JPH05254837A - 四塩化チタンの製造方法 - Google Patents
四塩化チタンの製造方法Info
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- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims abstract description 123
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 23
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 77
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 16
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 16
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 3
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/02—Halides of titanium
- C01G23/022—Titanium tetrachloride
- C01G23/024—Purification of tetrachloride
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
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Abstract
チタンガスを精製して高純度の四塩化チタンを製造する
方法であって、非凝縮性ガスを含有した粗四塩化チタン
ガスと精製四塩化チタン液とを分離精製塔において接触
させて該粗四塩化チタンガスを精製する。 【効果】通常の蒸留精製で得られる四塩化チタンと同程
度の純度を有する四塩化チタンが得られ、しかも、蒸留
精製に使われる熱エネルギーが不要であるためエネルギ
ーコストが低く、蒸留精製に使われるリボイラーなどの
装置が不要となって精製工程が簡略化でき、スケーリン
グなどによる稼働率低下もなくなるなど、蒸留精製の方
法に代わる簡便、かつ、工業的な方法である。
Description
化して得られる粗四塩化チタンを精製して高純度の四塩
化チタンを製造する方法に関する。
属チタンの原料として、また、ジエン、α−オレフィ
ン、エチレンなどの重合触媒として用いられる有用なも
のである。一般に四塩化チタンは、チタン含有鉱石をコ
ークスなどの還元剤の存在下に900〜1100℃の温
度で塩素ガスと反応させて得られる。こうして得られる
四塩化チタンガスには、普通、鉱石中の不純物に由来す
る種々の塩化物、細粒化した鉱石、コークス、一酸化炭
素、二酸化炭素などが含まれており、このために粗四塩
化チタンと称されている。この粗四塩化チタンガスは、
たとえば、200℃近くに冷却してガス中に含まれる不
純物の塩化物ガスを固体状物として析出させ、他の懸濁
固体状不純物と共に固−気分離器で分離、除去し、その
後、四塩化チタンの沸点以下の温度にまで冷却して四塩
化チタンを液化し、一酸化炭素、二酸化炭素などの副生
ガスを分離、除去した後、次いで、該四塩化チタン液を
蒸留して精製するのが普通である。
方法では、四塩化チタン液を沸騰させるのに多量の熱エ
ネルギーが必要となるため、熱エネルギーを余り必要と
しない、より低コストの製造方法が望まれている。ま
た、前記の蒸留精製による方法では、蒸留精製工程内に
残留した不純物が設備や配管などを閉塞したりするなど
の問題がある。
化チタンの製造法、特に粗四塩化チタンの精製方法に関
する。本発明者等は、従来の蒸留精製の方法に代わる簡
便、かつ、工業的な方法を種々検討した結果、チタン含
有鉱石を塩素化して得られる非凝縮性ガスを含有した粗
四塩化チタンガスを分離精製塔の下部から導入し、上部
から精製四塩化チタン液を散布し、より望ましくは、該
分離精製塔の中間部からも粗四塩化チタン液を散布して
粗四塩化チタンガスと接触させることにより、粗四塩化
チタンガスに同伴した非凝縮性ガスが存在した状態でも
粗四塩化チタンガスに含まれている各種の不純物を分離
精製塔内で分離することができることを見出し、本発明
に到達したものである。従来法では、粗四塩化チタンガ
スの凝縮工程と粗四塩化チタン液の蒸留工程などの複数
の工程で処理していたため、工程が複雑になったり各設
備や配管の閉塞の問題を抱えていた。さらに、粗四塩化
チタンガスを一旦液化し、その後、加熱、蒸発させて蒸
留していたために多量の熱エネルギーを必要としていた
が、本発明によれば、分離工程と蒸留工程とを一体化し
た分離精製塔を用い、この中に導入する粗四塩化チタン
ガスのもつ顕熱、潜熱を利用することができるので、蒸
留精製に使われる熱エネルギーが不要となってエネルギ
ーコストを低くすることができ、また、蒸留精製に使わ
れるリボイラーなどの装置が不要となるため精製工程が
簡略化できる。すなわち、本発明は、チタン含有鉱石を
塩素ガスと反応させて得られる粗四塩化チタンガスを分
離精製塔内で四塩化チタン液と接触させて不純物を分離
し、精製することを特徴とする四塩化チタンの製造方法
であり、粗四塩化チタンを簡便に、かつ、工業的に精製
して高純度の四塩化チタンを製造する方法を提供するも
のである。
チタン含有鉱石を塩素ガスで塩素化して生じる通常70
0〜900℃の高温ガスを150〜250℃程度まで冷
却したガスであり、これには、チタン含有鉱石中に含ま
れる不純物に由来する各種の塩化物の他に、一酸化炭
素、二酸化炭素、塩化水素、窒素などのガス状不純物や
未反応のチタン含有鉱石や還元剤などの固体状不純物が
含まれている。本発明では、種々の不純物を含有した状
態の粗四塩化チタンガスを分離精製塔の下部から導入
し、該分離精製塔の上部から四塩化チタン液を散布して
粗四塩化チタンガスと接触させることにより、不純物を
含まない高純度の四塩化チタンガスを該分離精製塔の頂
部より回収する。特に、本発明においては、分離精製塔
の上部から精製四塩化チタン液を散布し、該分離精製塔
の中間部から粗四塩化チタン液を散布することにより、
より効率的に不純物を分離することができる。
発明の分離精製塔から排出する高純度四塩化チタン液で
あり、普通四塩化チタン濃度が99.5重量%以上のも
のである。また、粗四塩化チタン液とは、例えば塩化炉
で生成する粗四塩化チタンガスを凝縮、液化して得られ
るものであり、不純物を含む、低純度の四塩化チタン液
である。精製四塩化チタン液の分離精製塔への散布量
は、粗四塩化チタンガスの導入量、粗四塩化チタンガス
の温度、粗四塩化チタンガスに含有する不純物量、分離
精製塔内の圧力、分離精製塔出口温度、精製四塩化チタ
ン液の温度などにより適宜設定することができる。
四塩化チタン液を散布し、分離精製塔の下部から導入し
た粗四塩化チタンガスと接触させる。より望ましくは、
まず分離精製塔の中間部から粗四塩化チタン液を散布し
て分離精製塔の下部から導入した粗四塩化チタンガスと
接触させて該粗四塩化チタンガスに懸濁した固体状不純
物を除去し、引続き、分離精製塔の上部から散布する精
製四塩化チタン液に接触させて高沸点化合物を除去する
のが工業的であり、望ましい。なお、チタン含有鉱石を
塩素化して得られた粗四塩化チタンガスは、分離精製塔
に導入する前に、サイクロンなどで固−気分離して、粗
四塩化チタンガスに懸濁した固体状不純物をできるだけ
除去しておくことが好ましい。
ンガスには一酸化炭素、二酸化炭素などの非凝縮性ガス
が同伴しているので、この後0〜−30℃の温度に冷却
して精製四塩化チタンガスを凝縮液化させ、非凝縮性ガ
スと分離する。このように精製して得られた四塩化チタ
ン液は回収され、一部は分離精製塔の上部に還流液とし
て循環使用される。
1は、本発明に関する四塩化チタンの分離精製装置の主
要部分を示す。チタン含有鉱石を塩素ガスと反応して得
られた粗四塩化チタンガスは、高温であると同時に一酸
化炭素、二酸化炭素、塩化水素、窒素などのガスや鉱
石、コークスの微粉その他塩化物等の不純物を含んでい
る。供給管1で導入された粗四塩化チタンガスは、中間
タンク16より送られてきた粗四塩化チタン液をスプレ
ーされて急速に冷却され四塩化チタンより高沸点側にあ
る塩化物を固体として析出させ、サイクロン3にて大部
分の固形分を分離し排出せしめる。しかし、微細な粒子
は完全に分離されず一部はそのまま非凝縮性ガス、粗四
塩化チタンガスと共に分離精製塔6に入る。分離精製塔
の下部では粗四塩化チタン液が中間タンク16より配管
17を通って循環されており、分離精製塔6に入った粗
四塩化チタンガスは、この粗四塩化チタンの循環液と十
分接触し、ガス中の固形分を液中に捕捉する。前記循環
液に捕捉された固形分は、配管2を通り粗四塩化チタン
ガス中にスプレーされ、サイクロン3より系外に排出さ
れる。なお、粗四塩化チタンの循環液の配管17には熱
交換器を設置する必要がなく、また、分離捕捉すべき固
形分の量により、粗四塩化チタン液の流量を自由に調節
することができる。
た粗四塩化チタンガスは、非凝縮性ガスと共に分離精製
塔上部の精製部へ移行し、配管15から供給、散布され
る精製四塩化チタン液と接触しながら精製される。塔頂
より流出したガスは、配管7を通り水冷熱交換器8で冷
却され精製四塩化チタン液となる。得られた精製四塩化
チタン液の一部は分配タンク9より分離精製塔へ還流さ
れ、残部はストレージタンク13に貯えられる。分配タ
ンク9で分離された非凝縮ガスにはまだ四塩化チタンガ
スが含まれているので、冷凍機により冷却されたブライ
ンクーラー11を通じて、四塩化チタンを完全に凝縮、
液化させ、回収し、一方非凝縮性ガスはガス分離器12
を通って適当な処理設備に送られる。
腐食が発生する場合、またはバナジウム不純物の除去が
不完全な場合は、中間タンク16または循環配管17に
水、石鹸、油などを添加してもよい。
チタンガスに120℃の温度の粗四塩化チタン液103
18Kg/hrを配管2より散布して、粗四塩化チタン
ガスを200℃の温度に冷却した後、サイクロン3に導
入し固形分を分離し、引続き、分離精製塔(直径1m、
高さ15.7m)の下部に導入した。分離精製塔の中間
部には、120℃の温度の粗四塩化チタンの循環液が1
00m3/hrの流量で配管17を通して供給、散布さ
れ、さらに40℃の温度の精製四塩化チタンの循環液が
10002Kg/hrの流量で分離精製塔の上部から配
管15を通して供給、散布され、導入された該粗四塩化
チタンガスと接触して粗四塩化チタンガスが精製され
た。分離精製塔の塔頂から排出された精製四塩化チタン
ガスの温度は126℃であった。次に、分離精製塔の塔
頂から排出された精製四塩化チタンガスを水冷熱交換器
8に導入して凝縮させ、さらに、未凝縮の精製四塩化チ
タンガスをブラインクーラー11に導入して凝縮、液化
させ、ストレージタンク13より本発明の四塩化チタン
液(試料A)を回収した。
得られた粗四塩化チタンガスに120℃の温度の粗四塩
化チタン液10318Kg/hrを散布して、粗四塩化
チタンガスを200℃の温度に冷却した後、サイクロン
で固体状不純物を分離、除去した。引続き、粗四塩化チ
タンガスを冷却塔に導入し、この中で粗四塩化チタン液
と接触させて凝縮、液化させ、非凝縮性ガスを分離し
た。次いで、得られた粗四塩化チタン液を通常の蒸留精
製操作にて精製し、四塩化チタン液(試料B)を回収し
た。
A、Bをそれぞれ分析した。その結果を表1に示す。表
1から明らかなように、本発明で得られた四塩化チタン
液Aは、従来の方法である比較例で得られた四塩化チタ
ン液Bと同程度の純度を有するものであった。なお、本
発明で得られた四塩化チタンを気相酸化して得られた二
酸化チタン顔料は、従来の方法で得られた四塩化チタン
を気相酸化して得られたものと同程度の顔料特性を有す
るものであった。比較例においては、粗四塩化チタンガ
スをまず冷却塔(分離塔)で処理し、引続き、蒸留精製
処理するのに対し、実施例では分離精製塔のみで処理す
ることができるので、精製設備が簡略化されると共に熱
エネルギーコストの大幅な削減ができた。
得られる粗四塩化チタンガスを精製して高純度の四塩化
チタンを製造する方法であって、非凝縮性ガスを含有し
た粗四塩化チタンガスと四塩化チタン液とを、分離塔と
蒸留塔とを一体化した分離精製塔において接触させて、
粗四塩化チタンガスのもつ顕熱、潜熱を利用して直接精
製する方法であり、通常の蒸留精製で得られる四塩化チ
タンと同程度の純度を有する四塩化チタンが得られる。
しかも、蒸留精製に使われる熱エネルギーが不要である
ためエネルギーコストが低く、蒸留精製に使われるリボ
イラーなどの装置が不要となって精製工程が簡略化で
き、スケーリングなどもなくなるなど、通常の蒸留精製
の方法に代わる簡便、かつ、工業的な方法である。
明図である。
Claims (2)
- 【請求項1】チタン含有鉱石を塩素ガスと反応させて得
られる粗四塩化チタンガスを分離精製塔内で四塩化チタ
ン液と接触させて不純物を分離し、精製することを特徴
とする四塩化チタンの製造方法。 - 【請求項2】チタン含有鉱石を塩素ガスと反応させて得
られる粗四塩化チタンガスを分離精製塔内で粗四塩化チ
タン液と接触させ、次に精製四塩化チタン液と接触させ
て不純物を分離し、精製することを特徴とする四塩化チ
タンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08616192A JP3247420B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 四塩化チタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08616192A JP3247420B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 四塩化チタンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05254837A true JPH05254837A (ja) | 1993-10-05 |
| JP3247420B2 JP3247420B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=13879025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08616192A Expired - Lifetime JP3247420B2 (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 四塩化チタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3247420B2 (ja) |
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| JP2009046337A (ja) * | 2007-08-16 | 2009-03-05 | Osaka Titanium Technologies Co Ltd | TiCl4の製造方法および装置 |
| CN103011268A (zh) * | 2012-12-21 | 2013-04-03 | 天津大学 | 四氯化钛提纯系统及方法 |
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1992
- 1992-03-10 JP JP08616192A patent/JP3247420B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3247420B2 (ja) | 2002-01-15 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 7 |
|
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|
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
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