JPH0527104A - Microlens manufacturing method - Google Patents
Microlens manufacturing methodInfo
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- JPH0527104A JPH0527104A JP18281691A JP18281691A JPH0527104A JP H0527104 A JPH0527104 A JP H0527104A JP 18281691 A JP18281691 A JP 18281691A JP 18281691 A JP18281691 A JP 18281691A JP H0527104 A JPH0527104 A JP H0527104A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学特性の制御性が良く、しかも、生産性に
富んだマイクロレンズの製造方法を提供する。
【構成】 透明基板５上に感光性樹脂１１からなる膜を
形成し、この膜の上部にマスクを配置させ選択的な光照
射を行うことにより感光性樹脂１１の一部を多量化させ
た後、全面に渡って光照射を行い感光性樹脂１１を硬化
安定化させることによりマイクロレンズ８を作製するマ
イクロレンズの製造方法において、少なくとも一方の透
明基板５の表面上に開口部６ａを有する遮光膜６を形成
し、この遮光膜６の開口部６ａを介して透明基板５の面
上のエッチングを行うことにより開口部６ａと精度良く
配置された所望の凹面形状の孔７を形成した。
(57) [Summary] [Object] To provide a method for producing a microlens, which has good controllability of optical characteristics and is highly productive. [Structure] A film made of a photosensitive resin 11 is formed on a transparent substrate 5, and a mask is placed on the film to selectively irradiate light to increase a part of the photosensitive resin 11. In a method of manufacturing a microlens for manufacturing a microlens 8 by irradiating light over the entire surface to cure and stabilize the photosensitive resin 11, a light-shielding film having an opening 6a on the surface of at least one transparent substrate 5. 6 was formed, and the surface of the transparent substrate 5 was etched through the opening 6a of the light-shielding film 6 to form the desired concave surface-shaped hole 7 accurately arranged with the opening 6a.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、特に、光通信システム
や光情報処理等の微小光学素子の分野に有用なマイクロ
レンズの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a microlens, which is particularly useful in the field of micro optical elements such as optical communication systems and optical information processing.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来におけるマイクロレンズの製造方法
としては、例えば、図４に示すような方法がある。この
方法は、まず、基板１上に感光性樹脂２を塗布し
（ａ）、次に、その感光性樹脂２の上部にマスク３を配
置させた状態で選択的な光照射を行うことにより感光性
樹脂２の一部を多量化（球面状の突起部を形成）させ、
これにより未露光部から露光部へのモノマーの流入を引
き起こしてその露光部を球面化する（ｂ）。次に、マス
ク３を取り除いて全面に渡って照射を行うことにより樹
脂を硬化、安定化させ、これによりマイクロレンズ４を
作製する（ｃ）。2. Description of the Related Art As a conventional method for manufacturing a microlens, for example, there is a method shown in FIG. In this method, first, a photosensitive resin 2 is applied onto a substrate 1 (a), and then a selective irradiation of light is performed with a mask 3 placed on the photosensitive resin 2 to expose the photosensitive resin 2. Of a part of the flexible resin 2 is increased (a spherical protrusion is formed),
This causes the monomer to flow from the unexposed portion to the exposed portion to sphericalize the exposed portion (b). Next, the mask 3 is removed and irradiation is performed over the entire surface to cure and stabilize the resin, thereby producing the microlens 4 (c).
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】光情報処理や光通信な
どの光学素子としてマイクロレンズを用いる場合、低収
差のレンズが望まれている。しかし、図４に示したよう
な製造方法により作製されるマイクロレンズにおいて
は、収差等の光学特性の向上にはその表面形状の高精度
な制御が必要であり、その製造上、量産性等に問題が残
る。また、各レンズ間は光学的に分離されておらず、迷
光などによる光学特性の劣化などの問題がある。When a microlens is used as an optical element for optical information processing or optical communication, a lens with low aberration is desired. However, in the microlens manufactured by the manufacturing method as shown in FIG. 4, it is necessary to control the surface shape with high accuracy in order to improve the optical characteristics such as the aberration, and therefore, in terms of the manufacturing, the mass productivity is improved. The problem remains. Further, the lenses are not optically separated from each other, which causes a problem such as deterioration of optical characteristics due to stray light or the like.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、透明基板上に感光性樹脂からなる膜を形成し、この
膜の上部にマスクを配置させ選択的な光照射を行うこと
により前記感光性樹脂の一部を多量化させた後、全面に
渡って光照射を行い前記感光性樹脂を硬化安定化させる
ことによりマイクロレンズを作製するマイクロレンズの
製造方法において、前記少なくとも一方の透明基板の表
面上に開口部を有する遮光膜を形成し、この遮光膜の前
記開口部を介して前記透明基板の面上のエッチングを行
うことにより前記開口部と精度良く配置された所望の凹
面形状の孔を形成した。According to a first aspect of the present invention, a film made of a photosensitive resin is formed on a transparent substrate, a mask is placed on the film, and selective light irradiation is performed. In the method for producing a microlens, which comprises producing a microlens by irradiating light over the entire surface after a large amount of a portion of the photosensitive resin is produced, to stabilize the photosensitive resin, wherein the at least one transparent substrate is used. A light-shielding film having an opening is formed on the surface of, and the surface of the transparent substrate is etched through the opening of the light-shielding film to form a desired concave surface shape accurately arranged with the opening. A hole was formed.
【０００５】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明において、感光性樹脂の屈折率をｎ1 とし、透明基
板の屈折率をｎ2 とした時、ｎ1＜ｎ2の関係を満たすよ
うにしてマイクロレンズを作製するようにした。[0005] In the present invention of claim 2, wherein, in the invention according to the first aspect, the refractive index of the photosensitive resin and n 1, when the refractive index of the transparent substrate was set to n 2, the relation of n 1 <n 2 A microlens was prepared so as to satisfy the condition.
【０００６】請求項３記載の発明では、請求項１記載の
発明において、遮光膜を介して選択露光するようにし
た。According to a third aspect of the invention, in the first aspect of the invention, the selective exposure is performed through the light shielding film.
【０００７】請求項４記載の発明では、請求項１記載の
発明において、蒸着法、又は、スパッタ法、又は、ＣＶ
Ｄ法の薄膜形成法を用いて遮光膜を形成し、フォトリソ
グラフィ法を用いて開口パターンを有するマスクを介し
てエッチングを行うことにより前記遮光膜上に開口部を
形成した。According to a fourth aspect of the invention, in the invention of the first aspect, the vapor deposition method, the sputtering method, or the CV method is used.
A light-shielding film was formed using the thin film forming method of the method D, and an opening was formed on the light-shielding film by etching using a photolithography method through a mask having an opening pattern.
【０００８】請求項５記載の発明では、請求項１記載の
発明において、機械加工法又はフォトリソグラフィ法を
用いて開口パターンを有するマスクを介してエッチング
を行うことにより、若しくは、レーザ光による物理加工
法を用いてエッチングを行うことにより、所望の凹面形
状の孔の形成された透明基板を作製した。According to a fifth aspect of the invention, in the first aspect of the invention, etching is performed through a mask having an opening pattern using a mechanical processing method or a photolithography method, or physical processing by laser light is performed. By performing etching using the method, a transparent substrate having a desired concave hole was formed.
【０００９】[0009]
【作用】請求項１記載の発明においては、マイクロレン
ズに光硬化性樹脂を利用することにより生産性に優れた
低収差のマクイロレンズを遮光膜を有する構造で容易に
作製することが可能となる。According to the first aspect of the present invention, the photocurable resin is used for the microlenses, so that it is possible to easily manufacture a low-aberration Maciro lens having excellent productivity with a structure having a light shielding film.
【００１０】請求項２記載の発明においては、樹脂とレ
ンズとの間の屈折率の関係から、凹レンズ的な機能を付
与することが可能となる。According to the second aspect of the present invention, it is possible to impart a function like a concave lens from the relationship of the refractive index between the resin and the lens.
【００１１】請求項３記載の発明においては、光学マス
クが不要となる。According to the third aspect of the invention, the optical mask is unnecessary.
【００１２】請求項４記載の発明においては、生産性よ
く２次元アレイ状に高精度に開口部の位置合わせされた
遮光膜を形成することが可能となる。According to the fourth aspect of the invention, it is possible to form the light-shielding film in which the openings are aligned with high accuracy in a two-dimensional array with high productivity.
【００１３】請求項５記載の発明においては、透明基板
を一括して容易に加工することが可能となる。According to the fifth aspect of the invention, it becomes possible to easily process the transparent substrates collectively.
【００１４】[0014]
【実施例】本発明の一実施例を図１ないし図３に基づい
て説明する。図２は、図１の作製方法により得られたマ
イクロレンズの外観構成を示すものである。この場合、
マイクロレンズは、透明基板５の少なくとも一方の面上
に開口部を有する遮光膜６を形成し、この遮光膜６の前
記開口部を介して、前記透明基板５の面上のエッチング
を行うことにより前記開口部と精度良く配置された所望
の凹面形状の孔７を形成した後、感光性樹脂の膜を形成
して、光学マスク若しくは遮光膜６を介して選択的な光
照射を行うことにより前記感光性膜の一部を多量化され
た後、全面を照射して前記感光性樹脂を硬化、安定化さ
せることによりマイクロレンズ８を作製するようにした
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 shows an external configuration of the microlens obtained by the manufacturing method of FIG. in this case,
The microlens is formed by forming a light shielding film 6 having an opening on at least one surface of the transparent substrate 5 and performing etching on the surface of the transparent substrate 5 through the opening of the light shielding film 6. After forming the desired concave surface-shaped hole 7 that is accurately arranged with the opening, a photosensitive resin film is formed, and selective light irradiation is performed through the optical mask or the light-shielding film 6. The microlens 8 is manufactured by irradiating the entire surface of the photosensitive film after the photosensitive film is partially made large in quantity and then cured and stabilized.
【００１５】そこで、今、図１に基づいてマイクロレン
ズ８の作製方法を説明する。まず、透明基板５としては
ガラス基板（例えば、石英ガラス、ＢＫ７などの光学ガ
ラス）を用い、蒸着等の通常の薄膜形成技術を用いてＣ
ｒなどの遮光膜６を形成した後、フォトレジスト９をス
ピンコートし、その後、図示しない開口パターンを有す
るマスクを介して露光、現像を行い、これによりそのフ
ォトレジスト９に円形の開口パターン９ａを形成する
（ａ）。次に、その開口パターン９ａを介して、所定の
時間エッチング液（例えば、熱燐酸）に接触させてエッ
チングを行うことにより遮光膜６上に円形の開口部６ａ
を得る（ｂ）。次に、フォトレジスト９の剥離後、遮光
膜６を含む全面に渡って再びフォトレジスト１０をスピ
ンコートした後、図示しないマスクを介して露光、現像
を行うことにより円形の開口パターン１０ａを形成し、
これによりエッチング用のマスクを得る（ｃ）。次に、
その開口パターン１０ａを介して、透明基板５の面上を
所定の時間だけエッチング液（例えば、フッ酸やＢＨＦ
など）に接触させてエッチングを行うことにより、球面
状の孔７を形成する（ｄ）。次に、フォトレジスト１０
を剥離した後、感光性樹脂としての光硬化性樹脂１１
（例えば、２Ｐ樹脂）を数十μｍ程度の厚さにコーティ
ングし、透明基板５の前面から図示しない円形の開口パ
ターンを有する光学マスクを介して、又は、透明基板５
の背面から高圧水銀ランプ１２を用いて選択的に紫外線
を照射し、これにより光硬化性樹脂１１の一部を多量化
させる（ｅ）。この時、図示しない未露光部から露光部
へのモノマーの流入が起こり、これにより露光部が球面
化する。次に、基板前面側からランプ１３を用いて全体
を照射して、光硬化性樹脂１１を硬化、安定化させるこ
とにより、球面状をしたマイクロレンズ８を得ることが
できる（ｆ）。なお、光硬化性樹脂１１と透明基板５と
の密着性を良くするために、ガラスと密着性に優れた光
硬化性樹脂１１のプレコート処理などを行って、生産性
やレンズの耐久性を向上させることも可能である。Therefore, a method of manufacturing the microlens 8 will now be described with reference to FIG. First, a glass substrate (eg, quartz glass, optical glass such as BK7) is used as the transparent substrate 5, and C is formed by using a normal thin film forming technique such as vapor deposition.
After forming the light-shielding film 6 such as r, the photoresist 9 is spin-coated, and then exposed and developed through a mask having an opening pattern (not shown) to form a circular opening pattern 9a in the photoresist 9. Form (a). Next, a circular opening 6a is formed on the light-shielding film 6 by contacting it with an etching solution (for example, hot phosphoric acid) for a predetermined time through the opening pattern 9a to perform etching.
(B). Next, after the photoresist 9 is peeled off, the photoresist 10 is spin-coated again over the entire surface including the light-shielding film 6 and then exposed and developed through a mask (not shown) to form a circular opening pattern 10a. ,
As a result, a mask for etching is obtained (c). next,
Through the opening pattern 10a, the surface of the transparent substrate 5 is etched for a predetermined time by using an etching solution (for example, hydrofluoric acid or BHF).
Etc.) to perform the etching to form the spherical hole 7 (d). Next, the photoresist 10
After peeling off the photocurable resin 11 as a photosensitive resin
(For example, 2P resin) is coated to a thickness of about several tens of μm, and is applied from the front surface of the transparent substrate 5 through an optical mask having a circular opening pattern (not shown) or the transparent substrate 5
Ultraviolet rays are selectively emitted from the back surface of the photocurable resin using the high-pressure mercury lamp 12 to increase a part of the photocurable resin 11 (e). At this time, a monomer flows from the unexposed portion (not shown) into the exposed portion, which causes the exposed portion to be spherical. Next, the entire surface is irradiated with the lamp 13 from the front side of the substrate to cure and stabilize the photocurable resin 11, whereby the spherical microlens 8 can be obtained (f). In order to improve the adhesion between the photocurable resin 11 and the transparent substrate 5, a precoat treatment of the photocurable resin 11 having excellent adhesion with glass is performed to improve productivity and lens durability. It is also possible to let.
【００１６】このようにして作製されたマイクロレンズ
８は、図３に示すように、光硬化性樹脂１１の屈折率を
ｎ1 とし、透明基板５の屈折率をｎ2 とした時、これら
がｎ1＜ｎ2の関係を満たすようにする。例えば、２Ｐ樹
脂の屈折率は１．４８、ＢＫ７の屈折率は１．５１、さ
らに、フリントガラスの屈折率は１．６５となり、光線
１４による樹脂との屈折率差を大きくすることが可能と
なる。このような屈折率の関係を保つようにすると、光
硬化性樹脂１１と透明基板５との間の屈折率の関係か
ら、孔７の境界面Ａは凹レンズ的な作用をするため、こ
れにより得られるマイクロレンズ８は凸レンズと凹レン
ズの複合レンズからなるアクロマティックレンズ的な構
成を有する低収差なレンズとなる。この場合、透明基板
５上に遮光膜６を有するため、レンズ間の余分な光の結
合を低減することが可能となる。さらに、マイクロレン
ズ８の光学特性は、凹面形状及び屈折率差、モノマー量
及び膜厚、露光時間などの作製条件により制御すること
が可能である。As shown in FIG. 3, the microlens 8 produced in this manner has a photo-curable resin 11 having a refractive index of n 1 and a transparent substrate 5 having a refractive index of n 2 The relationship of n 1 <n 2 is satisfied. For example, the refractive index of 2P resin is 1.48, the refractive index of BK7 is 1.51, and the refractive index of flint glass is 1.65, which makes it possible to increase the difference between the refractive index of the light rays 14 and the resin. Become. If such a relationship of the refractive index is maintained, the boundary surface A of the hole 7 acts like a concave lens due to the relationship of the refractive index between the photocurable resin 11 and the transparent substrate 5. The microlens 8 is a low-aberration lens having an achromatic lens-like structure composed of a compound lens of a convex lens and a concave lens. In this case, since the light shielding film 6 is provided on the transparent substrate 5, it is possible to reduce extra light coupling between the lenses. Further, the optical characteristics of the microlens 8 can be controlled by the manufacturing conditions such as the concave surface shape and the refractive index difference, the amount and thickness of the monomer, and the exposure time.
【００１７】なお、マクイロレンズの作製方法として
は、上述したような方法に限らず、他の種々の変形した
作製方法が可能である。例えば、フォトレジスト１０の
開口パターンを工夫することにより、凹面形状の孔７を
非球面としてさらに光学特性を向上させたり、さらに、
透明基板５のもう一方の基板表面にも同様な方法を用い
てマイクロレンズを形成することによってさらに一段と
光学特性に自由度を与えることが可能となる。また、透
明基板５の凹面形状の孔７の形成方法も種々のものが可
能であり、例えば、機械加工法又はフォトリソグラフィ
法を用いて開口パターンを有するマスクを介してエッチ
ングを行うことにより、或いは、レーザ光による物理加
工法を用いてエッチングを行うことにより形成すること
ができる。The manufacturing method of the Macuiro lens is not limited to the above-described method, and various other modified manufacturing methods are possible. For example, by devising the opening pattern of the photoresist 10, the concave hole 7 can be made an aspherical surface to further improve the optical characteristics.
By forming a microlens on the other substrate surface of the transparent substrate 5 by using a similar method, it becomes possible to further increase the degree of freedom in optical characteristics. Further, various methods can be used to form the concave holes 7 of the transparent substrate 5, for example, by etching through a mask having an opening pattern using a machining method or a photolithography method, or It can be formed by performing etching using a physical processing method using laser light.
【００１８】[0018]
【発明の効果】請求項１記載の発明は、透明基板上に感
光性樹脂からなる膜を形成し、この膜の上部にマスクを
配置させ選択的な光照射を行うことにより前記感光性樹
脂の一部を多量化させた後、全面に渡って光照射を行い
前記感光性樹脂を硬化安定化させることによりマイクロ
レンズを作製するマイクロレンズの製造方法において、
前記少なくとも一方の透明基板の表面上に開口部を有す
る遮光膜を形成し、この遮光膜の前記開口部を介して前
記透明基板の面上のエッチングを行うことにより前記開
口部と精度良く配置された所望の凹面形状の孔を形成し
たので、マイクロレンズに光硬化性樹脂を利用すること
により生産性に優れた低収差のマクイロレンズを遮光膜
を有する構造で容易に作製することが可能となり、ま
た、光硬化のため透明基板に種々の材料を用いることも
可能となるものである。According to the first aspect of the present invention, a film made of a photosensitive resin is formed on a transparent substrate, and a mask is placed on the film to selectively irradiate the photosensitive resin. In a method for producing a microlens, which comprises producing a microlens by curing and stabilizing the photosensitive resin by irradiating light over the entire surface after a large amount of a part is produced,
A light-shielding film having an opening is formed on the surface of the at least one transparent substrate, and the surface of the transparent substrate is etched through the opening of the light-shielding film so that the light-shielding film is accurately arranged with the opening. Since the desired concave-shaped hole is formed, it becomes possible to easily manufacture a low-aberration Maciro lens having excellent productivity by using a photocurable resin for the microlens with a structure having a light-shielding film. It is also possible to use various materials for the transparent substrate due to photo-curing.
【００１９】請求項２記載の発明は、感光性樹脂の屈折
率をｎ1 とし、透明基板の屈折率をｎ2 とした時、ｎ1
＜ｎ2の関係を満たすようにしてマイクロレンズを作製
するようにしたので、樹脂とレンズとの間の屈折率の関
係から、凹レンズ的な機能を付与することが可能とな
り、これにより低収差なマクイロレンズを得ることがで
きるものである。According to a second aspect of the invention, when the refractive index of the photosensitive resin is n 1 and the refractive index of the transparent substrate is n 2 , n 1
Since the microlens is manufactured so as to satisfy the relationship of <n 2 , it is possible to impart a function like a concave lens from the relationship of the refractive index between the resin and the lens, and thereby to reduce the aberration. It is possible to obtain a Maciro lens.
【００２０】請求項３記載の発明は、遮光膜を介して選
択露光するようにしたので、光学マスクが不要となり、
これにより作製工程を簡略化することが可能となるもの
である。According to the third aspect of the invention, since the selective exposure is performed through the light shielding film, an optical mask becomes unnecessary,
This makes it possible to simplify the manufacturing process.
【００２１】請求項４記載の発明は、蒸着法、又は、ス
パッタ法、又は、ＣＶＤ法の薄膜形成法を用いて遮光膜
を形成し、フォトリソグラフィ法を用いて開口パターン
を有するマスクを介してエッチングを行うことにより前
記遮光膜上に開口部を形成したので、生産性良く２次元
アレイ状に高精度に開口部の位置合わせされた遮光膜を
形成することが可能となるものである。According to a fourth aspect of the present invention, a light-shielding film is formed using a vapor deposition method, a sputtering method, or a thin film forming method such as a CVD method, and a photolithography method is used to interpose a mask having an opening pattern. Since the openings are formed on the light-shielding film by performing the etching, it is possible to form the light-shielding film in which the openings are aligned with high accuracy in a two-dimensional array with high productivity.
【００２２】請求項５記載の発明では、機械加工法又は
フォトリソグラフィ法を用いて開口パターンを有するマ
スクを介してエッチングを行うことにより、若しくは、
レーザ光による物理加工法を用いてエッチングを行うこ
とにより、所望の凹面形状の孔の形成された透明基板を
作製したので、透明基板を一括して容易に加工すること
が可能となり、これにより生産性良くレンズ基板を提供
することができるものである。According to the invention of claim 5, etching is performed through a mask having an opening pattern by using a machining method or a photolithography method, or
By performing etching using the physical processing method with laser light, a transparent substrate with desired concave holes was formed, so it is possible to easily process the transparent substrates all at once. The lens substrate can be provided with good performance.
【図１】本発明であるマイクロレンズの作製方法を示す
工程図である。FIG. 1 is a process drawing showing a method for manufacturing a microlens according to the present invention.
【図２】図１の作製方法により得られたマイクロレンズ
の外観構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an external configuration of a microlens obtained by the manufacturing method of FIG.
【図３】マイクロレンズである光硬化性樹脂の屈折率と
透明基板の屈折率との関係を示す光路図である。FIG. 3 is an optical path diagram showing the relationship between the refractive index of a photocurable resin that is a microlens and the refractive index of a transparent substrate.
【図４】従来におけるマイクロレンズの作製方法を示す
工程図である。FIG. 4 is a process chart showing a conventional method for manufacturing a microlens.
５ 透明基板 ６ 遮光膜 ６ａ 開口部 ７ 孔 ８ マイクロレンズ １１ 感光性樹脂 5 transparent substrate 6 Light-shielding film 6a opening 7 holes 8 micro lens 11 Photosensitive resin
Claims (5)
成し、この膜の上部にマスクを配置させ選択的な光照射
を行うことにより前記感光性樹脂の一部を多量化させた
後、全面に渡って光照射を行い前記感光性樹脂を硬化安
定化させることによりマイクロレンズを作製するマイク
ロレンズの製造方法において、前記少なくとも一方の透
明基板の表面上に開口部を有する遮光膜を形成し、この
遮光膜の前記開口部を介して前記透明基板の面上のエッ
チングを行うことにより前記開口部と精度良く配置され
た所望の凹面形状の孔を形成したことを特徴とするマイ
クロレンズの製造方法。1. A film made of a photosensitive resin is formed on a transparent substrate, and a mask is placed on the film to selectively irradiate light to thereby partially increase the amount of the photosensitive resin. In the method of manufacturing a microlens, which comprises irradiating light over the entire surface to cure and stabilize the photosensitive resin, a method of manufacturing a microlens, wherein a light-shielding film having an opening is formed on the surface of the at least one transparent substrate. Then, by performing etching on the surface of the transparent substrate through the opening of the light-shielding film, a desired concave surface-shaped hole that is accurately arranged with the opening is formed. Production method.
板の屈折率をｎ2 とした時、ｎ1＜ｎ2の関係を満たすよ
うにしてマイクロレンズを作製するようにしたことを特
徴とする請求項１記載のマイクロレンズの製造方法。2. When the refractive index of the photosensitive resin is n 1 and the refractive index of the transparent substrate is n 2 , the microlens is manufactured so as to satisfy the relationship of n 1 <n 2. The method of manufacturing a microlens according to claim 1, characterized in that
とする請求項１記載のマイクロレンズの製造方法。3. The method of manufacturing a microlens according to claim 1, wherein the selective exposure is performed through a light shielding film.
Ｄ法の薄膜形成法を用いて遮光膜を形成し、フォトリソ
グラフィ法を用いて開口パターンを有するマスクを介し
てエッチングを行うことにより前記遮光膜上に開口部を
形成したことを特徴とする請求項１記載のマイクロレン
ズの製造方法。4. A vapor deposition method, a sputtering method, or a CV
A light-shielding film is formed by using a thin film forming method of method D, and an opening is formed on the light-shielding film by performing etching through a mask having an opening pattern by using a photolithography method. Item 2. A method for manufacturing a microlens according to Item 1.
用いて開口パターンを有するマスクを介してエッチング
を行うことにより、若しくは、レーザ光による物理加工
法を用いてエッチングを行うことにより、所望の凹面形
状の孔の形成された透明基板を作製したことを特徴する
請求項１記載のマイクロレンズの製造方法。5. A desired concave surface shape is formed by etching through a mask having an opening pattern by using a mechanical processing method or a photolithography method, or by performing etching by a physical processing method using laser light. 2. The method for manufacturing a microlens according to claim 1, wherein a transparent substrate having the holes is formed.
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- 1991-07-24 JP JP18281691A patent/JP3081284B2/en not_active Expired - Fee Related
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