JPH05272949A - ガラス板表面評価方法 - Google Patents
ガラス板表面評価方法Info
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- JPH05272949A JPH05272949A JP7192892A JP7192892A JPH05272949A JP H05272949 A JPH05272949 A JP H05272949A JP 7192892 A JP7192892 A JP 7192892A JP 7192892 A JP7192892 A JP 7192892A JP H05272949 A JPH05272949 A JP H05272949A
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 無人で研磨ムラの評価を行いかつ従来法によ
り蓄積された研磨ムラと液晶の色ムラとの対応を損なわ
しめることなく定量的に研磨ムラを評価する方法を提供
する。 【構成】 基板用ガラス表面の形状を光学的または機械
的に測定し得られた形状から、光線追跡法によってその
ガラス板表面の反射像の明暗のパターンを予測し、その
明暗の強度をガラス表面の平坦度の指標として、平坦度
を評価する。
り蓄積された研磨ムラと液晶の色ムラとの対応を損なわ
しめることなく定量的に研磨ムラを評価する方法を提供
する。 【構成】 基板用ガラス表面の形状を光学的または機械
的に測定し得られた形状から、光線追跡法によってその
ガラス板表面の反射像の明暗のパターンを予測し、その
明暗の強度をガラス表面の平坦度の指標として、平坦度
を評価する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス板の表面評価方
法、特に液晶用ガラス基板の表面平坦度の検査に有効な
ガラス板表面評価方法に関するものである。
法、特に液晶用ガラス基板の表面平坦度の検査に有効な
ガラス板表面評価方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶用ガラス基板は、その厚みが薄いに
もかかわらずガラス表面の平坦度が特に要求されるガラ
ス板である。従来、このような高平坦なガラス板はフロ
ート式製造装置によって製造されてきたが、近年の液晶
用ガラス基板の平坦度はそれをはるかに上回る水準に達
しており、そのため通常フロート式製造装置によって製
造されたガラス板をさらに研磨機により研磨することが
行われている。
もかかわらずガラス表面の平坦度が特に要求されるガラ
ス板である。従来、このような高平坦なガラス板はフロ
ート式製造装置によって製造されてきたが、近年の液晶
用ガラス基板の平坦度はそれをはるかに上回る水準に達
しており、そのため通常フロート式製造装置によって製
造されたガラス板をさらに研磨機により研磨することが
行われている。
【０００３】このような研磨による高平坦なガラス板の
製造では、時に研磨ムラという欠点が発生することがあ
る。研磨ムラには、２０〜３０ｍｍ周期の大きなムラ
と、この大きなムラに重畳された３〜８ｍｍ周期の小さ
なムラとが存在する。研磨ムラのあるガラス板が液晶表
示装置に用いられると、前述した周期の研磨ムラにより
色ムラを生じる。研磨ムラは、研磨前にガラス板表面に
存在していた表面の微小な凹凸が研磨後も残存している
状態を示すが、研磨作業においては、この研磨ムラの程
度を定量的に把握し、それが不良品として破棄されるか
どうかを決定する必要がある。
製造では、時に研磨ムラという欠点が発生することがあ
る。研磨ムラには、２０〜３０ｍｍ周期の大きなムラ
と、この大きなムラに重畳された３〜８ｍｍ周期の小さ
なムラとが存在する。研磨ムラのあるガラス板が液晶表
示装置に用いられると、前述した周期の研磨ムラにより
色ムラを生じる。研磨ムラは、研磨前にガラス板表面に
存在していた表面の微小な凹凸が研磨後も残存している
状態を示すが、研磨作業においては、この研磨ムラの程
度を定量的に把握し、それが不良品として破棄されるか
どうかを決定する必要がある。
【０００４】従来、この研磨ムラの程度を評価する方法
として研磨面に光を照射させ、その反射光をスクリーン
上に投影して現われた明暗の縞のパターンを官能的に評
価するという方法が採られてきた。図２はこの光反射法
を示すもので、光源たとえば高輝度ランプ光源２から照
射された光を検査すべき基板ガラス１に斜入射し、その
ガラス表面による反射光がスクリーン３に投射される。
このときガラス表面の形状に応じて、スクリーン３には
明暗の縞４が現れ、この明暗の縞の強度により基板ガラ
ス表面の平坦度を評価している。すなわち、ガラス板表
面の微少な凹凸は、反射像の形成に際して凹面鏡または
凸面鏡の作用を行わしめる。ガラス表面が外に対して局
所的に凹状のときはその位置に対応する反射像は明るい
縞となり、逆に凸状のときは暗い縞となる。従来の官能
評価では、この明暗の縞の強度をガラス板の平坦度の指
標としている。
として研磨面に光を照射させ、その反射光をスクリーン
上に投影して現われた明暗の縞のパターンを官能的に評
価するという方法が採られてきた。図２はこの光反射法
を示すもので、光源たとえば高輝度ランプ光源２から照
射された光を検査すべき基板ガラス１に斜入射し、その
ガラス表面による反射光がスクリーン３に投射される。
このときガラス表面の形状に応じて、スクリーン３には
明暗の縞４が現れ、この明暗の縞の強度により基板ガラ
ス表面の平坦度を評価している。すなわち、ガラス板表
面の微少な凹凸は、反射像の形成に際して凹面鏡または
凸面鏡の作用を行わしめる。ガラス表面が外に対して局
所的に凹状のときはその位置に対応する反射像は明るい
縞となり、逆に凸状のときは暗い縞となる。従来の官能
評価では、この明暗の縞の強度をガラス板の平坦度の指
標としている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この光反射法による平
坦度の官能評価法は、大きなガラス板の評価が簡便にで
き、かつその明暗のパターンがその基板ガラスが液晶表
示装置に組み上げられたときの液晶の色ムラという欠点
とよく対応がとれるという利点をもっているが、官能評
価であるため個人差があり評価に多くの人手を要し、か
つ技術的にも裏面反射を防ぐため裏面に反射防止の材料
を塗布する必要があるという欠点を有していた。
坦度の官能評価法は、大きなガラス板の評価が簡便にで
き、かつその明暗のパターンがその基板ガラスが液晶表
示装置に組み上げられたときの液晶の色ムラという欠点
とよく対応がとれるという利点をもっているが、官能評
価であるため個人差があり評価に多くの人手を要し、か
つ技術的にも裏面反射を防ぐため裏面に反射防止の材料
を塗布する必要があるという欠点を有していた。
【０００６】本発明はこのような従来の問題点に鑑み、
無人で研磨ムラの評価を行い、かつ従来の光反射法によ
り蓄積された研磨ムラと液晶の色ムラとの対応を損なわ
しめることなく定量的に研磨ムラを評価する方法を提供
することを目的としている。
無人で研磨ムラの評価を行い、かつ従来の光反射法によ
り蓄積された研磨ムラと液晶の色ムラとの対応を損なわ
しめることなく定量的に研磨ムラを評価する方法を提供
することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス板表面
の平坦度を評価するにあたり、前記ガラス板表面の形状
を直接測定し、この測定で得られた表面形状から光線追
跡法で、前記ガラス板表面上の凹凸により発生する光反
射像の明暗の縞の強度分布を予測し、その強度分布の振
幅値を指標としてガラス板表面の平坦度を評価すること
を特徴とする。
の平坦度を評価するにあたり、前記ガラス板表面の形状
を直接測定し、この測定で得られた表面形状から光線追
跡法で、前記ガラス板表面上の凹凸により発生する光反
射像の明暗の縞の強度分布を予測し、その強度分布の振
幅値を指標としてガラス板表面の平坦度を評価すること
を特徴とする。
【０００８】また本発明によれば、前記光線追跡法によ
る予測は、前記直接測定で得られた表面形状を有する仮
想ガラス板への、仮想光源からの光の仮想照射位置への
距離を計算する第１のステップと、前記仮想ガラス板の
前記仮想照射位置で反射された光が仮想スクリーンへ投
射される位置を計算する第２のステップと、前記仮想光
源の光強度を前記第１のステップで計算した距離の２乗
で除算して、前記仮想照射位置での光強度を計算する第
３のステップと、前記仮想スクリーンを等間隔の区間に
区分し、各区間ごとに前記第２のステップで計算された
投射位置が存在する割合を表す変数に、前記第３のステ
ップで計算された光強度を加算する第４のステップと、
仮想照射位置を異ならせて、前記第１〜第４のステップ
を繰り返し、前記第４のステップによるヒストグラムを
作成する第５のステップとを含み、前記ヒストグラムを
光反射像の明暗の縞の強度分布とすることを特徴とす
る。
る予測は、前記直接測定で得られた表面形状を有する仮
想ガラス板への、仮想光源からの光の仮想照射位置への
距離を計算する第１のステップと、前記仮想ガラス板の
前記仮想照射位置で反射された光が仮想スクリーンへ投
射される位置を計算する第２のステップと、前記仮想光
源の光強度を前記第１のステップで計算した距離の２乗
で除算して、前記仮想照射位置での光強度を計算する第
３のステップと、前記仮想スクリーンを等間隔の区間に
区分し、各区間ごとに前記第２のステップで計算された
投射位置が存在する割合を表す変数に、前記第３のステ
ップで計算された光強度を加算する第４のステップと、
仮想照射位置を異ならせて、前記第１〜第４のステップ
を繰り返し、前記第４のステップによるヒストグラムを
作成する第５のステップとを含み、前記ヒストグラムを
光反射像の明暗の縞の強度分布とすることを特徴とす
る。
【０００９】さらに本発明によれば、前記ガラス板表面
の形状の直接測定は、ガラス板上で所定間隔をおいた平
行な複数本の直線に沿って行い、この測定で得られた複
数の表面形状のそれぞれにつき、前記ヒストグラムを作
成することを特徴とする。
の形状の直接測定は、ガラス板上で所定間隔をおいた平
行な複数本の直線に沿って行い、この測定で得られた複
数の表面形状のそれぞれにつき、前記ヒストグラムを作
成することを特徴とする。
【００１０】
【作用】従来の光反射法による官能評価では、反射像の
明暗の縞の強度をガラス板の平坦度の指標としている。
この明暗の縞の強度は、直接に測定されたガラス表面の
凹凸形状から光線追跡法によって予測することができ
る。
明暗の縞の強度をガラス板の平坦度の指標としている。
この明暗の縞の強度は、直接に測定されたガラス表面の
凹凸形状から光線追跡法によって予測することができ
る。
【００１１】本発明では、光線追跡法により明暗の縞の
強度を予測する際に、仮想研磨板上への入射光の強度
は、仮想スクリーン上への投射光の強度に等しいものと
して、計算が複雑にならず、したがって計算に要する時
間が長くならないようにしている。計算で求められた反
射像の縞の強度分布中に存在する鋭い明暗の縞に相当す
る部分の振幅値を検知し、この振幅値をガラス板表面の
平坦度の指標としている。 本発明のガラス板表面評価
方法によれば、従来の官能評価と同様の評価が可能とな
り、また本発明の評価法は従来法の原理を踏襲しており
何ら従来培われた液晶の色ムラとの対応関係を損なうも
のではない。
強度を予測する際に、仮想研磨板上への入射光の強度
は、仮想スクリーン上への投射光の強度に等しいものと
して、計算が複雑にならず、したがって計算に要する時
間が長くならないようにしている。計算で求められた反
射像の縞の強度分布中に存在する鋭い明暗の縞に相当す
る部分の振幅値を検知し、この振幅値をガラス板表面の
平坦度の指標としている。 本発明のガラス板表面評価
方法によれば、従来の官能評価と同様の評価が可能とな
り、また本発明の評価法は従来法の原理を踏襲しており
何ら従来培われた液晶の色ムラとの対応関係を損なうも
のではない。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
る。
【００１３】図３は、本発明が実施される研磨板判定装
置を示す。液晶用ガラス基板である研磨板１０を搬送す
る精密搬送台１１上に光学式マルチライン凹凸測定器１
２が設けられている。この測定器には、そのアナログ出
力をデジタル出力に変換するＡ／Ｄ変換器１３が接続さ
れ、このＡ／Ｄ変換器１３はデータ処理装置１４に接続
されている。このデータ処理装置１４は、良品・不良品
判定表示器１５および不良品分別機制御装置１６に情報
を出力する。不良品分別機制御装置１６は、精密搬送台
１１に設けられた不良品分別機１７に制御信号を供給す
る。
置を示す。液晶用ガラス基板である研磨板１０を搬送す
る精密搬送台１１上に光学式マルチライン凹凸測定器１
２が設けられている。この測定器には、そのアナログ出
力をデジタル出力に変換するＡ／Ｄ変換器１３が接続さ
れ、このＡ／Ｄ変換器１３はデータ処理装置１４に接続
されている。このデータ処理装置１４は、良品・不良品
判定表示器１５および不良品分別機制御装置１６に情報
を出力する。不良品分別機制御装置１６は、精密搬送台
１１に設けられた不良品分別機１７に制御信号を供給す
る。
【００１４】光学式マルチライン凹凸測定器１２，Ａ／
Ｄ変換器１３，電子計算機１４，良品・不良品判定表示
器１５が、本発明のガラス板表面評価方法に関連してい
る。光学式マルチライン凹凸測定器１２は、例えば高分
解能の市販の光学式変位計を用いる。この光学式変位計
は、レーザを光源とし、レーザ光を研磨板１０に斜め照
射し、その反射光をラインセンサにより受光して、研磨
板の全面の凹凸形状を測定する。得られた凹凸形状につ
いて、データ処理装置１４により光線追跡法を行ってガ
ラス板表面の反射像を予測する。この予測により得られ
る反射像の明暗の縞の強度を検出し、それをガラス板表
面の平坦度の指標とする。データ処理装置１４は、その
指標に基づいて、良品，不良品の判定を行い、判定結果
を良品・不良品判定表示器１５に表示させると共に、不
良品分別機制御装置１６に判定結果を送る。制御装置１
６では、判定結果により不良品分別機１７を制御し、精
密搬送台１１上を送られてくる研磨板１０を良品と不良
品に分別していく。
Ｄ変換器１３，電子計算機１４，良品・不良品判定表示
器１５が、本発明のガラス板表面評価方法に関連してい
る。光学式マルチライン凹凸測定器１２は、例えば高分
解能の市販の光学式変位計を用いる。この光学式変位計
は、レーザを光源とし、レーザ光を研磨板１０に斜め照
射し、その反射光をラインセンサにより受光して、研磨
板の全面の凹凸形状を測定する。得られた凹凸形状につ
いて、データ処理装置１４により光線追跡法を行ってガ
ラス板表面の反射像を予測する。この予測により得られ
る反射像の明暗の縞の強度を検出し、それをガラス板表
面の平坦度の指標とする。データ処理装置１４は、その
指標に基づいて、良品，不良品の判定を行い、判定結果
を良品・不良品判定表示器１５に表示させると共に、不
良品分別機制御装置１６に判定結果を送る。制御装置１
６では、判定結果により不良品分別機１７を制御し、精
密搬送台１１上を送られてくる研磨板１０を良品と不良
品に分別していく。
【００１５】光学式マルチライン凹凸測定器１２は、例
えば４００×４００ｍｍの研磨板１０に対して、図４に
示すように７本のレーザビーム（例えば直径７ミクロ
ン）９を等間隔で斜め照射し、反射光をラインセンサで
受光し、アナログの凹凸情報信号を生成する。この凹凸
情報信号は、Ａ／Ｄ変換器１３でデジタルの凹凸データ
に変換され、データ処理装置１４のメモリに取込まれ
る。凹凸データは、１本のレーザビームにつき、例えば
２０４８点の数値データを含んでいる。
えば４００×４００ｍｍの研磨板１０に対して、図４に
示すように７本のレーザビーム（例えば直径７ミクロ
ン）９を等間隔で斜め照射し、反射光をラインセンサで
受光し、アナログの凹凸情報信号を生成する。この凹凸
情報信号は、Ａ／Ｄ変換器１３でデジタルの凹凸データ
に変換され、データ処理装置１４のメモリに取込まれ
る。凹凸データは、１本のレーザビームにつき、例えば
２０４８点の数値データを含んでいる。
【００１６】データ処理装置１４は、７本のレーザビー
ムの各々の数値データに基づき、後に詳述する光線追跡
法によって反射像の明暗の縞の強度分布を計算する。そ
して、計算された強度分布の明暗の強度差（振幅値）を
数値処理により検出する。そして、最も明暗の強度差の
大きいものを選択し、その強度差を平坦度の指標とす
る。
ムの各々の数値データに基づき、後に詳述する光線追跡
法によって反射像の明暗の縞の強度分布を計算する。そ
して、計算された強度分布の明暗の強度差（振幅値）を
数値処理により検出する。そして、最も明暗の強度差の
大きいものを選択し、その強度差を平坦度の指標とす
る。
【００１７】次に、図１のフローチャートを参照して光
線追跡法による反射像の明暗の縞の強度分布の計算につ
いて説明する。なお以下では、７本のレーザビームのう
ち１本についての凹凸データからの計算を説明するが、
他も同様である。
線追跡法による反射像の明暗の縞の強度分布の計算につ
いて説明する。なお以下では、７本のレーザビームのう
ち１本についての凹凸データからの計算を説明するが、
他も同様である。
【００１８】凹凸測定器１２による研磨板の測定方向を
ｘ、研磨板の厚み方向をｙとしたとき、凹凸データｆ
（ｘ）を図５に示す。そして、研磨板の左端のｘ座標を
Ｘ0 （通常、Ｘ0 ＝０．０）、右端のｘ座標をＸE と初
期設定し、計算の単位幅をΔＸ（例えば、０．００１ｍ
ｍ）と初期設定する（ステップＳ１）。
ｘ、研磨板の厚み方向をｙとしたとき、凹凸データｆ
（ｘ）を図５に示す。そして、研磨板の左端のｘ座標を
Ｘ0 （通常、Ｘ0 ＝０．０）、右端のｘ座標をＸE と初
期設定し、計算の単位幅をΔＸ（例えば、０．００１ｍ
ｍ）と初期設定する（ステップＳ１）。
【００１９】図５のｘ軸上の任意の点の座標をＸとした
とき、Ｘ＝Ｘ0 と設定し（ステップＳ２）、座標Ｘでの
微係数ｆ′（Ｘ）を計算する（ステップＳ３）。図６に
座標Ｘ付近の拡大図を示す。凹凸データｆ（ｘ）の座標
Ｘにおける接線がｘ座標軸となす角をθA とし、 ｔａｎθA ＝ｆ′（Ｘ） により、θA を計算する（ステップＳ４）。
とき、Ｘ＝Ｘ0 と設定し（ステップＳ２）、座標Ｘでの
微係数ｆ′（Ｘ）を計算する（ステップＳ３）。図６に
座標Ｘ付近の拡大図を示す。凹凸データｆ（ｘ）の座標
Ｘにおける接線がｘ座標軸となす角をθA とし、 ｔａｎθA ＝ｆ′（Ｘ） により、θA を計算する（ステップＳ４）。
【００２０】図７は、データ処理装置１４で反射像の明
暗の縞の強度分布を計算する場合の概念図を示す。ｘｙ
座標軸の原点（０，０）を左端として仮想研磨板１０′
がｘ軸方向に配置されているものとする。また、図７の
ｘｙ座標系において、仮想光源２′の位置の座標をＰ
（ＸL ，ＹL ）とし、仮想スクリーン３′はｘ座標位置
ＸR にｙ座標軸に平行に設けられているものとする。仮
想光源２′からの光が仮想研磨板１０′上の点Ｑ（ｘ座
標位置Ｘ）で反射し、仮想スクリーン３′に投射された
とする。入射光のｘ座標軸となす角をθ1 、反射光がｘ
軸となす角をθ2とする。仮想研磨板１０′の点Ｑ部分
がｘ軸に沿って平坦であると、反射光がｘ座標軸となす
角はθ1 であり、θ2 −θ1 ＝２θA である。θA は、
図６において説明した角度θA である。
暗の縞の強度分布を計算する場合の概念図を示す。ｘｙ
座標軸の原点（０，０）を左端として仮想研磨板１０′
がｘ軸方向に配置されているものとする。また、図７の
ｘｙ座標系において、仮想光源２′の位置の座標をＰ
（ＸL ，ＹL ）とし、仮想スクリーン３′はｘ座標位置
ＸR にｙ座標軸に平行に設けられているものとする。仮
想光源２′からの光が仮想研磨板１０′上の点Ｑ（ｘ座
標位置Ｘ）で反射し、仮想スクリーン３′に投射された
とする。入射光のｘ座標軸となす角をθ1 、反射光がｘ
軸となす角をθ2とする。仮想研磨板１０′の点Ｑ部分
がｘ軸に沿って平坦であると、反射光がｘ座標軸となす
角はθ1 であり、θ2 −θ1 ＝２θA である。θA は、
図６において説明した角度θA である。
【００２１】ｔａｎθ1 ＝ＹL ／（ＸL ＋Ｘ） より、角度θ1 を計算する（ステップＳ５）。ステップ
Ｓ４で求めたθA と、ステップＳ５で求めたθ1 とか
ら、 θ2 ＝θ1 ＋２θA により角度θ2 を計算する（ステップＳ６）。
Ｓ４で求めたθA と、ステップＳ５で求めたθ1 とか
ら、 θ2 ＝θ1 ＋２θA により角度θ2 を計算する（ステップＳ６）。
【００２２】反射光の仮想スクリーン３′上への投射点
をＤX とした場合、ＤX のｙ座標位置ＹDXを、 ｔａｎθ2 ＝ＹDX／（ＸR −Ｘ） により計算する（ステップＳ７）。続いて、仮想光源
２′の位置Ｐと仮想研磨板１０′への入射位置Ｑとの距
離ＴX を、 ＴX 2＝ＹL 2＋（ＸL ＋Ｘ）2 により計算する（ステップＳ８）。仮想光源２′の光強
度をＩ0 とした場合に、仮想研磨板１０′への入射点Ｑ
での光強度ＩX を、 ＩX ＝Ｉ0 ／（ＴX ）2 により計算する（ステップＳ９）。そして、仮想スクリ
ーン３′上の点ＤX に投射される光の強度は、仮想研磨
板上の点Ｑの光強度ＩX に等しいものとする。実際に
は、仮想スクリーン上の点ＤX の光強度は、（距離ＰＱ
＋距離ＱＤX ）の２乗に反比例するがその場合計算上Δ
Ｘは等間隔でなくなり、その計算には多大の時間を要す
る。これをさけるため前記のようにΔＸを等間隔とし、
その代わり仮想研磨板上の点Ｑで反射した光は減衰する
ことなく、そのまま仮想スクリーン上の点ＤX に到達す
るものとした。このようにして、反射像の明暗の縞の強
度分布を計算しても、評価の精度にはほとんど影響を及
ぼさない。
をＤX とした場合、ＤX のｙ座標位置ＹDXを、 ｔａｎθ2 ＝ＹDX／（ＸR −Ｘ） により計算する（ステップＳ７）。続いて、仮想光源
２′の位置Ｐと仮想研磨板１０′への入射位置Ｑとの距
離ＴX を、 ＴX 2＝ＹL 2＋（ＸL ＋Ｘ）2 により計算する（ステップＳ８）。仮想光源２′の光強
度をＩ0 とした場合に、仮想研磨板１０′への入射点Ｑ
での光強度ＩX を、 ＩX ＝Ｉ0 ／（ＴX ）2 により計算する（ステップＳ９）。そして、仮想スクリ
ーン３′上の点ＤX に投射される光の強度は、仮想研磨
板上の点Ｑの光強度ＩX に等しいものとする。実際に
は、仮想スクリーン上の点ＤX の光強度は、（距離ＰＱ
＋距離ＱＤX ）の２乗に反比例するがその場合計算上Δ
Ｘは等間隔でなくなり、その計算には多大の時間を要す
る。これをさけるため前記のようにΔＸを等間隔とし、
その代わり仮想研磨板上の点Ｑで反射した光は減衰する
ことなく、そのまま仮想スクリーン上の点ＤX に到達す
るものとした。このようにして、反射像の明暗の縞の強
度分布を計算しても、評価の精度にはほとんど影響を及
ぼさない。
【００２３】仮想スクリーン３′を、図８に示すように
等間隔（例えば１．０ｍｍ間隔）で区切り、各区間に投
射光が存在する割合を示す変数をＥ（１１），Ｅ（１
２），Ｅ（１３）・・・とし、この変数に投射光の光強
度ＩX を加算する（ステップＳ１０）。例えばＹDX＝−
１２．３とすると、変数Ｅ（１２）に光強度ＩX を加算
する。この処理は、後述するように反射像の明暗の縞の
強度分布を表すヒストグラムを作成するためのものであ
る。
等間隔（例えば１．０ｍｍ間隔）で区切り、各区間に投
射光が存在する割合を示す変数をＥ（１１），Ｅ（１
２），Ｅ（１３）・・・とし、この変数に投射光の光強
度ＩX を加算する（ステップＳ１０）。例えばＹDX＝−
１２．３とすると、変数Ｅ（１２）に光強度ＩX を加算
する。この処理は、後述するように反射像の明暗の縞の
強度分布を表すヒストグラムを作成するためのものであ
る。
【００２４】以上の計算が終了すると、ＸにΔＸを加え
て（ステップＳ１１）、ステップＳ３に戻り、同じ処理
を繰り返し行う。ステップＳ１２でＸ＞ＸE ならば、処
理を終了する。
て（ステップＳ１１）、ステップＳ３に戻り、同じ処理
を繰り返し行う。ステップＳ１２でＸ＞ＸE ならば、処
理を終了する。
【００２５】以上の処理により、ステップＳ１０でヒス
トグラムが作成され、これは計算された反射像の明暗の
縞の強度分布を表している。
トグラムが作成され、これは計算された反射像の明暗の
縞の強度分布を表している。
【００２６】図９（ａ）は未研磨板の表面凹凸を、図９
（ｂ）はこの未研磨板について本実施例の方法により計
算された反射像の明暗の縞の強度分布を示している。図
９（ａ）によれば、測定長２００ｍｍの範囲内に最大で
約０．１μｍの凹凸があることがわかる。図９（ｂ）の
計算された強度分布では、位置Ａでの振幅値が最大で、
この位置に鋭い明暗の縞が存在していることがわかる。
（ｂ）はこの未研磨板について本実施例の方法により計
算された反射像の明暗の縞の強度分布を示している。図
９（ａ）によれば、測定長２００ｍｍの範囲内に最大で
約０．１μｍの凹凸があることがわかる。図９（ｂ）の
計算された強度分布では、位置Ａでの振幅値が最大で、
この位置に鋭い明暗の縞が存在していることがわかる。
【００２７】図１０（ａ）は、良品である研磨板の表面
凹凸を、図１０（ｂ）は、この良品についての計算によ
る反射像の明暗の縞の強度分布を示す。この研磨板は良
品のため、全面にわたって振幅値は小さいことがわか
る。
凹凸を、図１０（ｂ）は、この良品についての計算によ
る反射像の明暗の縞の強度分布を示す。この研磨板は良
品のため、全面にわたって振幅値は小さいことがわか
る。
【００２８】研磨板の良品・不良品の評価は、計算され
た光強度分布の振幅値を平坦度の指標として行われる
が、例えば最大振幅値が基準値を越えるか否か、あるい
は基準値を越える振幅値の個数によって良品・不良品の
評価を行うことができる。評価の判断をどのように選定
するかは、本発明の要旨ではない。
た光強度分布の振幅値を平坦度の指標として行われる
が、例えば最大振幅値が基準値を越えるか否か、あるい
は基準値を越える振幅値の個数によって良品・不良品の
評価を行うことができる。評価の判断をどのように選定
するかは、本発明の要旨ではない。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、従来の光反射法による
明暗の縞のパターンの官能的な評価方法により蓄積され
た評価基準を損なうことなく、ガラス板の平坦度を定量
的かつ自動的に評価することが可能となる。
明暗の縞のパターンの官能的な評価方法により蓄積され
た評価基準を損なうことなく、ガラス板の平坦度を定量
的かつ自動的に評価することが可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示すフローチャートであ
る。
る。
【図２】従来の光反射法を説明する図である。
【図３】本発明の方法を実施する研磨板判定装置を示す
図である。
図である。
【図４】光学式マルチライン凹凸測定器による測定本数
を示す図である。
を示す図である。
【図５】凹凸データｆ（ｘ）を示す図である。
【図６】座標Ｘ部分の拡大図である。
【図７】光線追跡法による計算の概念を説明するための
図である。
図である。
【図８】ヒストグラムの作成を説明するための図であ
る。
る。
【図９】未研磨板の表面凹凸と、これに対応する計算に
よる強度分布を示す図である。
よる強度分布を示す図である。
【図１０】研磨板の表面凹凸と、これに対応する計算に
よる強度分布を示す図である。
よる強度分布を示す図である。
１０ 研磨板 １１ 精密搬送台 １２ 光学式マルチライン凹凸測定器 １３ Ａ／Ｄ変換器 １４ データ処理装置 １５ 良品・不良品判定表示器 １６ 制御装置 １７ 不良品分別機
Claims (3)
- 【請求項１】ガラス板表面の平坦度を評価するにあた
り、前記ガラス板表面の形状を直接測定し、この測定で
得られた表面形状から光線追跡法で、前記ガラス板表面
上の凹凸により発生する光反射像の明暗の縞の強度分布
を予測し、その強度分布の振幅値を指標としてガラス板
表面の平坦度を評価することを特徴とするガラス板表面
評価方法。 - 【請求項２】前記光線追跡法による予測は、 前記直接測定で得られた表面形状を有する仮想ガラス板
への、仮想光源からの光の仮想照射位置への距離を計算
する第１のステップと、 前記仮想ガラス板の前記仮想照射位置で反射された光が
仮想スクリーンへ投射される位置を計算する第２のステ
ップと、 前記仮想光源の光強度を前記第１のステップで計算した
距離の２乗で除算して、前記仮想照射位置での光強度を
計算する第３のステップと、 前記仮想スクリーンを等間隔の区間に区分し、各区間ご
とに前記第２のステップで計算された投射位置が存在す
る割合を表す変数に、前記第３のステップで計算された
光強度を加算する第４のステップと、 仮想照射位置を異ならせて、前記第１〜第４のステップ
を繰り返し、前記第４のステップによるヒストグラムを
作成する第５のステップとを含み、 前記ヒストグラムを光反射像の明暗の縞の強度分布とす
ることを特徴とする請求項１記載のガラス板表面評価方
法。 - 【請求項３】前記ガラス板表面の形状の直接測定は、ガ
ラス板上で所定間隔をおいた平行な複数本の直線に沿っ
て行い、この測定で得られた複数の表面形状のそれぞれ
につき、前記ヒストグラムを作成することを特徴とする
請求項２記載のガラス板表面評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7192892A JPH05272949A (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ガラス板表面評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7192892A JPH05272949A (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ガラス板表面評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05272949A true JPH05272949A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=13474680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7192892A Pending JPH05272949A (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ガラス板表面評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05272949A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6376829B1 (en) | 1998-08-31 | 2002-04-23 | Central Glass Company, Limited | Method of and apparatus for inspecting surface irregularities of transparent plate |
| KR100782424B1 (ko) * | 2007-07-27 | 2007-12-05 | (주)쎄미시스코 | 유리기판의 품질 검사장치 |
| KR100838655B1 (ko) * | 2006-10-27 | 2008-06-16 | (주)쎄미시스코 | 유리기판의 품질 검사장치 및 그 검사방법 |
| KR100838656B1 (ko) * | 2006-04-03 | 2008-06-16 | (주)쎄미시스코 | 유리기판의 품질 검사장치 |
| KR101367825B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2014-02-26 | 닛폰 이타가라스 가부시키가이샤 | 반사 미러용 유리 기판, 이 유리 기판을 구비하는 반사 미러, 액정 패널용 유리 기판, 및 이 유리 기판을 구비하는액정 패널 |
| JP2014145909A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-14 | Hoya Corp | レンズの製造方法 |
| CN105528777A (zh) * | 2014-10-21 | 2016-04-27 | 伊斯拉表面视觉有限公司 | 用于确定三维畸变的方法和装置 |
| US10289895B2 (en) | 2014-10-21 | 2019-05-14 | Isra Surface Vision Gmbh | Method and device for determining a three-dimensional distortion |
| JP2024069627A (ja) * | 2019-08-07 | 2024-05-21 | キンボール エレクトロニクス インディアナ，インコーポレイテッド | 表面検査のための撮像システム |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP7192892A patent/JPH05272949A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6376829B1 (en) | 1998-08-31 | 2002-04-23 | Central Glass Company, Limited | Method of and apparatus for inspecting surface irregularities of transparent plate |
| US6433353B2 (en) | 1998-08-31 | 2002-08-13 | Central Glass Company, Limited | Method and apparatus for inspecting surface irregularities of transparent plate |
| KR100838656B1 (ko) * | 2006-04-03 | 2008-06-16 | (주)쎄미시스코 | 유리기판의 품질 검사장치 |
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| JP2016080709A (ja) * | 2014-10-21 | 2016-05-16 | イスラ サーフィス ヴィズィオーン ゲーエムベーハー | ３次元歪みを決定する方法及び装置 |
| US10289895B2 (en) | 2014-10-21 | 2019-05-14 | Isra Surface Vision Gmbh | Method and device for determining a three-dimensional distortion |
| JP2024069627A (ja) * | 2019-08-07 | 2024-05-21 | キンボール エレクトロニクス インディアナ，インコーポレイテッド | 表面検査のための撮像システム |
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