JPH05246782A - 準化学量論的窒化ジルコニウム被覆 - Google Patents
準化学量論的窒化ジルコニウム被覆Info
- Publication number
- JPH05246782A JPH05246782A JP4206170A JP20617092A JPH05246782A JP H05246782 A JPH05246782 A JP H05246782A JP 4206170 A JP4206170 A JP 4206170A JP 20617092 A JP20617092 A JP 20617092A JP H05246782 A JPH05246782 A JP H05246782A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zirconium nitride
- coating
- nitride coating
- nitrogen
- substoichiometric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 固体粒子衝撃に対して良好な耐摩耗性耐侵食
性を有する窒化ジルコニウム被覆を提供する。 【構成】 被覆中の窒素の原子百分率が約４１〜４８％
である準化学量論的窒化ジルコニウム被覆から構成す
る。
性を有する窒化ジルコニウム被覆を提供する。 【構成】 被覆中の窒素の原子百分率が約４１〜４８％
である準化学量論的窒化ジルコニウム被覆から構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、被覆の窒素含量が４１〜４８
原子重量％である準化学量論的窒化ジルコニウムからな
る耐摩耗性耐侵食性被覆に関する。
原子重量％である準化学量論的窒化ジルコニウムからな
る耐摩耗性耐侵食性被覆に関する。
【０００２】
【発明の背景】侵食摩耗に対する抵抗性は、通常、摩耗
部材の硬度に関係する。いくらかの製品は、製品の表面
に対して種々の寸法及び硬度の粒子が様々な角度で推進
されるところの固体粒子侵食を受ける。例えば、暴風中
に砂漠を走行する自動車は、様々な速度で飛行して自動
車に衝突する種々の寸法の固体砂粒子に遭遇する。もし
かかる粒子の寸法が大きくそして粒子の速度が高いと、
自動車の塗膜は、欠けたり又は穴ぼこだらけにされる場
合がある。砂ぼこり中で作動するターボ機械では、この
固体粒子侵食は苛酷な問題である。最近になって、良好
な硬度特性を有する保護層を提供するために窒化チタン
被覆及び窒化ジルコニウム被覆の如き物理的及び化学的
蒸着被覆が使用されている。これらの被覆は、高い及び
低い両方の衝撃角度においてＡｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 粒
子に対する良好な耐侵食性を有することが判明した。こ
れらの被覆は高い硬度特性を有するけれども、これらは
固有的に脆弱挙動を示し、そして通常の衝撃におけるそ
れらの耐侵食性は侵食材の硬度や粒度の増大につれて著
しく低下する。製品の被覆面への固体粒子侵食材の動的
衝撃は、衝撃箇所の周囲に横亀裂及び（又は）正中亀裂
を形成する可能性がある。正中亀裂（メジアンクラッ
ク）は物質の強度低下の原因になり、これに対して横亀
裂（これは、基体表面に対して平行に衝撃中心から生長
し、次いで被覆表面を通って広がる）は、固体粒子衝撃
侵食中に失われる物質の大部分の原因になる。９０°衝
撃角度におけるこれらの被覆の固体粒子衝撃侵食は、主
として脆性破損によるものである。薄い被覆は基体のス
ポーリング（ｓｐａｌｌｉｎｇ）や露出に対して敏感で
あり、これは製品の早期破損をもたらす可能性がある。
通常の技術によって適用された被覆が粒子衝撃にさらさ
れると、一般に被覆にピンホール及び（又は）横スポー
リングピットが生じる。被覆材料が一旦亀裂すると、比
較的小さい粒子による追加的な衝撃でさえも被覆材料に
溝を形成する原因となる。ターボ機械では、この溝形成
はターボ機械の全性能に大きな影響を及ぼす可能性があ
る。
部材の硬度に関係する。いくらかの製品は、製品の表面
に対して種々の寸法及び硬度の粒子が様々な角度で推進
されるところの固体粒子侵食を受ける。例えば、暴風中
に砂漠を走行する自動車は、様々な速度で飛行して自動
車に衝突する種々の寸法の固体砂粒子に遭遇する。もし
かかる粒子の寸法が大きくそして粒子の速度が高いと、
自動車の塗膜は、欠けたり又は穴ぼこだらけにされる場
合がある。砂ぼこり中で作動するターボ機械では、この
固体粒子侵食は苛酷な問題である。最近になって、良好
な硬度特性を有する保護層を提供するために窒化チタン
被覆及び窒化ジルコニウム被覆の如き物理的及び化学的
蒸着被覆が使用されている。これらの被覆は、高い及び
低い両方の衝撃角度においてＡｌ2 Ｏ3 及びＳｉＯ2 粒
子に対する良好な耐侵食性を有することが判明した。こ
れらの被覆は高い硬度特性を有するけれども、これらは
固有的に脆弱挙動を示し、そして通常の衝撃におけるそ
れらの耐侵食性は侵食材の硬度や粒度の増大につれて著
しく低下する。製品の被覆面への固体粒子侵食材の動的
衝撃は、衝撃箇所の周囲に横亀裂及び（又は）正中亀裂
を形成する可能性がある。正中亀裂（メジアンクラッ
ク）は物質の強度低下の原因になり、これに対して横亀
裂（これは、基体表面に対して平行に衝撃中心から生長
し、次いで被覆表面を通って広がる）は、固体粒子衝撃
侵食中に失われる物質の大部分の原因になる。９０°衝
撃角度におけるこれらの被覆の固体粒子衝撃侵食は、主
として脆性破損によるものである。薄い被覆は基体のス
ポーリング（ｓｐａｌｌｉｎｇ）や露出に対して敏感で
あり、これは製品の早期破損をもたらす可能性がある。
通常の技術によって適用された被覆が粒子衝撃にさらさ
れると、一般に被覆にピンホール及び（又は）横スポー
リングピットが生じる。被覆材料が一旦亀裂すると、比
較的小さい粒子による追加的な衝撃でさえも被覆材料に
溝を形成する原因となる。ターボ機械では、この溝形成
はターボ機械の全性能に大きな影響を及ぼす可能性があ
る。
【０００３】弾性−塑性理論を基にすると、粘り強さ及
び硬度は侵食挙動を支配する主要な特性である。高い硬
度程、低い及び高い両方の衝撃角度において耐侵食性を
高め、これに対して高い粘り強さ程、脆性破損の受けや
すさを低下させそして９０°耐侵食性を著しく向上させ
る。耐侵食性被覆は、硬質でしかも粘り強くなければな
らない。しかしながら、硬度及び粘り強さは、一般には
硬質材料では相反している。通常、高い硬度には大きい
脆性が伴なう。多層硬質化合物材料は、高い硬度及び高
い粘り強さを同時に有することが判明している。高い硬
度は硬質化合物の固有特性であり、そして高い粘り強さ
は２つの異なる硬質化合物層間における凝集又は部分凝
集境界面の形成によるものとされる。セラミック材料で
は、硬度及び粘り強さは、典型的には、微粒子ミクロ構
造によって最大限にされる。本件出願と同時に出願され
た「非化学量論的窒化チタン被覆」と題する米国特許願
には、非化学量論的窒化チタンを含む耐摩耗性耐腐食性
被覆が開示されている。
び硬度は侵食挙動を支配する主要な特性である。高い硬
度程、低い及び高い両方の衝撃角度において耐侵食性を
高め、これに対して高い粘り強さ程、脆性破損の受けや
すさを低下させそして９０°耐侵食性を著しく向上させ
る。耐侵食性被覆は、硬質でしかも粘り強くなければな
らない。しかしながら、硬度及び粘り強さは、一般には
硬質材料では相反している。通常、高い硬度には大きい
脆性が伴なう。多層硬質化合物材料は、高い硬度及び高
い粘り強さを同時に有することが判明している。高い硬
度は硬質化合物の固有特性であり、そして高い粘り強さ
は２つの異なる硬質化合物層間における凝集又は部分凝
集境界面の形成によるものとされる。セラミック材料で
は、硬度及び粘り強さは、典型的には、微粒子ミクロ構
造によって最大限にされる。本件出願と同時に出願され
た「非化学量論的窒化チタン被覆」と題する米国特許願
には、非化学量論的窒化チタンを含む耐摩耗性耐腐食性
被覆が開示されている。
【０００４】目下出願中の米国特許願第４０５，１３１
号には、良好な耐摩耗性及び耐侵食性を有する多層被覆
が開示されている。かかる多層被覆は、少なくとも１つ
の層が隣接層中に含有される窒素よりも少なくとも２原
子％異なる窒素を含有するような窒化物含有化合物の交
互ラメラ層からなる。
号には、良好な耐摩耗性及び耐侵食性を有する多層被覆
が開示されている。かかる多層被覆は、少なくとも１つ
の層が隣接層中に含有される窒素よりも少なくとも２原
子％異なる窒素を含有するような窒化物含有化合物の交
互ラメラ層からなる。
【０００５】従来技術の文献には、窒化ジルコニウム被
覆の耐侵食性は微結晶粒度の減小と共に向上したこと及
び超化学量論的ＺｎＮ1.13（５３原子％の窒素）被覆は
良好な摩耗特性を有することが開示されている。
覆の耐侵食性は微結晶粒度の減小と共に向上したこと及
び超化学量論的ＺｎＮ1.13（５３原子％の窒素）被覆は
良好な摩耗特性を有することが開示されている。
【０００６】本発明の目的は、固体粒子衝撃に対して良
好な耐摩耗性及び（又は）侵食特性を有する準化学量論
的窒化ジルコニウム被覆を提供することである。
好な耐摩耗性及び（又は）侵食特性を有する準化学量論
的窒化ジルコニウム被覆を提供することである。
【０００７】本発明の他の目的は、基体に対して被覆中
の窒素原子％が４１〜４８％の間である準化学量論的窒
化ジルコニウム被覆を備えることである。
の窒素原子％が４１〜４８％の間である準化学量論的窒
化ジルコニウム被覆を備えることである。
【０００８】本発明の上記目的及び他の目的並びに利益
は、次の説明を考慮すると明らかになるであろう。
は、次の説明を考慮すると明らかになるであろう。
【０００９】
【発明の概要】本発明は、被覆中の窒素の原子百分率が
４１〜４８％であるところの基体用の準化学量論的窒化
ジルコニウム被覆に関するものである。好ましくは、準
化学量論的窒化ジルコニウム被覆中の窒素の原子百分率
は４２〜４５％であってよく、そして最とも好ましくは
約４３〜４４％である。本発明の被覆は、良好な摩耗及
び侵食特性を有し、そして回折面（１１１）に対して垂
直な方向で測定して約１２〜２４ｎｍ好ましくは約１３
〜２０ｎｍの微結晶粒度を有するべきである。
４１〜４８％であるところの基体用の準化学量論的窒化
ジルコニウム被覆に関するものである。好ましくは、準
化学量論的窒化ジルコニウム被覆中の窒素の原子百分率
は４２〜４５％であってよく、そして最とも好ましくは
約４３〜４４％である。本発明の被覆は、良好な摩耗及
び侵食特性を有し、そして回折面（１１１）に対して垂
直な方向で測定して約１２〜２４ｎｍ好ましくは約１３
〜２０ｎｍの微結晶粒度を有するべきである。
【００１０】基体に準化学量論的窒化ジルコニウム被覆
を生成させるための方法は、（ａ）ジルコニウム基材タ
ーゲット及び窒素含有ガス混合物を収容する室に基体を
入れ、（ｂ）ジルコニウム基材ターゲットからジルコニ
ウムを蒸発させてジルコニウム蒸気を生成し、しかして
これを窒素含有ガス混合物中の窒素と反応させ、そして
基体上に４１〜４８原子％の窒素含量を有する窒化ジル
コニウム層を形成するように窒素対ジルコニウム比を調
整する、各工程を含む。
を生成させるための方法は、（ａ）ジルコニウム基材タ
ーゲット及び窒素含有ガス混合物を収容する室に基体を
入れ、（ｂ）ジルコニウム基材ターゲットからジルコニ
ウムを蒸発させてジルコニウム蒸気を生成し、しかして
これを窒素含有ガス混合物中の窒素と反応させ、そして
基体上に４１〜４８原子％の窒素含量を有する窒化ジル
コニウム層を形成するように窒素対ジルコニウム比を調
整する、各工程を含む。
【００１１】
【発明の詳細な記述】基体に窒化ジルコニウム被覆を形
成するための１つの好ましい具体例は、（ａ）アノード
を有しそして窒素含有ガス混合物と一緒にジルコニウム
基材カソードを収容する蒸着室に基体を入れ、（ｂ）カ
ソード及びアノードを横切って電圧を印加して電流を設
定し、しかしてジルコニウム基材カソードからジルコニ
ウムを蒸発させてジルコニウム蒸気を生成し、これを窒
素含有ガス混合物中の窒素と反応させ、そして（ｃ）基
体に４１〜４８原子％の窒素含量を有する窒化ジルコニ
ウム層を生成するように窒素対ジルコニウム比を調整す
る、各工程を含む。
成するための１つの好ましい具体例は、（ａ）アノード
を有しそして窒素含有ガス混合物と一緒にジルコニウム
基材カソードを収容する蒸着室に基体を入れ、（ｂ）カ
ソード及びアノードを横切って電圧を印加して電流を設
定し、しかしてジルコニウム基材カソードからジルコニ
ウムを蒸発させてジルコニウム蒸気を生成し、これを窒
素含有ガス混合物中の窒素と反応させ、そして（ｃ）基
体に４１〜４８原子％の窒素含量を有する窒化ジルコニ
ウム層を生成するように窒素対ジルコニウム比を調整す
る、各工程を含む。
【００１２】基体にＺｒＮx 基材組成物を被覆すると同
時に基体をアルゴンイオンの如き不活性ガスイオンで衝
撃すると、本発明の準化学量論的被覆のための微結晶が
生じると考えられる。本明細書において、窒化ジルコニ
ウムの準化学量論的被覆とは、窒素含量が５０原子％よ
りも低い被覆を意味する。
時に基体をアルゴンイオンの如き不活性ガスイオンで衝
撃すると、本発明の準化学量論的被覆のための微結晶が
生じると考えられる。本明細書において、窒化ジルコニ
ウムの準化学量論的被覆とは、窒素含量が５０原子％よ
りも低い被覆を意味する。
【００１３】好ましくは、窒素含有ガス混合物は、アル
ゴン−窒素、クリプトン−窒素、ヘリウム−窒素、キセ
ノン−窒素、ネオン−窒素等であってよい。本発明の窒
化ジルコニウム被覆は、アーク法、ｄｃ及びｒｆマグネ
トロンスパッター、反応性イオンめっき等の如き通常の
物理的蒸着技術を使用することによって付着させること
ができる。
ゴン−窒素、クリプトン−窒素、ヘリウム−窒素、キセ
ノン−窒素、ネオン−窒素等であってよい。本発明の窒
化ジルコニウム被覆は、アーク法、ｄｃ及びｒｆマグネ
トロンスパッター、反応性イオンめっき等の如き通常の
物理的蒸着技術を使用することによって付着させること
ができる。
【００１４】好ましくは、基体は、被覆が基体に対する
強い結合を形成することができるようにジルコニウム含
有外面を有することができる。ジルコニウム含有外層
は、好ましくは０．１〜６．０ミクロン厚そしてより好
ましくは０．２〜４．０ミクロン厚であるべきである。
強い結合を形成することができるようにジルコニウム含
有外面を有することができる。ジルコニウム含有外層
は、好ましくは０．１〜６．０ミクロン厚そしてより好
ましくは０．２〜４．０ミクロン厚であるべきである。
【００１５】本発明の窒化ジルコニウム被覆の厚さは例
えば１〜４０ミクロン厚のように大きく変動してよい
が、摩耗用途向けには被覆の好ましい厚さは１〜１０ミ
クロンそして侵食用途向けには被覆は８〜４０ミクロン
であればよい。
えば１〜４０ミクロン厚のように大きく変動してよい
が、摩耗用途向けには被覆の好ましい厚さは１〜１０ミ
クロンそして侵食用途向けには被覆は８〜４０ミクロン
であればよい。
【００１６】本発明の窒化ジルコニウム被覆は、チタ
ン、鉄、アルミニウム、ニッケル、コバルト及びこれら
の合金の如き基体の被覆に理想的に適合する。ある用途
では、基体に本発明の被覆を付着させる前にジルコニウ
ム含有層を被覆することができる。と云うのは、下塗
（アンダーコート）は、被覆に対して良好な密着性を効
果的に提供するからである。
ン、鉄、アルミニウム、ニッケル、コバルト及びこれら
の合金の如き基体の被覆に理想的に適合する。ある用途
では、基体に本発明の被覆を付着させる前にジルコニウ
ム含有層を被覆することができる。と云うのは、下塗
（アンダーコート）は、被覆に対して良好な密着性を効
果的に提供するからである。
【００１７】
【実施例】以下の実施例は、本発明を単に例示するもの
であって、いかなる点においても本発明を限定するもの
ではない。例１ 物理的蒸着であるアーク蒸着法を使用してチタン合金基
体に窒化ジルコニウム被覆を付着させた。付着前に、蒸
着室を７×１０-4Ｐａ以下の圧力に排気させ、次いでア
ルゴンを０．７Ｐａまで逆充填した。被覆しようとする
基体を１Ｋｖｄｃの負のバイアスで３０〜６０分間スパ
ッター浄化して表面の汚染物を除去した。その後に、ジ
ルコニウムカソード及びアノードとして働く室を横切っ
て２００〜３５０アンペア直流アークを起こし、しかし
てアルゴン及び窒素環境中において約４Ｐａの全圧でジ
ルコニウムカソードからジルコニウムを蒸発させた。イ
オン化したジルコニウム蒸気は、Ｎ2 イオンと反応し次
いで基体上に窒化ジルコニウム被覆を形成した。各被覆
は、蒸着間に窒素ガスの流量を調節することによって形
成された。具体的に言えば、窒素ガス流量は約７０標準
ｃｍ3 ／分から９０標準ｃｍ3 ／分（ｓｃｃｍ）まで変
動され、そして全アルゴンガス流れは約２４０ｓｃｃｍ
で維持された。光高温計を使用して測定した蒸着温度は
４１０℃〜５２０℃の間であった。
であって、いかなる点においても本発明を限定するもの
ではない。例１ 物理的蒸着であるアーク蒸着法を使用してチタン合金基
体に窒化ジルコニウム被覆を付着させた。付着前に、蒸
着室を７×１０-4Ｐａ以下の圧力に排気させ、次いでア
ルゴンを０．７Ｐａまで逆充填した。被覆しようとする
基体を１Ｋｖｄｃの負のバイアスで３０〜６０分間スパ
ッター浄化して表面の汚染物を除去した。その後に、ジ
ルコニウムカソード及びアノードとして働く室を横切っ
て２００〜３５０アンペア直流アークを起こし、しかし
てアルゴン及び窒素環境中において約４Ｐａの全圧でジ
ルコニウムカソードからジルコニウムを蒸発させた。イ
オン化したジルコニウム蒸気は、Ｎ2 イオンと反応し次
いで基体上に窒化ジルコニウム被覆を形成した。各被覆
は、蒸着間に窒素ガスの流量を調節することによって形
成された。具体的に言えば、窒素ガス流量は約７０標準
ｃｍ3 ／分から９０標準ｃｍ3 ／分（ｓｃｃｍ）まで変
動され、そして全アルゴンガス流れは約２４０ｓｃｃｍ
で維持された。光高温計を使用して測定した蒸着温度は
４１０℃〜５２０℃の間であった。
【００１８】スパッター質量中性分光測定法(sputtered
mass neutral spectrometry) によって、各試料被覆中
の窒素含量を測定した。低圧ｒｆプラズマから発生され
たイオンによって、被覆の中性原子をその表面からプラ
ズマ中に放出（スパッタリング）させた。次いで、中性
原子を強力な電子衝撃によってイオン化した。その後
に、これらのイオンを分析しそして四重極質量分光計に
おいて検出した。測定した面積は８ｍｍ直径の円であ
り、そしてスパッタリングした全深さは約５ミクロンで
あった。各試料被覆の窒素含量を以下の表に示す。
mass neutral spectrometry) によって、各試料被覆中
の窒素含量を測定した。低圧ｒｆプラズマから発生され
たイオンによって、被覆の中性原子をその表面からプラ
ズマ中に放出（スパッタリング）させた。次いで、中性
原子を強力な電子衝撃によってイオン化した。その後
に、これらのイオンを分析しそして四重極質量分光計に
おいて検出した。測定した面積は８ｍｍ直径の円であ
り、そしてスパッタリングした全深さは約５ミクロンで
あった。各試料被覆の窒素含量を以下の表に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】試料被覆の各々の微結晶粒度は、次の如き
シェーラー(Scherrer)の式 Ｄhk1 ＝Ｋλ／βｃｏｓθ ［ここで、Ｄhk1 は反射面（ｈｋ１）に対して垂直な方
向における微結晶の寸法であり、Ｋは微結晶の形状ファ
クター（この場合には１と仮定される）であり、λはＸ
線の波長であり、θは入射の視射角でありそしてβは半
最大幅である］によって測定された。典型的には、実験
的に観察される幅（β）は、粒度効果によるＢ及び計器
の広がりから生じるｂからなり、即ち、β＝Ｂ＋ｂであ
る。計器の広がりｂは、数ミクロンよりも大きい粒度を
持つＺｒＮ粉末を使用して測定された。微結晶粒度Ｄ
111 を測定したが、この結果は表に示されている。この
データは、微結晶粒度Ｄ111 が窒素含量の減少と共に窒
素５０原子％における３２．５ｎｍから窒素４０．５原
子％における１０．６ｎｍに減小したことを示してい
る。
シェーラー(Scherrer)の式 Ｄhk1 ＝Ｋλ／βｃｏｓθ ［ここで、Ｄhk1 は反射面（ｈｋ１）に対して垂直な方
向における微結晶の寸法であり、Ｋは微結晶の形状ファ
クター（この場合には１と仮定される）であり、λはＸ
線の波長であり、θは入射の視射角でありそしてβは半
最大幅である］によって測定された。典型的には、実験
的に観察される幅（β）は、粒度効果によるＢ及び計器
の広がりから生じるｂからなり、即ち、β＝Ｂ＋ｂであ
る。計器の広がりｂは、数ミクロンよりも大きい粒度を
持つＺｒＮ粉末を使用して測定された。微結晶粒度Ｄ
111 を測定したが、この結果は表に示されている。この
データは、微結晶粒度Ｄ111 が窒素含量の減少と共に窒
素５０原子％における３２．５ｎｍから窒素４０．５原
子％における１０．６ｎｍに減小したことを示してい
る。
【００２１】試料ＺｒＮx 被覆の残留応力は、格子間隔
の変動（歪）を基にして標準ｓｉｎ2 ψ法を使用して測
定された。次いで、４０．６×１０6 ｐｓｉのヤングモ
ジュラス及び０．２５のポアソン比を仮定してＺｒＮx
試料被覆の応力を測定した。ＺｒＮx 試料被覆のすべて
において残留圧縮応力が認められたが、そのデータは表
に示されている。圧縮応力の大きさは、窒素含量の減少
と共に直線的に増大するようであった。
の変動（歪）を基にして標準ｓｉｎ2 ψ法を使用して測
定された。次いで、４０．６×１０6 ｐｓｉのヤングモ
ジュラス及び０．２５のポアソン比を仮定してＺｒＮx
試料被覆の応力を測定した。ＺｒＮx 試料被覆のすべて
において残留圧縮応力が認められたが、そのデータは表
に示されている。圧縮応力の大きさは、窒素含量の減少
と共に直線的に増大するようであった。
【００２２】ＺｒＮx 試料被覆の各々の被覆したままの
表面に対して、金相学的に研摩した後に、ビッカース硬
度計を使用して微小硬度測定を０．１Ｋｇの荷重で１５
秒間行なった。得られたデータを表に示してあるが、こ
れは、ＺｒＮx の微小硬度が窒素含量の減少と共にＮの
５０原子％における２，０３７Ｋｇ力／ｍｍ2 （Ｋｇｆ
ｍｍ-2）からＮの４３．２原子％における２，５８８Ｋ
ｇｆｍｍ-2の最大値まで増加し次いでＮの４０．５原子
％における２，３１８Ｋｇｆまで低下したことを示して
いる。
表面に対して、金相学的に研摩した後に、ビッカース硬
度計を使用して微小硬度測定を０．１Ｋｇの荷重で１５
秒間行なった。得られたデータを表に示してあるが、こ
れは、ＺｒＮx の微小硬度が窒素含量の減少と共にＮの
５０原子％における２，０３７Ｋｇ力／ｍｍ2 （Ｋｇｆ
ｍｍ-2）からＮの４３．２原子％における２，５８８Ｋ
ｇｆｍｍ-2の最大値まで増加し次いでＮの４０．５原子
％における２，３１８Ｋｇｆまで低下したことを示して
いる。
【００２３】ＺｒＮx 試料被覆を、室温において２０°
及び９０°の両方の衝突角度で５０ミクロンアルミナ侵
食にさらした。２９０ＫＰａ（４２ｐｓｉｇ）の圧力下
にある圧縮空気を使用して、５ｍｍ直径のアルミナノズ
ルを経てアルミナ粒子を送出した。ノズル対試験片の距
離を１０ｃｍに維持した。２０°及び９０°侵食に対し
て用いたアルミナ粒子の量は、それぞれ、１，８００ｇ
及び４００ｇであった。相対的耐侵食性は、準化学量論
的ＺｒＮx 被覆の全重量損失を化学量論的ＺｒＮ被覆の
それと比較することによって計算された（ここで、耐侵
食性は２０°及び９０°の両方の衝撃角度において１と
仮定した）。得られたデータを表に示してあるが、これ
は、２０°及び９０°における最大耐侵食性がＮの約４
２〜４５原子％（これは最大微小硬度と最小結晶粒度と
の組み合わせを有する領域に相当する）において生じた
ことを示している。
及び９０°の両方の衝突角度で５０ミクロンアルミナ侵
食にさらした。２９０ＫＰａ（４２ｐｓｉｇ）の圧力下
にある圧縮空気を使用して、５ｍｍ直径のアルミナノズ
ルを経てアルミナ粒子を送出した。ノズル対試験片の距
離を１０ｃｍに維持した。２０°及び９０°侵食に対し
て用いたアルミナ粒子の量は、それぞれ、１，８００ｇ
及び４００ｇであった。相対的耐侵食性は、準化学量論
的ＺｒＮx 被覆の全重量損失を化学量論的ＺｒＮ被覆の
それと比較することによって計算された（ここで、耐侵
食性は２０°及び９０°の両方の衝撃角度において１と
仮定した）。得られたデータを表に示してあるが、これ
は、２０°及び９０°における最大耐侵食性がＮの約４
２〜４５原子％（これは最大微小硬度と最小結晶粒度と
の組み合わせを有する領域に相当する）において生じた
ことを示している。
【００２４】図面を説明すると、図１は、本発明の幾つ
かの試料被覆について残留圧縮応力対窒素含量のプロッ
トを示している。図２は、本発明の試料被覆について微
結晶粒度対残留圧縮応力のプロットを示している。図３
は、本発明の試料被覆について微小硬度対窒素含量のプ
ロットを示している。図４は、本発明の試料被覆につい
て耐侵食性対窒素含量のプロットを示している。図５
は、本発明の試料被覆について耐侵食性対微結晶粒度の
プロットを示している。図６は、本発明の試料被覆につ
いて耐侵食性対微小硬度のプロットを示している。図７
は、本発明の幾つかの試料被覆についてＮ濃度の函数と
しての組織係数のプロットを示している。
かの試料被覆について残留圧縮応力対窒素含量のプロッ
トを示している。図２は、本発明の試料被覆について微
結晶粒度対残留圧縮応力のプロットを示している。図３
は、本発明の試料被覆について微小硬度対窒素含量のプ
ロットを示している。図４は、本発明の試料被覆につい
て耐侵食性対窒素含量のプロットを示している。図５
は、本発明の試料被覆について耐侵食性対微結晶粒度の
プロットを示している。図６は、本発明の試料被覆につ
いて耐侵食性対微小硬度のプロットを示している。図７
は、本発明の幾つかの試料被覆についてＮ濃度の函数と
しての組織係数のプロットを示している。
【００２５】図１では表からの試料被覆について残留圧
縮応力対窒素含量のプロットが表わされており、そして
このデータは準化学量論的ＺｒＮx 被覆の残留圧縮応力
が窒素含量の増大と共に直線的に低下したことを例示し
ている。
縮応力対窒素含量のプロットが表わされており、そして
このデータは準化学量論的ＺｒＮx 被覆の残留圧縮応力
が窒素含量の増大と共に直線的に低下したことを例示し
ている。
【００２６】図２は、微結晶粒度対残留圧縮応力のプロ
ットを示している。微結晶粒度が小さい程、増大した応
力を補っても余りがあると思われる。図３では、微小硬
度対窒素含量のプロットは、最大微小硬度がＮ含量の４
２〜４５原子％間で生じることを示している。図４は、
最大耐侵食性が４２〜４４原子％のＮ含量で表わされる
ところの耐侵食性対窒素含量のプロットを示している。
図５は、１５ｎｍ前後で最適微結晶粒度が示されている
ところの耐侵食性対微結晶粒度のプロットを示してい
る。
ットを示している。微結晶粒度が小さい程、増大した応
力を補っても余りがあると思われる。図３では、微小硬
度対窒素含量のプロットは、最大微小硬度がＮ含量の４
２〜４５原子％間で生じることを示している。図４は、
最大耐侵食性が４２〜４４原子％のＮ含量で表わされる
ところの耐侵食性対窒素含量のプロットを示している。
図５は、１５ｎｍ前後で最適微結晶粒度が示されている
ところの耐侵食性対微結晶粒度のプロットを示してい
る。
【００２７】図６は、耐侵食性が微小硬度の増大と共に
向上しているところの耐侵食性対微小硬度のプロットを
示している。
向上しているところの耐侵食性対微小硬度のプロットを
示している。
【００２８】図７は、組織係数が被覆中のＮ濃度の函数
であることを示している。被覆は、４１．５〜４８原子
％のＮ含量において＜１１１＞及び＜３１１＞の好まし
い配向の組み合わせを示した。最とも好ましい被覆は、
＜３１１＞好ましい配向が＜１１１＞好ましい配向より
も優勢であるところの好ましい配向＜１１１＞及び＜３
１１＞の組み合わせを有する。
であることを示している。被覆は、４１．５〜４８原子
％のＮ含量において＜１１１＞及び＜３１１＞の好まし
い配向の組み合わせを示した。最とも好ましい被覆は、
＜３１１＞好ましい配向が＜１１１＞好ましい配向より
も優勢であるところの好ましい配向＜１１１＞及び＜３
１１＞の組み合わせを有する。
【００２９】準化学量論的ＺｒＮ被覆系では、微小強度
及び微結晶粒度は、耐侵食性が微小硬度の向上及び微結
晶粒度の減小と共に向上するところの侵食挙動を制御す
る有力なパラメーターであると考えられる。もし４０．
５原子％の窒素を含有する被覆を除くと、耐侵食性と微
小硬度との間の直線的な関係を得ることができるだけで
ある（図６）。耐侵食性は、微結晶粒度の１２ｎｍへの
減小と共に向上した（図５）。１２ｎｍよりも有意に小
さい微結晶粒度では、耐侵食性の著しい低下が観察され
た。
及び微結晶粒度は、耐侵食性が微小硬度の向上及び微結
晶粒度の減小と共に向上するところの侵食挙動を制御す
る有力なパラメーターであると考えられる。もし４０．
５原子％の窒素を含有する被覆を除くと、耐侵食性と微
小硬度との間の直線的な関係を得ることができるだけで
ある（図６）。耐侵食性は、微結晶粒度の１２ｎｍへの
減小と共に向上した（図５）。１２ｎｍよりも有意に小
さい微結晶粒度では、耐侵食性の著しい低下が観察され
た。
【００３０】材料及び構造パラメーターに応じた侵食の
変動で生じる偏差を、主として、４０．５原子％の窒素
を含有する被覆に結び付けた。この被覆は、２，３１８
Ｋｇｆｍｍ-2の微小硬度、１０ｎｍの微結晶粒度、０．
７５％のマクロ歪及び４６６Ｋｓｉの残留圧縮応力を有
していた。微小硬度及び微結晶粒度のみを基にすると、
この被覆から適度に良好な侵食特性が予測されよう。し
かしながら、貧弱な侵食性能が観察された。かくして、
微小硬度及び微結晶粒度以外の他の材料特性例えば恐ら
くは過剰の未反応ジルコニウムによるものはこの被覆の
侵食性能に対して決定的な影響を及ぼしたと思われる。
変動で生じる偏差を、主として、４０．５原子％の窒素
を含有する被覆に結び付けた。この被覆は、２，３１８
Ｋｇｆｍｍ-2の微小硬度、１０ｎｍの微結晶粒度、０．
７５％のマクロ歪及び４６６Ｋｓｉの残留圧縮応力を有
していた。微小硬度及び微結晶粒度のみを基にすると、
この被覆から適度に良好な侵食特性が予測されよう。し
かしながら、貧弱な侵食性能が観察された。かくして、
微小硬度及び微結晶粒度以外の他の材料特性例えば恐ら
くは過剰の未反応ジルコニウムによるものはこの被覆の
侵食性能に対して決定的な影響を及ぼしたと思われる。
【００３１】本発明の特定の具体例について記載したけ
れども、本発明の精神から逸脱せずに様々な変更修正を
なすことができることを理解されたい。
れども、本発明の精神から逸脱せずに様々な変更修正を
なすことができることを理解されたい。
【図１】本発明の被覆の窒素含量に対する残留圧縮応力
のプロットである。
のプロットである。
【図２】本発明に従ったＺｒＮx 被覆の微結晶粒度に対
する残留圧縮応力のプロットである。
する残留圧縮応力のプロットである。
【図３】ＺｒＮx 被覆の窒素含量に対する微小硬度のプ
ロットである。
ロットである。
【図４】ＺｒＮx 被覆の窒素含量に対する耐侵食性のプ
ロットである。
ロットである。
【図５】ＺｒＮx 被覆の微結晶粒度に対する耐侵食性の
プロットである。
プロットである。
【図６】ＺｒＮx 被覆の微小硬度に対する耐侵食性のプ
ロットである。
ロットである。
【図７】種々のＺｒＮx 被覆の窒素含量に対する組織係
数のプロットである。
数のプロットである。
【図８】ＺｒＮx 被覆の窒素含量に対する組織係数のプ
ロットである。
ロットである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハーデン・ヘンリー・トルー アメリカ合衆国インディアナ州プレインフ ィールド、ウェスト・ウォールストリー ト・パイク487
Claims (11)
- 【請求項１】 被覆中の窒素の原子百分率が約４１〜４
８％である準化学量論的窒化ジルコニウム被覆。 - 【請求項２】 窒化ジルコニウムが約４２〜約４５原子
％の窒素を含有する請求項１記載の準化学量論的窒化ジ
ルコニウム被覆。 - 【請求項３】 窒化ジルコニウム被覆が約４３〜４４原
子％の窒素を含有する請求項１記載の準化学量論的窒化
ジルコニウム被覆。 - 【請求項４】 窒化ジルコニウム被覆が２，２００〜
２，６００ｋｇ力／ｍｍ2 の微小硬度を有する請求項１
記載の準化学量論的窒化ジルコニウム被覆。 - 【請求項５】 窒化ジルコニウム被覆が１２〜２４ｎｍ
の結晶粒度を有する請求項４記載の準化学量論的窒化ジ
ルコニウム被覆。 - 【請求項６】 窒化ジルコニウム被覆が１〜４０ミクロ
ン厚である請求項１記載の準化学量論的窒化ジルコニウ
ム被覆。 - 【請求項７】 窒化ジルコニウム被覆が１〜１０ミクロ
ン厚である請求項６記載の準化学量論的窒化ジルコニウ
ム被覆。 - 【請求項８】 窒化ジルコニウム被覆が８〜４０ミクロ
ン厚である請求項６記載の準化学量論的窒化ジルコニウ
ム被覆。 - 【請求項９】 チタン、鉄、アルミニウム、ニッケル、
コバルト及びこれらの合金よりなる群から選択される基
体に約４１〜約４８％の窒素原子百分率を有する準化学
量論的窒化ジルコニウム被覆を固着させてなる被覆を有
する被覆製品。 - 【請求項１０】 窒化ジルコニウム被覆中の窒素含量が
約４２〜約４５原子％であり、そして基体がチタン又は
チタン合金である請求項９記載の被覆製品。 - 【請求項１１】 窒化ジルコニウム被覆の厚さが１〜４
０ミクロン厚である請求項１０記載の被覆製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US728338 | 1991-07-11 | ||
| US07/728,338 US5242753A (en) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | Substoichiometric zirconium nitride coating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05246782A true JPH05246782A (ja) | 1993-09-24 |
| JP2646313B2 JP2646313B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=24926443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4206170A Expired - Fee Related JP2646313B2 (ja) | 1991-07-11 | 1992-07-10 | 準化学量論的窒化ジルコニウム被覆 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5242753A (ja) |
| EP (1) | EP0522872B1 (ja) |
| JP (1) | JP2646313B2 (ja) |
| AT (1) | ATE134721T1 (ja) |
| CA (2) | CA2073651C (ja) |
| DE (1) | DE69208546T2 (ja) |
| SG (1) | SG47604A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6062018A (en) * | 1993-04-14 | 2000-05-16 | Adroit Systems, Inc. | Pulse detonation electrical power generation apparatus with water injection |
| US7093340B2 (en) | 1997-12-16 | 2006-08-22 | All-Clad Metalcrafters Llc | Stick resistant ceramic coating for cookware |
| US6360423B1 (en) | 1997-12-16 | 2002-03-26 | Clad Metals Llc | Stick resistant coating for cookware |
| US6871613B2 (en) * | 2003-06-06 | 2005-03-29 | Schulmerich Carillons, Inc. | Tarnish-resistant handbell and its method of manufacture |
| DE10342398B4 (de) * | 2003-09-13 | 2008-05-29 | Schott Ag | Schutzschicht für einen Körper sowie Verfahren zur Herstellung und Verwendung von Schutzschichten |
| US7211338B2 (en) * | 2003-12-19 | 2007-05-01 | Honeywell International, Inc. | Hard, ductile coating system |
| TW201233820A (en) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | Chenming Mold Ind Corp | Ceramic member and manufacturing thereof |
| US9153422B2 (en) | 2011-08-02 | 2015-10-06 | Envaerospace, Inc. | Arc PVD plasma source and method of deposition of nanoimplanted coatings |
| CN114507073B (zh) * | 2020-11-16 | 2025-06-06 | 三菱综合材料电子化成株式会社 | 氮化锆粉末及其制备方法 |
| CN116240491B (zh) * | 2023-03-09 | 2024-05-31 | 广东工业大学 | 一种手术刀涂层及其制备方法和应用 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5034610A (ja) * | 1973-07-25 | 1975-04-03 | ||
| JPS51144314A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | A super hard alloy part having a coating film containing oxygen |
| JPS6317277A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-25 | 日立金属株式会社 | 硬質層被覆サイアロンセラミツクスおよびその製造方法 |
| JPH01208381A (ja) * | 1987-10-01 | 1989-08-22 | Gte Lab Inc | ＡｌＮ被覆窒化珪素基切削工具 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE8300910L (sv) * | 1983-02-18 | 1984-08-19 | Santrade Ltd | Sammansatt kropp bestaende av ett substrat belagt med hart, slitstarkt ytskikt |
| US4428811A (en) * | 1983-04-04 | 1984-01-31 | Borg-Warner Corporation | Rapid rate reactive sputtering of a group IVb metal |
| US4895765A (en) * | 1985-09-30 | 1990-01-23 | Union Carbide Corporation | Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture |
| US4839245A (en) * | 1985-09-30 | 1989-06-13 | Union Carbide Corporation | Zirconium nitride coated article and method for making same |
| US4774151A (en) * | 1986-05-23 | 1988-09-27 | International Business Machines Corporation | Low contact electrical resistant composition, substrates coated therewith, and process for preparing such |
| JPS63179059A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-07-23 | ユニオン・カーバイド・コーポレーシヨン | 窒化ジルコニウムコーテイング付き物品及びその製造方法 |
| US4981756A (en) * | 1989-03-21 | 1991-01-01 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method for coated surgical instruments and tools |
| KR950005349B1 (ko) * | 1989-09-11 | 1995-05-23 | 유니온 카바이드 코팅즈 서비시즈 테크놀로지 코포레이션 | 질화물 함유 화합물의 다중층 피막이 피복된 다중층 피복기판 및 다중층 피막의 생성방법 |
-
1991
- 1991-07-11 US US07/728,338 patent/US5242753A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-07-10 AT AT92306353T patent/ATE134721T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-07-10 SG SG1996003091A patent/SG47604A1/en unknown
- 1992-07-10 DE DE69208546T patent/DE69208546T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-10 JP JP4206170A patent/JP2646313B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-10 CA CA002073651A patent/CA2073651C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-10 CA CA002073642A patent/CA2073642C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-10 EP EP92306353A patent/EP0522872B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5034610A (ja) * | 1973-07-25 | 1975-04-03 | ||
| JPS51144314A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | A super hard alloy part having a coating film containing oxygen |
| JPS6317277A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-25 | 日立金属株式会社 | 硬質層被覆サイアロンセラミツクスおよびその製造方法 |
| JPH01208381A (ja) * | 1987-10-01 | 1989-08-22 | Gte Lab Inc | ＡｌＮ被覆窒化珪素基切削工具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0522872A1 (en) | 1993-01-13 |
| DE69208546T2 (de) | 1996-10-24 |
| JP2646313B2 (ja) | 1997-08-27 |
| CA2073642A1 (en) | 1993-01-12 |
| SG47604A1 (en) | 1998-04-17 |
| CA2073651A1 (en) | 1993-01-12 |
| ATE134721T1 (de) | 1996-03-15 |
| DE69208546D1 (de) | 1996-04-04 |
| US5242753A (en) | 1993-09-07 |
| CA2073642C (en) | 2001-05-08 |
| EP0522872B1 (en) | 1996-02-28 |
| CA2073651C (en) | 2000-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2024987C (en) | Multilayer coating of a nitride-containing compound and method for producing it | |
| EP0562108B1 (fr) | Materiau multicouche pour revetement anti-erosion et anti-abrasion | |
| Berger et al. | Low stress TiB2 coatings with improved tribological properties | |
| US5702829A (en) | Multilayer material, anti-erosion and anti-abrasion coating incorporating said multilayer material | |
| EP0701982B1 (en) | Layered film made of ultrafine particles and a hard composite material for tools possessing the film | |
| Sue | Development of arc evaporation of non-stoichiometric titanium nitride coatings | |
| Maréchal et al. | Silver thin films deposited by magnetron sputtering | |
| RU2623937C2 (ru) | Режущий инструмент с износостойким покрытием и способ его изготовления | |
| CN103958738B (zh) | 用于在加工操作中增强耐磨性的适应形态的铝钛氮化物涂层和其方法 | |
| Jilek et al. | Development of novel coating technology by vacuum arc with rotating cathodes for industrial production of nc-(Al1− x Ti x) N/a-Si3N4 superhard nanocomposite coatings for dry, hard machining | |
| US8440327B2 (en) | Method of producing a layer by arc-evaporation from ceramic cathodes | |
| Falub et al. | Interdependence between stress and texture in arc evaporated Ti–Al–N thin films | |
| JP2893498B2 (ja) | 非化学量論的窒化チタンコーティング | |
| CN110945156A (zh) | 涂层切削工具及其制造方法 | |
| JP2646313B2 (ja) | 準化学量論的窒化ジルコニウム被覆 | |
| PalDey et al. | Cathodic arc deposited thin film coatings based on TiAl intermetallics | |
| JP2825521B2 (ja) | 強く負荷される基材のための硬物質保護層およびその製法 | |
| RU2759458C1 (ru) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МНОГОСЛОЙНОГО ТЕРМОДИНАМИЧЕСКИ СТАБИЛЬНОГО ИЗНОСОСТОЙКОГО ПОКРЫТИЯ (варианты) | |
| CA1302807C (en) | Zirconium nitride coated article and method for making same | |
| Xian et al. | Enhanced adhesive wear resistance of TiB2 coating sliding against titanium alloy grinding balls by low-concentration Si doping | |
| Shah et al. | Microstructural characterizations and hardness evaluation of dc reactive magnetron sputtered CrN thin films on stainless steel substrate | |
| JPH03120353A (ja) | 切削・耐摩工具用表面被覆超硬部材 | |
| Limsuwan et al. | Structure of Titanium Nitride Coatings on Stainless Steel 304 | |
| Ducros et al. | Multilayered and nanolayered hard nitride thin films for a better yield in micro machining. | |
| UGLOV et al. | Belarusian State University, F. Skaryna Ave. 4, 220050 Minsk, Belarus E-mail: uglov@ bsu. by |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970311 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |