JPH05261577A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
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- JPH05261577A JPH05261577A JP4062068A JP6206892A JPH05261577A JP H05261577 A JPH05261577 A JP H05261577A JP 4062068 A JP4062068 A JP 4062068A JP 6206892 A JP6206892 A JP 6206892A JP H05261577 A JPH05261577 A JP H05261577A
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- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
本発明は、下地材料にダメージを与えることなく、表面
材料を加工することができ、かつ、効率的に加工を行う
ことができるエキシマレーザ加工装置を提供することを
目的とする。 【構成】 エキシマレーザ発振器11から出射されるレ
ーザー光を部分反射鏡で2分割し、一方を被加工材20
に照射する。被加工材20からの反射光及び加工によっ
て発生する放射光のうち少なくとも一方を光量検出器1
3で検出し、前記2分割されたレーザー光の他方を光量
検出器14で検出する。演算装置は、2つの光量検出器
13、14からの出力から、被加工材20の材質が変化
したことを判定し、判定に基づいて、エキシマレーザ発
振器11を制御する。
材料を加工することができ、かつ、効率的に加工を行う
ことができるエキシマレーザ加工装置を提供することを
目的とする。 【構成】 エキシマレーザ発振器11から出射されるレ
ーザー光を部分反射鏡で2分割し、一方を被加工材20
に照射する。被加工材20からの反射光及び加工によっ
て発生する放射光のうち少なくとも一方を光量検出器1
3で検出し、前記2分割されたレーザー光の他方を光量
検出器14で検出する。演算装置は、2つの光量検出器
13、14からの出力から、被加工材20の材質が変化
したことを判定し、判定に基づいて、エキシマレーザ発
振器11を制御する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマレーザ等のレー
ザ発振器から出射されたレーザ光を被加工物に照射し
て、被加工物を加工するレーザ加工装置に関し、特に2
種の異なる材料が合わさった被加工物を加工するための
レーザ加工装置に関する。
ザ発振器から出射されたレーザ光を被加工物に照射し
て、被加工物を加工するレーザ加工装置に関し、特に2
種の異なる材料が合わさった被加工物を加工するための
レーザ加工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ加工装置は、レーザ発振器から出
射されたレーザ光を被加工物に照射して、被加工物を加
工する装置である。このレーザ加工装置を用いて、2種
類以上の異なる材料が合わさった素材、例えば、表面に
金属薄膜を形成したプラスチック材、あるいは表面をプ
ラスチック、紙、硝子繊維などで覆った金属線等を加工
することが行われる。このように2種類以上の異なる材
料が合わさった素材を加工する場合は、下地材料にはダ
メージを与えず、表面の被覆材料のみを加工することが
しばしば要求される。
射されたレーザ光を被加工物に照射して、被加工物を加
工する装置である。このレーザ加工装置を用いて、2種
類以上の異なる材料が合わさった素材、例えば、表面に
金属薄膜を形成したプラスチック材、あるいは表面をプ
ラスチック、紙、硝子繊維などで覆った金属線等を加工
することが行われる。このように2種類以上の異なる材
料が合わさった素材を加工する場合は、下地材料にはダ
メージを与えず、表面の被覆材料のみを加工することが
しばしば要求される。
【0003】従来、レーザ加工装置による2種類以上の
異なる材料が合わさった素材の被覆材料のみの加工は、
エネルギーの小さい(短時間の)レーザ照射を多数回行
う方法が取られている。この方法では、予め、予備試験
を行って、レーザー照射を行う回数を決めてから、実際
の加工を行っている。
異なる材料が合わさった素材の被覆材料のみの加工は、
エネルギーの小さい(短時間の)レーザ照射を多数回行
う方法が取られている。この方法では、予め、予備試験
を行って、レーザー照射を行う回数を決めてから、実際
の加工を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法は、予備試験を行わなければならず、実質的に同じ
工程を2度行なわなければならないという問題点があ
る。
方法は、予備試験を行わなければならず、実質的に同じ
工程を2度行なわなければならないという問題点があ
る。
【0005】また、レーザ発振器、特にエキシマレーザ
発振機の出力安定性(照射ごとのばらつき、経時劣化)
を考慮すると予備試験の結果よりも照射回数を増やさざ
るを得ず、下地材料にダメージを与えることが多々ある
という問題点がある。
発振機の出力安定性(照射ごとのばらつき、経時劣化)
を考慮すると予備試験の結果よりも照射回数を増やさざ
るを得ず、下地材料にダメージを与えることが多々ある
という問題点がある。
【0006】さらに、照射を所定回数行うごとに、検査
を行い、下地材料にダメージを与える前に照射を終了す
るようにもできるが、加工時間が長くなるという問題点
もある。
を行い、下地材料にダメージを与える前に照射を終了す
るようにもできるが、加工時間が長くなるという問題点
もある。
【0007】本発明は、下地材料にダメージを与えるこ
となく、表面材料を加工することができ、かつ、効率的
に加工を行うことができるレーザ加工装置を提供するこ
とを目的とする。
となく、表面材料を加工することができ、かつ、効率的
に加工を行うことができるレーザ加工装置を提供するこ
とを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、レーザ
発振器から出射されるレーザ光を被加工物に照射して、
前記被加工物を加工するレーザ加工装置において、前記
レーザ光の光量を検出する第1の光量検出手段と、前記
被加工物からの反射光の光量を検出する第2の光量検出
手段と、前記第1及び第2の光量検出手段からの出力信
号に基づいて前記レーザ発振器を制御する制御手段とを
設けたことを特徴とするレーザ加工装置が得られる。
発振器から出射されるレーザ光を被加工物に照射して、
前記被加工物を加工するレーザ加工装置において、前記
レーザ光の光量を検出する第1の光量検出手段と、前記
被加工物からの反射光の光量を検出する第2の光量検出
手段と、前記第1及び第2の光量検出手段からの出力信
号に基づいて前記レーザ発振器を制御する制御手段とを
設けたことを特徴とするレーザ加工装置が得られる。
【0009】また、本発明によれば、第2の光量検出手
段に代えて、被加工物からのプルーム発光のスペクトル
分布を検出するスペクトル検出手段を有するレーザ加工
装置が得られる。
段に代えて、被加工物からのプルーム発光のスペクトル
分布を検出するスペクトル検出手段を有するレーザ加工
装置が得られる。
【0010】さらに本発明によれば、第2の光量検出手
段に加えて、被加工物からのプルーム発光のスペクトル
分布を検出するスペクトル検出手段を有するレーザ加工
装置が得られる。
段に加えて、被加工物からのプルーム発光のスペクトル
分布を検出するスペクトル検出手段を有するレーザ加工
装置が得られる。
【0011】
【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。図1に本発明の一実施例を示す。図1のエキシ
マレーザ加工装置は、エキシマレーザ発振器11、部分
反射鏡12、光量検出器13及び14、及び演算装置1
5を有している。以下、このエキシマレーザ加工装置で
被加工材20を加工する場合について説明する。ここ
で、被加工材20は、下地材21の表面が被覆材22で
覆われているものとする。
明する。図1に本発明の一実施例を示す。図1のエキシ
マレーザ加工装置は、エキシマレーザ発振器11、部分
反射鏡12、光量検出器13及び14、及び演算装置1
5を有している。以下、このエキシマレーザ加工装置で
被加工材20を加工する場合について説明する。ここ
で、被加工材20は、下地材21の表面が被覆材22で
覆われているものとする。
【0012】エキシマレーザ発振器11から出たレーザ
光は、部分反射鏡12で一部反射され、光量検出器14
に入射する。光量検出器14は、入射光の光量を検出
し、光量に応じた出力信号を出力する。一方、部分反射
鏡12を透過したレーザ光は、レンズ、ミラーなどの光
学系(図示せず)を介して被加工材20に照射される。
光は、部分反射鏡12で一部反射され、光量検出器14
に入射する。光量検出器14は、入射光の光量を検出
し、光量に応じた出力信号を出力する。一方、部分反射
鏡12を透過したレーザ光は、レンズ、ミラーなどの光
学系(図示せず)を介して被加工材20に照射される。
【0013】被加工材20のレーザ光が照射された部分
では、アブレーションと呼ばれる現象が生じる。アブレ
ーションは、被加工材の表面層が瞬間的に除去されると
いう現象である。そのメカニズムは、詳しく解明されて
いない(レーザー学会研究会報告、RTM−91−33
〜41、1991年10月29日参照)が、照射された
レーザー光のエネルギーを被加工材20が吸収して結合
が切れ、プルームと呼ばれる球形のプラズマ状物体が発
生しながら、ばらばらになって飛散していくものと考え
られている。こうして、被加工材20のレーザ光が照射
された部分では、レーザー光を照射する毎に、少しずつ
表面から深さ方向に向かって削られていく。
では、アブレーションと呼ばれる現象が生じる。アブレ
ーションは、被加工材の表面層が瞬間的に除去されると
いう現象である。そのメカニズムは、詳しく解明されて
いない(レーザー学会研究会報告、RTM−91−33
〜41、1991年10月29日参照)が、照射された
レーザー光のエネルギーを被加工材20が吸収して結合
が切れ、プルームと呼ばれる球形のプラズマ状物体が発
生しながら、ばらばらになって飛散していくものと考え
られている。こうして、被加工材20のレーザ光が照射
された部分では、レーザー光を照射する毎に、少しずつ
表面から深さ方向に向かって削られていく。
【0014】ここで、アブレーション加工速度は、被加
工材20の材質によって異なる。従って、被加工材20
の材質によってレーザ光の照射時間、及び照射回数を変
化させる必要がある。例えば、金属とプラスチック類と
の加速速度を比較すれば、プラスチックのほうが金属に
比べて、1〜2桁程度速い。従って、下地材21が金属
で、被覆材22がプラスチック類であれば、一回の照射
時間を長くしたり、または、照射回数を多くして、下地
材21にダメージを与えることなく、被覆材22を完全
に取り除くことができる。逆に、下地材21がプラスチ
ック類で、被覆材22が金属であれば、金属が取り除か
れるとプラスチックが急速にダメージを受けるので、少
なくとも、金属の除去が終了に近付いたときに、一回の
照射時間を短くして、プラスチックにダメージを与えな
いようにしなければならない。ただし、アブレーション
加工では、単位面積当たりの照射エネルギー密度がスレ
ッシュホールド値を越えなければアブレーションが発生
しないので、レーザー光量の調節は注意が必要である。
工材20の材質によって異なる。従って、被加工材20
の材質によってレーザ光の照射時間、及び照射回数を変
化させる必要がある。例えば、金属とプラスチック類と
の加速速度を比較すれば、プラスチックのほうが金属に
比べて、1〜2桁程度速い。従って、下地材21が金属
で、被覆材22がプラスチック類であれば、一回の照射
時間を長くしたり、または、照射回数を多くして、下地
材21にダメージを与えることなく、被覆材22を完全
に取り除くことができる。逆に、下地材21がプラスチ
ック類で、被覆材22が金属であれば、金属が取り除か
れるとプラスチックが急速にダメージを受けるので、少
なくとも、金属の除去が終了に近付いたときに、一回の
照射時間を短くして、プラスチックにダメージを与えな
いようにしなければならない。ただし、アブレーション
加工では、単位面積当たりの照射エネルギー密度がスレ
ッシュホールド値を越えなければアブレーションが発生
しないので、レーザー光量の調節は注意が必要である。
【0015】上記のように、被加工材20に照射された
レーザ光は、被加工材20を加工する。同時に、このレ
ーザ光は被加工材20で反射され、光量検出器13に入
射する。また、上記プルームからの放射光が光量検出器
13に入射する。このように、光量検出器13には2種
類の光が入射する。
レーザ光は、被加工材20を加工する。同時に、このレ
ーザ光は被加工材20で反射され、光量検出器13に入
射する。また、上記プルームからの放射光が光量検出器
13に入射する。このように、光量検出器13には2種
類の光が入射する。
【0016】一般に、光の反射率は材料の屈折率に依存
する。即ち、下地材21及び被覆材22の屈折率を、そ
れぞれnA 、nB とすると、垂直に入射した光に対する
反射率は、それぞれ(nA −1/nA +1)2 、(nB
−1/nB +1)2 となる。よって、下地材21からの
反射光と被覆材22からの反射光とでは、その光量が異
なる。また、同様に、プルームからの放射光のスペクト
ル(分光強度)は、レーザー光の光量及びアブレーショ
ンが生じた材料の種類によって異なる。そこで、光量検
出器13では、反射光の光量、または放出光のスペクト
ル、或いはこれら両方を検出する。
する。即ち、下地材21及び被覆材22の屈折率を、そ
れぞれnA 、nB とすると、垂直に入射した光に対する
反射率は、それぞれ(nA −1/nA +1)2 、(nB
−1/nB +1)2 となる。よって、下地材21からの
反射光と被覆材22からの反射光とでは、その光量が異
なる。また、同様に、プルームからの放射光のスペクト
ル(分光強度)は、レーザー光の光量及びアブレーショ
ンが生じた材料の種類によって異なる。そこで、光量検
出器13では、反射光の光量、または放出光のスペクト
ル、或いはこれら両方を検出する。
【0017】反射光の光量を検出するには、レーザ光の
みを通過させるバンドパスフィルタを光量検出器13に
設け、放出光の入射を阻止するようにする。バンドパス
フィルタとしては、プリズムやグレーティング等の分散
素子を用いることもできるが、反射光量の減衰を考慮す
ると、エタロンや干渉フィルタ等の非分散素子が望まし
い。なお、被加工材20からの反射光は、加工面の状態
により散乱光となるので、積分球として知られる集光装
置を光量検出器13の前面に設ける必要が生じる場合も
ある。こうして検出された反射光の光量は、検出信号と
して演算装置15へ送られる。演算装置15は、この検
出信号と、光量検出器14の出力信号とに基づいて、被
加工材20の材質を検知して、エキシマレーザ発振器を
停止させる。
みを通過させるバンドパスフィルタを光量検出器13に
設け、放出光の入射を阻止するようにする。バンドパス
フィルタとしては、プリズムやグレーティング等の分散
素子を用いることもできるが、反射光量の減衰を考慮す
ると、エタロンや干渉フィルタ等の非分散素子が望まし
い。なお、被加工材20からの反射光は、加工面の状態
により散乱光となるので、積分球として知られる集光装
置を光量検出器13の前面に設ける必要が生じる場合も
ある。こうして検出された反射光の光量は、検出信号と
して演算装置15へ送られる。演算装置15は、この検
出信号と、光量検出器14の出力信号とに基づいて、被
加工材20の材質を検知して、エキシマレーザ発振器を
停止させる。
【0018】また、放出光のスペクトルを検出する場合
は、ある特定の波長の光を検出する場合と、ある波長帯
のスペクトルすべてを検出する場合とがある。ある特定
の波長の光を検出する場合は、反射光を検出する場合と
同様に、特定の周波数を通過させるバンドパスフィルタ
を用いて、その光量を検出する。そして、演算装置15
は光量検出器13の検出信号と光量検出器14の出力信
号とに基づいて、被加工材20の材質を判定し、エキシ
マレーザ発振器11を制御する。
は、ある特定の波長の光を検出する場合と、ある波長帯
のスペクトルすべてを検出する場合とがある。ある特定
の波長の光を検出する場合は、反射光を検出する場合と
同様に、特定の周波数を通過させるバンドパスフィルタ
を用いて、その光量を検出する。そして、演算装置15
は光量検出器13の検出信号と光量検出器14の出力信
号とに基づいて、被加工材20の材質を判定し、エキシ
マレーザ発振器11を制御する。
【0019】ある波長帯のスペクトルすべてを検出する
場合は、そのスペクトルのピーク波長を求め、その波長
から材質を判断する。光量検出器13がスペクトルのピ
ーク波長を自動的に検出できることが好ましいが、光量
検出器13に複数個の検出部を設け、これら複数の検出
部に、それぞれ異なる波長の光を透過するバンドパスフ
ィルタを設けてもよい。この場合、各検出部からの出力
を比較し、最大出力のものをピーク波長とする。
場合は、そのスペクトルのピーク波長を求め、その波長
から材質を判断する。光量検出器13がスペクトルのピ
ーク波長を自動的に検出できることが好ましいが、光量
検出器13に複数個の検出部を設け、これら複数の検出
部に、それぞれ異なる波長の光を透過するバンドパスフ
ィルタを設けてもよい。この場合、各検出部からの出力
を比較し、最大出力のものをピーク波長とする。
【0020】なお、光量検出器13がスペクトルのピー
ク波長を自動的に検出する場合は、反射光の強度が放出
光に比べ非常に強いので、紫外レーザ光を透過させない
バンドパスフィルターを必要とする。または、反射光と
放出光との検出器までの到達時間の差から両者を分ける
信号処理回路を演算装置6内に設けても良い。
ク波長を自動的に検出する場合は、反射光の強度が放出
光に比べ非常に強いので、紫外レーザ光を透過させない
バンドパスフィルターを必要とする。または、反射光と
放出光との検出器までの到達時間の差から両者を分ける
信号処理回路を演算装置6内に設けても良い。
【0021】また、上記の放射光のスペクトルを検出す
る方法は、エキシマレーザー発振器11からのレーザー
光の光量に依存してスペクトルが変化することに注意す
る必要がある。即ち、光量の変化に応じて、スペクトル
がどの様に変化するかを表す補正表などを演算装置15
に組み込む必要がある。
る方法は、エキシマレーザー発振器11からのレーザー
光の光量に依存してスペクトルが変化することに注意す
る必要がある。即ち、光量の変化に応じて、スペクトル
がどの様に変化するかを表す補正表などを演算装置15
に組み込む必要がある。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、被加工材からの反射光
及びアブレーションにより生じたプルームからの放射光
のうち、少なくとも一方の光量を検出し、エキシマレー
ザ発振器からのレーザ光量と比較することにより、被加
工材の材質の変化を検出することができる。これによ
り、被覆材のみを効率的に除去することができる。
及びアブレーションにより生じたプルームからの放射光
のうち、少なくとも一方の光量を検出し、エキシマレー
ザ発振器からのレーザ光量と比較することにより、被加
工材の材質の変化を検出することができる。これによ
り、被覆材のみを効率的に除去することができる。
【図1】本発明の一実施例を説明するための構成図であ
る。
る。
11 エキシマレーザ発振器 12 部分反射鏡 13 光量検出器 14 光量検出器 15 演算装置 20 被加工材 21 下地材 22 被覆材
Claims (3)
- 【請求項1】 レーザ発振器から出射されるレーザ光を
被加工物に照射して、前記被加工物を加工するレーザ加
工装置において、前記レーザ光の光量を検出する第1の
光量検出手段と、前記被加工物からの反射光の光量を検
出する第2の光量検出手段と、前記第1及び第2の光量
検出手段からの出力信号に基づいて前記レーザ発振器を
制御する制御手段とを設けたことを特徴とするレーザ加
工装置。 - 【請求項2】 レーザ発振器から出射されるレーザ光を
被加工物に照射して、前記被加工物を加工するレーザ加
工装置において、前記レーザ光の光量を検出する光量検
出手段と、前記被加工物からのプルーム発光のスペクト
ル分布を検出するスペクトル検出手段と、前記光量検出
手段と前記スペクトル検出手段からの出力信号に基づい
て前記レーザ発振器を制御する制御手段とを設けたこと
を特徴とするレーザ加工装置。 - 【請求項3】 レーザ発振器から出射されるレーザ光を
被加工物に照射して、前記被加工物を加工するレーザ加
工装置において、前記レーザ光の光量を検出する第1の
光量検出手段と、前記被加工物からの反射光の光量を検
出する第2光量検出手段と、プルーム発光のスペクトル
分布を検出するスペクトル検出手段と、前記第1及び第
2の光量検出手段からの出力信号と前記スペクトル検出
手段からの出力信号とに基づいて前記レーザ発振器を制
御する制御手段とを設けたことを特徴とするレーザ加工
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062068A JPH05261577A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062068A JPH05261577A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05261577A true JPH05261577A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=13189414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4062068A Pending JPH05261577A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05261577A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009103802A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | 投射型表示装置 |
| JP2011527637A (ja) * | 2008-07-09 | 2011-11-04 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | レーザ機械加工のための方法および装置 |
| JP2017220634A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | トヨタ自動車株式会社 | 皮膜除去装置 |
| WO2025020875A1 (zh) * | 2023-07-21 | 2025-01-30 | 深圳市创想三维科技股份有限公司 | 激光雕切装置及激光雕切系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5916691A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-27 | Hitachi Ltd | レ−ザ加工装置 |
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1992
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