板 22 Y金属元素からなる板またはYが成分をなす合
金板 23 組成X3 Yなる金属間化合物形成の際の触媒作
用を有する金属板 24 同心状に積層した直径の異なる2個の円筒のう
ち外側の円筒 24′ 同心状に積層した直径の異なる2個の円筒のう
ち内側の円筒 24″ 金属の円形棒 25 X金属元素からなる円筒 26 Y金属元素からなる円筒またはYが成分をなす
合金円筒 27 組成X3 Yなる金属間化合物形成の際の触媒作
用を有する金属円筒 28 超電導コイル 29 円筒容器
の中心軸 30 コイルの発生する磁場 31 ホール素
子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 勉 神奈川県川崎市中原区井田1618番地 新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内
Claims (6)
- 【請求項1】 NbまたはVのいずれかであるX金属元
素からなる層と、Sn,Ga,Si,Al,Geのうち
少なくとも1種以上であるY金属元素からなるかまたは
Yが成分をなす合金からなる層とが板の厚さ方向に少な
くとも1層以上ずつ交互に積層され、かつ両者のすべて
の界面にはX元素またはY元素の拡散により形成された
組成X3 Yなる金属間化合物系超電導層が存在する一体
化した多層複合板からなる、軸方向および周方向に切れ
目または接続部のない底付き筒形容器であることを特徴
とする金属間化合物系超電導磁気シールド体。 - 【請求項2】 XまたはYからなる金属、合金、または
金属間化合物の多層複合部との境界に、Nb,Ta,ま
たは両者の合金からなる層を介して最外層と最内層がC
uまたはAlのいずれかからなることを特徴とする金属
間化合物系超電導磁気シールド体。 - 【請求項3】 金属板からなる筐体状または円筒状中空
体中に、X金属元素からなる板1層以上と、Y金属元素
からなる板またはYが成分となす合金板1層以上を交互
に充填積層し、端部をふさいで溶接密封した後、必要に
応じて熱処理を加えつつ圧延または鍛造を施して一体化
した複合板とし、しかる後プレス成形または管圧延を施
して軸方向および周方向に切れ目または接続部のない底
付き筒形容器を製造し、必要に応じて底部を切断して底
無し筒形としてから熱処理を施して、両異種金属層の界
面に組成X3 Yなる金属間化合物系超電導層を形成させ
ることを特徴とする金属間化合物系超電導磁気シールド
体の製造方法。 - 【請求項4】 金属からなる同心状に積層した2個の直
径の異なる円筒の間隙か、または最内側の円筒のかわり
に円形棒を置いた間隙に、X金属元素からなる円筒と、
Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金からな
る円筒各1層以上を、同心状に交互に積層してなる円筒
状複合体または柱状多層複合体を、必要に応じて熱処理
を加えつつ管圧延加工、スピニング加工、穿孔押出し加
工、穿孔ダイス引き抜き加工のうち1種類以上を用いて
軸方向および周方向に切れ目または接続部のない一体化
した底無し円筒としてから、熱処理を施して両異種金属
層の界面にX3 Yなる金属間化合物系超電導層を形成さ
せることを特徴とする金属間化合物系超電導磁気シール
ド体の製造方法。 - 【請求項5】 X金属元素からなる板または円筒1層以
上と、Y金属元素からなるかまたはYが成分をなす合金
からなる板または円筒1層以上を交互に充填積層する際
に、両者のすべての界面にCuの板または円筒を挿入す
ることを特徴とする請求項3又は4記載の金属間化合物
系超電導磁気シールド体の製造方法。 - 【請求項6】 金属板からなる筐体状または円筒状中空
体、または金属からなる同心状に積層した2個の直径の
異なる円筒、または最内側の円筒のかわりの円形棒がC
uまたはAlのいずれかで、これら中空体内面と充填さ
れる板または円筒の積層体との間にはすべてNb,Ta
または両者の合金のうちのいずれかからなる板または円
筒を挿入することを特徴とする請求項3,4又は5記載
の金属間化合物系超電導磁気シールド体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043207A JPH05243778A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 金属間化合物系超電導磁気シールド体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043207A JPH05243778A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 金属間化合物系超電導磁気シールド体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05243778A true JPH05243778A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12657479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4043207A Pending JPH05243778A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 金属間化合物系超電導磁気シールド体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05243778A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002367799A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-20 | Nippon Steel Corp | 超電導クラッド成形体の製造方法およびその方法で製造された超電導クラッド成形体 |
| JP2013038262A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 超電導磁気シールド体 |
| CN113038813A (zh) * | 2021-03-05 | 2021-06-25 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种用于强磁场的屏蔽装置 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4043207A patent/JPH05243778A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002367799A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-20 | Nippon Steel Corp | 超電導クラッド成形体の製造方法およびその方法で製造された超電導クラッド成形体 |
| JP2013038262A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 超電導磁気シールド体 |
| CN113038813A (zh) * | 2021-03-05 | 2021-06-25 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种用于强磁场的屏蔽装置 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19991130 |