JPH0528041U - 縦型ウエハー処理装置のウエハー移載機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 複数枚のウエハーＷ…を収納したカセットか
ら処理チャンバーのウエハー保持体へ又はウエハー保持
体からカセットへウエハーＷを移載するためのウエハー
移載機構であって、このウエハー移載機構は複数枚のウ
エハー吸着ハンド１４，１５を有し、これらの吸着ハン
ド１４，１５のピッチが可変に構成され、ウエハーＷの
相互間隔が小さいカセットからウエハーＷの相互間隔が
大きなウエハー保持体へまたはこの逆に複数のウエハー
Ｗ…を移載可能にしたことを特徴とする。 【効果】 吸着ハンド１４，１５のピッチを可変に構成
したので、カセットのウエハー間隔を小さくまたは大き
くすることが出来、もってカセットの高さを小さく若し
くは大きくし、またはウエハーＷの収納数を増加するこ
とが出来る。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は縦型ウエハー処理装置のウエハー移載機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】

ＬＳＩや超ＬＳＩ等の大集積回路を形成したチップの製造に用いる半導体ウエ ハー（以下、「ウエハー」と略す）にエッチング、クリーニングあるいはアッシ ング（灰化剥離）処理を行うウエハー処理装置には、ウエハーを処理チャンバー に５０枚程度段積み収納して、上記処理するところの縦型ウエハー処理装置があ り、例えば特開昭５８−６０５５３号公報に同装置の内容が開示されている。

【０００３】 即ち、同公報の第３図に示されるのがウエハー保持体１３であり、第５図に示 されるのがカセット１８及び舌状片２２を主体とした移し換え部材２０である。

【０００４】 上記カセット１８（第５図）に段積み収納されている約１０枚のウエハー１４ …は移し換え部材２０の舌状片２２ですくい上げられる。そして一定距離水平移 送された後に、ウエハー保持体１３に移載される。ウエハー保持体１３が５０枚 収納可能であれば、上記移載作業は５回実施される。プラズマ処理後は逆の順で ウエハー保持体１３からカセット１８へウエハー１４…は戻される。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、上記舌状片２２…は一定のピッチで移し換え部材２０に固着されて いるために、ウエハー保持体１３の溝部１５…（第３図参照）はこのピッチとさ れ、しかもカセット１８の突条１９（第４図参照）も同ピッチとする必要がある 。

【０００６】 ウエハー保持体１３の溝部１５…のピッチは、当該ウエハー１４のプラズマ処 理性から決められるものである。 一方、カセット１８は第１図のウエハー処理装置を含む処理ラインを長距離搬 送されるものであって、沢山のウエハーを効率良く運搬することが要件である。

【０００７】 しかし、上記例の如くカセット１８のウエハー収納ピッチが、ウエハー保持体 １３のそれと同一とされているために、カセット１８は高さが大きくなる若しく はウエハー１４の収納数が限られる。 そこで本考案の目的はカセットの高さを小さくする若しくは一定寸法のカセッ トにより多くのウエハーを収納可能にする技術を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成すべく本考案は、ウエハー移載機構に複数枚のウエハー吸着ハ ンドを備え、これらの吸着ハンドのピッチを可変に構成したことを特徴とする。

【０００９】

【作用】

吸着ハンドのピッチを小さくした状態でカセット内のウエハーを吸着ハンドで すくい取り、移動途中でピッチを大きくし、ウエハー間隔の大きなウエハー保持 体へウエハーを移載する。

【００１０】

【実施例】

本考案の実施例を添付図面に基づいて以下に説明する。なお、図面は符号の向 きに見るものとする。

【００１１】 図１は本考案に係る縦型ウエハー処理装置のウエハー移載機構の配置図であり 、縦型ウエハー処理装置１は複数枚のウエハーＷを収納するカセット２と、５０ 枚又は１００枚のウエハーＷを収納し得るウエハー保持体３との間に本考案のウ エハー移載機構１０が配置されている。 図中、４はカセット２を支持するとともに昇降させるカセット昇降台であり、 ５はウエハー保持体３を昇降するウエハー保持体昇降台であり、６はプラズマ処 理チャンバーである。

【００１２】 図２は本考案に係るウエハー移載機構の側面図であり、ウエハー移載機構１０ は駆動機構を内蔵したところの基台１１と、この基台に対し水平旋回する旋回ベ ース１２と、この旋回ベース１２上を一定距離水平移動するスライダー１３と、 このスライダー１３に片持ち支持された複数枚（本例では２枚）の吸着ハンド１ ４，１５とからなる。

【００１３】 上記吸着ハンド１４は所定の距離昇降し、下部吸着ハンド１５は非昇降とされ ている。

【００１４】 図３は本考案に係る吸着ハンドの平面図であり、吸着ハンド１５は１〜２ｍｍ 厚さのプレ−ト１６の内部に排気通路１７を設けて吸着孔１８…（本例では３個 ）に連通し、ウエハーＷを真空吸着するものである。更に、吸着ハンド１５には ウエハーの有無を検知するための受光素子１９及び光ファイバー２０が取り付け られている。

【００１５】 図４は図３の４−４線断面図であり、吸着ハンド１５を支持するホルダ２１（ スライダー１３と吸着ハンド１５を接続する部材）に投光素子２２が取り付けら れている。そして吸着ハンド１５に長溝２３があけられ、これの一端に上記受光 素子１９が取り付けられている。

【００１６】 ウエハーＷは薄いのでそれの側面を検知することは難しい。しかし、本例の如 くウエハーＷの側面に向けて斜め方向に発射した光を長溝２３の底面２４で１回 反射させた後に受光素子１９に受光させることにより、ウエハーＷを斜め上から 見ていることと同様になり、検知エラーが無く、ウエハーＷの厚さが変化しても 検知可能である。 上部吸着ハンド１４は上下動する点を除けば、上記下部吸着ハンド１５と同一 構造なので説明を省略する。

【００１７】 以上の構成からなる縦型ウエハー処理装置のウエハー移載機構の作用を次に述 べる。 図１においてウエハー移載機構１０の吸着ハンド１４，１５は旋回ベース１２ の旋回動によりカセット２に臨み、スライダー１３と共に前進する。

【００１８】 図５は本考案に係るウエハー移載機構の作用図であり、図左部において、カセ ット内のウエハーＷ，Ｗは吸着ハンド１４，１５ですくい取られる。 吸着ハン ド１４，１５は後退し、旋回し、前進してウエハー保持体３に臨むが、この間に 上部吸着ハンド１４が一定寸法ｄだけ上昇される。

【００１９】 カセット２のウエハーピッチに寸法ｄを加えた寸法に、ウエハー保持体３のウ エハーピッチを合致させておけば、ウエハーＷ，Ｗは円滑にウエハー保持体に収 納される。以上の動作を繰り返すことで図１のカセット２内のウエハーＷ…はウ エハー保持体３に移載される。

【００２０】 図５左部に示した通り、カセット２は、吸着ハンド１４，１５のハンドリング が許される限界まで、ウエハーＷのピッチは短縮できる。従って、カセットの高 さを小さくしたり、一定高さのカセットにより多くのウエハーＷを収納できる。

【００２１】 尚、本実施例では吸着ハンド１４，１５を２枚としたが３枚以上であっても差 し支えない。 又、旋回ベース１２は旋回のみならず昇降をもさせて、カセット昇降台４の駆 動機構を簡略化することは自由である。 更に又、本実施例は吸着ハンド１４，１５の把持を真空作用としたが、これに 限らず静電吸着や機械的な把持方式としても良い。

【００２２】

【考案の効果】

以上に述べた通り本考案は吸着ハンドのピッチを可変に構成したので、カセッ トのウエハー間隔を小さくすることが出来、もってカセットの高さを小さくする 若しくは一定高さのカセットにより多くのウエハーを収納することが出来る。 又、逆にカセットのウエハー間隔よりもウエハー保持体のウエハー間隔が小さ い場合においても同様に収納することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る縦型ウエハー処理装置のウエハー
移載機構の配置図

【図２】本考案に係るウエハー移載機構の側面図

【図３】本考案に係る吸着ハンドの平面図

【図４】図３の４−４線断面図

【図５】本考案に係るウエハー移載機構の作用図

【符号の説明】

１…縦型ウエハー処理装置、２…カセット、３…ウエハ
ー保持体、１０…ウエハー移載機構、１４，１５…ウエ
ハー吸着ハンド、Ｗ…ウエハー。

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【手続補正書】

【提出日】平成４年９月９日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】実用新案登録請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【実用新案登録請求の範囲】

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 ウエハーにエッチングやアッシング等の
   処理を施す縦型ウエハー処理装置において、複数枚のウ
   エハーを収納したカセットから処理チャンバーのウエハ
   ー保持体へ又はウエハー保持体からカセットへウエハー
   を移載するためのウエハー移載機構であって、このウエ
   ハー移載機構は複数枚のウエハー吸着ハンドを有し、こ
   れらの吸着ハンドのピッチが可変に構成され、ウエハー
   の相互間隔が小さいカセットからウエハーの相互間隔が
   大きなウエハー保持体へ複数のウエハーを移載可能にし
   たことを特徴とする縦型ウエハー処理装置のウエハー移
   載機構。