JPH05256791A

JPH05256791A - 基板の欠陥検査装置

Info

Publication number: JPH05256791A
Application number: JP4055543A
Authority: JP
Inventors: Atsuhiko Kato; 敦彦加藤; Kouzou Katou; 江三加藤
Original assignee: Komatsu Ltd
Current assignee: Komatsu Ltd
Priority date: 1992-03-13
Filing date: 1992-03-13
Publication date: 1993-10-05

Abstract

(57)【要約】【目的】基板表面の欠陥を正確に検査する。【構成】予め、基板表面１ａの撮像画像の全画素をパタ
ーン２を示す画素と背景３を示す画素とに分離するため
の所定の明度が決定され、パターン２を示す画素の明度
範囲も決定される。しかる後に、検査対象である基板表
面１ａが撮像され、この撮像画像の中から所定の明度以
上の画素が除去される。そして除去された残りの画素の
明度が上記決定された明度範囲外にあることを判断す
る。しかして、明度範囲外にあると判断された画素をパ
ターン２の欠陥部分であると判定する。背景３の欠陥部
分も同様にして判定される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子回路のプリント配
線基板におけるプリント配線パターン、液晶基板におけ
る電極パターンなど、基板上の所定の形状のパターンの
欠陥および該パターン以外の基板表面の欠陥の検査を自
動的に行う装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子回路における配線パターンや液晶基
板におけるＩＴＯ（透明電極）パターンは、導電材を基
板に付着する工程、エッチング工程等における不具合に
起因してパターンの「細り」、「太り」、「断線」、
「ショート」等の欠陥を生じることがある。また、パタ
ーン以外の基板表面（以下「背景」という）も上記不具
合に起因して同様な欠陥を生じることがある。このた
め、かかるパターンおよび背景の欠陥の検査を行い、基
板が良品であるか不良品であるかを判定して良品のみを
出荷することが製品の品質保証上不可欠である。かかる
欠陥の検査は、人間が顕微鏡を覗くことにより目視で行
っているのが現状であり、自動化は開発途上の段階であ
る。

【０００３】一方において、近年のパターン成形技術の
発達により、パターンの微細化の傾向が一層進んでい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、人間による検
査は集中力の持続の限界等により間違いが出易く、人間
の判断であるため正確さの点で難点がある。また、その
判断にも作業者ごとにバラツキがある。また、作業速度
の点でも充分とは言えず、作業にかかるコストが大であ
るという問題もある。しかも、近年のパターン微細化の
傾向に対応してこうした問題はより深刻となっている。

【０００５】本発明はこうした実状に鑑みてなされたも
のであり、パターン微細化の傾向に対応でき、基板の欠
陥の検査を正確かつ迅速に、しかも低コストで行うこと
ができる基板の欠陥検査装置を提供することをその目的
としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】そこで、この発明では、
所定形状のパターンが基板上に形成された基板表面を撮
像することにより、前記基板表面のうち前記パターンを
暗画像として、前記パターンを除いた背景を明画像とし
て捕らえ、これら明暗画像に基づき前記パターンの欠陥
を検査するようにした基板の欠陥検査装置において、予
め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示す
画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を決
定するとともに、前記パターンを示す画素の明度範囲を
決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮
像して得られた画像の中から前記所定の明度以上の明度
の画素を除去し、該除去された残りの画素の明度が前記
明度範囲外にあることを判断する判断手段とを具え、前
記判断手段によって前記明度範囲外にあると判断された
画素を前記パターンの欠陥部分であると判定している。

【０００７】また、同様な構成により、背景の欠陥部分
も判定される。

【０００８】

【作用】予め、基板表面の撮像画像の全画素をパターン
を示す画素と背景を示す画素とに分離するための所定の
明度が決定され、パターンを示す画素の明度範囲も決定
される。しかる後に、検査対象である基板表面が撮像さ
れ、この撮像画像の中から所定の明度以上の画素が除去
される。そして除去された残りの画素の明度が上記決定
された明度範囲外にあることを判断する。しかして、明
度範囲外にあると判断された画素をパターンの欠陥部分
であると判定する。背景の欠陥部分も同様にして判定さ
れる。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る基板の欠
陥検査装置の実施例について説明する。

【００１０】図１は実施例装置の構成を示す。

【００１１】同図に示すようにＸーＹテーブル４の上に
は、欠陥検査対象である基板１（プリント配線基板等）
が載置されており、基板１がＸーＹ２次元平面内を任意
に移動され得るようになっている。基板１の表面１ａに
は、所定形状のパターン２が形成されており、基板表面
１ａは、このパターン２とパターン２を除いた背景３と
から構成されている。ＣＣＤカメラ５は顕微鏡６を介し
て基板表面１ａを拡大して撮像するものであり、基板表
面１ａのうちパターン２を暗画像として、つまりパター
ン２の各画素を、明度の階調レベルが低いレベルのもの
として捕らえる。また、カメラ５は、基板表面１ａのう
ち背景３に対応する部分を明画像として、つまり背景３
の各画素を、明度の階調レベルが高いレベルのものとし
て捕らえる。かかる画像信号は画像処理装置７に出力さ
れる。画像処理装置７は、図示しないが、画像信号をデ
ィジタル化するＡ／Ｄ変換器およびこのディジタル化さ
れた画像を記憶するフレーム・メモリおよびこの記憶画
像の解析処理を行うＣＰＵおよび周辺論理回路および記
憶画像をモニタＴＶ８に出力するためのＤ／Ａ変換器お
よび外部機器（ＸーＹテーブル４等）と通信を行うため
のＩ／Ｏ、図表、メニュー等をモニタＴＶ８にスーパー
インポーズする信号重畳部等から構成されている。画像
処理装置７には、モニタＴＶおよびトラックボール９が
接続されており、トラックボール９がオペレータにより
操作されることによってモニタＴＶ８の画面上において
対話処理が行なわれ、モニタＴＶ８の画面上に対話処理
の結果が表示される。

【００１２】なお、かかる構成において基板１が小さ
く、一度に表面１ａ全体の撮像画像を取得することがで
きるような場合にはＸーＹテーブル４におけるＸ−Ｙ移
動機構を省略するような実施も可能である。また、基板
表面１ａを拡大する必要のない基板１にあっては顕微鏡
６をが省略するようにしてもよい。

【００１３】図２はモニタＴＶ８の画面上に表示された
基板表面１ａの撮像画像を例示する。同図に示すよう
に、パターン２が黒い色彩の暗画像として、背景３が白
い色彩の明画像として表示される。なお、パターン２と
背景３とはコントラストよく撮像できればよく、照明の
当て方や基板１の材質によっては、パターン２を白い明
画像として、背景３を黒い暗画像として撮像、表示する
ような実施も当然可能である。

【００１４】つぎに、画像処理装置７内の上記ＣＰＵに
おいて実行される処理を図５、図６に示すフローチャー
トを参照して説明する。

【００１５】・前処理（図５）オペレータはまず、基板
１として欠陥のない良品サンプルを選択してこれを撮像
する。この結果、ＴＶ８の画面上に撮像画像が表示され
る（ステップ１０１）。ついでＴＶ８画面上にスーパー
インポーズされた「探査領域設定」メニューがトラック
ボール９を操作することにより選択される（図２参
照）。すると、画面上に図示せぬ長方形の箱型カーソル
が現れる。このカーソルの大きさと位置をトラックボー
ル９を操作して調節することにより、画面上の撮像画像
のうち、所望の検査対象領域が設定される。しかしてカ
ーソルによって囲まれた領域における各画素の明度の度
数分布が図３に示すようヒストグラムとして画面上に表
示される。

【００１６】図３は、探査領域における各画素の明度Ｍ
を横軸、対応する画素数Ｎを縦軸とする明度度数分布で
ある。同図に示すように明度度数分布は、パターン２に
対応する比較的明度の低い部分に位置される山１０と、
背景３に対応する比較的明度の高い部分に位置される山
１１とに分離される。ついで、画面上の「背景分離」メ
ニューが選択され（図２参照）、山１０と山１１とを分
離するための明度のしきい値が決定される。すなわち、
画面上の明度度数分布を目視してトラックボール９を操
作することにより２つの山１０、１１の中間位置Ｍ´を
しきい値として決定する。

【００１７】ここで、しきい値Ｍ´は、固定しきい値と
周囲の明るさの変動に追従する相対しきい値の両者を選
択できるようになっている。固定しきい値とは、しきい
値を明度の絶対値として記憶するものである。一方、相
対しきい値とは、明度の絶対値ではなく、山１０、１１
の面積の何％の位置にしきい値を設けたかを記憶するも
のである。したがって、相対しきい値によれば、撮像画
像が異なり、分布が異なったとしても分布の変化に応じ
たしきい値が設定されることになる。

【００１８】このようにしてしきい値Ｍ´が決定された
ならばこのしきい値Ｍ´よりも明度の高い画素が「背景
３に対応する画素」として、しきい値Ｍ´よりも明度が
低い画素が「パターン２に対応する画素」としてそれぞ
れ記憶される。後述するようにパターン２の欠陥の検査
を行うときには、上記「背景３に対応する記憶画素」が
マスクされ、また背景３を検査するときには上記「パタ
ーン２に対応する記憶画素」がマスクされる（ステップ
１０２）。

【００１９】つぎに、「パターン良品範囲」メニューが
選択され（図２参照）、欠陥のないパターン２を示す画
素の明度の上限および下限が決定される。すなわち、図
３に示すようにパターン２として欠陥がなければ、その
山１０は下限をＭ1 および上限をＭ2 とする所定の明度
範囲内に各画素が分布しており、かかる下限値Ｍ1 およ
び上限値Ｍ2 がトラックボール９で指定される。したが
って、後述するようパターン２を示す画素につき、この
明度範囲からはみでたものがあれば、その画素部分は欠
陥であると判定される。たとえば、明度範囲の上限値Ｍ
2 を超えた明るい画素が混じっていれば、対応する画素
部分はパターン２の「切れ」と判断されるし、逆に明度
範囲の下限値Ｍ1 よりも低い暗い画素があれば、対応す
る画素部分は「異物混入」と判定されることになる（ス
テップ１０３）。

【００２０】しかし、背景３を含む撮像領域のすべての
画素についてかかる判定を一義的に行うとすると、背景
３に対応する画素全てが、欠陥であると判定されてしま
う。そこで、予め背景３であるとわかっている画素部分
は、予め判定の対象から除外すべく、パターン２の検査
にあたり背景をマスクする処理がなされる。このマスク
処理においては、マスクすべき画素を、上記ステップ１
０２で設定されたしきい値Ｍ´よりも高い明度に対応す
る画素としてもよい。しかし、これでは検査基準が厳格
すぎることがある。すなわち、通常はパターン幅はサン
プルによって多少のバラツキを持ち、背景３に対応する
画素のみをそのままマスクにすると、良品サンプルに比
べてパターンが少しでも細るとマスクからはみでた背景
部分が全部欠陥として検出されてしまう。そこで、背景
マスクを所定の画素分少し膨らませる必要があり、適切
な設定がなされる。膨張処理にあたってはいわゆるモフ
ォロジの手法を用いた膨張、収縮フィルタが使われる。
また、背景マスクを何画素分膨張させるかはパターン幅
のバラツキをどこまで許容するかで決定する（ステップ
１０４）。

【００２１】つぎに、上記ステップ１０３と同様にし
て、図３に示すように欠陥のない背景３を示す明度の範
囲Ｍ3 〜Ｍ4 が決定される。この結果、この明度範囲の
下限値Ｍ3 よりも低い暗い画素部分を「パターンのはみ
出し、ショート」、上限値Ｍ4よりも高い明るい画素部
分を「異物混入、ピンホール」の欠陥であると判定する
ことができるようになる（ステップ１０５）。そしてス
テップ１０４と同様にして、背景３の欠陥の検査をする
際のパターンのマスクの膨張の設定処理がなされ、少々
のパターン太りがあっても正確な検査がなされるように
される（ステップ１０６）。

【００２２】以上のようにして欠陥のない良品サンプル
に基づき検査の基準となるしきい値Ｍ´および検査の基
準となる明度範囲Ｍ1 〜Ｍ2 、Ｍ3 〜Ｍ4 および膨張設
定がなされたならば、かかる基準を適用したテストが実
行される。すなわち、画面上で「実行テスト」メニュー
が選択され（図２参照）、いくつかのサンプルが実際に
撮像される。そして、図３に示すものと同様な明度度数
分布が得られ、しきい値Ｍ´により探索領域の画素が、
パターン２に対応する画素と背景３に対応する画素とに
分離される。パターン２の検査は、しきい値Ｍ´以上の
明度を有する画素に加えて上記ステップ１０４で設定さ
れた画素分だけ膨張された分がマスクされて実行され
る。マスクされた後の残りの画素につき明度範囲Ｍ1 〜
Ｍ2 内にあるか否かが判断される。この結果、明度範囲
外であると判断された画素が画面上で点滅表示される。
ここで、画素数により制限を付与するようにしてもよ
い。たとえば、明度範囲外であると判断された画素が１
画素であれば、欠陥なしと判定し、２画素以上の互いに
隣接する数画素につき明度範囲外であればはじめて欠陥
ありと判定するように基準を設定することができる。

【００２３】同様にしていくつかのサンプルを用いて背
景３の欠陥の判定もなされる（ステップ１０７）。

【００２４】この結果、欠陥の検査が満足できるもので
あれば、ステップ１０２〜１０６で設定された検査基準
は適切なものであると判断して（ステップ１０８の判断
ＹＥＳ）、つぎの自動運転（ステップ１０９）に移行さ
れるが、欠陥の検査が実状とかけ離れており満足できな
いものであれば、ステップ１０２〜１０６で設定された
検査基準は適切ではなかったと判断して（ステップ１０
８の判断ＮＯ）、検査基準の設定し直しをすべく再びス
テップ１０２〜１０８の処理が再度繰り返し実行され
る。こうして適切なしきい値Ｍ´等の検査基準が設定さ
れたならば、良品とは限らない基板１の欠陥の検査をす
べく図６に示す自動運転に移行される。

【００２５】すなわち、画面上の「自動運転」メニュー
が選択され（図２参照）、基板１の表面１ａが撮像され
る。この場合、ＸーＹテーブル４により基板１が所定位
置に位置決めされ、表面１ａのうち所定の領域が撮像画
像として撮像され、ＴＶ８の画面上に表示される。な
お、自動運転では、画像処理装置７における画像処理と
ＸーＹテーブル４の移動機構の制御が同期しながら実行
される（ステップ２０１）。

【００２６】しかして、図３に示すものと同様な明度度
数分布が図４（ａ）に示すように取得される。ここで、
山１２はパターン２を示す山であり、山１３は背景３を
示す山である。しきい値Ｍ´によって両者が分離され、
しきい値Ｍ´以下の明度の画素およびしきい値Ｍ´より
も明度の大きい画素がパターン２に対応する画素および
背景３に対応する画素としてそれぞれ記憶される（ステ
ップ２０２）。ついで、図４（ａ）においてしきい値Ｍ
´以下の明度を有する画素、つまりパターン２に対応す
る画素に対して、上記ステップ１０６で設定された膨張
画素分だけを加えたものを背景３の検査のためのマスク
（以下「パターンマスク」という）として設定、記憶す
る。

【００２７】同様に、しきい値Ｍ´よりも大きい明度を
有する画素、つまり背景３に対応する画素に対して、上
記ステップ１０４で設定された膨張画素分だけを加えた
ものをパターン２の検査のためのマスク（以下「背景マ
スク」という）として設定、記憶する（ステップ２０
３）。

【００２８】つぎに、背景３の欠陥の検査が実行され
る。この場合、撮像画像の全画素のうち、上記ステップ
２０３で設定、記憶されたパターンマスクの部分が除去
される。そして除去された残りの画素について明度が明
度範囲Ｍ3 〜Ｍ4 内に入っているか否かが判断される。

【００２９】この結果、図４（ａ）の１３ａに示すよう
に明度範囲の下限値Ｍ3 より小さい明度の画素が２画素
以上隣接して存在していると判断されれば、対応する画
素の部分は同図（ｂ）の３ａに示すように「パターンは
みだし、あるいはショート」等の欠陥であると判定され
る。また、図４（ａ）の１３ｂに示すように明度範囲の
上限値Ｍ4 よりも大きい明度の画素が２画素以上隣接し
て存在していると判断されれば、対応する画素の部分は
同図（ｂ）の３ｂに示すように「異物混入、あるいはピ
ンホール」等の欠陥であると判定される（ステップ２０
４）。

【００３０】同様にして、パターン２の欠陥の検査が実
行される。この場合、撮像画像の全画素のうち、上記ス
テップ２０３で設定、記憶された背景マスクの部分が除
去される。そして除去された残りの画素について明度が
明度範囲Ｍ1 〜Ｍ2 内に入っているか否かが判断され
る。

【００３１】この結果、図４（ａ）の１２ａに示すよう
に明度範囲の下限値Ｍ1 より小さい明度の画素が２画素
以上隣接して存在していると判断されれば、対応する画
素の部分は同図（ｂ）の２ａに示すように「異物混入」
等の欠陥であると判定される。また、図４（ａ）の１２
ｂに示すように明度範囲の上限値Ｍ2 よりも大きい明度
の画素が２画素以上隣接して存在していると判断されれ
ば、対応する画素の部分は同図（ｂ）の２ｂに示すよう
に「パターン切れ」等の欠陥であると判定される（ステ
ップ２０５）。

【００３２】以上にように欠陥があると判定された場合
には、対応する画素が画面上で点滅表示等される。これ
によってオペレータは検査結果を認識することができる
（ステップ２０６）。

【００３３】つぎに、検査が終了していない基板表面１
ａの他の領域を撮像すべく、Ｘ−Ｙテーブル４が駆動制
御される。この結果、他の領域につき上記ステップ２０
１〜２０７の処理が再び実行され、同様にして基板表面
１ａの欠陥の判定がなされる。以下同様の処理が各領域
につき順次実行され、基板表面１ａすべてについての検
査を行う。この結果、表面１ａ全体の欠陥の有無に応じ
て基板１が良品であるか不良品であるかの判定がなされ
る。以下、つぎに検査すべき基板１がテーブル４上の搬
入され、同様な処理が実行される。

【００３４】なお、表面１ａの各領域ごとに欠陥の検査
結果を出力するのではなくて、基板表面１ａ全体につき
検査が終了した段階で全体の検査結果を出力するような
実施も可能である。また、処理の迅速を図るべく、所定
領域につき欠陥有りの判定がなされた段階で基板１は不
良品であると判定してしまい、それ以降の検査を省略す
るような実施も可能である。また、検査結果の出力態様
は任意であり、たとえばシリアル通信で画像処理装置７
からホストコンピュータに結果を送出することも可能で
あり、またディジタルのＩ／Ｏで周辺のシーケンサやア
クチュエータにデータを送出することも可能である。ま
た場合によっては欠陥の発生した基板１上の箇所に実際
にインクを吹き付けて目印をつけるような実施も可能で
ある。

【００３５】さて、実施例では、欠陥の有無を画素の明
度が所定範囲内であるか否かに応じて判断するようにし
ているが、隣接画素の明度の差分値（微分値）が所定値
以下であるか否かに応じてこれを判断するようにしても
よい。

【００３６】すなわち、欠陥のないパターン２にあって
はそのパターン２を示す各画素個々に明度に変動があっ
たとしてもその変動はわずかであり、隣接画素の間で明
度の差分値（微分値）は所定値以下の範囲となってい
る。逆に、パターン２に傷等の欠陥があると、その境界
の隣接画素間の明度の差分値が上記所定値よりも大きく
なる。そこで、かかる所定値をパターン２の欠陥を判断
するための検査基準とすることができる。同様にして背
景３の欠陥を判断する場合も、隣接画素の明度の差分値
が所定値以下であるか否かの判断によって行うことがで
きる。

【００３７】具体的には、パターン２の画素が明度範囲
Ｍ1 〜Ｍ2 内であるか否かを判断する替わりに、パター
ン２の隣接画素の明度差が所定値以下であるか否かを判
断すればよい。また、背景３の画素が明度範囲Ｍ3 〜Ｍ
4 内であるか否かを判断する替わりに、背景３の隣接画
素の明度差が所定値以下であるか否かを判断すればよ
い。ここで画像の微分処理にあたってはＳｏｂｅｌの演
算手法を適用することができる。

【００３８】なお、実施例では、基板の欠陥を検査する
場合、パターンおよび背景両者の欠陥をそれぞれ検査す
るようにしたが、背景の検査を要しない場合にはパター
ンの欠陥のみを検査する実施も可能である。同様に背景
の欠陥のみを検査するようにしてもよい。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、所
定の検査基準を設定して検査対象以外の画素を除去して
欠陥の検査を自動的に行うようにしたので、たとえ基板
に微細なパターンが形成されている場合であっても、基
板の欠陥の検査を正確かつ迅速に、しかも低コストで行
うことができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明に係る基板の欠陥検査装置の実施
例の構成を示す斜視図である。

【図２】図２は図１に示すモニタＴＶの画面の表示例を
示す図である。

【図３】図３は欠陥のない基板を撮像した場合の明度と
画素数との関係を示す明度度数分布図である。

【図４】図４（ａ）は欠陥のある基板を撮像した場合の
明度と画素数との関係を示す明度度数分布図であり、同
図（ｂ）は基板表面の欠陥を示す図である。

【図５】図５は図１に示す画像処理装置で実行される処
理のうち前処理の手順を示す図である。

【図６】図６は図１に示す画像処理装置で実行される処
理のうち自動運転時の手順を示す図である。

【符号の説明】

１基板２パターン３背景５ＣＣＤカメラ７画像処理装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記パターンの欠陥を検査するようにした基板の欠陥検
査装置において、予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定するとともに、前記パターンを示す画素の明度範囲
を決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以上の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の明度が前記明度範囲外にあることを判
断する判断手段とを具え、前記判断手段によって前記明
度範囲外にあると判断された画素を前記パターンの欠陥
部分であると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
【請求項２】前記基準設定手段は、欠陥のない基
板表面を撮像して得られた画像の全画素について明度の
度数分布を求め、該明度度数分布に基づいて撮像画像の
全画素を前記パターンを示す画素と前記背景を示す画素
とに分離する所定の明度を決定するとともに、前記明度
度数分布に基づいて前記パターンを示す画素の明度範囲
を決定するものである請求項１記載の基板の欠陥検査装
置。
【請求項３】所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記背景の欠陥を検査するようにした基板の欠陥検査装
置において、予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定するとともに、前記背景を示す画素の明度範囲を決
定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以下の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の明度が前記明度範囲外にあることを判
断する判断手段とを具え、前記判断手段によって前記明
度範囲外にあると判断された画素を前記背景の欠陥部分
であると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
【請求項４】前記基準設定手段は、欠陥のない基
板表面を撮像して得られた画像の全画素について明度の
度数分布を求め、該明度度数分布に基づいて撮像画像の
全画素を前記パターンを示す画素と前記背景を示す画素
とに分離する所定の明度を決定するとともに、前記明度
度数分布に基づいて前記背景を示す画素の明度範囲を決
定するものである請求項３記載の基板の欠陥検査装置。
【請求項５】所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記パターンの欠陥を検査するようにした基板の欠陥検
査装置において、予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以上の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の各隣接画素の明度差をそれぞれ求め、
該求められた明度差が所定値以上にあることを判断する
判断手段とを具え、前記判断手段によって前記所定値以
上にあると判断された画素を前記パターンの欠陥部分で
あると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
【請求項６】所定形状のパターンが基板上に形成
された基板表面を撮像することにより、前記基板表面の
うち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除い
た背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき
前記背景の欠陥を検査するようにした基板の欠陥検査装
置において、予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示
す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を
決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中か
ら前記所定の明度以下の明度の画素を除去し、該除去さ
れた残りの画素の各隣接画素の明度差をそれぞれ求め、
該求められた明度差が所定値以上にあることを判断する
判断手段とを具え、前記判断手段によって前記所定値以
上にあると判断された画素を前記背景の欠陥部分である
と判定するようにした基板の欠陥検査装置。