JPH0528429A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPH0528429A JPH0528429A JP18003991A JP18003991A JPH0528429A JP H0528429 A JPH0528429 A JP H0528429A JP 18003991 A JP18003991 A JP 18003991A JP 18003991 A JP18003991 A JP 18003991A JP H0528429 A JPH0528429 A JP H0528429A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ヘッド素子部が薄膜技術によって積層構成され
た薄膜磁気ヘッドに関し、磁極先端面と磁気記録媒体と
の接触、腐食の発生、磁性粉の付着などを未然に防止す
ることを目的とする。 【構成】ヘッド素子部２が薄膜技術によって積層構成さ
れている薄膜磁気ヘッドにおいて、記録／再生用のギャ
ップＧの両側の磁極先端面7a、11ａを、スライダ部１後
端の浮上面4rより後退させることによって、磁極先端面
7a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔が、前記浮上面4rと
磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きくなるように構成す
る。
た薄膜磁気ヘッドに関し、磁極先端面と磁気記録媒体と
の接触、腐食の発生、磁性粉の付着などを未然に防止す
ることを目的とする。 【構成】ヘッド素子部２が薄膜技術によって積層構成さ
れている薄膜磁気ヘッドにおいて、記録／再生用のギャ
ップＧの両側の磁極先端面7a、11ａを、スライダ部１後
端の浮上面4rより後退させることによって、磁極先端面
7a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔が、前記浮上面4rと
磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きくなるように構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヘッド素子部が薄膜技
術によって積層構成された薄膜磁気ヘッドに関する。
術によって積層構成された薄膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
〔薄膜磁気ヘッドの構成〕図７は薄膜磁気ヘッドの全容
を示す斜視図、図８は薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部の
層構成を示す断面図（図７におけるＡ−Ａ断面図）であ
る。
を示す斜視図、図８は薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部の
層構成を示す断面図（図７におけるＡ−Ａ断面図）であ
る。
【０００３】薄膜磁気ヘッドは、スライダ部１とヘッド
素子部２とで構成され、スライダ部１の後端1rにヘッド
素子部２が成膜技術とリソグラフィ技術によって積層形
成されている。３は薄膜コイルの端子である。浮上レー
ル４やスライダ部１前端1fの流入斜面５は、ヘッド素子
部２の形成後にスライダ部１を研削することによって形
成される。
素子部２とで構成され、スライダ部１の後端1rにヘッド
素子部２が成膜技術とリソグラフィ技術によって積層形
成されている。３は薄膜コイルの端子である。浮上レー
ル４やスライダ部１前端1fの流入斜面５は、ヘッド素子
部２の形成後にスライダ部１を研削することによって形
成される。
【０００４】図８に示すように、ヘッド素子部２は、磁
路を構成する下部磁極７と上部磁極11との間に薄膜コイ
ル９を巻いた構成になっている。そして、ギャップ絶縁
層８で、下部磁極７と上部磁極11間のギャップＧの寸法
が規定され、このギャップＧの先端を磁気記録媒体に対
向させることで、情報の記録／再生が行われる。
路を構成する下部磁極７と上部磁極11との間に薄膜コイ
ル９を巻いた構成になっている。そして、ギャップ絶縁
層８で、下部磁極７と上部磁極11間のギャップＧの寸法
が規定され、このギャップＧの先端を磁気記録媒体に対
向させることで、情報の記録／再生が行われる。
【０００５】薄膜コイル９は、コイル絶縁層10で絶縁さ
れており、また下部保護膜６と上部保護膜12でヘッド全
体が覆われている。
れており、また下部保護膜６と上部保護膜12でヘッド全
体が覆われている。
【０００６】GDはギャップ深さ（ギャップ・ディプス）
であり、下部磁極７と上部磁極11とのギャップＧの広が
り始める点すなわちギャップＧの内端Ａと、磁極先端面
7a、11ａまでの寸法である。ギャップ深さGDは、薄膜磁
気ヘッドの電磁変換特性を左右するため、高い寸法精度
が要求される。
であり、下部磁極７と上部磁極11とのギャップＧの広が
り始める点すなわちギャップＧの内端Ａと、磁極先端面
7a、11ａまでの寸法である。ギャップ深さGDは、薄膜磁
気ヘッドの電磁変換特性を左右するため、高い寸法精度
が要求される。
【０００７】〔薄膜磁気ヘッドの製造プロセス〕図９
は、薄膜磁気ヘッドにおけるヘッド素子部２の成膜プロ
セスを工程順に示す断面図である。次に、成膜プロセス
の概略を説明する。なお、各膜の形状は、成膜後にリソ
グラフィ技術とエッチング技術によって所定パターンに
形成される。
は、薄膜磁気ヘッドにおけるヘッド素子部２の成膜プロ
セスを工程順に示す断面図である。次に、成膜プロセス
の概略を説明する。なお、各膜の形状は、成膜後にリソ
グラフィ技術とエッチング技術によって所定パターンに
形成される。
【０００８】a.下部磁極の成膜
研削後にスライダ部１となるAl2 O3・TiＣの基板（ウェ
ハ）13上に、Al2O3 をスパッタして成膜し、下部保護膜
６とする。その上に、NiFeをメッキで成膜し、下部磁極
７とする。
ハ）13上に、Al2O3 をスパッタして成膜し、下部保護膜
６とする。その上に、NiFeをメッキで成膜し、下部磁極
７とする。
【０００９】b.ギャップ絶縁層の成膜
下部磁極７上にAl2O3 をスパッタで成膜し、ギャップ絶
縁層８を形成する。
縁層８を形成する。
【００１０】c.コイル絶縁層の成膜
ギャップ絶縁層８上にフォトレジストをスピンコートし
て熱硬化させ、コイル絶縁層10ａを形成する。ただし、
１回のコーティングと熱硬化では膜厚が足りないため、
数回繰り返して成膜を行ない、必要とする膜厚のコイル
絶縁層10ａとする。
て熱硬化させ、コイル絶縁層10ａを形成する。ただし、
１回のコーティングと熱硬化では膜厚が足りないため、
数回繰り返して成膜を行ない、必要とする膜厚のコイル
絶縁層10ａとする。
【００１１】なお、絶縁膜を繰り返し成膜する際に、リ
ソグラフィ技術とエッチング技術によって、絶縁膜各層
の端部位置を徐々に後退させ、傾斜部14ａを形成すると
ともに、傾斜部14ａの先端Ａをギャップ深さの起点とす
る。
ソグラフィ技術とエッチング技術によって、絶縁膜各層
の端部位置を徐々に後退させ、傾斜部14ａを形成すると
ともに、傾斜部14ａの先端Ａをギャップ深さの起点とす
る。
【００１２】d.薄膜コイルの成膜
コイル絶縁層10ａ上にCuをメッキで成膜し、薄膜コイル
９を形成する。
９を形成する。
【００１３】e.コイル絶縁層の成膜
薄膜コイル９上にフォトレジストをスピンコートし、熱
硬化させてコイル絶縁層10ｂを形成する。この場合も、
１回のコーティングと熱硬化では膜厚が足りないため、
数回繰り返して成膜を行ない、必要とする膜厚のコイル
絶縁層10ｂとする。また、繰り返し行なう成膜の際に、
リソグラフィ技術とエッチング技術によって、絶縁膜各
層の端部位置を徐々に後退させ、傾斜部14ｂとする。
硬化させてコイル絶縁層10ｂを形成する。この場合も、
１回のコーティングと熱硬化では膜厚が足りないため、
数回繰り返して成膜を行ない、必要とする膜厚のコイル
絶縁層10ｂとする。また、繰り返し行なう成膜の際に、
リソグラフィ技術とエッチング技術によって、絶縁膜各
層の端部位置を徐々に後退させ、傾斜部14ｂとする。
【００１４】f.上部磁極の成膜
コイル絶縁層10ｂの上にNiFeをメッキで成膜し、上部磁
極11を形成する。
極11を形成する。
【００１５】g.上部保護膜の成膜
上部磁極11上にAl2O3 をスパッタで成膜し、上部保護膜
12を形成する。その後、前記ヘッド素子部２の対が数個
〜10個単位のスライダブロックに分離し、スライダブロ
ックの状態で、15で示す研削位置まで研削する。
12を形成する。その後、前記ヘッド素子部２の対が数個
〜10個単位のスライダブロックに分離し、スライダブロ
ックの状態で、15で示す研削位置まで研削する。
【００１６】〔ギャップ深さの研削〕図10は、スライダ
ブロックの切断分離の仕方とギャップ深さの研削を示す
図で、(a)はウェハの平面図、(b)は１個のスライダブロ
ックの平面図、(c)は１個のスライダブロックの拡大斜
視図、である。
ブロックの切断分離の仕方とギャップ深さの研削を示す
図で、(a)はウェハの平面図、(b)は１個のスライダブロ
ックの平面図、(c)は１個のスライダブロックの拡大斜
視図、である。
【００１７】前記のプロセスによって、(a)に示すよう
に１枚のウェハ16上に同時に多数のヘッド素子部２を配
列形成した後、鎖線Ｌ上を切断して、ヘッド素子部２の
対が数個ないし10個単位のスライダブロック17に分離
し、各スライダブロック17ごとに、ギャップ深さが所定
の深さとなるように研削する。すなわち、(c)図に示す
ギャップ深さ加工面19を、図９(g)に示す研削位置15ま
で、基板13と成膜各層を研削する。
に１枚のウェハ16上に同時に多数のヘッド素子部２を配
列形成した後、鎖線Ｌ上を切断して、ヘッド素子部２の
対が数個ないし10個単位のスライダブロック17に分離
し、各スライダブロック17ごとに、ギャップ深さが所定
の深さとなるように研削する。すなわち、(c)図に示す
ギャップ深さ加工面19を、図９(g)に示す研削位置15ま
で、基板13と成膜各層を研削する。
【００１８】ところで、ギャップ深さは、スライダブロ
ック17の外側から直接測定することはできない。そのた
め、ヘッド素子部２の成膜工程の途中で、ギャップ深さ
の目安となる加工基準パターン18ａ、18ｂを、スライダ
ブロック17の両端位置に形成しておき、該加工基準パタ
ーン18ａ、18ｂの幅Ｗが所定の値となるまで研削する。
ック17の外側から直接測定することはできない。そのた
め、ヘッド素子部２の成膜工程の途中で、ギャップ深さ
の目安となる加工基準パターン18ａ、18ｂを、スライダ
ブロック17の両端位置に形成しておき、該加工基準パタ
ーン18ａ、18ｂの幅Ｗが所定の値となるまで研削する。
【００１９】すなわち、スライダブロック17の両端位置
には、図９における下部磁極７〜上部磁極11の成膜は行
なわず、コイル絶縁層10ａを成膜した後に、下部保護膜
６上に前記ギャップ内端Ａに合わせて加工基準パターン
18ａ、18ｂを形成し、その上に透明な上部保護膜12を成
膜する。そして、ギャップ深さ研削時に、Ｘ−Ｙテーブ
ルによってスライダブロック17を一方向例えばＸ軸方向
に送りながら、ギャップ深さ加工面19に砥石を突き当て
て、両方の加工基準パターン18ａ、18ｂの寸法Ｗが所定
の値となるまで平面研削する。
には、図９における下部磁極７〜上部磁極11の成膜は行
なわず、コイル絶縁層10ａを成膜した後に、下部保護膜
６上に前記ギャップ内端Ａに合わせて加工基準パターン
18ａ、18ｂを形成し、その上に透明な上部保護膜12を成
膜する。そして、ギャップ深さ研削時に、Ｘ−Ｙテーブ
ルによってスライダブロック17を一方向例えばＸ軸方向
に送りながら、ギャップ深さ加工面19に砥石を突き当て
て、両方の加工基準パターン18ａ、18ｂの寸法Ｗが所定
の値となるまで平面研削する。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】このように薄膜磁気ヘ
ッドの製造の段階において、ギャップ深さの設定が厳密
に行われるが、薄膜磁気ヘッドの使用段階において、ギ
ャップ深さが変動することがある。すなわち、磁気ディ
スクの記録密度の向上に伴って、磁気記録媒体面に対す
る磁極先端面の浮上量が微小化し、磁極先端面が磁気記
録媒体面に接触しやすくなっている。
ッドの製造の段階において、ギャップ深さの設定が厳密
に行われるが、薄膜磁気ヘッドの使用段階において、ギ
ャップ深さが変動することがある。すなわち、磁気ディ
スクの記録密度の向上に伴って、磁気記録媒体面に対す
る磁極先端面の浮上量が微小化し、磁極先端面が磁気記
録媒体面に接触しやすくなっている。
【００２１】そのため、磁極先端面が摺動摩耗すること
によって、ギャップ深さが次第に小さくなる。磁極７、
11は、前記のようにNiFe（パーマロイ）からなり、軟質
なため、摩耗しやすく、その結果電磁変換特性が劣化
し、出力低下を来す。また、磁極先端面が磁気記録媒体
に接触したときに磁気記録媒体との間で発生する微小電
流によってノイズが発生し、データエラーを引き起こ
す、といった問題がある。
によって、ギャップ深さが次第に小さくなる。磁極７、
11は、前記のようにNiFe（パーマロイ）からなり、軟質
なため、摩耗しやすく、その結果電磁変換特性が劣化
し、出力低下を来す。また、磁極先端面が磁気記録媒体
に接触したときに磁気記録媒体との間で発生する微小電
流によってノイズが発生し、データエラーを引き起こ
す、といった問題がある。
【００２２】一方、磁極７、11の先端が腐食することに
よっても電磁変換特性が変化し、また腐食による生成物
が磁気記録媒体面と接触して剥離した異物が、ヘッドク
ラッシュを引き起こす恐れがある。また、磁極先端面7
a、11ａに磁性粉が付着して、電磁変換特性が変動した
り、ヘッドクラッシュを引き起こすことがある。
よっても電磁変換特性が変化し、また腐食による生成物
が磁気記録媒体面と接触して剥離した異物が、ヘッドク
ラッシュを引き起こす恐れがある。また、磁極先端面7
a、11ａに磁性粉が付着して、電磁変換特性が変動した
り、ヘッドクラッシュを引き起こすことがある。
【００２３】本発明の技術的課題は、このような問題に
着目し、磁極先端面と磁気記録媒体との接触、腐食の発
生、磁性粉の付着などを未然に防止することにある。
着目し、磁極先端面と磁気記録媒体との接触、腐食の発
生、磁性粉の付着などを未然に防止することにある。
【００２４】
【課題を解決するための手段】図１は本発明による薄膜
磁気ヘッドの基本原理を説明する断面図である。１はス
ライダ部、２はヘッド素子部であり、ヘッド素子部２
は、薄膜技術によって積層構成されている。すなわち、
スライダ部１側の下部保護膜６と上部保護膜12との間に
おいて、下部磁極７と上部磁極11との間に薄膜コイル９
が挟まれた層構成になっている。また、下部磁極７と上
部磁極11との間に、ギャップ絶縁層８が介在しているこ
とは言うまでもない。
磁気ヘッドの基本原理を説明する断面図である。１はス
ライダ部、２はヘッド素子部であり、ヘッド素子部２
は、薄膜技術によって積層構成されている。すなわち、
スライダ部１側の下部保護膜６と上部保護膜12との間に
おいて、下部磁極７と上部磁極11との間に薄膜コイル９
が挟まれた層構成になっている。また、下部磁極７と上
部磁極11との間に、ギャップ絶縁層８が介在しているこ
とは言うまでもない。
【００２５】4rはスライダ部１後端の浮上面であり、下
部磁極７および上部磁極11の先端面7a、11ａは、スライ
ダ部１の後端の浮上面4r（以下、「浮上面4r」と呼ぶ）
より後退している。すなわち、磁極先端面7a、11ａと磁
気記録媒体Ｄとの間隔が、スライダ部１の浮上面4rと磁
気記録媒体Ｄとの間隔より大きくなるように構成されて
いる。
部磁極７および上部磁極11の先端面7a、11ａは、スライ
ダ部１の後端の浮上面4r（以下、「浮上面4r」と呼ぶ）
より後退している。すなわち、磁極先端面7a、11ａと磁
気記録媒体Ｄとの間隔が、スライダ部１の浮上面4rと磁
気記録媒体Ｄとの間隔より大きくなるように構成されて
いる。
【００２６】なお、図１、図２のようにヘッド素子部２
において、磁極７、11の先端面7a、11ａのみ後退してい
てもよく、図３に示すように、スライダ部１の浮上面4r
に対し、ヘッド素子部２の先端全面が後退することによ
って、磁極先端面7a、11ａがスライダ部浮上面4rより後
退した構成でもよい。
において、磁極７、11の先端面7a、11ａのみ後退してい
てもよく、図３に示すように、スライダ部１の浮上面4r
に対し、ヘッド素子部２の先端全面が後退することによ
って、磁極先端面7a、11ａがスライダ部浮上面4rより後
退した構成でもよい。
【００２７】請求項２は、ヘッド素子部２の先端面（磁
気記録媒体Ｄ側の面）を、スライダ部浮上面4rに対し、
角度θだけ傾斜させることによって、磁極先端面7a、11
ａをスライダ部浮上面4rより後退させたものである。
気記録媒体Ｄ側の面）を、スライダ部浮上面4rに対し、
角度θだけ傾斜させることによって、磁極先端面7a、11
ａをスライダ部浮上面4rより後退させたものである。
【００２８】請求項３は、少なくとも磁極先端面7a、11
ａを、スライダ部浮上面4rより後退させ、磁極先端面7
a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔を、スライダ部１の
浮上面4rと磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きくするとと
もに、ヘッド素子部先端面における少なくとも磁極先端
面7a、11ａを、保護膜20で覆った構成になっている。
ａを、スライダ部浮上面4rより後退させ、磁極先端面7
a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔を、スライダ部１の
浮上面4rと磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きくするとと
もに、ヘッド素子部先端面における少なくとも磁極先端
面7a、11ａを、保護膜20で覆った構成になっている。
【００２９】
【作用】図１に示すように、ヘッド素子部２において、
少なくとも下部磁極７および上部磁極11の先端面7a、11
ａが、スライダ部１の浮上面4rより後退し、磁極先端面
7a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔が、スライダ部１の
浮上面4rと磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きいために、
磁気記録媒体Ｄが高速回転し、薄膜磁気ヘッドが浮上し
た場合に、スライダ部１が磁気記録媒体Ｄに接触したと
しても、磁極先端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄに接触す
ることはない。
少なくとも下部磁極７および上部磁極11の先端面7a、11
ａが、スライダ部１の浮上面4rより後退し、磁極先端面
7a、11ａと磁気記録媒体Ｄとの間隔が、スライダ部１の
浮上面4rと磁気記録媒体Ｄとの間隔より大きいために、
磁気記録媒体Ｄが高速回転し、薄膜磁気ヘッドが浮上し
た場合に、スライダ部１が磁気記録媒体Ｄに接触したと
しても、磁極先端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄに接触す
ることはない。
【００３０】その結果、磁極先端面7a、11ａが磁気記録
媒体Ｄと接触して摩耗し、ギャップ深さが減少したり、
磁気記録媒体Ｄと接触してノイズによるデータエラーを
引き起こすなどの問題が解消される。
媒体Ｄと接触して摩耗し、ギャップ深さが減少したり、
磁気記録媒体Ｄと接触してノイズによるデータエラーを
引き起こすなどの問題が解消される。
【００３１】また、図１は、ヘッド素子部２において、
磁極先端面7a、11ａのみが引っ込み、後退しているのに
対し、請求項２は、図４のように、ヘッド素子部２の先
端面（磁気記録媒体側の面）を、スライダ部１の浮上面
4rに対し、角度θだけ傾斜させた構成になっている。そ
の結果、磁極先端面7a、11ａがスライダ部浮上面4rより
後退することになり、請求項１の場合と同様に、磁極先
端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄと接触するのを防止でき
る。
磁極先端面7a、11ａのみが引っ込み、後退しているのに
対し、請求項２は、図４のように、ヘッド素子部２の先
端面（磁気記録媒体側の面）を、スライダ部１の浮上面
4rに対し、角度θだけ傾斜させた構成になっている。そ
の結果、磁極先端面7a、11ａがスライダ部浮上面4rより
後退することになり、請求項１の場合と同様に、磁極先
端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄと接触するのを防止でき
る。
【００３２】また請求項３に記載のように、少なくとも
磁極先端面7a、11ａが浮上面4rより後退するとともに、
ヘッド素子部２の先端面における少なくとも磁極先端面
7a、11ａが、絶縁体の保護膜20で覆われている構成の場
合は、磁極先端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄと接するの
を防止できる上に、磁極先端面7a、11ａが絶縁体の保護
膜20で覆われることにより、腐食を防止でき、腐食によ
って電磁変換特性が変動したり、腐食による生成物が磁
気記録媒体面と接触して異物を発生するなどの問題が解
消される。また、磁極先端面7a、11ａに磁性粉が付着し
て、電磁変換特性が変動したり、ヘッドクラッシュを引
き起こすことも防止できる。
磁極先端面7a、11ａが浮上面4rより後退するとともに、
ヘッド素子部２の先端面における少なくとも磁極先端面
7a、11ａが、絶縁体の保護膜20で覆われている構成の場
合は、磁極先端面7a、11ａが磁気記録媒体Ｄと接するの
を防止できる上に、磁極先端面7a、11ａが絶縁体の保護
膜20で覆われることにより、腐食を防止でき、腐食によ
って電磁変換特性が変動したり、腐食による生成物が磁
気記録媒体面と接触して異物を発生するなどの問題が解
消される。また、磁極先端面7a、11ａに磁性粉が付着し
て、電磁変換特性が変動したり、ヘッドクラッシュを引
き起こすことも防止できる。
【００３３】
【実施例】次に本発明による薄膜磁気ヘッドが実際上ど
のように具体化されるかを実施例で説明する。図２は請
求項１の発明の実施例を示す断面図であり、記録／再生
用のギャップＧが、Al2O3 からなるギャップ絶縁層８に
よって形成されている。また、薄膜コイル９の絶縁層10
が、フォトレジストの塗布、熱硬化によって形成されて
いる。磁極７、11はパーマロイからなり、下部保護膜６
および上部保護膜12はAl2O3 からなっている。なお、ス
ライダ部１はAl2 O3・TiＣからなっている。
のように具体化されるかを実施例で説明する。図２は請
求項１の発明の実施例を示す断面図であり、記録／再生
用のギャップＧが、Al2O3 からなるギャップ絶縁層８に
よって形成されている。また、薄膜コイル９の絶縁層10
が、フォトレジストの塗布、熱硬化によって形成されて
いる。磁極７、11はパーマロイからなり、下部保護膜６
および上部保護膜12はAl2O3 からなっている。なお、ス
ライダ部１はAl2 O3・TiＣからなっている。
【００３４】このような層構成のヘッド素子部２におい
て、下部保護膜６、上部保護膜12およびギャップ絶縁層
８の先端面は、スライダ部１後端の浮上面4rと同じ面内
にある。これに対し、磁極７、11の先端面7a、11ａは、
浮上面4rや下部保護膜６、上部保護膜12およびギャップ
絶縁層８の先端面より微小寸法ｈだけ窪ますことで、後
退させている。
て、下部保護膜６、上部保護膜12およびギャップ絶縁層
８の先端面は、スライダ部１後端の浮上面4rと同じ面内
にある。これに対し、磁極７、11の先端面7a、11ａは、
浮上面4rや下部保護膜６、上部保護膜12およびギャップ
絶縁層８の先端面より微小寸法ｈだけ窪ますことで、後
退させている。
【００３５】このように、ヘッド素子部２において、磁
極先端面7a、11ａだけを窪ませるには、研磨剤を含んだ
ペーストを指先に塗布してヘッド素子部２の先端面（磁
気記録媒体Ｄとの対向面）を数回擦ると、磁極7 、11を
構成しているパーマロイが軟質なために、磁極７、11の
先端のみが研磨され、後退する。ペーストの種類や研磨
方法を選択することで、機械的に磁極先端面7a、11ａの
みを深く研磨することもできる。後退量ｈは、0.01〜0.
09μｍ程度で足りる。
極先端面7a、11ａだけを窪ませるには、研磨剤を含んだ
ペーストを指先に塗布してヘッド素子部２の先端面（磁
気記録媒体Ｄとの対向面）を数回擦ると、磁極7 、11を
構成しているパーマロイが軟質なために、磁極７、11の
先端のみが研磨され、後退する。ペーストの種類や研磨
方法を選択することで、機械的に磁極先端面7a、11ａの
みを深く研磨することもできる。後退量ｈは、0.01〜0.
09μｍ程度で足りる。
【００３６】図３は、請求項１の発明の別の実施例であ
り、磁極先端面7a、11ａを浮上面4rから微小寸法ｈだけ
後退させるために、ヘッド素子部２の先端全面を後退さ
せた形状になっている。スライダ部１の浮上面4rを仕上
げた後に、ヘッド素子部２のみを微小量ｈだけ研磨する
ことで、ヘッド素子部２の全面が浮上面4rより後退する
ため、薄膜磁気ヘッドの浮上状態において、磁極先端面
7a、11ａが磁気記録媒体と接するのを防止できる。
り、磁極先端面7a、11ａを浮上面4rから微小寸法ｈだけ
後退させるために、ヘッド素子部２の先端全面を後退さ
せた形状になっている。スライダ部１の浮上面4rを仕上
げた後に、ヘッド素子部２のみを微小量ｈだけ研磨する
ことで、ヘッド素子部２の全面が浮上面4rより後退する
ため、薄膜磁気ヘッドの浮上状態において、磁極先端面
7a、11ａが磁気記録媒体と接するのを防止できる。
【００３７】図４は請求項２の発明の実施例であり、ヘ
ッド素子部２の先端面全面が、スライダ部１後端の浮上
面4rに対し、角度θだけ傾斜するように形成されてい
る。このように、ヘッド素子部２の全面を傾斜させるこ
とによって、磁極先端面7a、11ａを浮上面4rから後退さ
せるには、スライダ部１を傾けた状態で、ヘッド素子部
２の先端面を研磨する。なお、傾斜角θの値は、上部磁
極11と上部保護膜12との境界部が浮上面4rに対し0.01〜
0.03μｍ程度後退するような微小角で足りる。
ッド素子部２の先端面全面が、スライダ部１後端の浮上
面4rに対し、角度θだけ傾斜するように形成されてい
る。このように、ヘッド素子部２の全面を傾斜させるこ
とによって、磁極先端面7a、11ａを浮上面4rから後退さ
せるには、スライダ部１を傾けた状態で、ヘッド素子部
２の先端面を研磨する。なお、傾斜角θの値は、上部磁
極11と上部保護膜12との境界部が浮上面4rに対し0.01〜
0.03μｍ程度後退するような微小角で足りる。
【００３８】図５も請求項２の発明の実施例である。こ
の実施例は、図４に示すように、ヘッド素子部２の全面
が角度θだけ傾斜するように加工した後に、図２の実施
例と同じ要領で、ヘッド素子部２の先端面を加工するこ
とで磁極先端面7a、11ａのみを選択的に後退させたもの
である。
の実施例は、図４に示すように、ヘッド素子部２の全面
が角度θだけ傾斜するように加工した後に、図２の実施
例と同じ要領で、ヘッド素子部２の先端面を加工するこ
とで磁極先端面7a、11ａのみを選択的に後退させたもの
である。
【００３９】このように二重の手段で、磁極先端面7a、
11ａを後退させる構成の場合は、傾斜角θおよび磁極
７、11の研磨量が小さくてすむ。換言すると、二重の手
段を併用することによって、磁気記録媒体Ｄからの後退
量を十分大きくできる。
11ａを後退させる構成の場合は、傾斜角θおよび磁極
７、11の研磨量が小さくてすむ。換言すると、二重の手
段を併用することによって、磁気記録媒体Ｄからの後退
量を十分大きくできる。
【００４０】図６は請求項３の発明の実施例であり、磁
極先端面7a、11ａが絶縁体の保護膜20で覆われている。
図示例では、図３の手段よってヘッド素子部２の全面を
寸法ｈだけ後退させ、さらに図２の手段を併用すること
により、磁極先端面7a、11ａのみを選択的に寸法ｈだけ
後退させた状態において、磁極先端面7a、11ａのみが絶
縁体の保護膜20で覆われている。
極先端面7a、11ａが絶縁体の保護膜20で覆われている。
図示例では、図３の手段よってヘッド素子部２の全面を
寸法ｈだけ後退させ、さらに図２の手段を併用すること
により、磁極先端面7a、11ａのみを選択的に寸法ｈだけ
後退させた状態において、磁極先端面7a、11ａのみが絶
縁体の保護膜20で覆われている。
【００４１】このように磁極先端面7a、11ａが絶縁体の
保護膜20で覆われていると、磁極先端面7a、11ａの腐食
が防止され、また磁極先端面7a、11ａと磁気記録媒体Ｄ
との間の放電を確実に防止できる。しかも、磁極先端面
7a、11ａに磁性粉が付着して、電磁変換特性が変動した
り、ヘッドクラッシュを引き起こすなどの問題も解消さ
れる。
保護膜20で覆われていると、磁極先端面7a、11ａの腐食
が防止され、また磁極先端面7a、11ａと磁気記録媒体Ｄ
との間の放電を確実に防止できる。しかも、磁極先端面
7a、11ａに磁性粉が付着して、電磁変換特性が変動した
り、ヘッドクラッシュを引き起こすなどの問題も解消さ
れる。
【００４２】絶縁体保護膜20の形成は、フォトレジスト
などのような合成樹脂の塗布・熱硬化などで行なっても
よく、絶縁体をスパッタなどの成膜技術で被着させるこ
とでもよい。なお、ヘッド素子部２の全面を絶縁体の保
護膜で覆うこともできる。
などのような合成樹脂の塗布・熱硬化などで行なっても
よく、絶縁体をスパッタなどの成膜技術で被着させるこ
とでもよい。なお、ヘッド素子部２の全面を絶縁体の保
護膜で覆うこともできる。
【００４３】磁極先端面7a、11ａの保護膜20やヘッド素
子部先端全面の絶縁体保護膜が、スライダ部後端の浮上
面4rから突出するような場合は、研削して浮上面4rと同
一面とするか、多少引っ込むようにする。
子部先端全面の絶縁体保護膜が、スライダ部後端の浮上
面4rから突出するような場合は、研削して浮上面4rと同
一面とするか、多少引っ込むようにする。
【００４４】磁極先端面7a、11ａを絶縁体の保護膜20で
覆うには、図４のようにヘッド素子部２の全面を傾斜さ
せた状態で、或いはさらに図５のように磁極先端面7a、
11ａを選択的に窪ませた状態で行うこともできる。
覆うには、図４のようにヘッド素子部２の全面を傾斜さ
せた状態で、或いはさらに図５のように磁極先端面7a、
11ａを選択的に窪ませた状態で行うこともできる。
【００４５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、薄膜磁気
ヘッドの磁極先端面7a、11ａがスライダ部後端の浮上面
4rより微小寸法ｈだけ引っ込んでいるため、低浮上量の
薄膜磁気ヘッドにおいても、磁極先端面7a、11ａが磁気
記録媒体Ｄと接触することはなく、磁極の摩耗によるギ
ャップ深さの減少を防止でき、かつ磁気記録媒体Ｄとの
間にノイズの原因となる微小電流が流れるのを防止でき
る。その結果、電磁変換特性の低下やデータエラーを未
然に防止できる。
ヘッドの磁極先端面7a、11ａがスライダ部後端の浮上面
4rより微小寸法ｈだけ引っ込んでいるため、低浮上量の
薄膜磁気ヘッドにおいても、磁極先端面7a、11ａが磁気
記録媒体Ｄと接触することはなく、磁極の摩耗によるギ
ャップ深さの減少を防止でき、かつ磁気記録媒体Ｄとの
間にノイズの原因となる微小電流が流れるのを防止でき
る。その結果、電磁変換特性の低下やデータエラーを未
然に防止できる。
【００４６】また、ヘッド素子部２の先端面において、
少なくとも磁極先端面7a、11ａが絶縁体の保護膜20で覆
われることによって、磁極先端面7a、11ａの腐食を防止
でき、腐食に起因する電磁変換特性の劣化や異物の発生
を防止できる。しかも、磁性粉の付着による電磁変換特
性の変動やヘッドクラッシュも解消される。
少なくとも磁極先端面7a、11ａが絶縁体の保護膜20で覆
われることによって、磁極先端面7a、11ａの腐食を防止
でき、腐食に起因する電磁変換特性の劣化や異物の発生
を防止できる。しかも、磁性粉の付着による電磁変換特
性の変動やヘッドクラッシュも解消される。
【図１】本発明による薄膜磁気ヘッドの基本原理を説明
する断面図である。
する断面図である。
【図２】請求項１の発明の実施例である。
【図３】請求項１の発明の実施例である。
【図４】請求項２の発明の実施例である。
【図５】請求項２の発明の実施例である。
【図６】請求項３の発明の実施例である。
【図７】薄膜磁気ヘッドの全容を示す斜視図である。
【図８】薄膜磁気ヘッドのヘッド素子部の層構成を示す
断面図（図７におけるＡ−Ａ断面図）である。
断面図（図７におけるＡ−Ａ断面図）である。
【図９】薄膜磁気ヘッドにおけるヘッド素子部の成膜プ
ロセスを工程順に示す断面図である。
ロセスを工程順に示す断面図である。
【図10】スライダブロックの切断分離とギャップ深さの
加工方法を示す図である。
加工方法を示す図である。
１ スライダ部
２ ヘッド素子部
３ 薄膜コイルの端子
６ 下部保護膜
７ 下部磁極
7a 下部磁極の先端面
８ ギャップ絶縁層
Ｇ 記録／再生ギャップ
９ 薄膜コイル
10 コイル絶縁層
10a 下部絶縁層
10b 上部絶縁層
11 上部磁極
11a 上部磁極の先端面
12 上部保護膜
13 基板
15 研削位置
16 ウェハ
17 スライダブロック
19 ギャップ深さ加工面
Ｄ 磁気記録媒体
ｈ 磁極先端面のスライダ部後端浮上面からの後退距離
20 絶縁体の保護膜
Claims (3)
- 【請求項１】 ヘッド素子部(2) が薄膜技術によって積
層構成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、 記録／再生用のギャップ(G) の両側の磁極先端面(7a)、
(11a) を、スライダ部(1) 後端の浮上面(4r)より後退さ
せることによって、 磁極先端面(7a)、(11a) と磁気記録媒体(D) との間隔
が、前記浮上面(4r)と磁気記録媒体(D) との間隔より大
きくなるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 ヘッド素子部(2) が薄膜技術によって積
層構成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、 ヘッド素子部(2) の先端面を、スライダ部(1) 後端の浮
上面(4r)に対し、角度( θ )だけ傾斜させることによっ
て、記録／再生用のギャップ(G) の両側の磁極先端面(7
a)、(11a) を、スライダ部後端の浮上面(4r)より後退さ
せ、磁極先端面(7a)、(11a) と磁気記録媒体(D) との間
隔が、前記浮上面(4r)と磁気記録媒体(D) との間隔より
大きくなるようにしたことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項３】 ヘッド素子部(2) が薄膜技術によって積
層構成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、 記録／再生用のギャップ(G) の両側の磁極先端面(7a)、
(11a) を、スライダ部後端の浮上面(4r)より後退させる
ことによって、磁極先端面(7a)、(11a) と磁気記録媒体
(D) との間隔が、前記浮上面(4r)と磁気記録媒体(D) と
の間隔より大きくなるようにすると共に、 ヘッド素子部(2) の先端面における少なくとも磁極先端
面(7a)、(11a) を絶縁体の保護膜(20)で覆ってなること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18003991A JPH0528429A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18003991A JPH0528429A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0528429A true JPH0528429A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16076415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18003991A Pending JPH0528429A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0528429A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02162961A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Canon Inc | 原稿読み取り装置 |
| US5986851A (en) * | 1997-08-15 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Selective carbon overcoat of the trailing edge of MR sliders |
| US6542334B2 (en) | 1998-11-18 | 2003-04-01 | Seagate Technology Llc | Edge structure for slider-disc interface and method of manufacture therefor |
| US6556389B1 (en) * | 1998-06-04 | 2003-04-29 | Seagate Technology, L.L.C. | Method for thermally isolating a magnetoresistive element from thermal asperities |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6128286A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビデオテ−プレコ−ダ |
| JPH0235615A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-06 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP18003991A patent/JPH0528429A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6128286A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビデオテ−プレコ−ダ |
| JPH0235615A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-06 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02162961A (ja) * | 1988-12-16 | 1990-06-22 | Canon Inc | 原稿読み取り装置 |
| US5986851A (en) * | 1997-08-15 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Selective carbon overcoat of the trailing edge of MR sliders |
| US6556389B1 (en) * | 1998-06-04 | 2003-04-29 | Seagate Technology, L.L.C. | Method for thermally isolating a magnetoresistive element from thermal asperities |
| US6542334B2 (en) | 1998-11-18 | 2003-04-01 | Seagate Technology Llc | Edge structure for slider-disc interface and method of manufacture therefor |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961029 |