JPH05281137A - 複屈折測定装置 - Google Patents
複屈折測定装置Info
- Publication number
- JPH05281137A JPH05281137A JP8359892A JP8359892A JPH05281137A JP H05281137 A JPH05281137 A JP H05281137A JP 8359892 A JP8359892 A JP 8359892A JP 8359892 A JP8359892 A JP 8359892A JP H05281137 A JPH05281137 A JP H05281137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- light
- birefringence
- measuring
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 偏光子、検光子等の偏光素子の設定に誤差が
ある場合にも、試料の複屈折を正確に測定することがで
きる複屈折測定装置の提供を目的とする。 【構成】 直線偏光を発する光源10と、直線偏光を円
偏光に変換する第1のλ/4板20と、試料30を射出
した光束を直線偏光に近い楕円偏光に変換する第2のλ
/4板40と、イメージセンサ60と、偏光素子を回転
させつつ受光手段の出力を検出して光束の偏光状態を測
定する測定手段と、試料を配置せずに測定した測定装置
固有の偏光状態を記憶する記憶手段と、測定手段の出力
から記憶手段の出力を差し引いて試料の複屈折を解析す
る手段とを有することを特徴とする。
ある場合にも、試料の複屈折を正確に測定することがで
きる複屈折測定装置の提供を目的とする。 【構成】 直線偏光を発する光源10と、直線偏光を円
偏光に変換する第1のλ/4板20と、試料30を射出
した光束を直線偏光に近い楕円偏光に変換する第2のλ
/4板40と、イメージセンサ60と、偏光素子を回転
させつつ受光手段の出力を検出して光束の偏光状態を測
定する測定手段と、試料を配置せずに測定した測定装置
固有の偏光状態を記憶する記憶手段と、測定手段の出力
から記憶手段の出力を差し引いて試料の複屈折を解析す
る手段とを有することを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光学部品が持つ分子
配向のひずみによる複屈折情報を測定する装置に関す
る。
配向のひずみによる複屈折情報を測定する装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】プラスチック等の高分子化合物は、一般
的に結晶と同様の異方性を有し、複屈折を生じさせる。
的に結晶と同様の異方性を有し、複屈折を生じさせる。
【0003】この複屈折を測定するための装置として
は、従来例えば特開昭63-269045号公報に開示
される装置が知られている。
は、従来例えば特開昭63-269045号公報に開示
される装置が知られている。
【0004】この公報に記載された装置は、直交ニコル
態様で配置された偏光子と検光子との間に復屈折を持つ
試料を配置し、これらを透過する光束の光量を直交ニコ
ルを回転させつつビデオカメラで捉える構成である。測
定に当っては、検出される光強度の最大値と、最大値が
出力された際の回転角度とを求め、試料の復屈折を直交
ニコルの回転角度の関数として求めるものである。
態様で配置された偏光子と検光子との間に復屈折を持つ
試料を配置し、これらを透過する光束の光量を直交ニコ
ルを回転させつつビデオカメラで捉える構成である。測
定に当っては、検出される光強度の最大値と、最大値が
出力された際の回転角度とを求め、試料の復屈折を直交
ニコルの回転角度の関数として求めるものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来装置では、偏光子、検光子等の偏光素子の設定に誤
差があると、測定結果に誤差による影響を含まれるた
め、試料の複屈折を正確に測定することができないとい
う問題がある。
従来装置では、偏光子、検光子等の偏光素子の設定に誤
差があると、測定結果に誤差による影響を含まれるた
め、試料の複屈折を正確に測定することができないとい
う問題がある。
【0006】
【発明の目的】この発明は、上記の課題に鑑みてなされ
たものであり、偏光子、検光子等の偏光素子の設定に誤
差がある場合にも、試料の複屈折を正確に測定すること
ができる複屈折測定装置の提供を目的とする。
たものであり、偏光子、検光子等の偏光素子の設定に誤
差がある場合にも、試料の複屈折を正確に測定すること
ができる複屈折測定装置の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明に係る複屈折測
定装置は、上記目的を達成させるため、特定の偏光を試
料に対して入射させる光源と、試料を射出した光束の偏
光状態を変化させる偏光素子と、偏光素子を透過した光
束を受光する受光手段と、偏光素子を回転させつつ受光
手段の出力を検出して光束の偏光状態を測定する測定手
段と、試料を配置せずに測定した測定装置固有の偏光状
態を記憶する記憶手段と、測定手段の出力から記憶手段
の出力を差し引いて試料の複屈折を解析する手段とを有
することを特徴とする。
定装置は、上記目的を達成させるため、特定の偏光を試
料に対して入射させる光源と、試料を射出した光束の偏
光状態を変化させる偏光素子と、偏光素子を透過した光
束を受光する受光手段と、偏光素子を回転させつつ受光
手段の出力を検出して光束の偏光状態を測定する測定手
段と、試料を配置せずに測定した測定装置固有の偏光状
態を記憶する記憶手段と、測定手段の出力から記憶手段
の出力を差し引いて試料の複屈折を解析する手段とを有
することを特徴とする。
【0008】
【実施例】以下、この発明を図面に基づいて説明する。
【0009】図1は、この発明にかかる複屈折測定装置
の一実施例を示す。
の一実施例を示す。
【0010】この装置は、所定の広がりを持った直線偏
光を発する光源部10と、光源部から発した光束を円偏
光に変換する第1のλ/4板20と、試料30を透過し
た光束を直線偏光に近い楕円偏光に変換する移相子とし
ての第2のλ/4板40と、光路内に回転自在に設けら
れた検光子50と、検光子50を透過した光束を受光す
るCCDセンサ等の二次元のイメージセンサ60とを備
えている。イメージセンサ60の出力は、A/D変換さ
れてフレームグラバ61に記憶され、コンピュータ62
により解析されて複屈折の情報としてディスプレイ63
に表示される。
光を発する光源部10と、光源部から発した光束を円偏
光に変換する第1のλ/4板20と、試料30を透過し
た光束を直線偏光に近い楕円偏光に変換する移相子とし
ての第2のλ/4板40と、光路内に回転自在に設けら
れた検光子50と、検光子50を透過した光束を受光す
るCCDセンサ等の二次元のイメージセンサ60とを備
えている。イメージセンサ60の出力は、A/D変換さ
れてフレームグラバ61に記憶され、コンピュータ62
により解析されて複屈折の情報としてディスプレイ63
に表示される。
【0011】なお、コンピュータ62には、試料を配置
しない状態での複屈折の情報を記憶する記憶手段として
のメモリ64が接続されている。
しない状態での複屈折の情報を記憶する記憶手段として
のメモリ64が接続されている。
【0012】光源部10は、直線偏光を発生するレーザ
ー装置、あるいは偏光状態がランダムな光束を発する光
源と偏光子とを組み合せた光源11と、この光源から発
した光束の径を拡大するビームエキスパンダー12とに
より構成される。
ー装置、あるいは偏光状態がランダムな光束を発する光
源と偏光子とを組み合せた光源11と、この光源から発
した光束の径を拡大するビームエキスパンダー12とに
より構成される。
【0013】第2のλ/4板40は、コンピュータ62
からの指示により、モータ41を介して少なくとも2つ
の角度に設定できるよう光軸回りに回動自在に設けられ
ている。
からの指示により、モータ41を介して少なくとも2つ
の角度に設定できるよう光軸回りに回動自在に設けられ
ている。
【0014】検光子50は、モータ51により自動的に
回転され、回転角度は角度センサ52によりコンピュー
タ62に入力される。
回転され、回転角度は角度センサ52によりコンピュー
タ62に入力される。
【0015】上記の装置を用いる場合、初期設定として
装置固有の偏光特性の誤差を測定し、測定結果をメモリ
ー64に記憶させておく。次に、試料を配置して試料の
複屈折を測定し、測定結果から装置固有の誤差成分を差
し引いて試料自体の持つ複屈折情報を抽出する。
装置固有の偏光特性の誤差を測定し、測定結果をメモリ
ー64に記憶させておく。次に、試料を配置して試料の
複屈折を測定し、測定結果から装置固有の誤差成分を差
し引いて試料自体の持つ複屈折情報を抽出する。
【0016】以下、試料を配置した場合について測定の
原理を説明する。試料を配置しない場合にも測定の原理
は同様である。
原理を説明する。試料を配置しない場合にも測定の原理
は同様である。
【0017】まず、第1、第2のλ/4板20,40間
に試料30を配置し、試料に対して円偏光を入射させ、
試料を射出した偏光を第2のλ/4板40、検光子50
を介して受光する。
に試料30を配置し、試料に対して円偏光を入射させ、
試料を射出した偏光を第2のλ/4板40、検光子50
を介して受光する。
【0018】複屈折を持つ試料に円偏光を入射させる
と、試料の遅相軸と進相軸との屈折率の違いによって直
交2軸の進行速度に相違が生じ、楕円偏光となって射出
される。
と、試料の遅相軸と進相軸との屈折率の違いによって直
交2軸の進行速度に相違が生じ、楕円偏光となって射出
される。
【0019】この楕円偏光を再びλ/4板等の移相子を
透過させることにより直線偏光に近い楕円偏光とし、検
光子を透過させる。検光子を回転させることにより、受
光される光量が正弦的に変化するため、この変化を複数
のポイントでサンプリングすることにより、偏光の状態
を測定できる。
透過させることにより直線偏光に近い楕円偏光とし、検
光子を透過させる。検光子を回転させることにより、受
光される光量が正弦的に変化するため、この変化を複数
のポイントでサンプリングすることにより、偏光の状態
を測定できる。
【0020】なお、プラスチック等の直線複屈折結晶に
直線偏光を入射させた場合には、入射光が固有偏光に一
致したときに偏光状態が変化を受けずに透過してしま
い、複屈折の情報を検出し得ない。円偏光を入射させた
場合には、直線偏光を用いた場合と違って試料は不感方
向を持たず、何れの方向での測定でも偏光状態の測定が
可能である。
直線偏光を入射させた場合には、入射光が固有偏光に一
致したときに偏光状態が変化を受けずに透過してしま
い、複屈折の情報を検出し得ない。円偏光を入射させた
場合には、直線偏光を用いた場合と違って試料は不感方
向を持たず、何れの方向での測定でも偏光状態の測定が
可能である。
【0021】また、測定光が直線偏光に近いほど、受光
する素子に達する光量の変化が大きくなり、測定の精度
が向上する。そこで、移相子としては、より直線偏光に
近い楕円偏光を作る上で、λ/4板が適当である。
する素子に達する光量の変化が大きくなり、測定の精度
が向上する。そこで、移相子としては、より直線偏光に
近い楕円偏光を作る上で、λ/4板が適当である。
【0022】第1段階では、第2のλ/4板40の中性
軸を第1のλ/4板20の中性軸に対して45度に設定
する。コンピュータ60は、角度センサ32の出力から
検光子30の回転角度が所定の値となった時点でイメー
ジセンサ60の出力をサンプリングし、フレームグラバ
61に記憶させる。
軸を第1のλ/4板20の中性軸に対して45度に設定
する。コンピュータ60は、角度センサ32の出力から
検光子30の回転角度が所定の値となった時点でイメー
ジセンサ60の出力をサンプリングし、フレームグラバ
61に記憶させる。
【0023】第2段階では、第2のλ/4板40の中性
軸を第1のλ/4板20の中性軸に対して0度に設定す
る。そして、第1段階と同様に少なくとも検光子50の
回転角度の異なる3箇所でイメージセンサ60の出力を
サンプリングし、各画素毎に光束の偏光状態を測定す
る。
軸を第1のλ/4板20の中性軸に対して0度に設定す
る。そして、第1段階と同様に少なくとも検光子50の
回転角度の異なる3箇所でイメージセンサ60の出力を
サンプリングし、各画素毎に光束の偏光状態を測定す
る。
【0024】楕円偏光を表現する場合には、図2に示す
ように、光の進行方向に対向した面内での電界ベクトル
の先端の描く楕円の長半径a、短半径b、傾きψの3つ
のパラメータが必要である。
ように、光の進行方向に対向した面内での電界ベクトル
の先端の描く楕円の長半径a、短半径b、傾きψの3つ
のパラメータが必要である。
【0025】楕円偏光を検光子を介して受光した場合の
強度Iは、検光子の回転角度をθとして、(1)式で求め
ることができる。
強度Iは、検光子の回転角度をθとして、(1)式で求め
ることができる。
【0026】
【数1】
【0027】(1)式には、偏光特性を表すα、β、ψの
3つの未知変数が存在するため、少なくとも3つの異な
る角度位置に検光子50を回転させた際の出力強度Iを
測定することにより、3つの未知数の値を求めることが
できる。ここでは、計算を簡単にするために、45゜毎
に4回の測定を行うこととする。4回の測定による強度
をそれぞれI0, I45, I90, I135とすると、下式に従
って偏光特性を表現する変数を求める。
3つの未知変数が存在するため、少なくとも3つの異な
る角度位置に検光子50を回転させた際の出力強度Iを
測定することにより、3つの未知数の値を求めることが
できる。ここでは、計算を簡単にするために、45゜毎
に4回の測定を行うこととする。4回の測定による強度
をそれぞれI0, I45, I90, I135とすると、下式に従
って偏光特性を表現する変数を求める。
【0028】
【数2】
【0029】強度のみに基づいて偏光特性を測定する場
合には、試料の上に汚れ等があった場合にもこれを強度
変化として捉えてしまうため、信号にノイズが乗ってし
まい、正確な偏光特性の測定が行えないという問題があ
る。
合には、試料の上に汚れ等があった場合にもこれを強度
変化として捉えてしまうため、信号にノイズが乗ってし
まい、正確な偏光特性の測定が行えないという問題があ
る。
【0030】ノイズの影響を考慮すると、検出される光
強度Iは、和のノイズns、積のノイズnmとして、以
下の式で表すことができる。
強度Iは、和のノイズns、積のノイズnmとして、以
下の式で表すことができる。
【0031】
【数3】
【0032】このようなノイズがあると、α、βを正確
に求めることができない。但し、偏光楕円の主軸の傾き
ψはノイズの影響を受けずに正確に求めることができ
る。
に求めることができない。但し、偏光楕円の主軸の傾き
ψはノイズの影響を受けずに正確に求めることができ
る。
【0033】ここで、和のノイズとは、光学的には例え
ば測定光以外の照明光等の光の受光手段に対する混入に
より生ずるノイズをいい、電気的には例えばテレビ信号
のオフセット調整の不備によって発生するノイズを指
す。また、積のノイズとは、光学的には照明ムラ等によ
って生じるノイズをいい、電気的にはCCDの画素間の
感度のバラツキ等によるノイズを指す。
ば測定光以外の照明光等の光の受光手段に対する混入に
より生ずるノイズをいい、電気的には例えばテレビ信号
のオフセット調整の不備によって発生するノイズを指
す。また、積のノイズとは、光学的には照明ムラ等によ
って生じるノイズをいい、電気的にはCCDの画素間の
感度のバラツキ等によるノイズを指す。
【0034】複屈折を測定するためには、複屈折の軸方
向とリターダンスとを求める必要がある。
向とリターダンスとを求める必要がある。
【0035】実施例の装置では、上記のψを移相子の設
定角度を変化させて少なくとも2回解析する。コンピュ
ータ62は、フレームグラバ61に記憶された各画素単
位の強度情報に基づいて第1段階でのψに相当する値ξ
と、第2段階でのψに相当する値ηとを求める。
定角度を変化させて少なくとも2回解析する。コンピュ
ータ62は、フレームグラバ61に記憶された各画素単
位の強度情報に基づいて第1段階でのψに相当する値ξ
と、第2段階でのψに相当する値ηとを求める。
【0036】ここで、リターダンスがπ/2より小さい
と仮定すると、直線偏光に近い偏光のψを測定するのみ
で以下の原理に基づいてリターダンスδと軸方向θとを
求めることができる。
と仮定すると、直線偏光に近い偏光のψを測定するのみ
で以下の原理に基づいてリターダンスδと軸方向θとを
求めることができる。
【0037】リターダンスδ、軸方向θの複屈折を有す
る試料に左円偏光を入射させ、試料を射出した光束を4
5度に設定したλ/4板を透過させた場合の出力光X4
5は、以下のベクトルで表すことができる。
る試料に左円偏光を入射させ、試料を射出した光束を4
5度に設定したλ/4板を透過させた場合の出力光X4
5は、以下のベクトルで表すことができる。
【0038】
【数4】
【0039】この出力光X45の偏光楕円の長軸方向ξ
は、(2)式の通りである。
は、(2)式の通りである。
【0040】
【数5】
【0041】また、λ/4板の角度を0度とすると、出
力光X0は、以下のベクトルで示される。
力光X0は、以下のベクトルで示される。
【0042】
【数6】
【0043】観測系の座標を45度回転させると、出力
光X0-45は以下のベクトルとなる。
光X0-45は以下のベクトルとなる。
【0044】
【数7】
【0045】このとき検出される楕円偏光の軸方向η
は、(3)式で表現できる。
は、(3)式で表現できる。
【0046】
【数8】
【0047】δ、θは、(2)式と(3)式とから以下のよ
うに求められる。
うに求められる。
【0048】
【数9】
【0049】上記の演算は、イメージセンサの各画素毎
に実行され、試料の全域の複屈折情報を一度に解析する
ことができる。
に実行され、試料の全域の複屈折情報を一度に解析する
ことができる。
【0050】解析が終了すると、例えばリターダンスδ
を明暗の階調に変換してディスプレイ63に表示し、あ
るいはドットの大きさに変換してプリントアウトする。
これにより、試料の複屈折のバラツキを全体として視覚
的に捉えることができる。
を明暗の階調に変換してディスプレイ63に表示し、あ
るいはドットの大きさに変換してプリントアウトする。
これにより、試料の複屈折のバラツキを全体として視覚
的に捉えることができる。
【0051】ただし、上記の方法で試料の複屈折を測定
する場合、全ての光学素子の設定が設計値通りであれば
問題はないものの、実際にはλ/4板、検光子等の位相
や設定角度に誤差が含まれることも考えられるため、こ
れらの誤差をキャンセルすることができればより正確な
測定が可能となる。
する場合、全ての光学素子の設定が設計値通りであれば
問題はないものの、実際にはλ/4板、検光子等の位相
や設定角度に誤差が含まれることも考えられるため、こ
れらの誤差をキャンセルすることができればより正確な
測定が可能となる。
【0052】この発明にかかる複屈折測定装置は、各光
学素子の設定誤差をキャンセルするため、試料を配置し
ない状態でのバイアスを予め求めておき、実際の測定に
あたってバイアス分を差し引くことにより、正確な測定
を可能としている。
学素子の設定誤差をキャンセルするため、試料を配置し
ない状態でのバイアスを予め求めておき、実際の測定に
あたってバイアス分を差し引くことにより、正確な測定
を可能としている。
【0053】第1、第2のλ/4板の位相、中性軸の方
向、そして検光子の方向が設定からそれぞれ1.00°
の誤差を持つ場合、表1に示すようなリターダンス誤差
を生じさせる。
向、そして検光子の方向が設定からそれぞれ1.00°
の誤差を持つ場合、表1に示すようなリターダンス誤差
を生じさせる。
【0054】
【表1】 誤差 リターダンス誤差 第1のλ/4板の位相 1.00° 1.00° 第1のλ/4板の方向 1.00° 2.00° 第2のλ/4板の位相 1.00° 0.00° 第2のλ/4板の方向(0°) 1.00° 2.00° 第2のλ/4板の方向(45°) 1.00° 2.00° 検光子の方向 1.00° 2.00°
【0055】図3から図7は、試料が5°のリターダン
スを有する場合にシステム全体の値として検出されるリ
ターダンスを軸方向θを変化させてプロットして示した
ものである。円グラフで示される極座標の半径方向がリ
ターダンスδ、回転方向が軸方向2θを示す。図中の●
印が各光学素子が誤差を有さない場合の理想的な値、そ
して、矢印の先端が各光学素子が誤差を有する場合の測
定値である。
スを有する場合にシステム全体の値として検出されるリ
ターダンスを軸方向θを変化させてプロットして示した
ものである。円グラフで示される極座標の半径方向がリ
ターダンスδ、回転方向が軸方向2θを示す。図中の●
印が各光学素子が誤差を有さない場合の理想的な値、そ
して、矢印の先端が各光学素子が誤差を有する場合の測
定値である。
【0056】図3は第1のλ/4板20の位相が1°誤
差を持つ場合、図4は第1のλ/4板20の方向が1°
誤差を持つ場合、図5は第2のλ/4板40の方向(0
°)が1°誤差を持つ場合、図6は第2のλ/4板40
の方向(45°)が1°誤差を持つ場合、図7は検光子の
方向が1°の誤差を持つ場合をそれぞれ示している。
差を持つ場合、図4は第1のλ/4板20の方向が1°
誤差を持つ場合、図5は第2のλ/4板40の方向(0
°)が1°誤差を持つ場合、図6は第2のλ/4板40
の方向(45°)が1°誤差を持つ場合、図7は検光子の
方向が1°の誤差を持つ場合をそれぞれ示している。
【0057】各図から理解できるように、各光学素子が
誤差を有する場合、検出されるリターダンスは試料30
のリターダンスの軸方向に拘らず、一定の方向に一定量
変化する。
誤差を有する場合、検出されるリターダンスは試料30
のリターダンスの軸方向に拘らず、一定の方向に一定量
変化する。
【0058】また、全ての素子の影響が極座標上でのベ
クトルとして表されるため、複数の光学素子が誤差を有
する場合にも、システム全体としては個々の素子のベク
トルの和として考えることができる。
クトルとして表されるため、複数の光学素子が誤差を有
する場合にも、システム全体としては個々の素子のベク
トルの和として考えることができる。
【0059】したがって、試料を配置しない状態で測定
された複屈折の情報は、各素子の誤差が合成されたシス
テム全体の誤差として捉えることができる。
された複屈折の情報は、各素子の誤差が合成されたシス
テム全体の誤差として捉えることができる。
【0060】そこで、実施例の装置では、第1段階での
4回の測定状態での試料なしでのαをバイアスとして求
め、第2段階での4回の測定での試料なしでのβをバイ
アスとして求め、それぞれメモリーに記憶しておく。ま
た、回転させるλ/4板は、目盛と実際の中性軸とのズ
レを把握しておく。
4回の測定状態での試料なしでのαをバイアスとして求
め、第2段階での4回の測定での試料なしでのβをバイ
アスとして求め、それぞれメモリーに記憶しておく。ま
た、回転させるλ/4板は、目盛と実際の中性軸とのズ
レを把握しておく。
【0061】これらの誤差を試料を配置しての測定の際
に測定値から差し引くことにより、装置自体の誤差をキ
ャンセルして試料の複屈折を正確に測定することができ
る。
に測定値から差し引くことにより、装置自体の誤差をキ
ャンセルして試料の複屈折を正確に測定することができ
る。
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
偏光素子の位相、角度の誤差により生じる装置自体が持
つバイアスの複屈折情報を、測定された試料の複屈折情
報から差し引くことにより、試料の複屈折を正確に解析
することができる。
偏光素子の位相、角度の誤差により生じる装置自体が持
つバイアスの複屈折情報を、測定された試料の複屈折情
報から差し引くことにより、試料の複屈折を正確に解析
することができる。
【図1】 この発明に係る複屈折測定装置の一実施例を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図2】 偏光楕円を示すグラフである。
【図3】 第1のλ/4板の位相が1°誤差を持つ場合
のリターダンスを示すグラフである。
のリターダンスを示すグラフである。
【図4】 第1のλ/4板の方向が1°誤差を持つ場合
のリターダンスを示すグラフである。
のリターダンスを示すグラフである。
【図5】 第2のλ/4板の方向(0°)が1°誤差を持
つ場合のリターダンスを示すグラフである。
つ場合のリターダンスを示すグラフである。
【図6】 第2のλ/4板の方向(45°)が1°誤差を持
つ場合のリターダンスを示すグラフである。
つ場合のリターダンスを示すグラフである。
【図7】 検光子の方向が1°の誤差を持つ場合のリタ
ーダンスを示すグラフである。
ーダンスを示すグラフである。
10…光源部 20…第1のλ/4板 30…試料 40…第2のλ/4板 50…検光子 60…イメージセンサ 64…メモリ
Claims (5)
- 【請求項1】特定の偏光を試料に対して入射させる光源
と、 該試料を射出した光束の偏光状態を変化させる偏光素子
と、 該偏光素子を透過した光束を受光する受光手段と、 前記偏光素子を回転させつつ前記受光手段の出力を検出
して光束の偏光状態を測定する測定手段と、 前記試料を配置せずに測定した測定装置固有の偏光状態
を記憶する記憶手段と、 前記測定手段の出力から前記記憶手段の出力を差し引い
て前記試料の複屈折を解析する手段とを有することを特
徴とする複屈折測定装置。 - 【請求項2】前記光源は、前記試料に対して円偏光を入
射させることを特徴とする請求項1に記載の複屈折測定
装置。 - 【請求項3】前記偏光素子は、移相子と検光子とから構
成され、該検光子を回転させつつ偏光状態を測定するこ
とを特徴とする請求項2に記載の複屈折測定装置。 - 【請求項4】前記解析手段は、前記移相子を第1の角度
に設定して測定した結果と、前記移相子を光軸周りに所
定角度回転させて第2の角度に設定して測定した結果と
に基づいて前記試料の複屈折を解析することを特徴とす
る請求項3に記載の複屈折測定装置。 - 【請求項5】円偏光を試料に対して入射させる光源と、 前記試料を透過した光束を移相子と検光子とを介して受
光する受光手段と、 前記検光子を回転させつつ、前記受光手段の出力から光
束の偏光状態を測定する測定手段と、 前記試料を配置せずに前記測定手段により測定した測定
装置固有の偏光状態を記憶する記憶手段と、 前記移相子を互いに異なる複数の角度に設定し、それぞ
れの設定状態で前記測定手段の出力から前記記憶手段の
出力を差し引いて測定された偏光状態に基づき、前記試
料の複屈折を解析する手段とを有することを特徴とする
複屈折測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8359892A JPH05281137A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 複屈折測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8359892A JPH05281137A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 複屈折測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281137A true JPH05281137A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13806932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8359892A Pending JPH05281137A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 複屈折測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05281137A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005241406A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Nokodai Tlo Kk | 複屈折分散計測装置および複屈折分散計測方法 |
| JP2010150739A (ja) * | 2003-10-10 | 2010-07-08 | Truetzschler Gmbh & Co Kg | 紡績準備において繊維フロック中のプラスチック材料の異物を検出するための装置 |
| JP2015081835A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | Hoya株式会社 | 複屈折の測定方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| CN106769826A (zh) * | 2017-01-18 | 2017-05-31 | 天津大学 | 一种用于金相观察时调节试样角度的装置 |
-
1992
- 1992-04-06 JP JP8359892A patent/JPH05281137A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010150739A (ja) * | 2003-10-10 | 2010-07-08 | Truetzschler Gmbh & Co Kg | 紡績準備において繊維フロック中のプラスチック材料の異物を検出するための装置 |
| JP2005241406A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Nokodai Tlo Kk | 複屈折分散計測装置および複屈折分散計測方法 |
| JP2015081835A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | Hoya株式会社 | 複屈折の測定方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| CN106769826A (zh) * | 2017-01-18 | 2017-05-31 | 天津大学 | 一种用于金相观察时调节试样角度的装置 |
| CN106769826B (zh) * | 2017-01-18 | 2023-12-15 | 天津大学 | 一种用于金相观察时调节试样角度的装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5257092A (en) | Apparatus for measuring polarization and birefringence | |
| US7286226B2 (en) | Method and apparatus for measuring birefringence | |
| JPS6134442A (ja) | 試料表面ないしは試料の表面膜層の物理的特性を検査するためのエリプソメトリ測定法とその装置 | |
| CN101504329B (zh) | 双折射测定方法、装置以及程序 | |
| US20180058934A1 (en) | Measuring polarisation | |
| US6693710B1 (en) | Polarization imaging system | |
| JPH10332533A (ja) | 複屈折評価装置 | |
| CN101281091A (zh) | 使用了分光器的相位差测量装置 | |
| EP0737856B1 (en) | A method of investigating samples by changing polarisation | |
| JP3159743B2 (ja) | 偏光及び複屈折測定装置 | |
| JP6940552B2 (ja) | 物品検査装置及び物品検査方法 | |
| KR100336696B1 (ko) | 편광 분석장치 및 편광 분석방법 | |
| GB2087551A (en) | Measurement of path difference in polarized light | |
| JPH05281137A (ja) | 複屈折測定装置 | |
| JP2791479B2 (ja) | レターデーション測定方法 | |
| JP5370155B2 (ja) | 表面検査装置及び表面検査方法 | |
| JP2997299B2 (ja) | 複屈折測定方法 | |
| US7233395B2 (en) | Performing retardation measurements | |
| JP3436704B2 (ja) | 複屈折測定方法及びその装置 | |
| JP2010139345A (ja) | 複屈折測定装置 | |
| JPH05306995A (ja) | 偏光測定装置 | |
| TWI872538B (zh) | 線偏振元件檢測系統與方法 | |
| JPH0777490A (ja) | 複屈折の測定方法 | |
| JP2927020B2 (ja) | 複屈折測定装置 | |
| US7224457B2 (en) | Performing retardation measurements |