JPH0527471Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えば、複数個の施釉ステーシヨン
間を往復移動する搬送手段を有する施釉ラインに
あつて、釉薬の幕掛け用のタンクを、タイルの搬
送軌跡内へ進退自在に配設することにより、一度
塗り又は二度塗り等の選択的な切換が可能な幕掛
け装置を提供せんとするものである。

〔従来の技術〕

通常、タイル等の施釉ラインにあつては、Ｖベ
ルトや平ベルト等の搬送装置を一方側から他方側
へ向けてタイルを搬送し、その途中に配設した施
釉ステーシヨンにおいて、タイル素地表面へスプ
レー掛けや幕掛け方式により釉薬を塗布してい
る。すなわち、従来の施釉ラインは、一方通行方
式で施釉している。

〔考案が解決しようとする課題〕

ところが、前記施釉ラインにあつては、釉薬層
を多層構造にしようとすると、直線状に連続して
施釉ステーシヨンを増設する必要があり、施釉ラ
インの全長が極めて長くなり過ぎるという欠点が
あつた。

また同一の釉薬を二度塗り等のように複数回積
層しようとする場合にあつては、前記施釉ライン
では同一の釉薬を塗布する施釉装置を塗布する回
数分だけ直線状に配設する必要があり、その分だ
け施釉ラインの全長が更に長くなるという欠点が
あつた。

〔課題を解決するための手段〕

本考案は、従来の前記課題に鑑みてこれを改良
除去したものであつて、幕掛け装置をタイルの搬
送軌跡内へ進退自在に設けることにより、一度塗
りや二度塗り等の選択を一つの幕掛け装置で行う
ことができるようにした技術を提供せんとするも
のである。

而して、前記課題を解決するために本考案が採
用した手段は、往復移動可能なタイルの搬送手段
を有するタイルの施釉ラインにおいて、タイルの
搬送軌跡内へ進退自在な釉薬貯溜用のタンクと、
該タンクと一体的に動作すべく連結された釉薬回
収用のパンとより成り、前記タンクの下面側には
釉薬が幕状に流出するスリツトが形成されてお
り、前記パンは前記タンクの下方にあつて少なく
ともタイルが通過し得るだけの寸法分だけ離れて
設置されている。

〔作用〕

タイル搬送手段としての移動テーブルは、複数
個の施釉ステーシヨン間を自由に往復移動するこ
とが可能である。そして、釉薬を幕掛けするため
のタンク及びパンは、タイルの搬送軌跡内へ進退
自在である。従つて、現に施釉を行おうとしてい
る各施釉ステーシヨンを選択して任意にこれらの
間で移動テーブルを往復移動させ、これに伴つて
幕掛け装置のタンク及びパンをタイルの搬送軌跡
内へ進入させるか又は退出させることにより、同
一の幕掛け装置で一度塗り又は二度塗り等を選択
的に切り換えて釉薬層を多層構造にすることが容
易である。しかもその場合の施釉ラインの全長を
著しく短縮することが可能である。

〔実施例〕

以下に、本考案の幕掛け装置を図面に示す実施
例に基づいて説明すると次の通りである。

第１図は本考案装置を適用してなるタイル製造
ラインの全体配置を示す平面図である。同図に示
す如く、このタイル製造ラインにあつては、プレ
ス成形機１の延長線上に、ローラーハースキルン
２を配設し、ローラーハースキルン２と平行に搬
送装置３及び施釉ライン４を連続して配設してい
る。そして、前記プレス成形機１及びローラーハ
ースキルン２の中間と、前記搬送装置３の一端側
との間にトラバーサ５を配設している。

この製造ライン全体の動きは、先ずプレス成形
機１で成形されたタイル６をトラバーサ５で搬送
装置３へ搬入している。搬入されたタイル６は、
搬送装置３の他端側へ搬送され、施釉ライン４に
設けられたタイル搬送手段としての移動テーブル
７上へ移載される。そして、各施釉ステーシヨン
Ａ，Ｂ，Ｃ間を任意に往復移動し、タイル素地表
面へ所望する多層構造の釉薬層を形成している。
施釉が完了すると、タイル６は移動テーブル７か
ら搬送装置３へ供給され、トラバーサ５によつて
ローラーハースキルン２の入口側へ供給される。
然る後は、ローラーハースキルン２内を通過する
ことにより、所定の焼成が行われ、多層構造の釉
薬層を有する製品としてのタイルが得られる。

このように、本実施例にあつては、施釉ライン
４において、複数個の施釉ステーシヨンＡ，Ｂ，
Ｃ間でこれらを適宜選択して移動テーブル７を任
意に往復移動させ、多層構造の釉薬層を形成する
ようにしている。移動テーブル７は、第２図に示
すように、施釉ライン４のほぼ全長に亘つて連続
して設けられた架台８の側面に固定設置された上
下の案内レール９，９に、ローラー１０，１０を
介して摺動自在に取り付けられている。そして、
移動テーブル７に取り付けられたモーター１１の
ピニオン１２を、前記架台８の上端面側に固定設
置したラツク１３へ噛合させている。従つて、モ
ーター１１を駆動させることにより、ラツク１３
上をピニオン１２が回転移動するようになり、上
下の案内レール９，９に沿つて移動テーブル７を
移動させることが可能である。この移動テーブル
７は、その上面側にタイル６を載置するためのア
ーム１４が枠組み形成されている。

ところで、施釉ライン４の途中に設置された施
釉ステーシヨンＡには、第３図及び第４図に示す
ような施釉ブース１５が設けられている。施釉ブ
ース１５内には、釉薬又は水等を噴出するスプレ
ー装置１６が設置されている。また施釉ステーシ
ヨンＢ及びＣには、第５図乃至第７図に示す幕掛
け装置１７，１７が設置されている。この幕掛け
装置１７，１７は、下面側にスリツト１８の形成
された釉薬貯溜用のタンク１９を有し、このタン
ク１９の下方側に所定間隔を置いて、前記スリツ
ト１８から幕状に流出する釉薬を回収するための
パン２０が設置されている。而して、前記タンク
１９とパン２０とは、回動自在なポスト２１に取
り付けられている。旋回用のモーター２２を駆動
させると、ピニオン２３及び旋回ギヤ２４を介し
て前記ポスト２１が回動するようになつている。
前記移動テーブル７は、この幕掛け装置１７，１
７のタンク１９及びパン２０が、第７図に示す施
釉を行う状態において、タンク１９及びパン２０
の間を通過するようになつている。

而して、このように構成された施釉ライン４に
あつて、移動テーブル７のアーム１４上にセツタ
ー（敷台）を介して載置されたタイル６の施釉要
領を説明する。先ず、移動テーブル７上のモータ
ー１１を駆動させ、ピニオン１２を回転させて移
動テーブル７を施釉ステーシヨンＡの施釉ブース
１５内へ移動させて停止させる。そして、この状
態でスプレー装置１６により、タイル６の表面へ
水を塗布し、タイル６の水分調整を行う。これは
釉薬を塗布した場合に、水分がタイル６の全体に
わたつて均一に浸透するようにし、釉薬の乾燥ム
ラをなくすためのものである。

然る後は、再びモーター１１を駆動させ、施釉
ステーシヨンＢ側へ移動テーブル７を移動させ
て、幕掛け装置１７を通過させる。これにより、
移動テーブル７のアーム１４上へ載置されたタイ
ル６が幕掛け装置１７のタンク１９とパン２０と
の間を通過し、タンク１９のスリツト１８から連
続して幕状に垂れ落ちる釉薬がタイル６の表面へ
塗布される。そして、更に移動テーブル７が同様
にして施釉ステーシヨンＣの幕掛け装置１７を通
過することにより、別途釉薬が塗布される。

次に、モーター１１を今までとは反対方向へ駆
動させることにより、前記移動テーブル７は施釉
ステーシヨンＣから、施釉ステーシヨンＢを通つ
て施釉ステーシヨンＡの施釉ブース１５に至るよ
うになる。その場合に、旋回用のモーター２２を
駆動させて施釉ステーシヨンＢ及びＣの幕掛け装
置１７のタンク１９及びパン２０を、例えば第５
図及び第６図に示す如く、移動テーブル７の通過
する軌跡範囲から逸脱させておくことにより、幕
掛け装置１７による同一種類の釉薬が重ねてタイ
ル６上へ塗布されることはない。もちろん、逆に
同一種類の釉薬を重ねて塗布するようにすること
も可能である。例えば、施釉ステーシヨンＢ及び
Ｃの釉薬を異なる種類に設定し、常に各幕掛け装
置１７を第７図に示すように移動テーブル７の移
動軌跡範囲内へ臨ませておき、移動テーブル７の
往復移動に伴つて、異なる種類の釉薬が交互に合
計四層塗布積層されるようにしてもよい。而し
て、移動テーブル７が復路において施釉ステーシ
ヨンＡの施釉ブース１５内へ至ると、モーター１
１の駆動を解除して移動テーブル７を停止させ
る。そして、今度はスプレー装置１６から更に異
なる種類の釉薬をスプレー塗布する。これによ
り、少なくとも三層の釉薬層を塗布形成すること
が可能である。

このように、施釉ステーシヨンＡ乃至Ｃ間で移
動テーブル７を往復移動させて、タイル６に釉薬
層を積層塗布することにより、従来の一方通行方
式の施釉ラインに比較してその全長を著しく短く
することが可能である。参考までに、三層の釉薬
層を塗布形成する場合、従来の施釉ラインは少な
くとも20ｍが必要であつたが、本考案装置を適用
してなる施釉ラインでは10ｍに短縮することが可
能である。

もちろん、必要であれば、移動テーブル７を施
釉ステーシヨンＡ乃至Ｃ間で、選択的且つ任意に
往復移動させ、所望する多層構造の釉薬層を塗布
形成するようにしてもよい。また、施釉ステーシ
ヨンの数をより多く設けるようにすることも可能
であり、その場合のスプレー装置や幕掛け装置等
の施釉器具も適宜選定することが可能である。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案にあつては、タイル
載置部を備えた移動テーブルを複数個の施釉ステ
ーシヨン間で自由に往復移動させ、同時に幕掛け
装置のタンク及びパンをタイルの搬送軌跡内へ進
入させるか又は退出させることにより、同一の幕
掛け装置で一回乃至多数回の施釉を行うことが可
能であり、施釉ライン全体の長さを短縮すること
が可能である。

【図面の簡単な説明】

図面はいずれも本考案に係るものであり、第１
図は本考案装置を適用してなるタイル製造ライン
の全体配置を示す平面図、第２図は移動テーブル
の縦断面正面図、第３図は施釉ブースの平面図、
第４図は同縦断面正面図、第５図は幕掛け装置の
平面図、第６図は同左側面図、第７図は同正面図
である。 ４……施釉ライン、７……移動テーブル、８…
…架台、９……案内レール、１０……ローラ、１
１……モーター、１２……ピニオン、１３……ラ
ツク、１４……タイル載置部、１７……幕掛け装
置、１８……スリツト、１９……タンク、２０…
…パン、２１……ポスト、２２……モーター、２
３……ピニオン、２４……ギヤ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 往復移動可能なタイルの搬送手段を有するタイ
   ルの施釉ラインにおいて、タイルの搬送軌跡内へ
   進退自在な釉薬貯溜用のタンクと、該タンクと一
   体的に動作すべく連結された釉薬回収用のパンと
   より成り、前記タンクの下面側には釉薬が幕状に
   流出するスリツトが形成されており、前記パンは
   前記タンクの下方にあつて少なくともタイルが通
   過し得るだけの寸法分だけ離れて設置されている
   ことを特徴とするタイルの幕掛け装置。