JPH05270975A - Single crystal pulling device - Google Patents

Single crystal pulling device

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JPH05270975A
JPH05270975A JP9341192A JP9341192A JPH05270975A JP H05270975 A JPH05270975 A JP H05270975A JP 9341192 A JP9341192 A JP 9341192A JP 9341192 A JP9341192 A JP 9341192A JP H05270975 A JPH05270975 A JP H05270975A
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single crystal
pulling
unit
crystal ingot
holding
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Michio Kida
道夫 喜田
Takeshi Sato
武 佐藤
Tateaki Sahira
健彰 佐平
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Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコン単結晶棒を保持する機構を固定部お
よび可動部に分け、その保持する機構の慣性力を減少さ
せることにより、例えば直径8インチ、長さ2m、質量
150kgのシリコン単結晶棒を完全に保持しながら引
き上げることができる単結晶引上装置を提供する。 【構成】 シリコン融液4を保持する石英坩堝3を回
転、昇降自在に設ける。このシリコン融液4から突部4
1を有したシリコン単結晶棒40を引き上げる引上機構
6を設ける。この引上機構6と連動し単結晶棒40を支
持する保持機構20を設ける。この保持機構20は、単
結晶棒の長さ方向に延在する結晶係合装置21と、単結
晶棒40の突部41を係止し、単結晶棒40を支持する
下フック27と、結晶係合装置21の一部に回動自在に
設けられ、引上機構6の昇降用リング18に連動し、下
フック27を動作させる上フック24と、を有する。
(57) [Abstract] [Purpose] The mechanism for holding a silicon single crystal ingot is divided into a fixed part and a movable part, and the inertial force of the holding mechanism is reduced to, for example, 8 inches in diameter, 2 m in length, and 150 kg in mass. To provide a single crystal pulling apparatus capable of pulling up a silicon single crystal ingot while completely holding it. [Structure] A quartz crucible 3 holding a silicon melt 4 is provided so as to be rotatable and vertically movable. From the silicon melt 4 to the protrusion 4
A pulling mechanism 6 for pulling up the silicon single crystal ingot 40 having 1 is provided. A holding mechanism 20 that cooperates with the pulling mechanism 6 and supports the single crystal ingot 40 is provided. The holding mechanism 20 includes a crystal engaging device 21 extending in the length direction of the single crystal ingot, a lower hook 27 that locks the projection 41 of the single crystal ingot 40 and supports the single crystal ingot 40, and a crystal. An upper hook 24 that is rotatably provided in a part of the engaging device 21 and that operates the lower hook 27 in conjunction with the lifting ring 18 of the lifting mechanism 6 is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CZ(Czochralski)
法による単結晶引上装置に関するものである。
The present invention relates to CZ (Czochralski)
The present invention relates to a single crystal pulling apparatus by the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、大口径の円柱状シリコン単結晶棒
の製造に適したCZ法は、シリコン融液にシリコン単結
晶の種子結晶を浸し、この種子結晶を回転させながら徐
々に引き上げ、種子結晶と同じ結晶方位の大口径のシリ
コン単結晶棒を成長させるものである。この場合、種子
結晶に存在していた転位がシリコン単結晶棒中に伝播し
ないように、種子結晶から成長させるときシリコン単結
晶棒を一旦細く絞ってから太らせる、いわゆるダッシュ
ズネック(Dash's neck)を形成してシリコン単結晶棒
を無転位化させることが行われている。そして、このダ
ッシュズネックの直径は3〜4mm、その長さは数10
mm、その機械的強度は100〜200kgfであっ
た。この強度はシリコン単結晶棒の引張強度である。引
上中のシリコン単結晶棒に、捩れまたは横方向の力が加
わった場合には、ダッシュズネックが破損し、シリコン
単結晶棒がシリコン融液中に落下してしまい、単結晶引
上装置の破損、シリコン融液の流出、水蒸気爆発などの
危険が生じ、人身事故を招来する恐れもあった。
2. Description of the Related Art Conventionally, the CZ method, which is suitable for producing a large-diameter cylindrical silicon single crystal ingot, is a method of immersing a silicon single crystal seed crystal in a silicon melt and gradually pulling the seed crystal while rotating the seed crystal. A large-diameter silicon single crystal ingot having the same crystal orientation as the crystal is grown. In this case, in order to prevent the dislocations existing in the seed crystal from propagating into the silicon single crystal rod, when growing from the seed crystal, the silicon single crystal rod is once narrowed and then thickened, so-called Dash's neck. To form dislocation-free silicon single crystal rods. The diameter of this dash neck is 3 to 4 mm, and its length is several tens.
mm, and its mechanical strength was 100 to 200 kgf. This strength is the tensile strength of the silicon single crystal rod. If a twisting or lateral force is applied to the silicon single crystal rod being pulled, the dash's neck will be damaged and the silicon single crystal rod will fall into the silicon melt. There is a risk of damage to equipment, outflow of silicon melt, steam explosion, etc., which could lead to personal injury.

【0003】そこで、このような危険を防止するための
単結晶引上装置としては、例えば、特開昭63−252
991号公報、または、特開昭62−288191号公
報に記載されたものがある。特開昭62−288191
号公報の単結晶引上装置は、図8に示すように、シリコ
ン単結晶棒100のショルダ101にくびれ102を形
成した後、このくびれ102を把持することができるク
ランプアーム103を備えているものである。このクラ
ンプアーム103の先端をくびれ102に係止させなが
らシリコン単結晶棒100を引き上げることにより、大
重量の大口径のシリコン単結晶棒を安全に製造するもの
である。
Therefore, as a single crystal pulling apparatus for preventing such a danger, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-252 has been proposed.
No. 991, or those disclosed in JP-A-62-288191. JP-A-62-288191
As shown in FIG. 8, the single crystal pulling apparatus of Japanese Patent Publication is provided with a clamp arm 103 capable of holding the neck 102 after forming the neck 102 in the shoulder 101 of the silicon single crystal rod 100. Is. By pulling up the silicon single crystal ingot 100 while locking the tip of the clamp arm 103 to the constriction 102, a large weight and large diameter silicon single crystal ingot can be safely manufactured.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のCZ法の単結晶引上装置にあっては、シリコ
ン単結晶棒100のくびれ102の形状を一定にするの
は困難であり、かつ、このくびれ102を係止すると
き、図中矢印で示すように、クランプアーム103全体
がその基端を始点として回転していた。これらのため、
クランプアーム103がくびれ102を係止する位置を
正確に制御しないと、シリコン単結晶棒100を充分に
保持できず、結局シリコン単結晶棒100を落下させて
しまった。つまり、把持のための動作においてクランプ
アーム103の慣性力が大きいので、このクランプアー
ム103がくびれ102を完全に係止する位置を精密に
制御できないという課題があった。
However, in such a conventional CZ method single crystal pulling apparatus, it is difficult to make the shape of the constriction 102 of the silicon single crystal rod 100 constant, and When the constriction 102 is locked, the entire clamp arm 103 is rotating with its base end as the starting point, as indicated by the arrow in the figure. Because of these
If the position where the clamp arm 103 locks the constriction 102 is not accurately controlled, the silicon single crystal ingot 100 cannot be sufficiently held and eventually the silicon single crystal ingot 100 is dropped. That is, since the inertia force of the clamp arm 103 is large in the gripping operation, there is a problem that the position where the clamp arm 103 completely locks the constriction 102 cannot be precisely controlled.

【0005】そこで、本発明は、シリコン単結晶棒を保
持する機構を固定部および可動部に分け、その保持する
機構の慣性力を減少させることができる単結晶引上装置
を提供することを、その目的とする。
Therefore, the present invention provides a single crystal pulling apparatus capable of reducing the inertial force of the holding mechanism by dividing the mechanism for holding the silicon single crystal ingot into a fixed portion and a movable portion. To that end.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の単結晶
引上装置においては、結晶融液を保持する坩堝と、この
結晶融液からその一部に突部を有した単結晶棒を引き上
げる引上機構と、この引上機構と連動し単結晶棒を支持
する保持機構と、を備えた単結晶引上装置において、上
記保持機構は、上記単結晶棒の突部を係止しこの単結晶
棒を支持する第1てこユニットと、上記引上機構に連動
し、上記第1てこユニットを連動させる第2てこユニッ
トと、を有するものである。
In a single crystal pulling apparatus according to a first aspect of the present invention, there is provided a crucible for holding a crystal melt, and a single crystal rod having a projection partly from the crystal melt. In a single crystal pulling apparatus provided with a pulling up mechanism for pulling up and a holding mechanism for supporting a single crystal ingot in association with this pulling up mechanism, the holding mechanism locks a protrusion of the single crystal ingot. It has a 1st lever unit which supports a single crystal ingot, and a 2nd lever unit which interlocks with the above-mentioned pulling mechanism and interlocks the 1st lever unit.

【0007】また、請求項2に記載の単結晶引上装置に
おいては、上記引上機構は、単結晶棒のダッシュズネッ
クに連結され昇降可能な第1引上ユニットと、この第1
引上ユニットから独立して昇降可能であり、上記第2て
こユニットを動作させる第2引上ユニットと、を含むも
のである。
Further, in the single crystal pulling apparatus according to the second aspect, the pulling mechanism is a first pulling unit which is connected to a dash neck of a single crystal rod and is capable of moving up and down, and the first pulling unit.
A second lifting unit that can be raised and lowered independently of the lifting unit and operates the second lever unit.

【0008】また、請求項3に記載の単結晶引上装置に
おいては、上記引上機構は、上記単結晶棒をその軸線回
りに回転させる回転手段を有し、上記第1引上ユニット
および上記第2引上ユニットは、それぞれ引上原動機を
有するとともに、これらの引上原動機は、上記回転手段
に保持されているものである。
Further, in the single crystal pulling apparatus according to the third aspect, the pulling mechanism has a rotating means for rotating the single crystal rod about its axis, and the first pulling unit and the above pulling unit. Each of the second pulling units has a pulling prime mover, and these pulling prime movers are held by the rotating means.

【0009】また、請求項4に記載の単結晶引上装置に
おいては、上記第1引上ユニットおよび上記第2引上ユ
ニットはそれぞれワイヤを有し、これらのワイヤ同士の
捩れを防止する捩れ防止体を設けたものである。
Further, in the single crystal pulling apparatus according to the fourth aspect, the first pulling unit and the second pulling unit each have a wire, and twist prevention for preventing twisting of these wires is provided. It has a body.

【0010】また、請求項5に記載の単結晶引上装置に
おいては、上記保持機構は、水平面内で回動可能に設け
られた支持部材を有し、この支持部材に上記第1てこユ
ニットおよび上記第2てこユニットが支持されたもので
ある。
Further, in the apparatus for pulling a single crystal according to claim 5, the holding mechanism has a support member rotatably provided in a horizontal plane, and the support member includes the first lever unit and the lever member. The second lever unit is supported.

【0011】[0011]

【作用】請求項1に記載の発明に係る単結晶引上装置に
あっては、単結晶棒は引上機構により引き上げられる。
この引き上げの際には、保持機構の第2てこユニットが
引上機構の動作に連動する。この第2てこユニットのて
こ運動により、第1てこユニットが連動して動作する。
この第1てこユニットはてこ運動をして単結晶棒の突部
を係止し単結晶棒を保持する。この単結晶棒を保持する
ときの第1てこユニットに生じる慣性力は、保持機構全
体で保持するときより減少させることができる。この結
果、保持機構の第1てこユニットが単結晶棒を係止する
位置を精密に制御できる。
In the single crystal pulling apparatus according to the first aspect of the present invention, the single crystal rod is pulled up by the pulling mechanism.
During this pulling up, the second lever unit of the holding mechanism interlocks with the operation of the pulling up mechanism. The lever movement of the second lever unit causes the first lever unit to interlock.
The first lever unit performs a lever movement to lock the projection of the single crystal rod and hold the single crystal rod. The inertial force generated in the first lever unit when holding the single crystal ingot can be reduced more than when the whole holding mechanism holds the single crystal rod. As a result, the position where the first lever unit of the holding mechanism locks the single crystal rod can be precisely controlled.

【0012】また、請求項2に記載の発明に係る単結晶
引上装置にあっては、第2引上ユニットは第1引上ユニ
ットの昇降運動に影響されることなく昇降する。そし
て、この第2引上ユニットの動作に基づいて第2てこユ
ニットが作動し、単結晶棒が保持される。この結果、単
結晶棒の引き上げと単結晶棒の保持とを互いに独立に制
御することができる。したがって、単結晶棒の引き上げ
を妨げることなく、単結晶棒を保持することができる。
In the single crystal pulling apparatus according to the second aspect of the invention, the second pulling unit moves up and down without being affected by the lifting movement of the first pulling unit. Then, the second lever unit operates based on the operation of the second pull-up unit, and the single crystal ingot is held. As a result, the pulling of the single crystal ingot and the holding of the single crystal ingot can be controlled independently of each other. Therefore, the single crystal ingot can be held without hindering the pulling up of the single crystal ingot.

【0013】また、請求項3に記載の発明に係る単結晶
引上装置にあっては、第1引上ユニットおよび第2引上
ユニットのそれぞれの回転速度および回転方向を同じに
することができる。したがって、単結晶棒の引き上げに
悪影響を及ぼすことなく、単結晶棒を保持することがで
きる。
In the single crystal pulling apparatus according to the third aspect of the invention, the first pulling unit and the second pulling unit can have the same rotation speed and rotation direction. .. Therefore, the single crystal rod can be held without adversely affecting the pulling of the single crystal rod.

【0014】また、請求項4に記載の発明に係る単結晶
引上装置にあっては、捩れ防止体を設けたため、第1引
上ユニットのワイヤと第2引上ユニットのワイヤとが絡
み合うことがない。第1引上ユニットによる単結晶棒の
引き上げは、第2引上ユニットを介しての単結晶棒の保
持に、左右されない。また、単結晶棒の引き上げによっ
て、第1てこユニットが単結晶棒の突部に係止する位置
がずれることはない。よって、第1てこユニットの単結
晶棒の保持が弱くなることはない。その結果、結晶融液
中に単結晶棒が落下することはない。
Further, in the single crystal pulling apparatus according to the invention described in claim 4, since the twist preventing body is provided, the wire of the first pulling unit and the wire of the second pulling unit are entangled with each other. There is no. The pulling of the single crystal ingot by the first pulling unit is not influenced by the holding of the single crystal ingot through the second pulling unit. Further, the position where the first lever unit is locked to the projection of the single crystal rod does not shift due to the pulling of the single crystal rod. Therefore, the holding of the single crystal rod of the first lever unit does not become weak. As a result, the single crystal rod does not fall into the crystal melt.

【0015】また、請求項5に記載の発明に係る単結晶
引上装置にあっては、引上機構による単結晶棒の軸線回
りの回転に連動して、保持機構の第1てこユニットおよ
び第2てこユニットを回動させることができる。この結
果、単結晶棒および第1てこユニットの回転速度および
回転方向が同じになる。したがって、単結晶棒を第1て
こユニットにより支持するとき、第1引上ユニットのワ
イヤは捩れることがない。この捩れによる単結晶棒の横
ゆれが防止できる。したがって、単結晶棒の引き上げに
悪影響を及ぼすことなく、単結晶棒を支持することがで
きる。
Further, in the single crystal pulling apparatus according to the fifth aspect of the invention, the first lever unit and the first lever unit of the holding mechanism are interlocked with the rotation of the single crystal rod around the axis by the pulling mechanism. 2 The lever unit can be rotated. As a result, the single crystal rod and the first lever unit have the same rotation speed and rotation direction. Therefore, when the single crystal rod is supported by the first lever unit, the wire of the first pulling unit does not twist. Lateral wobbling of the single crystal rod due to this twist can be prevented. Therefore, the single crystal ingot can be supported without adversely affecting the pulling of the single crystal ingot.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の
断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0017】この図に示すように、チャンバ(図示略)
内には回転自在であって、かつ、昇降自在に坩堝軸1が
直立した状態で設けられている。この坩堝軸1の上端に
は、有底円筒状の黒鉛サセプタ2が固定されている。こ
の黒鉛サセプタ2内には、石英坩堝3が着脱可能に保持
されている。この石英坩堝3も有底円筒状をなしてい
る。この石英坩堝3内には、メルト状態のシリコン融液
4が注入、保持されている。黒鉛サセプタ2の外側に
は、シリコン融液4の加熱用ヒータ5がこの黒鉛サセプ
タ2を取り囲むように配設されている。さらに、石英坩
堝3の上方には、その半径が略一定の(例えば口径8イ
ンチ)シリコン単結晶棒を引き上げるための引上機構6
が設けられている。
As shown in this figure, a chamber (not shown)
Inside, a crucible shaft 1 is provided in an upright state so as to be rotatable and to move up and down. A cylindrical graphite susceptor 2 having a bottom is fixed to the upper end of the crucible shaft 1. A quartz crucible 3 is detachably held in the graphite susceptor 2. This quartz crucible 3 also has a bottomed cylindrical shape. A silicon melt 4 in a melted state is injected and held in the quartz crucible 3. A heater 5 for heating the silicon melt 4 is disposed outside the graphite susceptor 2 so as to surround the graphite susceptor 2. Further, above the quartz crucible 3, a pulling mechanism 6 for pulling up a silicon single crystal ingot having a substantially constant radius (for example, a diameter of 8 inches).
Is provided.

【0018】この引上機構6は、上記石英坩堝3の上方
に設けられて、回転自在なヘッド7を有している。この
ヘッド7には、1本の主ワイヤ8を巻取るための主モー
タ9と、2本の副ワイヤ10をそれぞれ巻取るための副
モータ11と、が固設されている。この主ワイヤ8は、
主ローラ12で方向を変え下方のシリコン融液4に向か
って下降するものである。このように垂下された主ワイ
ヤ8の一部(中間部分)は円板状の捩れ防止リング16
の中心部に固定され、さらに、この主ワイヤ8の固定部
より下側の部分は昇降用リング18の孔19に遊貫して
下方に垂下されている。そして、主ワイヤ8の下端に
は、シードチャック13を介してシリコン単結晶の種子
結晶14が取り付けられている。
The pulling mechanism 6 is provided above the quartz crucible 3 and has a rotatable head 7. A main motor 9 for winding one main wire 8 and a sub motor 11 for winding two sub wires 10 are fixedly mounted on the head 7. This main wire 8
The main roller 12 changes its direction and descends toward the lower silicon melt 4. A part (intermediate part) of the main wire 8 suspended in this way is a disc-shaped twist prevention ring 16
The main wire 8 is fixed to the central portion thereof, and the portion below the fixed portion of the main wire 8 is freely penetrating the hole 19 of the lifting ring 18 and is hung downward. A seed crystal 14 of silicon single crystal is attached to the lower end of the main wire 8 via a seed chuck 13.

【0019】図7に示すように、この捩れ防止リング1
6は円板状で、副ワイヤ10に対応して2個の孔17が
形成されている。この捩れ防止リング16の中心部にお
いて上記のように主ワイヤ8は固着されるものであり、
この中心部(ワイヤ8の固着部)を挟んで対向するよう
に上記2個の孔17は形成されている。この捩れ防止リ
ング16は、ヘッド7と昇降用リング18との間で副ワ
イヤ10が主ワイヤ8に対して捩れないようにするもの
である。主ワイヤ8は石英坩堝3の上方で、石英坩堝3
と反対方向に回転しつつ上下動するものである。
As shown in FIG. 7, the anti-twist ring 1
Reference numeral 6 is a disc shape, and two holes 17 are formed corresponding to the sub wire 10. The main wire 8 is fixed at the center of the twist prevention ring 16 as described above.
The two holes 17 are formed so as to face each other with the central portion (fixed portion of the wire 8) interposed therebetween. The twist prevention ring 16 prevents the sub wire 10 from being twisted with respect to the main wire 8 between the head 7 and the lifting ring 18. The main wire 8 is located above the quartz crucible 3 and above the quartz crucible 3
It moves up and down while rotating in the opposite direction.

【0020】そして、副ワイヤ10も、それぞれ副モー
タ11により副ローラ15を介して石英坩堝3に向かっ
て下降するものである。これらの副ワイヤ10は、捩れ
防止リング16の上記2個の孔17をそれぞれ遊貫し
て、副ワイヤ10と共に回転自在の昇降用リング18の
上端に、主ワイヤ8と接触することなく固定されてい
る。すなわち、主ワイヤ8に対してはこの昇降用リング
18は自由な動作ができ、副ワイヤ10に対しては捩れ
防止リング16は自由な動作ができるものである。
The auxiliary wires 10 are also lowered toward the quartz crucible 3 by the auxiliary motors 11 via the auxiliary rollers 15. These sub wires 10 are fixed to the upper end of a lifting ring 18 which is rotatable together with the sub wire 10 without coming into contact with the main wire 8 by freely penetrating through the two holes 17 of the twist prevention ring 16. ing. That is, the lifting ring 18 can freely move with respect to the main wire 8 and the twist prevention ring 16 can freely move with respect to the sub wire 10.

【0021】石英坩堝3の上方でヘッド7の下方には、
シリコン単結晶棒の重量を支える保持機構20が設けら
れている。この保持機構20は、後述するように、上記
引上機構6の昇降用リング18と連動する構成である。
すなわち、この保持機構20は、鉛直方向に延在する軸
線を有する円筒体からなる結晶係合装置21を有してい
る。この結晶係合装置21は、チャンバに固定された水
平な支え板23に、ベアリング22を介してその軸線回
りに回転自在に支持されている。
Above the quartz crucible 3 and below the head 7,
A holding mechanism 20 for supporting the weight of the silicon single crystal ingot is provided. The holding mechanism 20 is configured to interlock with the lifting ring 18 of the pulling mechanism 6, as described later.
That is, the holding mechanism 20 has a crystal engaging device 21 formed of a cylindrical body having an axis extending in the vertical direction. The crystal engagement device 21 is supported by a horizontal support plate 23 fixed to the chamber via a bearing 22 so as to be rotatable about its axis.

【0022】図6に示すように、この結晶係合装置21
の天板29には、L字状の上フック24がその屈曲部を
中心として軸着されている。この上フック24の一端は
ストッパ25の上端に当接している。このストッパ25
の当接面は所定カム形状に湾曲形成されている。ストッ
パ25は略円柱状である。このストッパ25の下端に可
動軸26の上端が固着している。この可動軸26の下端
は下フック27の長孔28に係合している。この下フッ
ク27も略L字状である。長孔28は下フック27の一
端に形成されている。下フック27はその屈曲部が結晶
係合装置21の底板30の一部に軸着している。結晶係
合装置21の中板31にも孔32が形成されている。こ
の中板31の上面とストッパ25の下面とにスプリング
33の両端はそれぞれ係止している。このスプリング3
3内、孔32、および、台座34の孔35を通って可動
軸26は、スプリング33の付勢により鉛直方向に上下
動する。可動軸26が下方に移動したとき、下フック2
7の他端部37は上を向き、可動軸26が上方に移動し
たとき、他端部37はシリコン単結晶棒40の突部41
に下方から当接してこれを保持するものである。
As shown in FIG. 6, this crystal engaging device 21
An L-shaped upper hook 24 is pivotally attached to the top plate 29 with the bent portion as the center. One end of the upper hook 24 is in contact with the upper end of the stopper 25. This stopper 25
The contact surface of is curvedly formed into a predetermined cam shape. The stopper 25 has a substantially cylindrical shape. The upper end of the movable shaft 26 is fixed to the lower end of the stopper 25. The lower end of the movable shaft 26 is engaged with the long hole 28 of the lower hook 27. The lower hook 27 is also substantially L-shaped. The long hole 28 is formed at one end of the lower hook 27. The bent portion of the lower hook 27 is pivotally attached to a part of the bottom plate 30 of the crystal engaging device 21. A hole 32 is also formed in the middle plate 31 of the crystal engaging device 21. Both ends of the spring 33 are engaged with the upper surface of the intermediate plate 31 and the lower surface of the stopper 25, respectively. This spring 3
The movable shaft 26 moves up and down in the vertical direction by the bias of the spring 33 through the inside 3, the hole 32, and the hole 35 of the pedestal 34. When the movable shaft 26 moves downward, the lower hook 2
When the movable shaft 26 moves upward, the other end 37 of the silicon single crystal 7 faces upward and the other end 37 of the silicon single crystal ingot 40 projects.
It abuts from below and holds it.

【0023】また、上述したように、シリコン単結晶棒
40を下フック27により保持するとき、ベアリング2
2を介して結晶係合装置21は鉛直方向の軸線回りに回
転自在に支持されている。このため、上記昇降用リング
18に対してこの結晶係合装置21、保持機構20は全
体として一体に回転し、その回転速度および回転方向は
同じである。よって、この保持機構20によるシリコン
単結晶棒40の保持により主ワイヤ8が捩れたりするこ
とがない。また、この捩れによるシリコン単結晶棒40
の横ゆれが防止できる。なお、保持機構20は、シリコ
ン単結晶棒40を支持する上フック24と、この上フッ
ク24を動作させる下フック27と、これらの上フック
24、下フック27が支持され、水平面内で回動可能に
設けられた結晶係合装置21と、を有するものである。
Further, as described above, when the silicon single crystal ingot 40 is held by the lower hook 27, the bearing 2
The crystal engaging device 21 is rotatably supported via the axis 2 in the vertical direction. Therefore, the crystal engagement device 21 and the holding mechanism 20 rotate as a whole with respect to the lifting ring 18, and the rotation speed and the rotation direction are the same. Therefore, the main wire 8 is not twisted by holding the silicon single crystal ingot 40 by the holding mechanism 20. Further, the silicon single crystal rod 40 due to this twist
It is possible to prevent sideways shaking. The holding mechanism 20 has an upper hook 24 that supports the silicon single crystal ingot 40, a lower hook 27 that operates the upper hook 24, and the upper hook 24 and the lower hook 27 that are supported and rotate in a horizontal plane. And a crystal engagement device 21 that is provided so as to be possible.

【0024】次に、図2〜図6を用いて、シリコン単結
晶棒の引き上げ方法を説明する。引き上げに先立って、
黒鉛サセプタ2内にある石英坩堝3内に高純度多結晶シ
リコン、および、ボロンを高濃度にドープしたシリコン
結晶の小片を入れる。これら全体を坩堝軸1に取り付け
る。チャンバ内を真空装置で真空にした後これにアルゴ
ンガスを供給し、チャンバ内を10〜20Torrのア
ルゴン雰囲気にする。ヒータ5に通電して石英坩堝3を
加熱し原料のシリコン等を溶融する。そして、シードチ
ャック13にシリコン単結晶の種子結晶14を取り付
け、この種子結晶14をシリコン融液4の液面の中心に
接触させる。この接触と同時に、モータで坩堝軸1を所
定の坩堝回転速度で一方向に回転させるともに、引上機
構6のヘッド7により、所定の結晶回転速度で種子結晶
14を、他方向に回転させながらゆっくり上昇させる。
Next, a method of pulling a silicon single crystal ingot will be described with reference to FIGS. Prior to raising
Into a quartz crucible 3 in the graphite susceptor 2, high-purity polycrystalline silicon and small pieces of silicon crystals highly doped with boron are put. The whole of these is attached to the crucible shaft 1. After the inside of the chamber is evacuated by a vacuum device, argon gas is supplied to the inside of the chamber to make the inside of the chamber an argon atmosphere of 10 to 20 Torr. The heater 5 is energized to heat the quartz crucible 3 to melt the raw material silicon or the like. Then, a silicon single crystal seed crystal 14 is attached to the seed chuck 13, and the seed crystal 14 is brought into contact with the center of the liquid surface of the silicon melt 4. Simultaneously with this contact, the motor rotates the crucible shaft 1 in one direction at a predetermined crucible rotation speed, and the head 7 of the pulling mechanism 6 rotates the seed crystal 14 in the other direction at a predetermined crystal rotation speed. Raise slowly.

【0025】このとき、種子結晶14の下端に連続して
ダッシュズネックを形成する。このダッシュズネックの
大径部の直径は10mm、その小径部の直径は3mmと
する。この後、主ワイヤ8の引上速度を遅くし、シリコ
ン単結晶棒40の直径を増大してショルダを形成する。
このショルダの最大径は所望のシリコン単結晶棒40の
ボディ(例えば口径200mm)より8mm程度長く
し、シリコン単結晶棒40のショルダに突部41を形成
する。この後、引上速度等を変化させて、シリコン単結
晶棒40のボディを形成する。この引き上げに際して
は、図2、図3に示すように、シリコン単結晶棒40の
引上成長に伴って、副ワイヤ10に固着された捩れ防止
リング16と、主ワイヤ8に固着された昇降リング18
と、は所定間隔を保って、同じ回転速度、同じ方向に回
転しながら上昇する。次いで、図4、図5、図6に示す
ように、昇降リング18の下部が保持機構20の上フッ
ク24の他端部に当接、係合すると、上フック24はそ
の屈曲部を中心にして図6にて時計回り方向に回転し始
める。上フック24が所定角度回転すると、ストッパ2
5の当接面26から上フック24の一端部の先端がはず
れる。それと同時に、スプリング33の付勢により、ス
トッパ25の下端にその先端を固着している可動軸26
が上方に移動する。この可動軸26の移動にしたがい、
可動軸26の下部に固定された下フック27が所定角度
だけ回転する。下フック27の他端部(結晶保持具)3
7の保持面36がシリコン単結晶棒40の方向を向く。
このとき、保持面36はシリコン単結晶棒40の突部4
1の下面より下方に位置させる。
At this time, a dash neck is formed continuously at the lower end of the seed crystal 14. The diameter of the large diameter portion of the dash's neck is 10 mm, and the diameter of the small diameter portion is 3 mm. After that, the pulling speed of the main wire 8 is decreased and the diameter of the silicon single crystal ingot 40 is increased to form a shoulder.
The maximum diameter of this shoulder is made longer by about 8 mm than the desired body of the silicon single crystal ingot 40 (for example, diameter 200 mm), and the protrusion 41 is formed on the shoulder of the silicon single crystal ingot 40. After that, the pulling speed and the like are changed to form the body of the silicon single crystal ingot 40. At the time of this pulling up, as shown in FIGS. 2 and 3, as the silicon single crystal ingot 40 is pulled up, the twist prevention ring 16 fixed to the sub wire 10 and the lifting ring fixed to the main wire 8 18
And rise while rotating at the same rotation speed and in the same direction at a predetermined interval. Next, as shown in FIGS. 4, 5, and 6, when the lower portion of the lifting ring 18 abuts and engages with the other end of the upper hook 24 of the holding mechanism 20, the upper hook 24 is centered around the bent portion. 6 starts to rotate clockwise in FIG. When the upper hook 24 rotates by a predetermined angle, the stopper 2
The tip of one end of the upper hook 24 is disengaged from the abutting surface 26 of 5. At the same time, the movable shaft 26 whose tip is fixed to the lower end of the stopper 25 by the biasing force of the spring 33.
Moves upwards. According to the movement of the movable shaft 26,
The lower hook 27 fixed to the lower part of the movable shaft 26 rotates by a predetermined angle. The other end of the lower hook 27 (crystal holder) 3
The holding surface 36 of 7 faces the direction of the silicon single crystal ingot 40.
At this time, the holding surface 36 is the protrusion 4 of the silicon single crystal ingot 40.
It is located below the lower surface of 1.

【0026】そして、上フック24の他端部は昇降リン
グ18の下部に係止し続けるので、結晶係合装置21は
昇降リング18と共に回転しながら上昇する。この副ワ
イヤ10による結晶係合装置21の上昇速度は、主ワイ
ヤ8によるシードリフトレートよりも速く設定する。結
晶係合装置21を上昇させる速度は、シリコン単結晶棒
40のショルダの下面と接触する1〜3mm程度手前
で、シードリフトレートの1.02〜1.2倍程度に減速
させる。そして、下フック27の結晶保持具37が、シ
リコン単結晶棒40のボディよりその直径が太いショル
ダの突部41の下面42を当接する。当接した後は、結
晶係合装置21を上昇させる速度をシードリフトレート
と同じにする。この結果、結晶係合装置21は、シリコ
ン単結晶棒40を支持しながら回転上昇する。なお、下
フック27の移動方向は、上から下に向かってでも、水
平方向であってもよい。また、シリコン単結晶棒の突部
は、従来のシリコン単結晶棒のショルダの途中に形成し
てもよい。
Since the other end of the upper hook 24 continues to be locked to the lower portion of the elevating ring 18, the crystal engaging device 21 ascends while rotating with the elevating ring 18. The ascending speed of the crystal engaging device 21 by the sub wire 10 is set to be higher than the sea drift rate by the main wire 8. The speed of raising the crystal engaging device 21 is about 1 to 3 mm before contact with the lower surface of the shoulder of the silicon single crystal ingot 40, and is reduced to about 1.02 to 1.2 times the sea drift rate. Then, the crystal holder 37 of the lower hook 27 abuts the lower surface 42 of the protrusion 41 of the shoulder whose diameter is larger than that of the body of the silicon single crystal rod 40. After the contact, the speed at which the crystal engaging device 21 is raised is made equal to the sea drift rate. As a result, the crystal engaging device 21 rotates and rises while supporting the silicon single crystal rod 40. The lower hook 27 may be moved from the top to the bottom or in the horizontal direction. The protrusion of the silicon single crystal ingot may be formed in the middle of the shoulder of the conventional silicon single crystal ingot.

【0027】シリコン単結晶棒40を保持する際、結晶
係合装置21の下フック27はてこ運動を行うがその下
フック27の慣性力は小さい。このときの慣性力は、従
来の保持機構全体で保持するときより減少させることが
できる。したがって、下フック27の保持面36がシリ
コン単結晶棒40の突部41の下面42を係止する位置
を精密に制御することができる。また、シリコン単結晶
棒40の引き上げと、シリコン単結晶棒40の保持とを
互いに独立にして制御することができる。したがって、
シリコン単結晶棒40の引き上げ動作を妨げることな
く、下フック27を回動させて、シリコン単結晶棒40
を保持することができる。また、主ワイヤ8および副ワ
イヤ10のそれぞれの回転速度および回転方向を同じに
することができる。したがって、シリコン単結晶棒40
の引き上げに悪影響を及ぼすことなく、シリコン単結晶
棒40を保持することができる。また、捩れ防止リング
16を用いたので、主ワイヤ8と副ワイヤ10とが絡み
合うことがない。よって、結晶係合装置21の下フック
27がシリコン単結晶棒40の突部41に係止する位置
がずれることはない。これらの結果、下フック27のシ
リコン単結晶棒40の保持が弱くなることはない。した
がって、シリコン単結晶棒40がシリコン融液4中に落
下することはない。また、直径8インチ、長さ2000
mm、重さ150kgfのシリコン単結晶棒40を安全
に引き上げ成長させることができる。引き上げたシリコ
ン単結晶棒は、無転位で、歪もない。なお、上フック2
4を用いないで、昇降リング18と下フック27とをワ
イヤで連結して、シリコン単結晶棒40を引き上げるこ
とも可能である。
When holding the silicon single crystal ingot 40, the lower hook 27 of the crystal engaging device 21 performs a lever movement, but the inertial force of the lower hook 27 is small. The inertial force at this time can be reduced as compared with the case where the whole holding mechanism is used in the related art. Therefore, the position where the holding surface 36 of the lower hook 27 locks the lower surface 42 of the protrusion 41 of the silicon single crystal ingot 40 can be precisely controlled. Further, the pulling of the silicon single crystal ingot 40 and the holding of the silicon single crystal ingot 40 can be controlled independently of each other. Therefore,
The lower hook 27 is rotated without hindering the pulling operation of the silicon single crystal ingot 40 to move the silicon single crystal ingot 40.
Can be held. In addition, the main wire 8 and the sub wire 10 can have the same rotation speed and the same rotation direction. Therefore, the silicon single crystal ingot 40
The silicon single crystal ingot 40 can be held without adversely affecting the pulling up of the silicon single crystal. Further, since the twist prevention ring 16 is used, the main wire 8 and the sub wire 10 are not entangled with each other. Therefore, the position where the lower hook 27 of the crystal engaging device 21 engages with the protrusion 41 of the silicon single crystal ingot 40 does not shift. As a result, the lower hook 27 does not weaken the holding of the silicon single crystal ingot 40. Therefore, the silicon single crystal ingot 40 does not drop into the silicon melt 4. Also, the diameter is 8 inches and the length is 2000.
It is possible to safely pull up and grow a silicon single crystal ingot 40 having a size of 150 mmf and a weight of 150 kgf. The pulled silicon single crystal ingot has no dislocation and no distortion. The upper hook 2
It is also possible to pull up the silicon single crystal ingot 40 by connecting the elevating ring 18 and the lower hook 27 with a wire without using 4.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明してきたように本発明に係る単
結晶引上装置によれば、単結晶棒の突部を係止する際、
保持機構の第1てこユニットのみが動作するため、この
第1てこユニットには、小さな慣性力しか作用しない。
その結果、第1てこユニットが単結晶棒を係止する位置
を精密に制御することができる。さらに、単結晶棒の引
き上げと単結晶棒の保持とを互いに独立に制御すること
ができ、かつ、引上機構および保持機構を同じ回転速
度、同じ方向に回動させながら昇降させることにより、
単結晶棒の引き上げを妨げることなく、単結晶棒を保持
することができる。また、第1引上ユニットと第2引上
ユニットの各引上用のワイヤ同士が捻れないので、第1
引上ユニットによる単結晶棒の引き上げにおいて、第2
引上ユニットを介して第1てこユニットによる単結晶棒
の突部に対する係止位置がずれない。さらに、第1てこ
ユニットの単結晶棒の保持が弱くなることはない。した
がって、結晶融液中に単結晶棒が落下することはない。
As described above, according to the single crystal pulling apparatus of the present invention, when the projection of the single crystal rod is locked,
Since only the first lever unit of the holding mechanism operates, only a small inertial force acts on this first lever unit.
As a result, the position where the first lever unit locks the single crystal rod can be precisely controlled. Furthermore, pulling up of the single crystal rod and holding of the single crystal rod can be controlled independently of each other, and by raising and lowering the pulling mechanism and the holding mechanism while rotating in the same rotational speed and the same direction,
The single crystal rod can be held without hindering the pulling of the single crystal rod. Further, since the pulling wires of the first pulling unit and the second pulling unit are not twisted,
In pulling the single crystal ingot by the pulling unit, the second
The locking position of the first lever unit with respect to the projection of the single crystal rod does not shift via the pulling unit. Further, the holding of the single crystal rod of the first lever unit does not become weak. Therefore, the single crystal rod does not fall into the crystal melt.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 1 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 4 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 5 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の断面
図である。
FIG. 6 is a sectional view of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施例に係る単結晶引上装置の要部
斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view of a main portion of a single crystal pulling apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図8】従来例に係る単結晶引上装置の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a conventional single crystal pulling apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 石英坩堝 4 シリコン融液(結晶融液) 6 引上機構 7 ヘッド(回転手段) 8 主ワイヤ(第1引上ユニットのワイヤ) 9 主モータ(第1引上ユニットの引上原動機) 10 副ワイヤ(第2引上ユニットのワイヤ) 11 副モータ(第2引上ユニットの引上原動機) 16 捩れ防止リング 20 保持機構 21 結晶係合装置(支持部材) 24 上フック(第2てこユニット) 27 下フック(第1てこユニット) 40 シリコン単結晶棒 41 突部 3 Quartz Crucible 4 Silicon Melt (Crystal Melt) 6 Lifting Mechanism 7 Head (Rotating Means) 8 Main Wire (Wire of First Pulling Unit) 9 Main Motor (Pulling Motor of First Pulling Unit) 10 Sub Wire (wire of the second pulling unit) 11 Secondary motor (Pulling prime mover of the second pulling unit) 16 Twist prevention ring 20 Holding mechanism 21 Crystal engaging device (supporting member) 24 Upper hook (second lever unit) 27 Lower hook (1st lever unit) 40 Silicon single crystal rod 41 Projection

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 結晶融液を保持する坩堝と、 この結晶融液からその一部に突部を有した単結晶棒を引
き上げる引上機構と、 この引上機構と連動し単結晶棒を支持する保持機構と、
を備えた単結晶引上装置において、 上記保持機構は、上記単結晶棒の突部を係止しこの単結
晶棒を支持する第1てこユニットと、上記引上機構に連
動し、上記第1てこユニットを連動させる第2てこユニ
ットと、を有することを特徴とする単結晶引上装置。
1. A crucible for holding a crystal melt, a pulling mechanism for pulling up a single crystal rod having a projection on a part thereof from the crystal melt, and a single crystal rod supported in cooperation with the pulling mechanism. Holding mechanism to
In the single crystal pulling apparatus including: the holding mechanism, the first lever unit that locks the projection of the single crystal rod and supports the single crystal rod, and the pulling mechanism, A single crystal pulling apparatus, comprising: a second lever unit that interlocks the lever unit.
【請求項2】 上記引上機構は、 単結晶棒のダッシュズネックに連結され昇降可能な第1
引上ユニットと、 この第1引上ユニットから独立して昇降可能であり、上
記第2てこユニットを動作させる第2引上ユニットと、
を含む請求項1に記載の単結晶引上装置。
2. The first pulling mechanism is connected to a dash neck of a single crystal rod and is capable of moving up and down.
A pull-up unit, a second pull-up unit that can be moved up and down independently of the first pull-up unit, and that operates the second lever unit,
The single crystal pulling apparatus according to claim 1, which comprises:
【請求項3】 上記引上機構は、上記単結晶棒をその軸
線回りに回転させる回転手段を有し、 上記第1引上ユニットおよび上記第2引上ユニットは、
それぞれ引上原動機を有するとともに、 これらの引上原動機は、上記回転手段に保持されている
請求項2に記載の単結晶引上装置。
3. The pulling mechanism has rotating means for rotating the single crystal ingot about its axis, and the first pulling unit and the second pulling unit include:
The single crystal pulling apparatus according to claim 2, wherein each pulling prime mover is provided, and these pulling prime movers are held by the rotating means.
【請求項4】 上記第1引上ユニットおよび上記第2引
上ユニットはそれぞれワイヤを有し、これらのワイヤ同
士の捩れを防止する捩れ防止体を設けた請求項2または
請求項3に記載の単結晶引上装置。
4. The first pulling-up unit and the second pulling-up unit each have wires, and a twist prevention body for preventing twisting of these wires is provided. Single crystal pulling device.
【請求項5】 上記保持機構は、水平面内で回動可能に
設けられた支持部材を有し、 この支持部材に上記第1てこユニットおよび上記第2て
こユニットが支持された請求項1〜請求項4のいずれか
1項に記載の単結晶引上装置。
5. The holding mechanism includes a support member rotatably provided in a horizontal plane, and the support member supports the first lever unit and the second lever unit. Item 5. The single crystal pulling apparatus according to any one of items 4.
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