JPH05253402A - 液体放出及び気化システム - Google Patents
液体放出及び気化システムInfo
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Abstract
小にして、連続的一定体積速度で液体をポンピングする
改良された気化系を提供する。 【構成】 本発明に用いられるポンプにおいては、非圧
縮性液体に圧力をかけるときは流体出口に正圧をかける
ように閉じた通路の容積を減らし、当該液体から圧力を
抜くときは流体入口に関し負圧をかけるように当該通路
の容積を増す装置によって区画と通路が分離されてい
る。
Description
るものであり、さらに詳しくは液体をフラッシュ蒸発さ
せるために、改良された気化装置集合体に一定速度で連
続体積流を送り出すための新規な正変位ポンプ集合体を
含んでいる改良された液体送り出しおよび気化系に関す
る。
部分として、プロセス室で注意深く制御された量でガス
蒸発を次に使用できるように、腐食性のときに発火性の
液体物質を気化しなければならない多くのプロセスが知
られている。これらの物質の毒性と危険性のために、液
体を気化装置に送り出す系および気化装置自体を、注意
深く密封し、この物質の逃るのを防ぐ必要がある。種々
の上記系が知られている。上記系の一つの型は、液体を
自動的にびん内に充填する。熱質量または圧力に基づく
流量計を使ってガス流を測定し制御できるように十分な
圧力まで、びん内の蒸気圧を増すためにびんを加熱す
る。若干のこれらの系では、一層多くの蒸気を運ぶのを
助けるために、不活性ガスも液体を通しバブルする。上
記系は比較的高価で扱いにくい傾向があり、凝縮を防ぐ
ために、蒸気流ラインは強い加熱を必要とする。
を克服しまたは実質上減少する改良された液体送り出し
気化系を提供するにある。
蒸気流ラインを必要としない処理室に直接すえつけるの
に適合した、改良された比較的単純な安価な液体送り出
しおよび気化系を提供するにある。
の不活性ガスの必要なしに、エネルギー効率的方式で液
体を気化する改良された気化装置を提供するにある。
量で、実質上下流圧に独立に、液体を気化装置に送り出
す改良された正変位ポンピング系を提供するにある。
る液体にさらされる部分を最小にして、連続的一定体積
速度で液体をポンピングする改良されたポンプ集合体を
提供するにある。
い圧に達したとき、一方向にのみ流すことのできる改良
された弁を提供するにある。
隣接表面間に強制されるとき、液体が殆んど霧化するこ
となくフラッシュ蒸発するように、スタック内に支持さ
れ液体の蒸発温度以上に加熱された複数の比較的薄いデ
ィスクからなる改良された気化装置によって、本発明の
上記および他の目的が達成される。
が提供される。この弁系は、弁がその入口で予め決めた
圧力に応答して開くが、弁本体に背圧として働くときは
予め決めた圧力に応答して開かず、弁系を閉じるよう
に、十分な力で弁座上に接近して弁本体を偏よらす装置
からなる。偏より力に対向する力を独立に働らかせて、
弁を開くことのできる装置も提供される。
プが提供される。このポンプは連続的な一定体積速度で
液体をポンプ送りする。このポンプはポンプを充填しつ
いで液体を送り出すことのできるように、ポンプの容積
を変える装置からなっている。ポンプ室の容積を変える
装置は、油のような実質上圧縮できない流体を充たした
区画を含む。上記の区画と部屋とは、作用装置が出口に
対し正圧を与えるように、圧縮できない液体に圧力をか
けるときは、部屋の容積を減らし、作用装置が入口に対
し負圧を与えるように圧縮できない液体から圧力を抜く
ときは部屋の容積を増して、部屋をみたす装置により分
離されている。
続的な予め決めた体積速度で流体をポンプ送りする、改
良された正変位ポンプ集合体が提供される。この集合体
は、下記のように第1および第2の弁装置(夫々、図1
で、V1 ,V2 として示した)間に連結された第1ポン
ピング装置(図1でPx1として示した)および第2およ
び第3の弁装置(図1でV2 ,V3 として示した)間に
連結された第2ポンピング装置(図1でPx2として示し
た)を周期的に操作する制御装置を含んでいる。 (a) 第1弁装置(V1)を開け、第2弁装置(V2)を閉じ
て、第2ポンプ装置(Px2)をその送り出し相で、第3
弁装置(V3)を通して第2ポンピング装置(Px2)の部
屋に流体をポンプ送りするように操作し、また第1ポン
プ装置(Px1)をその充填相で、予め決めた速度より大
きい体積速度で第1弁装置(V1)を通過する流体で第1
ポンピング装置の部屋を充たすように操作し、そこで第
1ポンプ装置(Px1)の部屋は第2ポンプ装置(Px2)
の送り出し相の完結前に充填され、(b) 第1ポンプ装置
(Px1)の部屋が充填されるときは、第2弁装置(V2)
を閉じた状態で第1弁装置(V1)を閉じ、(c) 第1ポン
プ装置(Px1)内の流体が予め決めた圧力に達したとき
は、(i)第2弁装置(V2)を開き、第3弁装置(V3)
を開けたままにし、(ii)第2ポンプ装置(Px2)の充
填相を開始し、(iii)第1ポンプ装置(Px1)をその送
り出し相で操作を続けるように、第1および第2弁装置
(V1 ,V2)を閉じた状態で、第1ポンプ装置(Px1)
の送り出し相を開始し、こうして第1ポンプ装置
(Px1)の部屋から第2ポンプ装置(Px2)の部屋へ送
り出される流体の容積が、後者をみたしながら、予め決
めた体積速度で第3弁装置(V3)を通過する流体を生じ
るようにする。
り、一部分は下記にみられる。従って、本発明は次に詳
しく例示する構造、要素の組合せ、部品の配置を有する
装置からなり、本出願の範囲は特許請求の範囲に示され
る。
ように、添付図面に関し次に詳細に記載する。
気化系は、ため24に連結された入口を有するポンプ集
合体22からなり、ためは好ましくは加圧される。ため
24から集合体22に供給される液体は、操作者により
別に操作される弁25で制御できる。ポンプ集合体22
は、一定体積速度で液体を連続的にポンプ送りするのに
適合した正変位ポンプである。ポンプ集合体は、ため2
4から液体を受けるため連結された入口および第1ポン
プPx1の入口に連結された出口を有する第1弁V1 をも
つ。ポンプPx1の出口は弁V2 の入口に連結され、弁V
2 はポンプPx2の入口に連結された出口をもつ。ポンプ
Px2は弁V3 の入口に連結された出口をもつ。弁V3 の
出口はポンプ集合体22の出口を形成する。第4の弁V
4 は弁V3 の出口に連結された入口をもち、その出口は
弁V1 の入口に連結され、ポンプ集合体が再循環方式で
操作するとき使われる。後で詳細に記載するように、弁
V1 ,V2 ,V3 ,V4 は、閉じているときは背圧に応
答して開かないように、「一方向」弁として各々設計さ
れている。
体26も含み、気化装置28は、ポンプ集合体の液体排
出物を受けるようにポンプ集合体22の出口(すなわ
ち、弁V3 の出口)に連結された入口をもつ。弁25a
およびその下流の配管は、全系がトラップされたガスな
しに液体充填できるように、ポンプ送りおよび気化装置
真空排気に使われる。後で明らかになるように、気化装
置28は二つの出口をもち、その一つは集合体26の第
1弁V5 に気化装置ガス排出物を連結するためのもので
あり、第1弁V5 は真空ポンプ30に連結されている。
ポンプ30の排出物は、真空ポンプを使う場合その排出
物を捕獲するために、閉じた系(図示してない)に連結
されるのが好ましい。気化装置28の他の出口は、集合
体26の第2弁V6 に連結され、第2弁V6 は処理室
(図示してない)のような系32に連結されている。
ポンプ集合体22および気化装置集合体26のポンプP
x1,Px2および弁V1 〜V6 の順序と操作を制御するた
めの制御装置34を含んでいる。制御装置は、予め決め
た新規な順序に従って、ポンプと弁を操作するように好
ましくはプログラムされたマイクロプロセッサーを含む
のが好ましい、そのすべては後で一層明らかとなる。さ
らに、好ましい弁V1〜V6 は空気作用され、そこで夫
々相当する電気機械弁38を通して加圧空気源34に連
結されている。弁38の開閉も制御装置34により制御
される。後でさらに明らかとなるように、ポンプPx1,
Px2および弁V1 〜V4 は新規な方式で構成される。
上同一であり、その一つの単純化した模式的縦断面図を
図2に示す。図2に示すように、各ポンプPの入口52
と出口54は、夫々56、58で示した関連弁に連結し
ている。ポンプは、ポンプが充填および送り出すとき変
化する容積をもつポンプ室60を含んでいる。ポンプ室
は入口を出口に連結しており、弁56と58が開くと
き、液体が入口52を通り部屋60に入り、ついで出口
54を通るようになっている。ポンプPはまた、膨脹で
きるベローシール64により部屋60から分離された区
画62を含む。シール64の代りに、隔膜またはベロー
フラムのような他の膨脹できる要素を使えることは明ら
かである。区画62には実質上非圧縮性液体、たとえば
油を充填する。ラム軸66の形で示した作用装置は、シ
ール68を通し区画62の内外へと移動できる。軸66
が均一速度で区画の内へまたは外へと動くとき、ずらさ
れた油が夫々ベローシールを一定速度で膨脹または収縮
し、部屋内の容積を一定速度で増加または減少するよう
に、軸はその長さに沿って均一な断面積をもつのが好ま
しい。
66は一定速度で区画62から引抜かれる(そこでベロ
ーシール64を収縮させる)。この相中、液体を入口5
2を通し区画62に入れるために、弁56は開かれてい
る。ラム軸が引抜かれるとき、部屋60の容積は一定速
度で拡大する。ポンプの送り出し相中、軸66は反対方
向に(図2で上方向に)移動できるので、軸は区画内に
動き(そこでベローシールを膨脹させる)。後で一層明
らかとなるように、送り出し相中、弁58ははじめ閉じ
られ、そこで弁58が入口の増加圧に応答し自動的に開
く前に、系内のバックラッシュを止めて室60内の液体
の圧力を増加できる。後で詳しく記載する理由で、入口
および出口52と54の各々の断面は、比較的小寸法
(たとえば、 1/32インチまたは 1/16インチ)であ
る。
つの単純化した断面図を図3に示す。各弁Vは弁通路7
6への入口76と出口74を含んでいる。入口と出口の
両者は比較的小さい断面寸法を有し、好ましい実施態様
では、図5および6で最もよくわかるように、関連ポン
プの単に入口と出口52と54の延長である。弁座78
が出口74で通路76内に備えられている。弁本体80
は、弁本体の端(球形ボール82として示されている)
が弁座78から間隔を置いた開いた位置と弁本体80、
特にボール82が弁座と接触し弁座で密封される閉じた
位置の間で、弁座に対し通路内で移動できる。上記開い
た位置と閉じた位置間を弁本体80(および球形ボール
82)を動かす装置は、弁本体80と接触するピストン
ヘッド86を含むピストン84、弁座の方向へ弁本体を
動かすため弁座78の方向および離れる方向への軸方向
移動のため備えつけられた軸88、および軸を軸方向に
動かすための空気アクチュエータヘッド90を含んでい
る。アクチュエータヘッドは空気室92内に配置されて
いるから、弁本体80および軸88と同一軸方向に動く
ことができる。一つまたはそれ以上の圧縮ばね94形の
装置は、アクチュエータヘッド90、軸88、ピストン
ヘッド86、弁本体80を閉じた位置にかたよらせる。
たわみ性ベローシール96は、弁通路76内の液体を弁
集合体の作用位置から分離している。圧縮ばね94によ
り与えられる力は、ピストンヘッド86の底と接触する
ベローシールの液体側により働かされる力によってベロ
ーシール96内の液体の圧力が予め決めた圧力を越える
まで、弁を閉じて保つのに十分である。弁集合体の好ま
しい実施態様では、弁集合体の通路76内の液体の予め
決めた圧力が250psi に達したとき、集合体は自動に
開くよう設計されるが、この設計しきい圧は変化でき
る。さらに、出口74の比較的小さい断面寸法のため
に、弁集合体が閉じ、出口74内の液体の背圧がしきい
水準に達するとき、力が働らくはるかに小さい面積(ピ
ストンヘッド86の底と接触するベローシールの面積に
比較し)のために、ボール82に働らく力は弁を開ける
には不十分である。空気ライン97が空気室92に連結
されている。加圧空気が空気ライン97を通り部屋92
に導入されると、十分な力がアクチュエータヘッド90
に加わり、そこでヘッド90を圧縮ばね94のバイアス
に対抗して軸方向に動かし、軸88および弁本体80を
弁座78から離れた開いた位置に動かす。O環シール9
8が空気室72を気密に保つ。最後に、必要なときは、
弁が開いたときボデー80が弁座78から離れるのを確
実にするため、圧縮ばね99を備えることができる。
に示す。気化装置28は、ブロック102およびディス
ク106のスタックに対し熱源を形成するようにブロッ
ク104に挿入された加熱器素子を含む加熱器集合体1
00を含んでいる。ディスクは好ましくは形状が平で環
状で、ごく薄く、液体流の不在では互に確実に接触する
から、良好な熱伝導がブロック102からディスクを通
し与えられ、各ディスクの表面積を気化装置内にポンプ
送りされている液体のフラッシュ点以上に加熱できる。
ディスクはたとえば1インチ対0.001インチの直径
対厚さ比をもつことができるが、その寸法と比は変化で
きる。中央孔が加熱器ブロックに形成され、小管108
をブロックとディスクを通し置くことができるように、
ディスクの中央孔と並んでいる。管108は、ディスク
の内部へりに隣接したその周辺のまわりに複数の孔を有
しており、そこで管を通し強制される液体(図4でLで
示した)はディスク106の間に強制される。ディスク
間の液体の通過を確保しながら、ディスクを共にかたよ
らすために、スタックのディスクを互におよび加熱器ブ
ロックトと強制的に接触させるように、アンビル110
をたとえば一つまたはそれ以上の圧縮ばね112でスタ
ックト接触するようかたよらせる。ディスク106、ア
ンビル110、ばね112、および加熱器ブロックを通
しディスク内にのびる管108の部分は、すべて蒸気出
口116を有する気化室114内に含まれている。液体
が管108を通し強制されると、液体はばね112のバ
イアスに対抗してディスクを強制的に離し、そこで液体
は隣接ディスク間に強制される。ディスクの大きな向い
合う表面積は、その間の液体の比較的薄い層をフラッシ
ュ点以上に加熱する大きな熱い表面積を与えるから、液
体はフラッシュ蒸発し、蒸気として出口116から出
る。
び6に示す。3ブロック130a、130b、130c
が夫々、弁V1 ,V2 ,V3 の入口72および出口74
を規定するために備えられている。弁V4 はブロック1
30cの底にすえつけられている。弁V1 ,V2 ,V3
は夫々各ブロックの頂部にすえつけられている。弁V1
の出口74はポンプPx1の入口52を形成し、一方弁V
2 の出口74はポンプPx2の入口52を形成している。
ブロック130bの出口54がブロック130aの入口
72に連結され、同様にブロック130aの出口54が
ブロック130cの入口72に連結されるように、ブロ
ック130はガスケット132で固定されている。ブロ
ック130a、130bの各々の底は、部屋60および
区画62のための空間を形成するように深ざぐりされて
いる。
びねじ134のような適当な手段で、夫々のブロック1
30aおよび130bの底に連結されている。油室62
を液体通路60から分離するように、ベローシール64
の開口端は夫々のブロックの底とプレートの間に固定さ
れている。O環シール68を支持するための環状肩を与
えるように、各プレートは深ざくりされた中央孔を含ん
でいる。各プレート136はハウジング138を支持
し、ハウジングはポンピングアクチュエータ機構を支持
している。
結器146を通しボールナット集合体144の軸142
を駆動する。ラム軸66を支持する直線運動直動素子1
48に対する回転は、ナット集合体に確保されまた逆回
転軸150上ですべることができるから、ステッピング
モータの回転はボールナット集合体144の軸142を
回転させる。これは素子148を軸150上ですべらせ
るから、モータ140の回転方向に依存して、ラム軸6
6はO環シール68内で区画62内の油の内外で動くこ
とができる。
の角速度で一方向に回転させることにより、軸66は一
定の線速度で区画内に動く。同様に、モータの方向を逆
にしナット集合体の軸142を一定の角速度で逆方向に
回転させることにより、軸66は一定の線速度で部屋か
ら後退する。後で一層明らかとなる理由で、ポンプPx1
のラム軸66bはポンプPx2のラム軸66aの2倍の断
面積をもつから、モータ140が駆動される所定の角速
度に対し、ラム軸は同一線速度で相当する区画62内へ
駆動され、その結果ラム軸66bはブロック130bの
室60内で、ラム軸66aがブロック130aの室60
内でずらす液体量の2倍の液体量をずらす。図示のよう
に、毒性の危険な液体にさらされるポンプ集合体の唯一
の部分は、ブロック130、ベローシール64、ガスケ
ット132である。そこで、これらの要素は、ポンプを
通る液体と非反応性の材料でつくられる。たとえば、大
部分の応用では、これらの部品はステンレス鋼でつくら
れるが、他の材料も役立つ。
い弁の詳細は図6で最もよく示される。各弁はブロック
130に固定され、ピストン軸88を受けるための中央
孔をもつ主ブロック要素160を含んでいる。主ブロッ
ク要素160はその底面に円筒形延長部分162を備
え、その内部でカウンターボアはベローシール96およ
びばね99を受け入れ、通路76を規定するように入口
72および出口74と流体連絡している。延長部分16
2は、弁が適当に確実に密封されるように、相当する本
体130の頂部に形成されたディンプルとつがうのに適
合している。弁本体80およびボール82はベロー80
内に配置され、開いた位置および閉じた位置の間で上下
に移動できる(図6に示したように)。一方弁が開くと
き弁本体が弁座から確実に離れるように、圧縮ばね99
がベローシール内に配置されている。主ブロック要素1
60の頂部も、O環シール98を受け入れるように深ざ
ぐりされ、またさらにカウンターボア163およびカウ
ンターボア163上に固定されたカバープレート164
が空気室92を形成するように、要素の頂部163で深
ざぐりされている。O環98が主ブロック要素内に形成
された環状肩上に備えられ、複数の圧縮ばね94を受入
れるためウエルがプレート164内に形成されている。
空気入口97が主ブロック要素160に形成されている
から、空気が部屋92内に強制され、アクチュエータヘ
ッド90を図6に示した上方向に強制する。また、液体
にさらされる弁の部品、すなわち弁本体80、ボール8
2、ベローシール96、主ブロック要素160はすべ
て、弁を通る液体と非反応性の材料でつくられる。
く示す。図示のように、ディスク106およびアンビル
110を蔽うように、キャップ170が密封ガスケット
172で加熱ブロック102上に固定されている。相当
する弁V5 ,V6 の弁本体を受け入れるために、加熱ブ
ロック102は二つの弁座174を備えている。弁V5
とV6 は空気弁であり、夫々の弁本体176を夫々の弁
座174と接触および非接触するよう動かす。
に示したように、ポンプ集合体の出力で、液体流の一定
体積速度を気化装置28に供給するように、制御装置は
予め決めた順序に従ってポンピング系22を操作する。
さらに詳しくは、図8で開始時、工程200で示したよ
うに、弁V1 ,V2 ,V3 ,V4 ,V6 ,25aをまず
開き、空気をポンプ、気化装置、相互連結ラインから除
去する。圧力が実質上零(たとえば50ミリトール以
下)に減少したら、弁V6 と25aを閉じ、弁25を開
いて、液体をためから流し、気化装置ディスクに対し右
側の全ての排気空間を充たす。ここで、ポンピングと気
化を開始できる。
工程202に進み、弁38fを閉じることによって弁V
6 を切り、ポンプPx2のステッピングモータ140およ
びラム軸66はポンプの送り出し相のはじめにあり、そ
こでラム軸は油室から十分に引抜かれる。ポンプPx1の
ステッピングモータ140およびラム軸66は、ポンプ
の充填相のはじめにあり、そこでラム軸は油室に十分に
のばされる。工程202で、弁V3 は開いており、V4
は閉じており、一方弁V5 を開き(弁38eを開くこと
により)、弁V6 を閉じ、そこで気化装置集合体26か
ら蒸気が系32に向けられる。さらに、工程202で、
弁V2 を閉じる。各サイクル中、ポンプは互に反対に操
作するので、ポンプPx2は弁V3 を通し一定体積速度で
液体を送り出しはじめ、ポンプPx2で発生する液体圧が
空気ピストン頂部上のばね力にうちかつ水準に対する
と、弁V3 は自動的に開く(好ましい例では、250ps
i で)。同時に、ポンプPx2の送り出し相中、ポンプP
x1のステッピングモータは、ポンプPx2のステッピング
モータ140の2倍の速度で操作することによりその充
填相を開始するので、ポンプPx1のラム軸の位置は、ポ
ンプPx2の送り出し相の中途ではそのいわゆる出発位置
にある。ラム軸をさらにわずかに引抜き(たとえば、典
型的には完全な送り出し相中の計800段からステッピ
ングモータの余分の15段)、工程204で停止する。
ポンプPx2の送り出し相は、そのポンプの送り出し相が
終るちょうど前まで続く(与えた実施例では、送り出し
相の完結前に、ポンプPx2のモータ140の15段が残
される)。
よって弁V1 を空気的に閉じ、ポンプPx1のモータ14
0は逆になり、このポンプは弁V2 を閉じた状態で送り
出し相を開始し、ラム軸66がいわゆる出発位置に達す
るまで続く(与えた実施例では、モータの最初の15
段)。これは、ポンプPx1のボールナット集合体中の機
械的バックラッシュに適応でき、また油および液体をポ
ンプの部屋および通路で圧縮できる程度まで圧縮でき
る。この点で、弁V2 の入口の圧力はしきい水準250
psiである。
り出し相の完結で、ポンプPx1は一定体積速度で予め決
めた圧力で液体を送り出す準備ができている。工程20
8では、ポンプPx1により生じる上流圧力により、弁V
2 は自動的に開く。ポンプPx1は、弁V2 を自動的に開
いたまま、その送り出し相を続け、ポンプPx2はその充
填相を開始する。ポンプPx1はポンプPx2の2倍の体積
速度で送り出すから、ポンプPx1はポンプPx2を同時に
充たすのに十分な液体を送り出し、またポンプPx2によ
って送り出されるのと同一体積速度で弁V3 から液体を
送り出す。
送り出し相を完結すると、V1 が空気的に開けられるか
ら圧力の突然の降下によって、弁V1 が開き、弁V2 が
閉じ、工程を繰返す。ポンプPx2はその送り出し相を開
始し、ポンプPx1はポンプPx2の2倍の速度でその充填
相を開始し、工程202、ついで工程204−210を
くり返す。
28を通しポンプ送りされるとき、液体はフラッシュ蒸
発され、圧力により弁V5 を通し系32に強制される。
工程を一時的に止めたいときは、単に弁38dを開くこ
とによって弁V4 を開き、弁V3 からの液体の排出流を
弁V1 のインプットに流し戻すことによって、ポンプ集
合体を再循環方式で操作できる。
テッピングモータ140は、充填相に対してはまず一方
向に、ついで送り出し相に対しては他の方向に、連続的
に操作し、一相から他相への方向の逆転は殆んど瞬間的
に起る。
ンを必要とせずに、蒸気処理室に直接すえつけるのに適
合した、改良された比較的簡単な安価な気化系を提供す
る。この改良された気化装置28は、最小の霧化で、追
加の不活性ガスを必要とせずに、エネルギー効率的方式
で液体を気化する。ポンピング集合体22は、一定体積
速度で気化装置に液体を送り出すための、改良された正
変位ポンピング系を提供する。ポンプPx1およびP
x2は、ポンプを通る液体にさらされる部品を最小にし
て、送り出し相で操作するとき、一定の体積速度と圧力
送り出しを与える改良されたポンプを提供する。各弁V
1 〜V4 は、弁入口でしきい圧に達したときだけ流れを
おこさせ、弁が閉じているときしきい圧が弁に背圧とし
てかかるときは閉じて留まる改良された弁を提供する。
置においてある種の変形を行えるから、上記または添付
図面に示したすべては例示のためのものであって、限定
するものではない。
を一般的に示す模式図である。
好ましい実施態様の縦断面の模式図である。
弁V1 〜V4 の各々の好ましい実施態様の縦断面の模式
図である。
の好ましい実施態様の縦断面の模式図である。
ましい実施態様の縦断面図である。
りとった、一層詳細な拡大縦断面図である。
い実施態様の縦断面図である。
御装置の操作を示すフローチャートである。
Claims (22)
- 【請求項1】 複数の比較的薄いディスク、 互に平行に接触するよう配置されたディスクでスタック
を形成するようにディスクを支持する装置、スタックを
形成するように上記ディスクを一緒にかたよらせる装
置、 液体の蒸発温度以上の温度にディスクを加熱する装置、 ディスクが上記かたよらせ装置に対向して分離し、液体
が上記ディスク間を通して強制されディスク間の空間に
フラッシュ蒸発されるように、ディスク間に加熱液体を
強制する装置からなる、液体をガスに気化する装置。 - 【請求項2】 当該ディスクを支持する当該装置が、当
該液体を加圧下に当該ディスクに運ぶための液体通路装
置を含んでいる請求項1の装置。 - 【請求項3】 加圧下に当該液体を運ぶ当該装置が、各
ディスクの中央を通し配置された中空管を含んでおり、
当該中空管が、加圧下に上記管に運ばれる液体が当該孔
を通し強制されて当該ディスクを強制的に分離して液体
をディスク間の空間で加熱し蒸発させるように配置され
た孔装置を含んでいる、請求項2の装置。 - 【請求項4】 ディスクをかたよらせる当該装置が、ア
ンビル、上記アンビルをスタックの一端と接触するよう
かたよらせる装置を含んでいる請求項1の装置。 - 【請求項5】 ディスクを加熱する当該装置が当該ディ
スクを加熱する加熱器装置を含んでおり、ディスクをか
たよらせる当該装置がスタックの他端を上記加熱器装置
と熱接触させるようかたよらせる請求項4の装置。 - 【請求項6】 加圧下液体を運ぶ上記装置が各ディスク
および当該加熱器装置の中央を通し配置された中空管を
含んでおり、上記中空管が加圧下に上記管に運ばれた液
体を上記加熱器装置および当該孔装置を通して当該空間
内に強制するように配置された孔装置を含んでいる請求
項5の装置。 - 【請求項7】 閉じた通路を規定する装置、 予め決めた圧力まで流体を受入れるため当該通路に対し
入口を規定する装置、 流体が弁系から通り抜ける当該通路からの流体出口を規
定する装置、 当該通路内で弁座を規定する装置、 弁系が開いているとき弁本体は弁座から間隔を置いた開
いた位置と弁系が閉じているとき弁本体が弁座と接触し
ている閉じた位置との間で当該弁座に対し動くことので
きる弁本体、 当該弁本体を上記閉じた位置にかたよらせるためのかた
よらせ装置からなり、当該弁本体への当該かたよらせ装
置によりつくり出される力が、当該弁本体が閉じた位置
にあるとき当該入口で当該予め決めた圧力で当該流体に
よりつくり出される力が当該弁本体を開いた位置に移動
させ、一方弁本体が閉じた位置にあるとき当該予め決め
た圧力の当該流体が当該出口に供給されるとき当該弁本
体を閉じた位置に留まらせるような力である、 予め決めた圧力での入口での流体に応答して開き、出口
で流体により働らかされる当該予め決めた圧力に等しい
背圧に応答して閉じて留まるのに適合した弁系。 - 【請求項8】 流体が直ちに出口に供給されるように当
該弁本体を閉じた位置から開いた位置へと迅速に動かす
ことのできるように、かたよらせ装置により供給される
力よりも大きくまた反対方向への力を当該弁本体に供給
する装置をさらに含んでいる請求項7の弁系。 - 【請求項9】 当該弁本体に力を供給する当該装置が弁
本体に連結したピストンを含んでおり、当該かたよらせ
装置が当該弁本体を当該閉じた位置にかたよらせるよう
に当該弁本体に対向して当該ピストンをかたよらせるた
めの少なくとも一つの圧縮ばねを含んでおり、また上記
の弁本体に力を供給する装置が当該弁本体を当該開いた
位置に動かすように当該バイアスに対向して当該ピスト
ンを動かすための作用流体を受け入れる装置を含んでい
る請求項8の弁系。 - 【請求項10】 当該作用流体が加圧空気である請求項
9の弁系。 - 【請求項11】 当該ピストンから当該通路を密封する
装置をさらに含んでいる請求項10の弁系。 - 【請求項12】 当該密封装置がベローシールを含んで
いる請求項11の弁系。 - 【請求項13】 閉じた通路を規定する装置、 流体を受入れるため当該通路への流体入口を規定する装
置、 流体がポンプから通り抜ける当該通路からの流体出口を
規定する装置、 実質上非圧縮性の液体を入れるための区画を規定する装
置、 当該非圧縮性の液体に圧力をかけまた圧力を抜くための
作用装置からなり、 当該出口に正圧をかけるように、当該作用装置が当該非
圧縮性液体に圧力をかけるときは、当該通路の容積を減
らし、当該通路を充填するように当該入口に関し負圧を
かけるように、当該作用装置が当該非圧縮性液体から圧
力を抜くときは、当該通路の容積を増す装置によって、
区画と通路とが分離されている、一定の排出圧で流体を
ポンプ送りするポンプ。 - 【請求項14】 当該通路の容積を増減する当該装置
が、当該区画から当該通路を分離する膨脹できるベロー
シールを含んでいる請求項13のポンプ。 - 【請求項15】 当該作用装置が、その長さに沿って均
一な断面をもつ軸および当該軸を一定速度で当該区画の
内外へ動かす装置を含んでいる請求項14のポンプ。 - 【請求項16】 当該作用装置が、当該軸を一定速度で
当該区画の内外へ動かすステッピングモータをさらに含
んでいる請求項15のポンプ。 - 【請求項17】 当該作用装置が、当該ステッピングモ
ータを当該軸に連結するボールナット集合体を含んでい
る請求項16のポンプ。 - 【請求項18】 流体の第1の予め決めた容積を予め決
めた速度で送り出すため、第1室を含んでいて、送り出
し相と充填相の間で相互に操作できる第1ポンピング装
置、 当該流体の第2の予め決めた容積を予め決めた速度で送
り出すため、第2室を含んでいて、送り出し相と充填相
の間で相互に操作できる第2ポンピング装置、ただし当
該第1の予め決めた容積は整数係数だけ当該第2の予め
決めた容積よりも大であり、 当該第1ポンピング装置がその充填相で操作するとき、
当該第1ポンピング装置に供給される流体を制御するた
めの第1弁装置、 当該第1ポンピング装置の送り出し相および当該第2ポ
ンピング装置の充填相中、当該第1ポンピング装置によ
り当該第2ポンピング装置へ送り出される流体を制御す
るための第2弁装置、 当該第2ポンピング装置の送り出し相中、当該集合体か
ら当該第2ポンピング装置により送り出される流体を制
御するための第3弁装置、 次のように、当該第1および第2のポンピング装置およ
び当該第1、第2、および第3の弁装置をサイクルで操
作する制御装置からなり、 (a) 第1弁装置が開き第2弁装置が閉じた状態で、流体
を第3弁装置を通して第2ポンピング装置の部屋にポン
プ送りするように第2ポンピング装置をその送り出し相
で操作し、また第2ポンピング装置の送り出し相の完結
前に第1ポンピング装置の部屋が充填されるように、予
め決めた速度より大きい体積速度で第1弁装置を通過す
る流体で第1ポンピング装置を充填するように、第1ポ
ンピング装置をその充填相で操作し、 (b) 第1ポンピング装置の部屋が充填したとき、第2弁
装置を閉じた状態で第1弁装置を閉じ、 (c) 第1ポンピング装置内の流体が予め決めた圧力に達
したときは、(i)第2弁装置を開き、第3弁装置を開
いたままにしておき、(ii)第2ポンピング装置がその
充填相を開始し、(iii)第1ポンピング装置がその送り
出し相で操作を続けるので、第1ポンピング装置の部屋
から第2ポンピング装置の部屋へ送り出される流体の容
積が、第2ポンピング装置を充填しながら、予め決めた
体積速度で第3弁装置を通過する流体を生じるように、
第1および第2の弁装置を閉じた状態で第1ポンピング
装置の送り出し相を開始することからなる、流体を均一
な体積速度と一定圧力でポンピングするための正変位ポ
ンプ集合体。 - 【請求項19】 当該流体を圧縮できるように、当該第
1ポンピング装置の充填相が過剰流体の予め決めた量を
第1ポンピング装置に供給できる、請求項18の正変位
ポンプ集合体。 - 【請求項20】 当該第1弁装置と当該第1ポンピング
装置の間、当該第1ポンピング装置と当該第2弁装置の
間、当該第2弁装置と当該第2ポンピング装置の間、当
該第2ポンピング装置と当該第3弁装置の間に、比較的
小寸法の通路を規定する装置をさらに含んでいる請求項
18の正変位ポンプ集合体。 - 【請求項21】 当該第1の予め決めた容積が当該第2
の予め決めた容積の2倍である請求項18の正変位ポン
プ集合体。 - 【請求項22】 液体を気化させるための気化装置、 液体を連続した一定の体積速度と圧力で上記気化装置に
送り出すため、当該気化装置と連結した正変位ポンプ集
合体からなり、 当該正変位ポンプ集合体は、 当該液体の第1の予め決めた容積を予め決めた速度で送
り出すため、第1室を含んでいて、送り出し相と充填相
の間で相互に操作できる第1ポンピング装置、 当該液体の第2の予め決めた容積を予め決めた速度で送
り出すため、第2室を含んでいて、送り出し相と充填相
の間で相互に操作できる第2ポンピング装置、ただし当
該第1の予め決めた容積は整数係数だけ当該第2の予め
決めた容積よりも大であり、 当該第1ポンピング装置がその充填相で操作するとき、
当該第1ポンピング装置に供給される液体を制御するた
めの第1弁装置、 当該第1ポンピング装置の送り出し相および当該第2ポ
ンピング装置の充填相中に、当該第1ポンピング装置に
より当該第2ポンピング装置へ送り出される液体を制御
するための第2弁装置、 当該第2ポンピング装置の送り出し相中に、当該集合体
から当該第2ポンピング装置により送り出される液体を
制御するための第3弁装置、 次のように、当該第1および第2のポンピング装置およ
び当該第1、第2および第3の弁装置をサイクルで操作
する制御装置からなり、 (a) 第1弁装置が開き第2弁装置が閉じた状態で、液体
を第3弁装置を通して第2ポンピング装置の部屋にポン
プ送りするように第2ポンピング装置をその送り出し相
で操作し、また第2ポンピング装置の送り出し相の完結
前に第1ポンピング装置の部屋が充填されるように、予
め決めた速度より大きい体積速度で第1弁装置を通過す
る液体で第1ポンピング装置を充填するように、第1ポ
ンピング装置をその充填相で操作し、 (b) 第1ポンピング装置の部屋が充填したとき、第2弁
装置を閉じた状態で第1弁装置を閉じ、 (c) 第1ポンピング装置内の液体が予め決めた圧力に達
したときは、(i)第2弁装置を開き、第3弁装置を開
いたままにしておき、(ii)第2ポンピング装置がその
充填相を開始し、(iii)第1ポンピング装置がその送り
出し相で操作を続けるので、第1ポンピング装置の部屋
から第2ポンピング装置の部屋へ送り出される液体の容
積が、第2ポンピング装置を充填しながら、予め決めた
体積速度で第3弁装置を通過する液体を生じるように、
第1および第2の弁装置を閉じた状態で第1ポンピング
装置の送り出し相を開始することからなる、液体をガス
に気化する装置。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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| JP9064041A Division JPH1030557A (ja) | 1991-08-28 | 1997-03-18 | 液体放出及び気化システム |
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| DE (1) | DE69228847T2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7163197B2 (en) | 2000-09-26 | 2007-01-16 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, and vaporization performance appraisal method |
| KR102154865B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 폴리우레탄 발포폼 제조용 키트 및 이를 이용한 폴리우레탄 발포폼 제조방법 |
| KR102154867B1 (ko) | 2020-02-07 | 2020-09-10 | 최규술 | 폴리우레탄 발포폼 및 그 제조방법 |
| KR102154864B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼블록 조성물 및 그 제조방법 |
| KR102154863B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼본드 조성물 및 그 제조방법 |
| KR102154866B1 (ko) | 2020-02-07 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼본드 및 그 제조방법 |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2872891B2 (ja) * | 1993-08-06 | 1999-03-24 | 株式会社東芝 | 気化装置 |
| US5660207A (en) * | 1994-12-29 | 1997-08-26 | Tylan General, Inc. | Flow controller, parts of flow controller, and related method |
| US5553188A (en) * | 1995-02-24 | 1996-09-03 | Mks Instruments, Inc. | Vaporizer and liquid delivery system using same |
| US5520215A (en) * | 1995-08-04 | 1996-05-28 | Handy & Harman Automotive Group, Inc. | Pressure regulator and dampener assembly |
| US5851293A (en) * | 1996-03-29 | 1998-12-22 | Atmi Ecosys Corporation | Flow-stabilized wet scrubber system for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations |
| US5873388A (en) * | 1996-06-07 | 1999-02-23 | Atmi Ecosys Corporation | System for stabilization of pressure perturbations from oxidation systems for treatment of process gases from semiconductor manufacturing operations |
| SE509732C2 (sv) * | 1996-06-18 | 1999-03-01 | Tsp Medical Ab | Ånggenerator med reglerad till- och bortförsel av vatten |
| US5785297A (en) * | 1996-07-16 | 1998-07-28 | Millipore Corporation | Valve mechanism |
| US6244575B1 (en) | 1996-10-02 | 2001-06-12 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for vaporizing liquid precursors and system for using same |
| US5835678A (en) * | 1996-10-03 | 1998-11-10 | Emcore Corporation | Liquid vaporizer system and method |
| US5835677A (en) * | 1996-10-03 | 1998-11-10 | Emcore Corporation | Liquid vaporizer system and method |
| US6280793B1 (en) | 1996-11-20 | 2001-08-28 | Micron Technology, Inc. | Electrostatic method and apparatus for vaporizing precursors and system for using same |
| US5820942A (en) * | 1996-12-20 | 1998-10-13 | Ag Associates | Process for depositing a material on a substrate using light energy |
| US6419462B1 (en) | 1997-02-24 | 2002-07-16 | Ebara Corporation | Positive displacement type liquid-delivery apparatus |
| JPH10238470A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-08 | Ebara Corp | 送液装置 |
| US6409839B1 (en) * | 1997-06-02 | 2002-06-25 | Msp Corporation | Method and apparatus for vapor generation and film deposition |
| US5966499A (en) * | 1997-07-28 | 1999-10-12 | Mks Instruments, Inc. | System for delivering a substantially constant vapor flow to a chemical process reactor |
| DE19755643C2 (de) * | 1997-12-15 | 2001-05-03 | Martin Schmaeh | Vorrichtung zum Verdampfen von Flüssigkeit und zum Herstellen von Gas/Dampf-Gemischen |
| US6007330A (en) * | 1998-03-12 | 1999-12-28 | Cosmos Factory, Inc. | Liquid precursor delivery system |
| US6216708B1 (en) | 1998-07-23 | 2001-04-17 | Micron Technology, Inc. | On-line cleaning method for CVD vaporizers |
| IT246360Y1 (it) * | 1998-11-25 | 2002-04-08 | Andrea Gerosa | Dispositivo per produrre istantaneamente vapore |
| JP3844418B2 (ja) * | 1999-02-12 | 2006-11-15 | 株式会社荏原製作所 | 容積式送液装置 |
| WO2000051174A1 (en) | 1999-02-26 | 2000-08-31 | Trikon Holdings Limited | A method of processing a polymer layer |
| JP2000271471A (ja) | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Nippon M K S Kk | 液体ソース供給システム及びその洗浄方法、気化器 |
| JP2001004095A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-09 | Nippon M K S Kk | 気化器 |
| GB2354528B (en) | 1999-09-25 | 2004-03-10 | Trikon Holdings Ltd | Delivery of liquid precursors to semiconductor processing reactors |
| JP2003503849A (ja) | 1999-06-26 | 2003-01-28 | トリコン ホールディングス リミティド | 基材上にフィルムを形成する方法及び装置 |
| KR100649852B1 (ko) * | 1999-09-09 | 2006-11-24 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기화기 및 이것을 이용한 반도체 제조 시스템 |
| US6299076B1 (en) | 2000-03-10 | 2001-10-09 | Jeffrey E. Sloan | Steam cleaning system |
| CA2327012C (en) | 2000-11-28 | 2006-09-26 | Duncan Wade | Diaphragm for a diaphragm pump |
| US6827479B1 (en) * | 2001-10-11 | 2004-12-07 | Amphastar Pharmaceuticals Inc. | Uniform small particle homogenizer and homogenizing process |
| JP2004183678A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Nippon M K S Kk | 電磁バルブ |
| US6957512B2 (en) * | 2003-11-24 | 2005-10-25 | Smithers-Oasis Company | Method for the propogation of and aeroponic growing of plants and vessels therefor |
| US7569193B2 (en) | 2003-12-19 | 2009-08-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants |
| US7736599B2 (en) | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
| US8197231B2 (en) | 2005-07-13 | 2012-06-12 | Purity Solutions Llc | Diaphragm pump and related methods |
| CN101300411B (zh) | 2005-10-31 | 2012-10-03 | 应用材料公司 | 制程减降反应器 |
| US20070175392A1 (en) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | American Air Liquide, Inc. | Multiple precursor dispensing apparatus |
| US20070194470A1 (en) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Aviza Technology, Inc. | Direct liquid injector device |
| DE102007047682B4 (de) | 2007-10-05 | 2013-07-11 | Webasto Ag | Verfahren zum Pumpen einer Flüssigkeit und Verdrängerpumpe mit zwei Pumpkammern |
| CN102042480A (zh) * | 2010-11-24 | 2011-05-04 | 安徽省电力科学研究院 | 用于发电机组氢气置换的二氧化碳气化器 |
| CN102494546B (zh) * | 2011-12-16 | 2013-03-13 | 亿恒节能科技江苏有限公司 | 空气加热盘管组冷凝水余热一效闪蒸利用系统 |
| US9610392B2 (en) | 2012-06-08 | 2017-04-04 | Fresenius Medical Care Holdings, Inc. | Medical fluid cassettes and related systems and methods |
| US9877509B2 (en) * | 2014-03-31 | 2018-01-30 | Westfield Limited (Ltd.) | Micro-vaporizer heating element and method of vaporization |
| US20160123313A1 (en) * | 2014-11-05 | 2016-05-05 | Simmons Development, Llc | Pneumatically-operated fluid pump with amplified fluid pressure, and related methods |
| CN111927559B (zh) * | 2020-07-27 | 2021-05-11 | 北京航天发射技术研究所 | 一种气体喷射膨胀作动系统及控制方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2581442A2 (fr) * | 1979-08-03 | 1986-11-07 | Brenot Claude | Generateur de vapeur a evaporation directe |
Family Cites Families (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE98324C (ja) * | ||||
| US1939783A (en) * | 1931-02-20 | 1933-12-19 | Elmer F Knowles | Self contained vapor engine |
| US2528440A (en) * | 1948-06-16 | 1950-10-31 | Mcdonnell & Miller Inc | Safety relief valve construction |
| US2673525A (en) * | 1949-05-27 | 1954-03-30 | William Edward Hann | Pump |
| US2631538A (en) * | 1949-11-17 | 1953-03-17 | Wilford C Thompson | Diaphragm pump |
| DE944669C (de) * | 1951-10-23 | 1956-06-21 | Knapsack Ag | Verfahren zur Rueckgewinnung der beim Verpumpen von tiefsiedenden verfluessigten Gasen entstehenden Abgase |
| FR1089500A (fr) * | 1953-12-17 | 1955-03-17 | Générateur de vapeur | |
| FR1113576A (fr) * | 1954-11-19 | 1956-03-30 | Générateur électrique de vapeur sous pression | |
| US2949768A (en) * | 1957-05-07 | 1960-08-23 | Standard Oil Co | Vacuum equilibrium flash vaporization equipment |
| US3119004A (en) * | 1960-12-12 | 1964-01-21 | Serafim M Koukios | Flash chamber |
| US3151562A (en) * | 1962-04-25 | 1964-10-06 | Charles A Swartz | Pump device |
| GB1122785A (en) * | 1965-08-26 | 1968-08-07 | George Frank Hare | Improvements in fluid pressure valves |
| US3529622A (en) * | 1968-04-22 | 1970-09-22 | Anderson Greenwood & Co | Balanced pressure responsive valve |
| US3583440A (en) * | 1968-11-26 | 1971-06-08 | Sven E Andersson | Automatic metering valve |
| FR2188696A5 (ja) | 1972-06-02 | 1974-01-18 | Commissariat Energie Atomique | |
| JPS5540761B2 (ja) * | 1975-03-08 | 1980-10-20 | ||
| US4093406A (en) * | 1976-08-25 | 1978-06-06 | Applied Power Inc. | Fluid operated hydraulic pump including noise reduction means |
| US4269569A (en) * | 1979-06-18 | 1981-05-26 | Hoover Francis W | Automatic pump sequencing and flow rate modulating control system |
| FR2462654A1 (fr) * | 1979-08-03 | 1981-02-13 | Brenot Claude | Generateur de vapeur a evaporation directe et application aux presses a repasser |
| US4352636A (en) * | 1980-04-14 | 1982-10-05 | Spectra-Physics, Inc. | Dual piston pump |
| CA1145728A (en) * | 1981-04-21 | 1983-05-03 | Antonio Gozzi | Three or four stage gas compressor |
| US4620562A (en) * | 1982-09-28 | 1986-11-04 | Butterworth, Inc. | High pressure regulator valve |
| US4493614A (en) * | 1982-10-08 | 1985-01-15 | Lifecare Services, Inc. | Pump for a portable ventilator |
| US4583920A (en) * | 1983-12-28 | 1986-04-22 | M&T Chemicals Inc. | Positive displacement diaphragm pumps employing displacer valves |
| US4634099A (en) * | 1985-05-17 | 1987-01-06 | Nupro Company | High pressure inverted bellows valve |
| JPH0673651B2 (ja) * | 1986-10-31 | 1994-09-21 | トリニテイ工業株式会社 | 塗布剤供給装置 |
| JPS6460795A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Toshiba Corp | Rotary compressor |
| DE3785207T2 (de) * | 1987-09-26 | 1993-07-15 | Hewlett Packard Gmbh | Pumpvorrichtung zur abgabe von fluessigkeit bei hohem druck. |
| US4936342A (en) * | 1988-01-27 | 1990-06-26 | Mitsuba Electric Manufacturing Co., Ltd. | Fuel pressure control valve device |
| JPH0211984A (ja) * | 1988-05-04 | 1990-01-17 | Nupro Co | 流体作動形弁アクチュエータ及び弁 |
| IT1226303B (it) * | 1988-07-26 | 1990-12-27 | Montedipe Spa | Processo ed apparato per la devolatilizzazione di soluzioni di polimeri. |
| US4950134A (en) * | 1988-12-27 | 1990-08-21 | Cybor Corporation | Precision liquid dispenser |
| US5098741A (en) * | 1990-06-08 | 1992-03-24 | Lam Research Corporation | Method and system for delivering liquid reagents to processing vessels |
| US5204314A (en) * | 1990-07-06 | 1993-04-20 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for delivering an involatile reagent in vapor form to a CVD reactor |
| DE4029071C2 (de) * | 1990-09-13 | 1994-03-31 | Massah Sobhy Ahmed Dipl Ing El | Vorrichtung zum Verdampfen von flüssigen Produkten, Verfahren zum Betreiben der Vorrichtung sowie Verwendung der Vorrichtung als Dampferzeuger oder Kondensator |
| US5205722A (en) * | 1991-06-04 | 1993-04-27 | Hammond John M | Metering pump |
| US5193575A (en) * | 1992-03-13 | 1993-03-16 | Dresser-Rand | Adjustable differential pressure valve |
-
1991
- 1991-08-28 US US07/751,173 patent/US5371828A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-07-29 DE DE69228847T patent/DE69228847T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-29 EP EP92112946A patent/EP0529334B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-26 KR KR1019920015361A patent/KR0167568B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-28 JP JP4229801A patent/JP2693092B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-07-23 US US08/097,271 patent/US5361800A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-03-22 US US08/216,490 patent/US5437542A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-18 JP JP06404297A patent/JP3296749B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-18 JP JP9064040A patent/JPH1030556A/ja active Pending
- 1997-03-18 JP JP9064041A patent/JPH1030557A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2581442A2 (fr) * | 1979-08-03 | 1986-11-07 | Brenot Claude | Generateur de vapeur a evaporation directe |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7163197B2 (en) | 2000-09-26 | 2007-01-16 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, and vaporization performance appraisal method |
| US7422198B2 (en) | 2000-09-26 | 2008-09-09 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method |
| US7637482B2 (en) | 2000-09-26 | 2009-12-29 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method |
| US7731162B2 (en) | 2000-09-26 | 2010-06-08 | Shimadzu Corporation | Liquid substance supply device for vaporizing system, vaporizer, vaporization performance appraisal method |
| KR102154867B1 (ko) | 2020-02-07 | 2020-09-10 | 최규술 | 폴리우레탄 발포폼 및 그 제조방법 |
| KR102154866B1 (ko) | 2020-02-07 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼본드 및 그 제조방법 |
| KR102154865B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 폴리우레탄 발포폼 제조용 키트 및 이를 이용한 폴리우레탄 발포폼 제조방법 |
| KR102154864B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼블록 조성물 및 그 제조방법 |
| KR102154863B1 (ko) | 2020-03-17 | 2020-09-10 | 최규술 | 준불연 폴리우레탄 폼본드 조성물 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3296749B2 (ja) | 2002-07-02 |
| JP2693092B2 (ja) | 1997-12-17 |
| EP0529334B1 (en) | 1999-04-07 |
| KR0167568B1 (ko) | 1999-01-15 |
| US5361800A (en) | 1994-11-08 |
| JPH1030556A (ja) | 1998-02-03 |
| US5437542A (en) | 1995-08-01 |
| JPH1030557A (ja) | 1998-02-03 |
| JPH1030558A (ja) | 1998-02-03 |
| DE69228847T2 (de) | 1999-08-05 |
| EP0529334A3 (ja) | 1994-02-23 |
| DE69228847D1 (de) | 1999-05-12 |
| KR930004735A (ko) | 1993-03-23 |
| EP0529334A2 (en) | 1993-03-03 |
| US5371828A (en) | 1994-12-06 |
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