JPH05286568A - ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法 - Google Patents
ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法Info
- Publication number
- JPH05286568A JPH05286568A JP11805892A JP11805892A JPH05286568A JP H05286568 A JPH05286568 A JP H05286568A JP 11805892 A JP11805892 A JP 11805892A JP 11805892 A JP11805892 A JP 11805892A JP H05286568 A JPH05286568 A JP H05286568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- suction
- semiconductor
- semiconductor element
- semiconductor elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 10
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Branching, Merging, And Special Transfer Between Conveyors (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体素子に悪影響を及ぼさないウエハ吸着
装置とこれを用いた半導体装置製造方法を提供するこ
と。 【構成】 ウエハ10を吸着する吸着ブロック群3とし
て、半導体素子10aの配列と対応した位置に上下動可
能な複数の吸着ブロック31をステージ2に挿設し、各
吸着ブロック31の間に所定の深さの溝を設ける。この
吸着ブロック群3上にウエハ10を吸着して切断し個々
の半導体素子10aに分割する。そして、所定の半導体
素子10aが吸着された吸着ブロック31を上方に押し
上げることで、この半導体素子10aをステージ2上に
配置した配線部材6に実装する。
装置とこれを用いた半導体装置製造方法を提供するこ
と。 【構成】 ウエハ10を吸着する吸着ブロック群3とし
て、半導体素子10aの配列と対応した位置に上下動可
能な複数の吸着ブロック31をステージ2に挿設し、各
吸着ブロック31の間に所定の深さの溝を設ける。この
吸着ブロック群3上にウエハ10を吸着して切断し個々
の半導体素子10aに分割する。そして、所定の半導体
素子10aが吸着された吸着ブロック31を上方に押し
上げることで、この半導体素子10aをステージ2上に
配置した配線部材6に実装する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子が形成され
たウエハを吸着するウエハ吸着装置と、このウエハ吸着
装置を用いた半導体装置製造方法に関するものである。
たウエハを吸着するウエハ吸着装置と、このウエハ吸着
装置を用いた半導体装置製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコン等のウエハには複数の半導体素
子が形成されており、格子状のストリートに沿って切断
することで、個々の半導体素子に分割される。個々の半
導体素子は、リードフレームやフィルムキャリアテープ
等の配線部材にそれぞれ接続され、プラスチック等のパ
ッケージ内に収納することにより半導体装置が形成され
る。
子が形成されており、格子状のストリートに沿って切断
することで、個々の半導体素子に分割される。個々の半
導体素子は、リードフレームやフィルムキャリアテープ
等の配線部材にそれぞれ接続され、プラスチック等のパ
ッケージ内に収納することにより半導体装置が形成され
る。
【0003】このウエハの分割から配線部材への接続ま
での半導体装置製造方法を図6および図7の断面図を用
いて説明する。先ず、ウエハ接着工程として図6(a)
に示すように、ウエハ10を樹脂シート11上に接着す
る。すなわち、複数の半導体素子10aが形成されたウ
エハ10を、粘着剤11aが塗布された樹脂シート11
上に接着し固定する。
での半導体装置製造方法を図6および図7の断面図を用
いて説明する。先ず、ウエハ接着工程として図6(a)
に示すように、ウエハ10を樹脂シート11上に接着す
る。すなわち、複数の半導体素子10aが形成されたウ
エハ10を、粘着剤11aが塗布された樹脂シート11
上に接着し固定する。
【0004】次に、切断工程として図6(b)に示すよ
うに、樹脂シート11に接着されたウエハ10をステー
ジ2上に搭載し、ダイアモンドブレード等を用いて個々
の半導体素子10aに分割する。
うに、樹脂シート11に接着されたウエハ10をステー
ジ2上に搭載し、ダイアモンドブレード等を用いて個々
の半導体素子10aに分割する。
【0005】次に、拡張工程として図7(a)に示すよ
うに、樹脂シート11を引き延ばすことにより、個々の
半導体素子10aの間隔を広げる。このように、半導体
素子10aと半導体素子10aとの間隔が広がること
で、所定の半導体素子10aを取り出し易くする。
うに、樹脂シート11を引き延ばすことにより、個々の
半導体素子10aの間隔を広げる。このように、半導体
素子10aと半導体素子10aとの間隔が広がること
で、所定の半導体素子10aを取り出し易くする。
【0006】そして、取り出し工程として図7(b)に
示すように、所定の半導体素子10aの下方からピン1
4にて突き上げて、樹脂シート11から引き剥がすとと
もに、吸着コレット13等を用いてこの半導体素子10
aを取り出す。この半導体素子10aを吸着した吸着コ
レット13を移動し、半導体素子10aをリードフレー
ムやフィルムキャリアテープ(図示せず)等の配線部材
に接続する。
示すように、所定の半導体素子10aの下方からピン1
4にて突き上げて、樹脂シート11から引き剥がすとと
もに、吸着コレット13等を用いてこの半導体素子10
aを取り出す。この半導体素子10aを吸着した吸着コ
レット13を移動し、半導体素子10aをリードフレー
ムやフィルムキャリアテープ(図示せず)等の配線部材
に接続する。
【0007】このように、ウエハ接着工程から取り出し
工程に至るまで、ウエハ10および半導体素子10aを
樹脂シート11上に接着して固定しており、ウエハ10
の切断により形成された個々の半導体素子10aがばら
ばらにならないように保持している。
工程に至るまで、ウエハ10および半導体素子10aを
樹脂シート11上に接着して固定しており、ウエハ10
の切断により形成された個々の半導体素子10aがばら
ばらにならないように保持している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな樹脂シートおよびこれを用いた半導体装置製造方法
には次のような問題がある。すなわち、樹脂シートの弾
性のため、ウエハを分割する際、回転するダイアモンド
ブレードの接触により振動が発生してしまい、半導体素
子にチッピングや欠け、クラック等の品質上の不都合が
生じてしまう。しかも、樹脂シートに塗布した粘着剤
は、一度粘着力が低下してしまうと再度使用することが
できないため不経済である。
うな樹脂シートおよびこれを用いた半導体装置製造方法
には次のような問題がある。すなわち、樹脂シートの弾
性のため、ウエハを分割する際、回転するダイアモンド
ブレードの接触により振動が発生してしまい、半導体素
子にチッピングや欠け、クラック等の品質上の不都合が
生じてしまう。しかも、樹脂シートに塗布した粘着剤
は、一度粘着力が低下してしまうと再度使用することが
できないため不経済である。
【0009】また、樹脂シートを用いた半導体装置製造
方法では、個々の半導体素子を樹脂シートから取り出す
工程で、半導体素子の下方をピンにより突き上げるた
め、半導体素子にクラックが生じ、機械的強度の低下を
招く恐れがある。さらに、吸着コレットによる吸着の
際、半導体素子の能動パターンと吸着コレットが接触し
て、この能動パターンに傷を与える可能性があり、半導
体素子の電気的特性に悪影響を及ぼすことになる。よっ
て、本発明は、半導体素子に悪影響を及ぼさないウエハ
吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法を提供する
ことを目的とする。
方法では、個々の半導体素子を樹脂シートから取り出す
工程で、半導体素子の下方をピンにより突き上げるた
め、半導体素子にクラックが生じ、機械的強度の低下を
招く恐れがある。さらに、吸着コレットによる吸着の
際、半導体素子の能動パターンと吸着コレットが接触し
て、この能動パターンに傷を与える可能性があり、半導
体素子の電気的特性に悪影響を及ぼすことになる。よっ
て、本発明は、半導体素子に悪影響を及ぼさないウエハ
吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の課題を
解決するためになされたウエハ吸着装置とこれを用いた
半導体装置製造方法である。すなわち、このウエハ吸着
装置は、複数の半導体素子が所定の配列で形成されたウ
エハを、ステージに設けられた吸着ブロック群にて吸着
するものである。この吸着ブロック群は、半導体素子の
配列と対応した位置に、上下動可能な複数の吸着ブロッ
クをステージに挿設したもので、しかも各吸着ブロック
の間に所定の深さの溝を設けるとともに、各吸着ブロッ
クの上面に、半導体素子を個別に吸着する吸気孔を有す
る吸着面を設けたものである。
解決するためになされたウエハ吸着装置とこれを用いた
半導体装置製造方法である。すなわち、このウエハ吸着
装置は、複数の半導体素子が所定の配列で形成されたウ
エハを、ステージに設けられた吸着ブロック群にて吸着
するものである。この吸着ブロック群は、半導体素子の
配列と対応した位置に、上下動可能な複数の吸着ブロッ
クをステージに挿設したもので、しかも各吸着ブロック
の間に所定の深さの溝を設けるとともに、各吸着ブロッ
クの上面に、半導体素子を個別に吸着する吸気孔を有す
る吸着面を設けたものである。
【0011】また、このウエハ吸着装置を用いた半導体
装置製造方法は、先ず第1工程として、半導体素子の配
列に対応した位置に吸着ブロックをそれぞれ配置して成
る吸着ブロック群にウエハを吸着する。次いで、第2工
程として、このウエハを個々の前記半導体素子に分割す
る。そして、第3工程として、このステージ上方に配線
部材を配置し、所定の半導体素子が吸着された吸着ブロ
ックを上方に押し上げることで、この半導体素子を配線
部材に接続するものである。
装置製造方法は、先ず第1工程として、半導体素子の配
列に対応した位置に吸着ブロックをそれぞれ配置して成
る吸着ブロック群にウエハを吸着する。次いで、第2工
程として、このウエハを個々の前記半導体素子に分割す
る。そして、第3工程として、このステージ上方に配線
部材を配置し、所定の半導体素子が吸着された吸着ブロ
ックを上方に押し上げることで、この半導体素子を配線
部材に接続するものである。
【0012】
【作用】個々の吸着ブロックに真空源を取り付け、各吸
着面に設けられた吸気孔から空気を吸い込むことによ
り、吸着ブロック群の全体でウエハを吸着する。また、
各吸着ブロックは半導体素子の大きさに対応していると
ともに、各吸着ブロックの間に所定の深さの溝が設けら
れているため、この溝に合わせてウエハを切断すること
により、吸着ブロックを切断することなくウエハを個々
の半導体素子に分割することができる。
着面に設けられた吸気孔から空気を吸い込むことによ
り、吸着ブロック群の全体でウエハを吸着する。また、
各吸着ブロックは半導体素子の大きさに対応していると
ともに、各吸着ブロックの間に所定の深さの溝が設けら
れているため、この溝に合わせてウエハを切断すること
により、吸着ブロックを切断することなくウエハを個々
の半導体素子に分割することができる。
【0013】さらに、ウエハを切断して分割された個々
の半導体素子が各吸着ブロックの吸着面にそれぞれ保持
されており、このうち配線部材との接続に必要な半導体
素子が保持された吸着ブロックを上方に押し上げれば、
その半導体素子が他の半導体素子よりも上方に突出する
ため、容易に取り出すことができる。また、この配線部
材をステージの上方に配置することで、吸着ブロックを
上方に押し上げると同時に配線部材と半導体素子との接
続を得ることができる。
の半導体素子が各吸着ブロックの吸着面にそれぞれ保持
されており、このうち配線部材との接続に必要な半導体
素子が保持された吸着ブロックを上方に押し上げれば、
その半導体素子が他の半導体素子よりも上方に突出する
ため、容易に取り出すことができる。また、この配線部
材をステージの上方に配置することで、吸着ブロックを
上方に押し上げると同時に配線部材と半導体素子との接
続を得ることができる。
【0014】
【実施例】以下に、本発明のウエハ吸着装置とこれを用
いた半導体装置製造方法を図に基づいて説明する。図1
は、本発明のウエハ吸着装置を説明する断面図である。
すなわち、このウエハ吸着装置1は、ステージ2と、こ
のステージ2に設けられた吸着ブロック群3とから構成
され、吸着ブロック群3上に半導体素子10aが形成さ
れたウエハ10を吸着するものである。
いた半導体装置製造方法を図に基づいて説明する。図1
は、本発明のウエハ吸着装置を説明する断面図である。
すなわち、このウエハ吸着装置1は、ステージ2と、こ
のステージ2に設けられた吸着ブロック群3とから構成
され、吸着ブロック群3上に半導体素子10aが形成さ
れたウエハ10を吸着するものである。
【0015】吸着ブロック群3は、半導体素子10aの
個数と等しい数の吸着ブロック31が上下動可能な状態
でステージ2内に挿設されたものであり、しかもその配
置が半導体素子10aの配列と対応している。また、こ
の各吸着ブロック31の間には、所定の深さの溝34が
設けられている。すなわち、この溝34は、ウエハ10
の上面に形成された各半導体素子10aの境界部分、い
わゆるストリート10bに対応しており、ウエハ10を
吸着ブロック群3上に搭載した状態で、この溝34とス
トリート10bとの位置が一致する状態となる。なお、
この溝34は、ウエハ10を分割する際に使用するダイ
アモンドブレードが入る幅、および深さを有しており、
例えば、幅1mm程度、深さ3mm程度のものである。
個数と等しい数の吸着ブロック31が上下動可能な状態
でステージ2内に挿設されたものであり、しかもその配
置が半導体素子10aの配列と対応している。また、こ
の各吸着ブロック31の間には、所定の深さの溝34が
設けられている。すなわち、この溝34は、ウエハ10
の上面に形成された各半導体素子10aの境界部分、い
わゆるストリート10bに対応しており、ウエハ10を
吸着ブロック群3上に搭載した状態で、この溝34とス
トリート10bとの位置が一致する状態となる。なお、
この溝34は、ウエハ10を分割する際に使用するダイ
アモンドブレードが入る幅、および深さを有しており、
例えば、幅1mm程度、深さ3mm程度のものである。
【0016】この各吸着ブロック31の上面には、半導
体素子10aの大きさに対応した吸着面33が設けられ
ており、各吸着面33の略中央部に吸気孔32が形成さ
れている。吸気孔32は、吸着ブロック31内に設けら
れた流通孔35と連通しており、この流通孔35に真空
源4がそれぞれ取り付けられている。したがって、この
真空源4の負圧を利用することで、各吸気孔32から空
気が吸い込まれ、この吸引力によりウエハ10が吸着ブ
ロック群3上に吸着される。
体素子10aの大きさに対応した吸着面33が設けられ
ており、各吸着面33の略中央部に吸気孔32が形成さ
れている。吸気孔32は、吸着ブロック31内に設けら
れた流通孔35と連通しており、この流通孔35に真空
源4がそれぞれ取り付けられている。したがって、この
真空源4の負圧を利用することで、各吸気孔32から空
気が吸い込まれ、この吸引力によりウエハ10が吸着ブ
ロック群3上に吸着される。
【0017】次に、このウエハ吸着装置1の動作状態を
図2の断面図に基づいて説明する。すなわち、ウエハ1
0をストリート10bに沿って切断し、個々の半導体素
子10aに分割した状態において、吸着ブロック31上
に半導体素子10aがそれぞれ吸着されている。この状
態で、必要な半導体素子10aが吸着された吸着ブロッ
ク31を上方に押し上げて、この半導体素子10aをハ
ンドリングロボット5等により挟持する。この状態で、
真空源4の動作を停止すれば、半導体素子10aを吸着
面33から取り外せる。
図2の断面図に基づいて説明する。すなわち、ウエハ1
0をストリート10bに沿って切断し、個々の半導体素
子10aに分割した状態において、吸着ブロック31上
に半導体素子10aがそれぞれ吸着されている。この状
態で、必要な半導体素子10aが吸着された吸着ブロッ
ク31を上方に押し上げて、この半導体素子10aをハ
ンドリングロボット5等により挟持する。この状態で、
真空源4の動作を停止すれば、半導体素子10aを吸着
面33から取り外せる。
【0018】このように、ステージ2を支えにして吸着
ブロック31を正確にしかも確実に上方に押し上げるこ
とができるため、所望の半導体素子10aを吸着ブロッ
ク31に吸着したままの状態で、他の半導体素子10a
より上方に突出させることができる。したがって、ハン
ドリングロボット5は、半導体素子10aの上面(能動
パターン側)と接触することなく、半導体素子10の側
面側を確実に挟持することができる。
ブロック31を正確にしかも確実に上方に押し上げるこ
とができるため、所望の半導体素子10aを吸着ブロッ
ク31に吸着したままの状態で、他の半導体素子10a
より上方に突出させることができる。したがって、ハン
ドリングロボット5は、半導体素子10aの上面(能動
パターン側)と接触することなく、半導体素子10の側
面側を確実に挟持することができる。
【0019】次に、このウエハ吸着装置1を用いた半導
体装置製造方法を図に基づいて説明する。図3〜図5
は、本発明のウエハ吸着装置1を用いた半導体装置製造
方法を工程順に説明する断面図である。以下、この工程
順に説明を行う。
体装置製造方法を図に基づいて説明する。図3〜図5
は、本発明のウエハ吸着装置1を用いた半導体装置製造
方法を工程順に説明する断面図である。以下、この工程
順に説明を行う。
【0020】先ず、ウエハ吸着工程として図3に示すよ
うに、ステージ2に設けられた吸着ブロック群3上に複
数の半導体素子10aが形成されたウエハ10を吸着す
る。この状態では、各吸着ブロック3の吸着面33が略
同一面上になっており、ウエハ10を吸着ブロック群3
上に均一に吸着している。なお、このウエハ10の吸着
において、ウエハ10のストリート10bの位置と吸着
ブロック群3の溝34の位置とが一致するように位置決
めする。
うに、ステージ2に設けられた吸着ブロック群3上に複
数の半導体素子10aが形成されたウエハ10を吸着す
る。この状態では、各吸着ブロック3の吸着面33が略
同一面上になっており、ウエハ10を吸着ブロック群3
上に均一に吸着している。なお、このウエハ10の吸着
において、ウエハ10のストリート10bの位置と吸着
ブロック群3の溝34の位置とが一致するように位置決
めする。
【0021】次に、ウエハ10の切断工程として図4に
示すように、ウエハ10をストリート10bに沿って切
断する。すなわち、ダイアモンドブレード等(図示せ
ず)を用いて、格子状のストリート10bを切断し、個
々の半導体素子10aに分割する。この際、ウエハ10
を完全に切断(フルカット)するため、ダイアモンドブ
レードによる切り込み深さをウエハ10の厚さより多く
する。このため、切り込まれたダイアモンドブレード
は、ウエハ10を貫通して、溝34にまで達することに
なる。
示すように、ウエハ10をストリート10bに沿って切
断する。すなわち、ダイアモンドブレード等(図示せ
ず)を用いて、格子状のストリート10bを切断し、個
々の半導体素子10aに分割する。この際、ウエハ10
を完全に切断(フルカット)するため、ダイアモンドブ
レードによる切り込み深さをウエハ10の厚さより多く
する。このため、切り込まれたダイアモンドブレード
は、ウエハ10を貫通して、溝34にまで達することに
なる。
【0022】そして、実装工程として図5に示すよう
に、ステージ2の上方にリードフレームやフィルムキャ
リアテープ等の配線部材6を配置して、実装に必要な半
導体素子10aが吸着された吸着ブロック31を上方に
押し上げる。この上方への押し上げと同時に半導体素子
10aと配線部材6との接触が得られ、半田や接着剤等
を用いて接続を行う。そして、真空源4の動作を停止す
ることで、吸着面33から半導体素子10aを取り外
し、吸着ブロック3を降下させてステージ2内に戻す。
一つの半導体素子10aの実装が終了した後、配線部材
6を一定量移動して、他の半導体素子10aを同様の手
順で実装する。
に、ステージ2の上方にリードフレームやフィルムキャ
リアテープ等の配線部材6を配置して、実装に必要な半
導体素子10aが吸着された吸着ブロック31を上方に
押し上げる。この上方への押し上げと同時に半導体素子
10aと配線部材6との接触が得られ、半田や接着剤等
を用いて接続を行う。そして、真空源4の動作を停止す
ることで、吸着面33から半導体素子10aを取り外
し、吸着ブロック3を降下させてステージ2内に戻す。
一つの半導体素子10aの実装が終了した後、配線部材
6を一定量移動して、他の半導体素子10aを同様の手
順で実装する。
【0023】なお、吸着ブロック3はステージ2により
支えられているため、確実に上方へ押し上げることがで
きる。このため、吸着ブロック3を移動すると同時に配
線部材6の所定位置へ半導体素子10aを正確に接続す
ることができる。
支えられているため、確実に上方へ押し上げることがで
きる。このため、吸着ブロック3を移動すると同時に配
線部材6の所定位置へ半導体素子10aを正確に接続す
ることができる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウエハ吸
着装置とこれを用いた半導体装置製造方法によれば次の
ような効果がある。すなわち、このウエハ吸着装置を用
いてウエハをステージ上に保持すれば、ウエハの分割の
際に発生する振動が、樹脂シートを使用する場合に比べ
て小さくすることができるため、半導体素子にチッピン
グや欠け、クラック等の発生を低減することができる。
さらに、真空源の負圧を利用してウエハおよび半導体素
子を吸着するため、何度でも使用することができ、コス
トダウンを図ることができる。
着装置とこれを用いた半導体装置製造方法によれば次の
ような効果がある。すなわち、このウエハ吸着装置を用
いてウエハをステージ上に保持すれば、ウエハの分割の
際に発生する振動が、樹脂シートを使用する場合に比べ
て小さくすることができるため、半導体素子にチッピン
グや欠け、クラック等の発生を低減することができる。
さらに、真空源の負圧を利用してウエハおよび半導体素
子を吸着するため、何度でも使用することができ、コス
トダウンを図ることができる。
【0025】また、このウエハ吸着装置を用いた半導体
装置製造方法では、半導体素子の取り外しの際、ピンを
使用することがないため、半導体素子にクラックが発生
しない。さらに、吸着ブロックを上方へ押し上げると同
時に半導体素子と配線部材との接続を行えば、吸着コレ
ットやハンドリングロボット等を用いて半導体素子を移
動しなくてよい。したがって、半導体素子の能動パター
ンに一切触れることなく実装することが可能となるた
め、半導体素子に悪影響を及ぼすことなく実装できる。
これにより、半導体装置の生産歩留りを向上することが
できる。
装置製造方法では、半導体素子の取り外しの際、ピンを
使用することがないため、半導体素子にクラックが発生
しない。さらに、吸着ブロックを上方へ押し上げると同
時に半導体素子と配線部材との接続を行えば、吸着コレ
ットやハンドリングロボット等を用いて半導体素子を移
動しなくてよい。したがって、半導体素子の能動パター
ンに一切触れることなく実装することが可能となるた
め、半導体素子に悪影響を及ぼすことなく実装できる。
これにより、半導体装置の生産歩留りを向上することが
できる。
【図1】本発明のウエハ吸着装置を説明する断面図であ
る。
る。
【図2】ウエハ吸着装置の動作状態を説明する断面図で
ある。
ある。
【図3】ウエハ吸着工程を説明する断面図である。
【図4】切断工程を説明する断面図である。
【図5】実装工程を説明する断面図である。
【図6】従来例を説明する断面図(その1)で、(a)
はウエハ接着工程、(b)は切断工程である。
はウエハ接着工程、(b)は切断工程である。
【図7】従来例を説明する断面図(その2)で、(c)
は拡張工程、(d)は取り出し工程である。
は拡張工程、(d)は取り出し工程である。
1 ウエハ吸着装置 2 ステージ 3 吸着ブロック群 4 真空源 5 ハンドリングロボット 6 配線部材 10 ウエハ 10a 半導体素子 10b ストリート 11 樹脂シート 11a 粘着剤 13 吸着コレット 14 ピン 31 吸着ブロック 32 吸気孔 33 吸着面 34 溝 35 流通孔
Claims (2)
- 【請求項1】 複数の半導体素子が所定の配列で形成さ
れたウエハを、ステージに設けられた吸着ブロック群に
て吸着するウエハ吸着装置であって、 前記吸着ブロック群は、前記半導体素子の配列と対応し
た位置に、上下動可能な複数の吸着ブロックが前記ステ
ージに挿設されたもので、 前記各吸着ブロックの間には、所定の深さの溝が設けら
れているとともに、 前記各吸着ブロックの上面には、前記半導体素子を個別
に吸着する吸気孔を有する吸着面が設けられていること
を特徴とするウエハ吸着装置。 - 【請求項2】 所定の配列で半導体素子が形成されたウ
エハをステージ上に吸着した後、前記ウエハを個々の半
導体素子に分割し、前記半導体素子を配線部材に接続し
て成るウエハ吸着装置を用いた半導体装置製造方法にお
いて、 前記半導体素子の配列と対応した位置に吸着ブロックを
それぞれ配置して成る吸着ブロック群に前記ウエハを吸
着する第1工程と、 次いで、前記ウエハを個々の前記半導体素子に分割する
第2工程と、 そして、前記ステージ上方に前記配線部材を配置し、所
定の半導体素子が吸着された前記吸着ブロックを上方に
押し上げることで、前記半導体素子を前記配線部材に接
続する第3工程とから成ることを特徴とするウエハ吸着
装置を用いた半導体装置製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11805892A JPH05286568A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11805892A JPH05286568A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05286568A true JPH05286568A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=14726976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11805892A Pending JPH05286568A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05286568A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001085449A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル |
| JP2003163180A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Apic Yamada Corp | ワーク搬送装置及びダイシング装置 |
| KR100456791B1 (ko) * | 2002-11-19 | 2004-11-10 | 세크론 주식회사 | 칩이 상하로 분리되는 장치 |
| JP2019071495A (ja) * | 2019-02-08 | 2019-05-09 | 株式会社東京精密 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
| CN109959611A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 由田新技股份有限公司 | 光学检测设备及其工件顶起装置 |
| CN113415629A (zh) * | 2021-08-24 | 2021-09-21 | 富泰锦(成都)科技有限公司 | 一种服装邮件分拣装置 |
-
1992
- 1992-04-10 JP JP11805892A patent/JPH05286568A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001085449A (ja) * | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル |
| JP2003163180A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Apic Yamada Corp | ワーク搬送装置及びダイシング装置 |
| KR100456791B1 (ko) * | 2002-11-19 | 2004-11-10 | 세크론 주식회사 | 칩이 상하로 분리되는 장치 |
| CN109959611A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 由田新技股份有限公司 | 光学检测设备及其工件顶起装置 |
| CN109959611B (zh) * | 2017-12-25 | 2022-03-29 | 由田新技股份有限公司 | 光学检测设备及其工件顶起装置 |
| JP2019071495A (ja) * | 2019-02-08 | 2019-05-09 | 株式会社東京精密 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
| CN113415629A (zh) * | 2021-08-24 | 2021-09-21 | 富泰锦(成都)科技有限公司 | 一种服装邮件分拣装置 |
| CN113415629B (zh) * | 2021-08-24 | 2021-11-26 | 富泰锦(成都)科技有限公司 | 一种服装邮件分拣装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100506109B1 (ko) | 접착성 테이프의 박리 기구, 접착성 테이프의 박리 장치,접착성 테이프의 박리 방법, 반도체 칩의 픽업 장치,반도체 칩의 픽업 방법, 반도체 장치의 제조 방법 및반도체 장치의 제조 장치 | |
| US7465142B2 (en) | Method and apparatus for picking up a semiconductor chip, method and apparatus for removing a semiconductor chip from a dicing tape, and a method of forming a perforated dicing tape | |
| CN107533965B (zh) | 吸附机构、吸附方法、制造装置及制造方法 | |
| JP5273791B2 (ja) | 基板への接着テープ貼り付け装置 | |
| TW200426954A (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| WO2008007454A1 (fr) | Plaque de maintien, dispositif de transfert, dispositif de pelage et procédé de pelage | |
| CN103050428B (zh) | 半导体装置的制造方法和半导体装置的制造系统 | |
| KR20100052471A (ko) | 작업물 반송 방법 및 작업물 전달 기구를 갖는 장치 | |
| KR102875925B1 (ko) | 캐리어판의 제거 방법 | |
| US6582223B2 (en) | Pickup apparatus for semiconductor chips | |
| JP2002280330A (ja) | チップ状部品のピックアップ方法 | |
| KR20130090827A (ko) | 기판 반송 방법 및 기판 반송 장치 | |
| WO2003069660A1 (en) | Plate-like object carrying mechanism and dicing device with carrying mechanism | |
| JPH05286568A (ja) | ウエハ吸着装置とこれを用いた半導体装置製造方法 | |
| CN1263088C (zh) | 一种处理半导体晶片的方法和所用的半导体晶片的衬底 | |
| CN103871863A (zh) | 半导体装置的制造方法以及半导体制造装置 | |
| JP2005353707A (ja) | 半導体基板の分断方法および半導体チップの選択転写方法 | |
| KR100817049B1 (ko) | 패키징을 위한 웨이퍼 칩의 제조 방법 | |
| KR100817068B1 (ko) | 박형의 반도체 칩 픽업 장치 및 방법 | |
| KR20210137400A (ko) | 정전척에 사용되는 탈착 기기, 자동 탈착 시스템 및 그 탈착 방법 | |
| KR20240063358A (ko) | 기판 분리 장치 | |
| JP2003340787A (ja) | 基板の固定装置及び固定方法 | |
| JP2002353170A (ja) | 半導体ウェーハの分離システム、分離方法及びダイシング装置 | |
| JP2858309B1 (ja) | 半導体ウエハの可撓性シート貼着方法 | |
| KR200363934Y1 (ko) | 다이 본더의 백업 홀더 구조 |