JPH05251867A - 多層配線板の製造方法 - Google Patents
多層配線板の製造方法Info
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- JPH05251867A JPH05251867A JP8487092A JP8487092A JPH05251867A JP H05251867 A JPH05251867 A JP H05251867A JP 8487092 A JP8487092 A JP 8487092A JP 8487092 A JP8487092 A JP 8487092A JP H05251867 A JPH05251867 A JP H05251867A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 内層回路基板3の表面に、予め穴9を設けた
金属箔付きの絶縁樹脂シート6をラミネートする。次
に、めっき処理をして穴9内にめっき層13を形成す
る。さらに外層回路15を形成して多層配線板を製造す
る。 【効果】 予め穴を設けた金属箔付きの絶縁樹脂シート
をラミネートしているため、穴開け工程での処理時間を
短縮でき、全体として製造時間を短くでき、生産性が向
上し、製造コストを低下できる。
金属箔付きの絶縁樹脂シート6をラミネートする。次
に、めっき処理をして穴9内にめっき層13を形成す
る。さらに外層回路15を形成して多層配線板を製造す
る。 【効果】 予め穴を設けた金属箔付きの絶縁樹脂シート
をラミネートしているため、穴開け工程での処理時間を
短縮でき、全体として製造時間を短くでき、生産性が向
上し、製造コストを低下できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は多層配線板の製造方法に
関する。
関する。
【0002】
【従来の技術】多層配線板は、例えば、次の通りに製造
している。すなわち、中心の基板に内層回路を形成した
両面銅張り積層板を用いる。そしてこの積層板の両面に
ガラスクロス樹脂含浸布からなるプリプレグを積層す
る。次に、このプリプレグの表面に、回路を形成した銅
張り積層板、プリプレグ及び銅箔を順次積層する。積層
後、積層板やプリプレグ等の左右に設けてある基準用の
穴にピンを立てて位置合わせをし、プレスして加熱加圧
する。プレス後、多層板に板を当てる。そしてこの板が
動かないように端部をテープ等で固定する。この状態
で、ドリルやレーザーを用いて表面の銅箔から1層下の
回路まで非貫通の穴を形成する。その後、ドリル等を用
いて貫通穴を形成する。貫通穴を形成後、当て板を外し
て、無電解銅めっき処理及び電気銅めっき処理をし、各
穴内にめっき層を形成する。次に、テンティングにより
表面の銅箔をエッチングして回路を形成する。
している。すなわち、中心の基板に内層回路を形成した
両面銅張り積層板を用いる。そしてこの積層板の両面に
ガラスクロス樹脂含浸布からなるプリプレグを積層す
る。次に、このプリプレグの表面に、回路を形成した銅
張り積層板、プリプレグ及び銅箔を順次積層する。積層
後、積層板やプリプレグ等の左右に設けてある基準用の
穴にピンを立てて位置合わせをし、プレスして加熱加圧
する。プレス後、多層板に板を当てる。そしてこの板が
動かないように端部をテープ等で固定する。この状態
で、ドリルやレーザーを用いて表面の銅箔から1層下の
回路まで非貫通の穴を形成する。その後、ドリル等を用
いて貫通穴を形成する。貫通穴を形成後、当て板を外し
て、無電解銅めっき処理及び電気銅めっき処理をし、各
穴内にめっき層を形成する。次に、テンティングにより
表面の銅箔をエッチングして回路を形成する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】製造時間を短縮するた
めには、穴開け工程において、複数枚の多層板を重ねて
行えばよい。しかし、この状態では貫通穴は形成できて
も、非貫通穴を形成することはできない。従って、穴開
けは一枚毎に行わなければならず、作業に時間が掛か
り、生産性が低く、製造コストを低下する妨げとなって
いる欠点がある。
めには、穴開け工程において、複数枚の多層板を重ねて
行えばよい。しかし、この状態では貫通穴は形成できて
も、非貫通穴を形成することはできない。従って、穴開
けは一枚毎に行わなければならず、作業に時間が掛か
り、生産性が低く、製造コストを低下する妨げとなって
いる欠点がある。
【0004】本発明の目的は、以上の欠点を改良し、製
造時間を短縮して生産性を向上できるとともに、製造コ
ストを低下できる多層配線板の製造方法を提供するもの
である。
造時間を短縮して生産性を向上できるとともに、製造コ
ストを低下できる多層配線板の製造方法を提供するもの
である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、内層回路基板の表面に、穴を設けた金
属箔付きの絶縁樹脂シートをラミネートする工程と、こ
の工程後にめっき処理をして前記穴内にめっき層を形成
する工程と、この工程後に外層回路を形成する工程とを
行う多層配線板の製造方法を提供するものである。
達成するために、内層回路基板の表面に、穴を設けた金
属箔付きの絶縁樹脂シートをラミネートする工程と、こ
の工程後にめっき処理をして前記穴内にめっき層を形成
する工程と、この工程後に外層回路を形成する工程とを
行う多層配線板の製造方法を提供するものである。
【0006】絶縁樹脂シートとしては、エポキシ樹脂や
エポキシ化ポリブタジエン樹脂、フェノール樹脂、変性
ポリアミドイミド樹脂、変性ポリイミド樹脂等の熱硬化
性樹脂を主成分とし、ポリブタジエンやスチレンブタジ
エンゴム、アクリロニトリルゴム、フェノキシ樹脂等の
柔軟性を有する高分子化合物及び無機充填剤を配合した
もの等を用いる。そしてこの絶縁樹脂シートに銅箔を積
層した後、予め穴開け機を用いて穴を開ける。
エポキシ化ポリブタジエン樹脂、フェノール樹脂、変性
ポリアミドイミド樹脂、変性ポリイミド樹脂等の熱硬化
性樹脂を主成分とし、ポリブタジエンやスチレンブタジ
エンゴム、アクリロニトリルゴム、フェノキシ樹脂等の
柔軟性を有する高分子化合物及び無機充填剤を配合した
もの等を用いる。そしてこの絶縁樹脂シートに銅箔を積
層した後、予め穴開け機を用いて穴を開ける。
【0007】また、穴内のめっき層は、無電解めっき処
理及び電解めっき処理を順次行って形成する。
理及び電解めっき処理を順次行って形成する。
【0008】
【作用】内層回路基板の表面に、予め穴を設けた片面金
属箔付きの絶縁シートを積層しているために、非貫通穴
を形成する工程を省略できる。従って、穴開け工程で
は、貫通穴のみを形成すればよく、一度に複数枚を処理
でき、生産性が上がる。
属箔付きの絶縁シートを積層しているために、非貫通穴
を形成する工程を省略できる。従って、穴開け工程で
は、貫通穴のみを形成すればよく、一度に複数枚を処理
でき、生産性が上がる。
【0009】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。 実施例1:中心の基板には、図1(イ)に示す通り、内
層に2層の回路1を設け、外側の両面に銅箔2を張り付
けた内層2層回路入り両面銅張り積層板3を用いる。こ
の積層板3には、端に予め基準用の穴4を設けておく。
そして銅箔2表面をエッチングして、図1(ロ)に示す
通り、回路5を形成する。回路5を形成後、この回路5
表面を酸化還元処理する。
層に2層の回路1を設け、外側の両面に銅箔2を張り付
けた内層2層回路入り両面銅張り積層板3を用いる。こ
の積層板3には、端に予め基準用の穴4を設けておく。
そして銅箔2表面をエッチングして、図1(ロ)に示す
通り、回路5を形成する。回路5を形成後、この回路5
表面を酸化還元処理する。
【0010】また、片面金属箔付きの絶縁樹脂シート6
は、図1(ハ)に示す通り、厚さ200μmの絶縁樹脂
シート7の片面に、このシート7に接する面を粗化した
銅箔8を積層し、温度160℃、圧力2〜5kg/cm2 で
60分間プレスし、加熱加圧し、500mm×1000mm
角に形成したものとする。そしてこのシート6に横型小
径穴開け機により、0.2φの穴9を開ける。穴9開け
後、200mm×500mm角に断裁するとともに、両端部
に基準用の穴10を形成する。
は、図1(ハ)に示す通り、厚さ200μmの絶縁樹脂
シート7の片面に、このシート7に接する面を粗化した
銅箔8を積層し、温度160℃、圧力2〜5kg/cm2 で
60分間プレスし、加熱加圧し、500mm×1000mm
角に形成したものとする。そしてこのシート6に横型小
径穴開け機により、0.2φの穴9を開ける。穴9開け
後、200mm×500mm角に断裁するとともに、両端部
に基準用の穴10を形成する。
【0011】次に、図1(ニ)に示す通り、両面銅張り
積層板3にこのシート6を積層する。この際、シート6
に設けた穴9を積層板3に設けた回路5の上に配置す
る。なお、回路5表面を酸化還元処理しているため、密
着性が良好になる。積層後、積層板3とシート6に設け
た基準用の穴4及び10にピン11を立てて位置決めす
る。そして、プレスして加熱加圧し、積層板3にシート
6を密着する。
積層板3にこのシート6を積層する。この際、シート6
に設けた穴9を積層板3に設けた回路5の上に配置す
る。なお、回路5表面を酸化還元処理しているため、密
着性が良好になる。積層後、積層板3とシート6に設け
た基準用の穴4及び10にピン11を立てて位置決めす
る。そして、プレスして加熱加圧し、積層板3にシート
6を密着する。
【0012】プレス後、図1(ホ)に示す通り、ドリル
等によりシート6及び積層板3を貫通する穴12を形成
する。貫通穴12を形成後、スミア処理をしてスミアを
除去する。
等によりシート6及び積層板3を貫通する穴12を形成
する。貫通穴12を形成後、スミア処理をしてスミアを
除去する。
【0013】スミア処理後、無電解銅めっき処理及び電
解銅めっき処理をして、図1(ヘ)に示す通り、非貫通
穴9及び貫通穴12内に各々銅めっき層13及び14を
形成する。
解銅めっき処理をして、図1(ヘ)に示す通り、非貫通
穴9及び貫通穴12内に各々銅めっき層13及び14を
形成する。
【0014】銅めっき層13及び14を形成後、図1
(ト)に示す通り、テンティング法によりシート7表面
の銅箔8を処理して、外層回路15を形成する。
(ト)に示す通り、テンティング法によりシート7表面
の銅箔8を処理して、外層回路15を形成する。
【0015】外層回路15を形成後、図1(チ)に示す
通り、はんだレジスト印刷をして、はんだレジスト層1
6を形成する。
通り、はんだレジスト印刷をして、はんだレジスト層1
6を形成する。
【0016】次に、上記実施例1及び従来例につき、層
間密着性及び銅箔の引き剥し強さを求め、熱衝撃試験を
行った。
間密着性及び銅箔の引き剥し強さを求め、熱衝撃試験を
行った。
【0017】従来例の製造方法は次の通りとする。 従来例1:図2(イ)に示す通り、両面に回路21を形
成した両面銅張り積層板22を2枚、ガラスクロス樹脂
含浸布のプリプレグ23を介して積層するとともに、反
対側にも各々同材質のプリプレグ24及び25を重ね
る。さらに、このプリプレグ24及び25には各々銅箔
26及び27を重ねる。そして、積層板22、プリプレ
グ23〜25、銅箔26及び27に各々設けた基準穴2
8〜33にピン34を通して、互いに位置合わせをす
る。位置合わせ後、プレスして加熱加圧し、互いに密着
させる。プレス後、図2(ロ)に示す通り、ドリルによ
り、最外層の回路から1層下の層まで、0.2φの穴3
5を開ける。また、ドリルにより、各層を貫通する穴3
6を開ける。穴35及び36を開けた後、実施例1と同
じ方法で無電解銅めっき処理及び電解銅めっき処理をし
て穴内にめっき層を形成する。さらに、実施例1と同一
の方法により最外層の回路及びはんだレジスト層を形成
する。
成した両面銅張り積層板22を2枚、ガラスクロス樹脂
含浸布のプリプレグ23を介して積層するとともに、反
対側にも各々同材質のプリプレグ24及び25を重ね
る。さらに、このプリプレグ24及び25には各々銅箔
26及び27を重ねる。そして、積層板22、プリプレ
グ23〜25、銅箔26及び27に各々設けた基準穴2
8〜33にピン34を通して、互いに位置合わせをす
る。位置合わせ後、プレスして加熱加圧し、互いに密着
させる。プレス後、図2(ロ)に示す通り、ドリルによ
り、最外層の回路から1層下の層まで、0.2φの穴3
5を開ける。また、ドリルにより、各層を貫通する穴3
6を開ける。穴35及び36を開けた後、実施例1と同
じ方法で無電解銅めっき処理及び電解銅めっき処理をし
て穴内にめっき層を形成する。さらに、実施例1と同一
の方法により最外層の回路及びはんだレジスト層を形成
する。
【0018】また、層間密着性、銅箔引き剥し強さ及び
熱衝撃試験の各評価及び回路パターンは次の通りとす
る。
熱衝撃試験の各評価及び回路パターンは次の通りとす
る。
【0019】i)層間密着性 温度260℃のはんだ槽に試料をディップし、密着不良
部分にふくれが発生した時間を測定する。また、回路パ
ターンには、JIS−C5012多層プリント板用複合
テストパターン9を用いる。
部分にふくれが発生した時間を測定する。また、回路パ
ターンには、JIS−C5012多層プリント板用複合
テストパターン9を用いる。
【0020】ii)銅箔引き剥し強さ 表面銅箔の一部を予め剥し、この剥した部分をピンで止
め、オートグラフを用いて、5mm/分の速さで剥し、そ
の時のcm当りの荷重を求めた。また、回路パターンは層
間密着性に用いたのと同じパターンとする。
め、オートグラフを用いて、5mm/分の速さで剥し、そ
の時のcm当りの荷重を求めた。また、回路パターンは層
間密着性に用いたのと同じパターンとする。
【0021】iii)熱衝撃試験 JIS−C5012の温湿度サイクル65℃、93%、
4Hrと25℃、80%、1Hrを繰り返し、貫通する
穴のめっき層の抵抗が初期値に対して10%まで上昇す
るサイクル数を求めた。また、回路パターンはJIS−
C5012多層プリント板用複合テストパターンLを用
いる。
4Hrと25℃、80%、1Hrを繰り返し、貫通する
穴のめっき層の抵抗が初期値に対して10%まで上昇す
るサイクル数を求めた。また、回路パターンはJIS−
C5012多層プリント板用複合テストパターンLを用
いる。
【0022】測定結果は表1の通りとなった。
【表1】
【0023】表1から明らかな通り、実施例1によれば
従来例1と同等の結果が得られる。また、層間密着性及
び銅箔引き剥し強さについてはJIS規格値を十分に満
足する。
従来例1と同等の結果が得られる。また、層間密着性及
び銅箔引き剥し強さについてはJIS規格値を十分に満
足する。
【0024】また、本発明と従来例とについて、層間の
絶縁抵抗の変化を測定した。本発明の実施例及び従来例
の製造条件は次の通りとする。
絶縁抵抗の変化を測定した。本発明の実施例及び従来例
の製造条件は次の通りとする。
【0025】実施例2:実施例1において、回路パター
ンにJIS−C5012多層プリント板用複合テストパ
ターンMを用いるとともに、絶縁樹脂シートの厚さを1
00μmとする以外は、同一の条件で製造する。
ンにJIS−C5012多層プリント板用複合テストパ
ターンMを用いるとともに、絶縁樹脂シートの厚さを1
00μmとする以外は、同一の条件で製造する。
【0026】実施例3:実施例2において、絶縁樹脂シ
ートの厚さを200μmとする以外は、同一の条件で製
造する。
ートの厚さを200μmとする以外は、同一の条件で製
造する。
【0027】従来例2:従来例1において、ガラスクロ
ス樹脂含浸布のプリプレグの厚さを100μmとする以
外は、同一の条件で製造する。
ス樹脂含浸布のプリプレグの厚さを100μmとする以
外は、同一の条件で製造する。
【0028】従来例3:従来例1において、ガラスクロ
ス樹脂含浸布のプリプレグの厚さを200μmとする以
外は、同一の条件で製造する。
ス樹脂含浸布のプリプレグの厚さを200μmとする以
外は、同一の条件で製造する。
【0029】そして試験は、試料を温度85℃、湿度8
5%RHの雰囲気中に、回路にDC100Vを印加し
て、1000時間放置する。また、絶縁抵抗はDC25
0Vを印加して1分値で測定した。
5%RHの雰囲気中に、回路にDC100Vを印加し
て、1000時間放置する。また、絶縁抵抗はDC25
0Vを印加して1分値で測定した。
【0030】測定結果は表2の通りになった。
【表2】
【0031】表2から明らかな通り、実施例2及び実施
例3によれば、従来例2及び従来例3とほぼ同一の絶縁
抵抗が得られる。特に、厚さの薄い方の実施例2は従来
例2よりも優れた結果が得られた。
例3によれば、従来例2及び従来例3とほぼ同一の絶縁
抵抗が得られる。特に、厚さの薄い方の実施例2は従来
例2よりも優れた結果が得られた。
【0032】
【発明の効果】以上の通り、本発明の製造方法によれ
ば、予め穴を設けた金属箔付きの絶縁樹脂シートをラミ
ネートしているため、穴開け工程での処理時間を短縮で
き、全体として製造時間を短くでき、生産性が向上し、
製造コストを低下できる多層配線板が得られる。また、
本発明の製造方法によれば、必ずしもガラスクロス樹脂
含浸布を用いなくてもよい。従って、レーザーにより穴
開けした場合に、ガラス糸が残りめっき処理後に穴の形
状が悪くなったり、めっきが付着しなかったりすること
なく、不良を低減でき信頼性の高い多層配線板が得られ
る。さらに、ドリルにより穴開けする場合に、比較的に
切削の抵抗力の高いガラスクロス樹脂含浸布を用いる必
要があるときは、ドリルの寿命を長くでき、ドリルを交
換する作業が少なくてすむためより生産性が向上しコス
トを低減できる多層配線板が得られる。
ば、予め穴を設けた金属箔付きの絶縁樹脂シートをラミ
ネートしているため、穴開け工程での処理時間を短縮で
き、全体として製造時間を短くでき、生産性が向上し、
製造コストを低下できる多層配線板が得られる。また、
本発明の製造方法によれば、必ずしもガラスクロス樹脂
含浸布を用いなくてもよい。従って、レーザーにより穴
開けした場合に、ガラス糸が残りめっき処理後に穴の形
状が悪くなったり、めっきが付着しなかったりすること
なく、不良を低減でき信頼性の高い多層配線板が得られ
る。さらに、ドリルにより穴開けする場合に、比較的に
切削の抵抗力の高いガラスクロス樹脂含浸布を用いる必
要があるときは、ドリルの寿命を長くでき、ドリルを交
換する作業が少なくてすむためより生産性が向上しコス
トを低減できる多層配線板が得られる。
【図1】本発明の実施例の製造工程の図面を示す。
【図2】従来例の製造工程の図面を示す。
3…内層2層回路入り両面銅張り積層板、6…片面金属
箔付きの絶縁樹脂シート、 9…穴、 13…銅めっき
層、15…外層回路。
箔付きの絶縁樹脂シート、 9…穴、 13…銅めっき
層、15…外層回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 博義 栃木県芳賀郡二宮町大字久下田413番地 日立エーアイシー株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 内層回路基板の表面に、穴を設けた金属
箔付きの絶縁樹脂シートをラミネートする工程と、この
工程後にめっき処理をして前記穴内にめっき層を形成す
る工程と、この工程後に外層回路を形成する工程とを行
う多層配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8487092A JPH05251867A (ja) | 1992-03-07 | 1992-03-07 | 多層配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8487092A JPH05251867A (ja) | 1992-03-07 | 1992-03-07 | 多層配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251867A true JPH05251867A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=13842838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8487092A Pending JPH05251867A (ja) | 1992-03-07 | 1992-03-07 | 多層配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05251867A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4845543A (en) * | 1983-09-28 | 1989-07-04 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
-
1992
- 1992-03-07 JP JP8487092A patent/JPH05251867A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4845543A (en) * | 1983-09-28 | 1989-07-04 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
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