JPH05283570A - 半田付け方法並びに装置 - Google Patents
半田付け方法並びに装置Info
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- JPH05283570A JPH05283570A JP7699892A JP7699892A JPH05283570A JP H05283570 A JPH05283570 A JP H05283570A JP 7699892 A JP7699892 A JP 7699892A JP 7699892 A JP7699892 A JP 7699892A JP H05283570 A JPH05283570 A JP H05283570A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ベアチップ6と放熱基板4との間の電気的な
導電性、機械強度、熱の伝導性を安定させ、放熱特性を
向上させるために、接合後における接合部の半田5の気
泡をなくすとともに、接合時におけるペアチップ表面の
酸化、汚れ、および傷の発生が防止される半田付け装置
並びに方法を得る。 【構成】 パワー半導体チップを放熱基板4に載せ、そ
の間に半田5を挟み真空中で半田5を加熱溶融し、半田
5が加熱溶融されている状態のとき窒素ガスなどの酸化
および腐食を阻止するガスを導入し、気圧を上昇させ溶
融している半田5内の気泡を消滅させる。
導電性、機械強度、熱の伝導性を安定させ、放熱特性を
向上させるために、接合後における接合部の半田5の気
泡をなくすとともに、接合時におけるペアチップ表面の
酸化、汚れ、および傷の発生が防止される半田付け装置
並びに方法を得る。 【構成】 パワー半導体チップを放熱基板4に載せ、そ
の間に半田5を挟み真空中で半田5を加熱溶融し、半田
5が加熱溶融されている状態のとき窒素ガスなどの酸化
および腐食を阻止するガスを導入し、気圧を上昇させ溶
融している半田5内の気泡を消滅させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体チップを放熱基
板等に半田付けを行う半田付け方法並びに装置に関する
ものである。
板等に半田付けを行う半田付け方法並びに装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】電子部品の実装密度を高めるための一つ
の方法として、金属製の放熱体、例えば放熱基板に、裸
のパワー半導体チップ等の半導体素子、例えば半導体チ
ップ、を接合固定し、電気的な接続をワイヤボンディン
グにて行う実装方法が普及してきている。この方法によ
れば、半導体チップは放熱基板に接合されるため、接合
が完全に行われれば所定の放熱特性が確保できる。な
お、この接合に当っては、清浄な部屋内で、フラックス
を使わずに半田付けする方法が通常採用される。
の方法として、金属製の放熱体、例えば放熱基板に、裸
のパワー半導体チップ等の半導体素子、例えば半導体チ
ップ、を接合固定し、電気的な接続をワイヤボンディン
グにて行う実装方法が普及してきている。この方法によ
れば、半導体チップは放熱基板に接合されるため、接合
が完全に行われれば所定の放熱特性が確保できる。な
お、この接合に当っては、清浄な部屋内で、フラックス
を使わずに半田付けする方法が通常採用される。
【0003】図3は裸の半導体チップ(以下ベアチップ
と呼ぶ)と放熱基板とを半田付けする際に使用される従
来の半田付け装置の断面図である。図3に示す従来装置
の場合フラックスを用いないため、半田付けは還元性雰
囲気である水素雰囲気で行われる。図において、1は気
密容器、例えば、密封容器である。また、2aは密封容
器1に水素ガスを導入する水素ガス導入口、2bは密封
容器1に窒素ガスを導入する窒素ガス導入口、3は密封
容器1内の水素ガス及び窒素ガスを排出するガス排出口
である。このガス排出口3には空気が流入して爆発しな
いように安全装置(図示せず)が設けられている。
と呼ぶ)と放熱基板とを半田付けする際に使用される従
来の半田付け装置の断面図である。図3に示す従来装置
の場合フラックスを用いないため、半田付けは還元性雰
囲気である水素雰囲気で行われる。図において、1は気
密容器、例えば、密封容器である。また、2aは密封容
器1に水素ガスを導入する水素ガス導入口、2bは密封
容器1に窒素ガスを導入する窒素ガス導入口、3は密封
容器1内の水素ガス及び窒素ガスを排出するガス排出口
である。このガス排出口3には空気が流入して爆発しな
いように安全装置(図示せず)が設けられている。
【0004】また、4は放熱基板、5は半田である。ま
た、6はベアチップ、7は重りである。なお、この半田
5は板状の形状をしている。これらの放熱基板4、半田
5、ベアチップ6、および重り7は放熱基板4の上に半
田5が載せられ、半田5の上にベアチップ6が載せら
れ、さらにベアチップ6の上に重り7が載せられた状態
で密封容器1内に置かれている。また、8は密封容器1
内に設けられた加熱手段、例えば、赤外線ヒータであ
る。また、密封容器1には、この密封容器1内に操作者
が放熱基板4、半田5、ベアチップ6、および重り7等
を入れたり取り出したり出来るように扉(図示せず)が
設けられている。
た、6はベアチップ、7は重りである。なお、この半田
5は板状の形状をしている。これらの放熱基板4、半田
5、ベアチップ6、および重り7は放熱基板4の上に半
田5が載せられ、半田5の上にベアチップ6が載せら
れ、さらにベアチップ6の上に重り7が載せられた状態
で密封容器1内に置かれている。また、8は密封容器1
内に設けられた加熱手段、例えば、赤外線ヒータであ
る。また、密封容器1には、この密封容器1内に操作者
が放熱基板4、半田5、ベアチップ6、および重り7等
を入れたり取り出したり出来るように扉(図示せず)が
設けられている。
【0005】次に図3に示す従来の半田付け装置による
半田付けの手順について説明する。まず、密封容器1の
外部において、放熱基板4、板状の半田5、ベアチップ
6、および重り7を重ねておく。このとき、放熱基板4
の所定の位置にベアチップ6が位置するように位置決め
治具(図示せず)が用いられる。このようにセットした
放熱基板4、半田5、ベアチップ6、および重り7を図
3に示すように、密封容器1のなかに入れ、密封容器1
の扉を閉め密封状態にする。
半田付けの手順について説明する。まず、密封容器1の
外部において、放熱基板4、板状の半田5、ベアチップ
6、および重り7を重ねておく。このとき、放熱基板4
の所定の位置にベアチップ6が位置するように位置決め
治具(図示せず)が用いられる。このようにセットした
放熱基板4、半田5、ベアチップ6、および重り7を図
3に示すように、密封容器1のなかに入れ、密封容器1
の扉を閉め密封状態にする。
【0006】そして、窒素ガス導入口2bを介して密封
容器1内に窒素ガスを導入し、密封容器1のなかの空気
を窒素ガスに置換する。その後、水素ガス導入口2aを
介して水素ガスを導入し密封容器1内を水素雰囲気にす
る。次に、赤外線ヒータ8を点灯し、半田5を溶融す
る。そして、密封容器1内を水素雰囲気のまま赤外線ヒ
ータ8を消灯し、密封容器1内を冷却し半田5を固化さ
せて放熱基板4とベアチップ6を接合する。この場合、
密封容器1内は還元性の水素雰囲気なのでフラックスが
なくても半田接合が可能である。
容器1内に窒素ガスを導入し、密封容器1のなかの空気
を窒素ガスに置換する。その後、水素ガス導入口2aを
介して水素ガスを導入し密封容器1内を水素雰囲気にす
る。次に、赤外線ヒータ8を点灯し、半田5を溶融す
る。そして、密封容器1内を水素雰囲気のまま赤外線ヒ
ータ8を消灯し、密封容器1内を冷却し半田5を固化さ
せて放熱基板4とベアチップ6を接合する。この場合、
密封容器1内は還元性の水素雰囲気なのでフラックスが
なくても半田接合が可能である。
【0007】しかし、放熱板4とベアチップ6との接合
部に気泡が発生するのを防止するために、上述のように
ベアチップ6の上に重り7を載せた状態で半田5を溶融
する必要がある。このため、ベアチップ6表面を汚した
り、傷つけたりし、動作不良や信頼性の低下を生じさせ
ることがある。また、重り7を載せたとしても完全に気
泡の発生を防止することは困難であるという問題点があ
る。また、水素ガスを高温下で使用するため爆発の危険
性について十分配慮する必要があった。
部に気泡が発生するのを防止するために、上述のように
ベアチップ6の上に重り7を載せた状態で半田5を溶融
する必要がある。このため、ベアチップ6表面を汚した
り、傷つけたりし、動作不良や信頼性の低下を生じさせ
ることがある。また、重り7を載せたとしても完全に気
泡の発生を防止することは困難であるという問題点があ
る。また、水素ガスを高温下で使用するため爆発の危険
性について十分配慮する必要があった。
【0008】また、フラックスなしで半田付けする別の
方法として、密封容器1内を水素雰囲気にせずに真空に
し、真空中で半田付けを行う特開平2−137393号
公報に記載されている方法がある。図4は上記公報に示
されている半田付け装置の断面図である。
方法として、密封容器1内を水素雰囲気にせずに真空に
し、真空中で半田付けを行う特開平2−137393号
公報に記載されている方法がある。図4は上記公報に示
されている半田付け装置の断面図である。
【0009】次に、図4によりこの方法について説明す
る。まず、0.001気圧以下の密封容器31の中に、
プリント基板41と半田(図示せず)および半導体装置
61をセットし、あらかじめヒータ81で50°C以上
150°C以下で加熱し、被接合物の水分を除去する。
次に、赤外線ヒータ8により半田を加熱溶融する。そし
て、その後、冷却してプリント基板41と半導体装置6
1との接合を完了する。この場合、水素ガスを使用しな
いので、爆発の危険性はない。なお、上記公報には、冷
却の方法については記載がない。真空状態のままで冷却
すれば半導体装置61の表面酸化の問題は発生しない
が、空気を導入し冷却する方法は、特に半導体装置61
がベアチップの場合、表面酸化の問題が生じるので採用
できない。
る。まず、0.001気圧以下の密封容器31の中に、
プリント基板41と半田(図示せず)および半導体装置
61をセットし、あらかじめヒータ81で50°C以上
150°C以下で加熱し、被接合物の水分を除去する。
次に、赤外線ヒータ8により半田を加熱溶融する。そし
て、その後、冷却してプリント基板41と半導体装置6
1との接合を完了する。この場合、水素ガスを使用しな
いので、爆発の危険性はない。なお、上記公報には、冷
却の方法については記載がない。真空状態のままで冷却
すれば半導体装置61の表面酸化の問題は発生しない
が、空気を導入し冷却する方法は、特に半導体装置61
がベアチップの場合、表面酸化の問題が生じるので採用
できない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図3に示される従来装
置により水素雰囲気で接合を行う場合、フラックスなし
で半田付けが可能であるが、ベアチップ6の上に重り7
を載せた状態で半田5を溶融しても完全に気泡の発生を
防止することは困難である。このため、ベアチップ6と
放熱基板との間の熱伝導性、電気的伝導性および機械的
強度が阻害されるという問題点を有する。
置により水素雰囲気で接合を行う場合、フラックスなし
で半田付けが可能であるが、ベアチップ6の上に重り7
を載せた状態で半田5を溶融しても完全に気泡の発生を
防止することは困難である。このため、ベアチップ6と
放熱基板との間の熱伝導性、電気的伝導性および機械的
強度が阻害されるという問題点を有する。
【0011】また図4に示す従来装置により真空中で接
合を行う場合においても、真空状態のまま冷却するの
で、図3に示す従来装置の場合と同様に接合部に気泡が
できやすい。従って、この場合も図3に示す従来装置の
場合と同様の問題点を有している。
合を行う場合においても、真空状態のまま冷却するの
で、図3に示す従来装置の場合と同様に接合部に気泡が
できやすい。従って、この場合も図3に示す従来装置の
場合と同様の問題点を有している。
【0012】この発明は、このような問題点を解消する
ためになされたもので、半導体素子と放熱体との接合部
における気泡の発生が防止され、半導体素子と放熱体と
の間の熱伝導性、電気的伝導性および機械的強度が良好
な状態で接合できる半田付け方法並びに装置を得ること
を目的とする。
ためになされたもので、半導体素子と放熱体との接合部
における気泡の発生が防止され、半導体素子と放熱体と
の間の熱伝導性、電気的伝導性および機械的強度が良好
な状態で接合できる半田付け方法並びに装置を得ること
を目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明による半田付け
方法は、接合面が対向するように配設された半導体素子
および放熱体と、半導体素子および放熱体の対向する接
合面にはさまれるように配設されるか、または、加熱さ
れたとき半導体素子および放熱体の対向する接合面の間
に溶融半田が流れるように配設された半田と、を収納す
る気密容器内を真空排気手段が真空排気するステップ
と、加熱手段が気密容器内の半田を加熱溶融するステッ
プと、半導体素子および放熱体と溶融状態にある半田と
が収納されている気密容器内にガス供給手段が窒素ガス
などの酸化または腐食を阻止するガスを導入し気密容器
内の気圧を上昇させるステップと、を有するようにした
ものである。
方法は、接合面が対向するように配設された半導体素子
および放熱体と、半導体素子および放熱体の対向する接
合面にはさまれるように配設されるか、または、加熱さ
れたとき半導体素子および放熱体の対向する接合面の間
に溶融半田が流れるように配設された半田と、を収納す
る気密容器内を真空排気手段が真空排気するステップ
と、加熱手段が気密容器内の半田を加熱溶融するステッ
プと、半導体素子および放熱体と溶融状態にある半田と
が収納されている気密容器内にガス供給手段が窒素ガス
などの酸化または腐食を阻止するガスを導入し気密容器
内の気圧を上昇させるステップと、を有するようにした
ものである。
【0014】また、この発明による半田付け装置は、接
合面が対向するように配設された半導体素子および放熱
体と、半導体素子および放熱体の対向する接合面にはさ
まれるように配設されるか、または、加熱されたとき溶
融半田が半導体素子および放熱体の対向する接合面の間
に流れるように配設された半田と、を収納する気密容器
と、気密容器内を真空排気する真空排気手段と、気密容
器内が所定の真空状態にあることを検出する真空検出手
段と、気密容器内の半田を加熱溶融する加熱手段と、半
田が所定の溶融状態にあることを検出する温度検出手段
と、真空検出手段による気密容器内が所定の真空状態に
あることの検出および温度検出手段による半田が所定の
溶融状態にあることの検出にもとづき気密容器内に窒素
ガスなどの酸化または腐食を阻止するガスを導入するガ
ス供給手段と、を備えるようにしたものである。
合面が対向するように配設された半導体素子および放熱
体と、半導体素子および放熱体の対向する接合面にはさ
まれるように配設されるか、または、加熱されたとき溶
融半田が半導体素子および放熱体の対向する接合面の間
に流れるように配設された半田と、を収納する気密容器
と、気密容器内を真空排気する真空排気手段と、気密容
器内が所定の真空状態にあることを検出する真空検出手
段と、気密容器内の半田を加熱溶融する加熱手段と、半
田が所定の溶融状態にあることを検出する温度検出手段
と、真空検出手段による気密容器内が所定の真空状態に
あることの検出および温度検出手段による半田が所定の
溶融状態にあることの検出にもとづき気密容器内に窒素
ガスなどの酸化または腐食を阻止するガスを導入するガ
ス供給手段と、を備えるようにしたものである。
【0015】
【作用】この発明に係わる半田付け方法並びに装置は、
接合面が対向するように配設された半導体素子および放
熱体と、半導体素子および放熱体の対向する接合面には
さまれるように配設されるか、または、加熱されたとき
半導体素子および放熱体の対向する接合面の間に溶融半
田が流れるように配設された半田と、を収納する気密容
器内を真空排気した後、半田を加熱し、半田が加熱溶融
された状態で、この気密容器内に窒素ガスなどの酸化ま
たは腐食を阻止するガスを導入し、空気の侵入が阻止さ
れた状態で気密容器内の気圧を上昇させ、溶融された半
田の中に生じている気泡を消滅させる。
接合面が対向するように配設された半導体素子および放
熱体と、半導体素子および放熱体の対向する接合面には
さまれるように配設されるか、または、加熱されたとき
半導体素子および放熱体の対向する接合面の間に溶融半
田が流れるように配設された半田と、を収納する気密容
器内を真空排気した後、半田を加熱し、半田が加熱溶融
された状態で、この気密容器内に窒素ガスなどの酸化ま
たは腐食を阻止するガスを導入し、空気の侵入が阻止さ
れた状態で気密容器内の気圧を上昇させ、溶融された半
田の中に生じている気泡を消滅させる。
【0016】
【実施例】実施例1.図1はこの発明の一実施例におけ
る半田付け装置のブロック構成図である。図において、
4、5、6、8は図3に示す従来装置におけるものと同
様である。20はプログラマブルコントローラ(以下P
Cと略す)である。9は真空排気手段、例えば、真空ポ
ンプである。そして、9aはPC20により与えられる
指令にもとづき真空ポンプ9の電源をON・OFF駆動
する真空ポンプ電源ON・OFF駆動部である。10は
密封容器、10aは密封容器10に設けられた窒素ガス
導入口、10bは密封容器10に設けられた窒素ガス排
出口、10cは密封容器10に設けられ、ここから密封
容器10の内部の気体を排出し密封容器10内を真空に
する真空排気口である。また、11は密封容器10内の
真空度を測定する真空検出手段、例えば、真空検出器で
ある。なお、この真空検出器11はピラニ真空計と称さ
れるもので、大気中において通電すると寿命を短くする
ので、大気中においては電源をOFFするようにして使
用する。
る半田付け装置のブロック構成図である。図において、
4、5、6、8は図3に示す従来装置におけるものと同
様である。20はプログラマブルコントローラ(以下P
Cと略す)である。9は真空排気手段、例えば、真空ポ
ンプである。そして、9aはPC20により与えられる
指令にもとづき真空ポンプ9の電源をON・OFF駆動
する真空ポンプ電源ON・OFF駆動部である。10は
密封容器、10aは密封容器10に設けられた窒素ガス
導入口、10bは密封容器10に設けられた窒素ガス排
出口、10cは密封容器10に設けられ、ここから密封
容器10の内部の気体を排出し密封容器10内を真空に
する真空排気口である。また、11は密封容器10内の
真空度を測定する真空検出手段、例えば、真空検出器で
ある。なお、この真空検出器11はピラニ真空計と称さ
れるもので、大気中において通電すると寿命を短くする
ので、大気中においては電源をOFFするようにして使
用する。
【0017】12は密封容器10内の窒素ガスの圧力を
検出する圧力検出器、13は放熱基板4に温度検出部が
取り付けられている熱電対、13aは熱電対13が検出
した温度信号を増幅しPC20へ送出する温度信号増幅
器である。なお、熱電対13および温度信号増幅器13
aにより温度検出手段が構成される。また、14はPC
20の指令にもとづく大きさの電力を赤外線ヒータ8に
供給する赤外線ヒータ駆動部である。なお、PC20は
温度信号増幅器13aから送出される温度信号と半田5
の所要加熱温度との差異をなくすように赤外線ヒータ駆
動部14に指令を与える。
検出する圧力検出器、13は放熱基板4に温度検出部が
取り付けられている熱電対、13aは熱電対13が検出
した温度信号を増幅しPC20へ送出する温度信号増幅
器である。なお、熱電対13および温度信号増幅器13
aにより温度検出手段が構成される。また、14はPC
20の指令にもとづく大きさの電力を赤外線ヒータ8に
供給する赤外線ヒータ駆動部である。なお、PC20は
温度信号増幅器13aから送出される温度信号と半田5
の所要加熱温度との差異をなくすように赤外線ヒータ駆
動部14に指令を与える。
【0018】15は赤外線ヒータ8と赤外線ヒータ駆動
部14の出力との間を接続または遮断する赤外線ヒータ
スイッチである。また、15aは赤外線ヒータスイッチ
15をON・OFF駆動する赤外線ヒータスイッチON
・OFF駆動部である。なお、赤外線ヒータスイッチO
N・OFF駆動部15aはPC20の指令にもとづき動
作する。16は真空検出器11の電源をON、OFFさ
せる真空検出器電源ON・OFF駆動部である。なお、
この真空検出器電源ON・OFF駆動部16はPC20
の指令にもとづき動作する。
部14の出力との間を接続または遮断する赤外線ヒータ
スイッチである。また、15aは赤外線ヒータスイッチ
15をON・OFF駆動する赤外線ヒータスイッチON
・OFF駆動部である。なお、赤外線ヒータスイッチO
N・OFF駆動部15aはPC20の指令にもとづき動
作する。16は真空検出器11の電源をON、OFFさ
せる真空検出器電源ON・OFF駆動部である。なお、
この真空検出器電源ON・OFF駆動部16はPC20
の指令にもとづき動作する。
【0019】17は圧縮された窒素ガスを蓄えている窒
素ボンベ、17aは窒素ボンベ17と密封容器10の窒
素ガス導入口10aとの間を結ぶ気体通路を開閉する窒
素バルブ、17bはPC20の指令にもとづき窒素バル
ブ17aを開閉駆動する窒素バルブ駆動部である。な
お、窒素バルブ17aが開くと窒素ボンベ17より窒素
ガスが密封容器10内に導入される。なお、窒素ボンベ
17、窒素バルブ17a、および、窒素バルブ駆動部1
7bよりガス供給手段が構成される。
素ボンベ、17aは窒素ボンベ17と密封容器10の窒
素ガス導入口10aとの間を結ぶ気体通路を開閉する窒
素バルブ、17bはPC20の指令にもとづき窒素バル
ブ17aを開閉駆動する窒素バルブ駆動部である。な
お、窒素バルブ17aが開くと窒素ボンベ17より窒素
ガスが密封容器10内に導入される。なお、窒素ボンベ
17、窒素バルブ17a、および、窒素バルブ駆動部1
7bよりガス供給手段が構成される。
【0020】18は密封容器10の真空排気口10cと
真空ポンプ9との間を結ぶ気体通路を開閉するゲートバ
ルブ、18aはPC20の指令にもとづきゲートバルブ
18を開閉駆動するゲートバルブ駆動部である。19は
密封容器10の窒素ガス排出口10bと密封容器10の
外部を結ぶ気体通路を開閉するリークバルブ、19aは
PC20の指令によりリークバルブ19を開閉駆動する
リークバルブ駆動部である。なお、リークバルブ19が
開くと密封容器10内に蓄えられている窒素ガス等の気
体は密封容器10の外部に放出される。
真空ポンプ9との間を結ぶ気体通路を開閉するゲートバ
ルブ、18aはPC20の指令にもとづきゲートバルブ
18を開閉駆動するゲートバルブ駆動部である。19は
密封容器10の窒素ガス排出口10bと密封容器10の
外部を結ぶ気体通路を開閉するリークバルブ、19aは
PC20の指令によりリークバルブ19を開閉駆動する
リークバルブ駆動部である。なお、リークバルブ19が
開くと密封容器10内に蓄えられている窒素ガス等の気
体は密封容器10の外部に放出される。
【0021】次に、図2によりこの発明による半田付け
装置を用いた半田付けの手順について説明する。動作に
先立ち、あらかじめ放熱基板4の上に半田5を載せ、さ
らに半田5の上にベアチップ6を載せたものを密封容器
10の中に入れ、扉を閉めておく。そして、図2のステ
ップ1において、各部の状態を初期状態に設定してお
く。
装置を用いた半田付けの手順について説明する。動作に
先立ち、あらかじめ放熱基板4の上に半田5を載せ、さ
らに半田5の上にベアチップ6を載せたものを密封容器
10の中に入れ、扉を閉めておく。そして、図2のステ
ップ1において、各部の状態を初期状態に設定してお
く。
【0022】すなわち、真空ポンプ9をOFF状態に
し、リークバルブ19を閉じ、ゲートバルブ18を閉
じ、真空検出器11の電源をOFFにし、赤外線ヒータ
スイッチ15を消灯し、温度信号増幅器13aの出力が
130°C以下の温度を示すように密封容器10内の温
度を下げ、電磁バルブ17aを閉じ、密封容器内10の
気圧を大気圧になるように、それぞれあらかじめ設定し
ておく。そして、この状態において操作者がPC20か
ら動作開始指令を入力すると、次のステップ2に進み、
動作を開始する。
し、リークバルブ19を閉じ、ゲートバルブ18を閉
じ、真空検出器11の電源をOFFにし、赤外線ヒータ
スイッチ15を消灯し、温度信号増幅器13aの出力が
130°C以下の温度を示すように密封容器10内の温
度を下げ、電磁バルブ17aを閉じ、密封容器内10の
気圧を大気圧になるように、それぞれあらかじめ設定し
ておく。そして、この状態において操作者がPC20か
ら動作開始指令を入力すると、次のステップ2に進み、
動作を開始する。
【0023】ステップ2において、PC20は真空ポン
プ電源ON・OFF駆動部9aに指令を与え、真空ポン
プ9の電源をONにするとともに、ゲートバルブ駆動部
18aに指令を与え、ゲートバルブ18を開く。そし
て、密封容器10内の真空排気を開始し次のステップ3
に進む。ステップ3において、PC20は真空検出器電
源ON・OFF駆動部16に指令を与え、真空検出器1
1の電源をONにしステップ4に進む。
プ電源ON・OFF駆動部9aに指令を与え、真空ポン
プ9の電源をONにするとともに、ゲートバルブ駆動部
18aに指令を与え、ゲートバルブ18を開く。そし
て、密封容器10内の真空排気を開始し次のステップ3
に進む。ステップ3において、PC20は真空検出器電
源ON・OFF駆動部16に指令を与え、真空検出器1
1の電源をONにしステップ4に進む。
【0024】ステップ4において、真空検出器11の真
空検出出力が所定の真空度10ー3Torrに達するまで
待ち、ステップ5に進む。ステップ5において、PC2
0は赤外線ヒータスイッチON・OFF駆動部15aに
指令を与え、赤外線ヒータ8に通電が可能な状態にし、
ステップ6に進む。ステップ6では、放熱基板4の温度
が上昇し、温度信号増幅器13aから送られてくる温度
信号が350°Cを示すまでこのステップに留まり、次
のステップ7に進む。
空検出出力が所定の真空度10ー3Torrに達するまで
待ち、ステップ5に進む。ステップ5において、PC2
0は赤外線ヒータスイッチON・OFF駆動部15aに
指令を与え、赤外線ヒータ8に通電が可能な状態にし、
ステップ6に進む。ステップ6では、放熱基板4の温度
が上昇し、温度信号増幅器13aから送られてくる温度
信号が350°Cを示すまでこのステップに留まり、次
のステップ7に進む。
【0025】ステップ7では、PC20は真空検出器電
源ON・OFF駆動部16に指令を与え、真空検出器1
1の電源をOFFにし、ゲートバルブ駆動部18aに指
令を与え、ゲートバルブ18を閉じ、さらに真空ポンプ
電源ON・OFF駆動部9aに指令を与え、真空ポンプ
9の電源をOFFにし、ステップ8に進む。ステップ8
では、PC20は窒素バルブ駆動部17bに指令を与
え、窒素バルブ17aを開き密封容器10内に窒素ガス
を導入し、ステップ9に進む。
源ON・OFF駆動部16に指令を与え、真空検出器1
1の電源をOFFにし、ゲートバルブ駆動部18aに指
令を与え、ゲートバルブ18を閉じ、さらに真空ポンプ
電源ON・OFF駆動部9aに指令を与え、真空ポンプ
9の電源をOFFにし、ステップ8に進む。ステップ8
では、PC20は窒素バルブ駆動部17bに指令を与
え、窒素バルブ17aを開き密封容器10内に窒素ガス
を導入し、ステップ9に進む。
【0026】ステップ9では、圧力検出器12の検出出
力が大気圧より0.5Kg/cm2高い値に達するまで
待ち、ステップ10に進む。ステップ10では、PC2
0は赤外線ヒータスイッチON・OFF駆動部15aに
指令を与え、赤外線ヒータスイッチ15をOFFにする
とともに、リークバルブ駆動部19aに指令を与え、リ
ークバルブ19を開きステップ11に進む。
力が大気圧より0.5Kg/cm2高い値に達するまで
待ち、ステップ10に進む。ステップ10では、PC2
0は赤外線ヒータスイッチON・OFF駆動部15aに
指令を与え、赤外線ヒータスイッチ15をOFFにする
とともに、リークバルブ駆動部19aに指令を与え、リ
ークバルブ19を開きステップ11に進む。
【0027】なお、リークバルブ19および窒素バルブ
17aが開の状態においては、窒素ボンベ17より密封
容器10内に新しい窒素ガスが導入されるとともに、す
でに導入されている窒素ガスがリークバルブ19より外
部へ排出されるため、冷却が速やかに行われる。このと
き、PC20により密封容器10の内部の圧力は大気圧
より0.5Kg/cm2高い値に保持されるように制御
されるので、リークバルブ19より外気が侵入すること
はない。
17aが開の状態においては、窒素ボンベ17より密封
容器10内に新しい窒素ガスが導入されるとともに、す
でに導入されている窒素ガスがリークバルブ19より外
部へ排出されるため、冷却が速やかに行われる。このと
き、PC20により密封容器10の内部の圧力は大気圧
より0.5Kg/cm2高い値に保持されるように制御
されるので、リークバルブ19より外気が侵入すること
はない。
【0028】ステップ11では、PC20は温度信号増
幅器13aの出力が130°C以下の温度を示すように
なるまで待ち、ステップ12に進む。ステップ12で
は、PC20は窒素バルブ駆動部17bに指令を与え、
窒素バルブ17aを閉じさせ、窒素ボンベ17から密封
容器10への窒素ガスの導入を中止する。このとき、リ
ークバルブ19は開の状態なので密封容器10内は速や
かに大気圧にもどる。このあと、密封容器10の扉を開
き、接合が完了した放熱基板4およびベアチップ6を取
り出せばよい。
幅器13aの出力が130°C以下の温度を示すように
なるまで待ち、ステップ12に進む。ステップ12で
は、PC20は窒素バルブ駆動部17bに指令を与え、
窒素バルブ17aを閉じさせ、窒素ボンベ17から密封
容器10への窒素ガスの導入を中止する。このとき、リ
ークバルブ19は開の状態なので密封容器10内は速や
かに大気圧にもどる。このあと、密封容器10の扉を開
き、接合が完了した放熱基板4およびベアチップ6を取
り出せばよい。
【0029】次に、図2に示す手順により下記に示すサ
ンプルを半田付けした場合の半田接合の結果について述
べる。サンプルのベアチップ6は接合面に金蒸着が施さ
れ、大きさが4mmX4.5mm、厚さが0.4mmあ
る。また、サンプルの放熱基板4は銅にニッケルメッキ
が施され、大きさが6mmX8mm、厚さ2mmある。
そして、半田5の溶融範囲は270〜312°Cであ
り、組成は5%SnーPbである。
ンプルを半田付けした場合の半田接合の結果について述
べる。サンプルのベアチップ6は接合面に金蒸着が施さ
れ、大きさが4mmX4.5mm、厚さが0.4mmあ
る。また、サンプルの放熱基板4は銅にニッケルメッキ
が施され、大きさが6mmX8mm、厚さ2mmある。
そして、半田5の溶融範囲は270〜312°Cであ
り、組成は5%SnーPbである。
【0030】放熱基板4、板状の半田5、およびベアチ
ップ6を重ねたサンプルを、重り7は載せずに密封容器
10の中に入れ、図2に示す手順で半田接合を行なっ
た。結果は、重り7を使用しないにもかかわらず、接合
を完了したサンプルは、半田5が放熱基板4及びベアチ
ップ6によくなじみ、良好な状態で半田付けがなされて
いた。また、放熱基板4、半田5およびベアチップ6が
高温状態において外気に曝されることがないため、これ
らの表面は酸化による影響を殆ど受けていない。
ップ6を重ねたサンプルを、重り7は載せずに密封容器
10の中に入れ、図2に示す手順で半田接合を行なっ
た。結果は、重り7を使用しないにもかかわらず、接合
を完了したサンプルは、半田5が放熱基板4及びベアチ
ップ6によくなじみ、良好な状態で半田付けがなされて
いた。また、放熱基板4、半田5およびベアチップ6が
高温状態において外気に曝されることがないため、これ
らの表面は酸化による影響を殆ど受けていない。
【0031】また、図2に示す手順によれば、真空の密
封容器10内で半田5が溶融している状態において密封
容器10内に窒素ガスを導入し、この導入された窒素ガ
スにより密封容器10内の気圧が上昇した後に冷却する
ので、図4に示すように重り7を使用して真空中で半田
を溶融し、そのまま真空中で冷却した場合に比べて格段
に半田5内の気泡が少ないことがX線透過試験により判
明した。また、真空の密封容器10内で半田5が溶融し
ている状態において密封容器10内に導入するガスは窒
素ガスに限らず酸化および腐食を発生させないガスであ
ればいずれであってもよい。
封容器10内で半田5が溶融している状態において密封
容器10内に窒素ガスを導入し、この導入された窒素ガ
スにより密封容器10内の気圧が上昇した後に冷却する
ので、図4に示すように重り7を使用して真空中で半田
を溶融し、そのまま真空中で冷却した場合に比べて格段
に半田5内の気泡が少ないことがX線透過試験により判
明した。また、真空の密封容器10内で半田5が溶融し
ている状態において密封容器10内に導入するガスは窒
素ガスに限らず酸化および腐食を発生させないガスであ
ればいずれであってもよい。
【0032】また、放熱基板4、半田5およびベアチッ
プ6を垂直に重ねずに、水平に重ね、放熱基板4および
ベアチップ6により半田5が押圧されるように放熱基板
4、半田5およびベアチップ6を支持するようにしても
よい。また、半田5を放熱基板4およびベアチップ6の
間に挟まずに、加熱されたとき溶融半田が放熱基板4お
よびベアチップ6の対向する接合面の間に流れるように
半田5を配設するようにしてもよい。なお、この場合、
半田5の形状は板状でなくてもよい。
プ6を垂直に重ねずに、水平に重ね、放熱基板4および
ベアチップ6により半田5が押圧されるように放熱基板
4、半田5およびベアチップ6を支持するようにしても
よい。また、半田5を放熱基板4およびベアチップ6の
間に挟まずに、加熱されたとき溶融半田が放熱基板4お
よびベアチップ6の対向する接合面の間に流れるように
半田5を配設するようにしてもよい。なお、この場合、
半田5の形状は板状でなくてもよい。
【0033】
【発明の効果】以上に説明したように、接合面が対向す
るように配設された半導体素子および放熱体と、半導体
素子および放熱体の対向する接合面にはさまれるように
配設されるか、または、加熱されたとき半導体素子およ
び放熱体の対向する接合面の間に溶融半田が流れるよう
に配設された半田と、を収納する気密容器内を真空排気
した後、加熱し半田が溶融された状態において、この気
密容器内に窒素ガスなどの酸化または腐食を阻止するガ
スを導入し、空気の侵入が阻止された状態で気密容器内
の気圧を上昇させ、溶融された半田の中に生じている気
泡を消滅させるので、半導体素子および放熱体の表面の
酸化が防止できるとともに、半田接合部における気泡の
発生が防止され、半導体素子と放熱体との間の電気的伝
導性および機械的強度を向上させることができるととも
に、半導体素子と放熱体との間の熱伝導性を著しく向上
させることができ放熱特性の良い半田接合ができる効果
がある。
るように配設された半導体素子および放熱体と、半導体
素子および放熱体の対向する接合面にはさまれるように
配設されるか、または、加熱されたとき半導体素子およ
び放熱体の対向する接合面の間に溶融半田が流れるよう
に配設された半田と、を収納する気密容器内を真空排気
した後、加熱し半田が溶融された状態において、この気
密容器内に窒素ガスなどの酸化または腐食を阻止するガ
スを導入し、空気の侵入が阻止された状態で気密容器内
の気圧を上昇させ、溶融された半田の中に生じている気
泡を消滅させるので、半導体素子および放熱体の表面の
酸化が防止できるとともに、半田接合部における気泡の
発生が防止され、半導体素子と放熱体との間の電気的伝
導性および機械的強度を向上させることができるととも
に、半導体素子と放熱体との間の熱伝導性を著しく向上
させることができ放熱特性の良い半田接合ができる効果
がある。
【図1】本発明の一実施例半田付け装置のブロック構成
図である。
図である。
【図2】図1に示す半田付け装置による半田付けの手順
を示す図である。
を示す図である。
【図3】従来の半田付け装置(水素雰囲気中)の断面図
である。
である。
【図4】従来の半田付け装置(真空雰囲気中)の断面図
である。
である。
4 放熱基板 5 半田 6 ベアチップ 8 赤外線ヒータ 9 真空ポンプ 9a 真空ポンプ電源ON・OFF駆動部 10 密封容器 10a 窒素ガス導入口 10b 窒素ガス排出口 10c 真空排気口 11 真空検出器 12 圧力検出器 13 熱電対 13a 温度信号増幅器 14 赤外線ヒータ駆動部 15 赤外線ヒータスイッチ 15a 赤外線ヒータスイッチON・OFF駆動部 16 真空検出器電源ON・OFF駆動部 17 窒素ガスボンベ 17a 窒素バルブ 17b 窒素バルブ駆動部 18 ゲートバルブ 18a ゲートバルブ駆動部 19 リークバルブ 19a リークバルブ駆動部 20 プログラマブルコントローラ
Claims (2)
- 【請求項1】 接合面が対向するように配設された半導
体素子および放熱体と、上記半導体素子および放熱体の
対向する接合面にはさまれるように配設されるか、また
は、加熱されたとき上記半導体素子および放熱体の対向
する接合面の間に溶融半田が流れるように配設された半
田と、を収納する気密容器内を真空排気手段が真空排気
するステップ、 加熱手段が上記気密容器内の上記半田を加熱溶融するス
テップ、 上記半導体素子および放熱体と溶融状態にある上記半田
とが収納されている上記気密容器内にガス供給手段が窒
素ガスなどの酸化または腐食を阻止するガスを導入し上
記気密容器内の気圧を上昇させるステップ、 を有することを特徴とする半田付け方法。 - 【請求項2】 接合面が対向するように配設された半導
体素子および放熱体と、上記半導体素子および放熱体の
対向する接合面にはさまれるように配設されるか、また
は、加熱されたとき溶融半田が上記半導体素子および放
熱体の対向する接合面の間に流れるように配設された半
田と、を収納する気密容器、上記気密容器内を真空排気
する真空排気手段、上記気密容器内が所定の真空状態に
あることを検出する真空検出手段、上記気密容器内の上
記半田を加熱溶融する加熱手段、上記半田が所定の溶融
状態にあることを検出する温度検出手段、上記真空検出
手段による上記気密容器内が所定の真空状態にあること
の検出および上記温度検出手段による上記半田が所定の
溶融状態にあることの検出にもとづき上記気密容器内に
窒素ガスなどの酸化または腐食を阻止するガスを導入す
るガス供給手段、を備えた半田付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7699892A JPH05283570A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 半田付け方法並びに装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7699892A JPH05283570A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 半田付け方法並びに装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05283570A true JPH05283570A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13621453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7699892A Pending JPH05283570A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 半田付け方法並びに装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05283570A (ja) |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7699892A patent/JPH05283570A/ja active Pending
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