JPH05289350A - 基板露光装置の露光ステージ - Google Patents
基板露光装置の露光ステージInfo
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- JPH05289350A JPH05289350A JP4115474A JP11547492A JPH05289350A JP H05289350 A JPH05289350 A JP H05289350A JP 4115474 A JP4115474 A JP 4115474A JP 11547492 A JP11547492 A JP 11547492A JP H05289350 A JPH05289350 A JP H05289350A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
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- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】正確な位置決めを行える基板露光装置の露光ス
テージを提供する。 【構成】露光ステージＳは複数のブロック台１に分割さ
れ、剛性を高められており、その上面の平坦度が向上し
ている。各ブロック台１の間の隙間には搬送用ベルト３
とＸ方向位置決め片４が設けられ、露光ステージＳ上で
基板Ｗの位置決めが行える。
テージを提供する。 【構成】露光ステージＳは複数のブロック台１に分割さ
れ、剛性を高められており、その上面の平坦度が向上し
ている。各ブロック台１の間の隙間には搬送用ベルト３
とＸ方向位置決め片４が設けられ、露光ステージＳ上で
基板Ｗの位置決めが行える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は基板露光装置の露光ス
テージに関する。
テージに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりＩＣ等の製造にはフォトリソグ
ラフィー法が用いられているが、近年この方法がプリン
ト配線基板等の導体のパターンを形成するために用いら
れるようになってきている。このフォトリソグラフィー
法は、形成すべきパターンを描いた原版を用いて、光を
投影露光することによりプリント配線基板に原版と同一
のパターンを描く方法である。ＩＣ等の製造の際には高
い精度を要求されるために、原版としてはガラス板が用
いられるが、プリント配線基板の場合には比較的精度が
低くて良いため、原版としてフィルムマスクを用いるの
が普通である。このフォトリソグラフィー法において重
要なのは露光する際に配線される基板と原版であるフィ
ルムマスクとを正確に位置あわせすることであり、この
位置合わせの精度が製品の歩留まりに直接影響する。ま
た基板の平坦度も重要な要素であり、基板自体の反りだ
けではなく、基板を載置する台の平坦度も製品の良否に
大きく影響してくる。
ラフィー法が用いられているが、近年この方法がプリン
ト配線基板等の導体のパターンを形成するために用いら
れるようになってきている。このフォトリソグラフィー
法は、形成すべきパターンを描いた原版を用いて、光を
投影露光することによりプリント配線基板に原版と同一
のパターンを描く方法である。ＩＣ等の製造の際には高
い精度を要求されるために、原版としてはガラス板が用
いられるが、プリント配線基板の場合には比較的精度が
低くて良いため、原版としてフィルムマスクを用いるの
が普通である。このフォトリソグラフィー法において重
要なのは露光する際に配線される基板と原版であるフィ
ルムマスクとを正確に位置あわせすることであり、この
位置合わせの精度が製品の歩留まりに直接影響する。ま
た基板の平坦度も重要な要素であり、基板自体の反りだ
けではなく、基板を載置する台の平坦度も製品の良否に
大きく影響してくる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の基板露
光装置の露光ステージは基板の位置合わせをすることが
出来ず、前工程で位置合わせされた基板を載置するだけ
の機能しかなかった。また、基板露光装置の露光ステー
ジの平坦度を上げるのは難しく、特に大きな基板に対応
する大型の基板露光装置の露光ステージの平坦度を向上
させるのは難しい問題があった。本発明はこれらの従来
の問題点を解決することを目的とする。
光装置の露光ステージは基板の位置合わせをすることが
出来ず、前工程で位置合わせされた基板を載置するだけ
の機能しかなかった。また、基板露光装置の露光ステー
ジの平坦度を上げるのは難しく、特に大きな基板に対応
する大型の基板露光装置の露光ステージの平坦度を向上
させるのは難しい問題があった。本発明はこれらの従来
の問題点を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の基板露光装置の露光ステージは、少なくとも
その一部が所定の隙間を開けて設置された被露光基板を
載置するための複数のブロック台と、該隙間に設けられ
た基板を移動させるための移動手段とを備えたことを基
本的な特徴とする。
に本発明の基板露光装置の露光ステージは、少なくとも
その一部が所定の隙間を開けて設置された被露光基板を
載置するための複数のブロック台と、該隙間に設けられ
た基板を移動させるための移動手段とを備えたことを基
本的な特徴とする。
【０００５】
【作用】基板を載置するブロック台は複数に分割される
ため平坦度を向上させることが出来き、しかもその隙間
に基板の移動手段を設置することができるため、基板の
正確な位置合わせが可能になる。
ため平坦度を向上させることが出来き、しかもその隙間
に基板の移動手段を設置することができるため、基板の
正確な位置合わせが可能になる。
【０００６】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。最初に本発明に係る基板露光装置の露光ステージが
露光工程において、どのように配置されるのかを図７に
より説明しておく。図７の例では反転機５３を挟んで左
右に同一の露光装置が配設され、反転機５３により反転
された基板Ｗの表裏に配線パターンを焼き付けるように
構成されている。露光装置の入り口側にはプリコンベア
５２が設けられており、このプリコンベア５２から露光
ステージＳに基板Ｗが載置され、光源５１からの露光に
よりフィルムマスク装置５０の配線パターンが基板Ｗに
焼き付けられるように構成されている。基板Ｗの片面の
焼き付けが終わったら、反転機５３により基板Ｗを反転
し、再び同じ動作により他の面の焼き付けを行うように
構成されている。
る。最初に本発明に係る基板露光装置の露光ステージが
露光工程において、どのように配置されるのかを図７に
より説明しておく。図７の例では反転機５３を挟んで左
右に同一の露光装置が配設され、反転機５３により反転
された基板Ｗの表裏に配線パターンを焼き付けるように
構成されている。露光装置の入り口側にはプリコンベア
５２が設けられており、このプリコンベア５２から露光
ステージＳに基板Ｗが載置され、光源５１からの露光に
よりフィルムマスク装置５０の配線パターンが基板Ｗに
焼き付けられるように構成されている。基板Ｗの片面の
焼き付けが終わったら、反転機５３により基板Ｗを反転
し、再び同じ動作により他の面の焼き付けを行うように
構成されている。
【０００７】図１により露光ステージＳの詳細を説明す
る。この露光ステージＳは昇降可能に構成された基台９
と該基台９の上に設置された複数のブロック台１から構
成されている。ブロック台１はこの実施例ではＸ方向に
３列、Ｙ方向に５列並べられており、各ブロック台１間
には所定の間隔の隙間２が形成されている。ブロック台
１’とブロック台１”はＸ方向の隣のブロック台１とは
離間しておらず、接触している。各ブロック台１は基本
的には立方体形状をなしているが、前記ブロック台１’
とブロック台１”とは平面凸字形状をなしている。
る。この露光ステージＳは昇降可能に構成された基台９
と該基台９の上に設置された複数のブロック台１から構
成されている。ブロック台１はこの実施例ではＸ方向に
３列、Ｙ方向に５列並べられており、各ブロック台１間
には所定の間隔の隙間２が形成されている。ブロック台
１’とブロック台１”はＸ方向の隣のブロック台１とは
離間しておらず、接触している。各ブロック台１は基本
的には立方体形状をなしているが、前記ブロック台１’
とブロック台１”とは平面凸字形状をなしている。
【０００８】隙間２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄにはＸ方向に
搬送用ベルト３が配設されている。この搬送用ベルト３
は図６に示すように基台９の下降によりブロック台１の
上面に露出し、基台９の上昇によりブロック台１の隙間
２内に納まるように構成されている。この動作により搬
送用ベルト３は基板Ｗを搬送し、ブロック台１の所定の
位置に基板Ｗを載置することが出来るようになってい
る。
搬送用ベルト３が配設されている。この搬送用ベルト３
は図６に示すように基台９の下降によりブロック台１の
上面に露出し、基台９の上昇によりブロック台１の隙間
２内に納まるように構成されている。この動作により搬
送用ベルト３は基板Ｗを搬送し、ブロック台１の所定の
位置に基板Ｗを載置することが出来るようになってい
る。
【０００９】Ｘ方向に平行な隙間２ｂと隙間２ｄには、
凸形状のブロック台１’，１”により凹部が形成され、
向かい合わせに４つのＸ方向位置決め片４が設けられて
いる。このＸ方向位置決め片４は図４に示すように、シ
リンダ４５に支持されており、リニアガイド４６に沿っ
て該シリンダ４５の上下動により上下方向に可動になっ
ている。この上下可動の機構は、他の構成であっても良
い。この構成により、位置決め片４は必要に応じてブロ
ック台１のレベルより上に突出し、また下に退避する構
成になっている。更に位置決め片４は図５に示すように
ボールネジ４０によりＸ方向に可動になっている。ボー
ルネジ４０はプーリ４１を介してパルスモータ４２によ
り駆動されるように構成されている。そして、このＸ方
向位置決め片４の一方側に並ぶ１組を所定位置に固定し
てストッパとし、向き合う他方の組をプッシャとして基
板Ｗを押すことにより基板ＷのＸ方向の位置決めを行う
ように構成されている。
凸形状のブロック台１’，１”により凹部が形成され、
向かい合わせに４つのＸ方向位置決め片４が設けられて
いる。このＸ方向位置決め片４は図４に示すように、シ
リンダ４５に支持されており、リニアガイド４６に沿っ
て該シリンダ４５の上下動により上下方向に可動になっ
ている。この上下可動の機構は、他の構成であっても良
い。この構成により、位置決め片４は必要に応じてブロ
ック台１のレベルより上に突出し、また下に退避する構
成になっている。更に位置決め片４は図５に示すように
ボールネジ４０によりＸ方向に可動になっている。ボー
ルネジ４０はプーリ４１を介してパルスモータ４２によ
り駆動されるように構成されている。そして、このＸ方
向位置決め片４の一方側に並ぶ１組を所定位置に固定し
てストッパとし、向き合う他方の組をプッシャとして基
板Ｗを押すことにより基板ＷのＸ方向の位置決めを行う
ように構成されている。
【００１０】Ｙ方向に伸びる隙間２ｆと隙間２ｅには同
様に向かい合わせに４つのＹ方向位置決め片５が設けら
れており、前記したＸ方向位置決め片４と同じ構成にな
っており、基板ＷをＹ方向に付いて位置決めするように
構成されている。
様に向かい合わせに４つのＹ方向位置決め片５が設けら
れており、前記したＸ方向位置決め片４と同じ構成にな
っており、基板ＷをＹ方向に付いて位置決めするように
構成されている。
【００１１】ブロック台１の上面には多数の空気孔１０
が開口している。ブロック台１は図２に示すように中空
になっており、該中空部はポンプ１２とコンプレッサ１
３に接続している。ポンプ１２は空気の吸引を行い、又
コンプレッサ１３により空気の吹き込みを行い、空気孔
１０を介して吸引及び吹き出しを行うように構成されて
いる。空気孔１０からの空気の吸引によりブロック台１
上の基板Ｗを固定するようになっている。切換バルブ１
４は空気の吸引と吹き出しを切換えるためのものであ
る。
が開口している。ブロック台１は図２に示すように中空
になっており、該中空部はポンプ１２とコンプレッサ１
３に接続している。ポンプ１２は空気の吸引を行い、又
コンプレッサ１３により空気の吹き込みを行い、空気孔
１０を介して吸引及び吹き出しを行うように構成されて
いる。空気孔１０からの空気の吸引によりブロック台１
上の基板Ｗを固定するようになっている。切換バルブ１
４は空気の吸引と吹き出しを切換えるためのものであ
る。
【００１２】一方基板Ｗの位置決めの際には、図３に示
すようにブロック台１の空気孔１０から空気を吹き出
し、基板Ｗを若干浮遊させ、この状態でＸ方向位置決め
片４又は５により基板Ｗを押して移動させるように構成
されている。この空気孔１０からの空気の吹き出しによ
り、基板Ｗを円滑に移動させることが出来き又摩擦によ
り基板Ｗを傷つけることもない。
すようにブロック台１の空気孔１０から空気を吹き出
し、基板Ｗを若干浮遊させ、この状態でＸ方向位置決め
片４又は５により基板Ｗを押して移動させるように構成
されている。この空気孔１０からの空気の吹き出しによ
り、基板Ｗを円滑に移動させることが出来き又摩擦によ
り基板Ｗを傷つけることもない。
【００１３】次に動作を説明する。図７に示すプリコン
ベア５２から搬送された基板Ｗは搬送用ベルト３により
所定の位置までブロック台１上に移動させられ、この位
置で基台９の上昇により所定のブロック台１上に載置さ
れる。そして、ブロック台１の空気孔１０からの空気の
吹き出しにより基板Ｗは浮遊状態となり、Ｘ方向位置決
め片４とＹ方向位置決め片５により所定の位置に位置決
めされる。位置決めされたら、空気孔１０の空気の吹き
出しを停止し、逆に空気孔１０から空気を吸引し、その
位置に基板Ｗを吸着し、固定する。これにより極めて高
精度に基板ＷのＸ、Ｙ方向位置の位置決めを行える。ま
たブロック台１はブロック化されているため、剛性が高
く、平坦度を高めることができるため、ブロック台１に
載置された基板ＷのＺ方向位置の精度を高めることが出
来る。この状態で光源５１から光を投光してフィルムマ
スク装置５０の回路パターンを基板Ｗ上に焼き付ける。
次に基板Ｗを反転機５３に排出して、裏表を反転し、基
板Ｗの裏側についても同様に焼き付けを行う。
ベア５２から搬送された基板Ｗは搬送用ベルト３により
所定の位置までブロック台１上に移動させられ、この位
置で基台９の上昇により所定のブロック台１上に載置さ
れる。そして、ブロック台１の空気孔１０からの空気の
吹き出しにより基板Ｗは浮遊状態となり、Ｘ方向位置決
め片４とＹ方向位置決め片５により所定の位置に位置決
めされる。位置決めされたら、空気孔１０の空気の吹き
出しを停止し、逆に空気孔１０から空気を吸引し、その
位置に基板Ｗを吸着し、固定する。これにより極めて高
精度に基板ＷのＸ、Ｙ方向位置の位置決めを行える。ま
たブロック台１はブロック化されているため、剛性が高
く、平坦度を高めることができるため、ブロック台１に
載置された基板ＷのＺ方向位置の精度を高めることが出
来る。この状態で光源５１から光を投光してフィルムマ
スク装置５０の回路パターンを基板Ｗ上に焼き付ける。
次に基板Ｗを反転機５３に排出して、裏表を反転し、基
板Ｗの裏側についても同様に焼き付けを行う。
【００１４】以上説明した構成においては、ブロック台
１がブロック形状で多数に分割されているため、その剛
性を高めることができ、ブロック台１の上面の平坦度を
向上させることが出来る。またブロック台１を分割した
ことにより生じた隙間２に搬送用ベルト３やＸ方向位置
決め片４及びＹ方向位置決め片５を設置でき、露光ステ
ージＳ上で基板Ｗの位置決めを行うことが出来る。また
ブロック台１に空気孔１０を設け、吸引と吹き出しによ
り基板Ｗの移動と固定を円滑に行うことが出来る。
１がブロック形状で多数に分割されているため、その剛
性を高めることができ、ブロック台１の上面の平坦度を
向上させることが出来る。またブロック台１を分割した
ことにより生じた隙間２に搬送用ベルト３やＸ方向位置
決め片４及びＹ方向位置決め片５を設置でき、露光ステ
ージＳ上で基板Ｗの位置決めを行うことが出来る。また
ブロック台１に空気孔１０を設け、吸引と吹き出しによ
り基板Ｗの移動と固定を円滑に行うことが出来る。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明の基板露光装
置の露光ステージは、少なくともその一部が所定の隙間
を開けて設置された被露光基板を載置するための複数の
ブロック台と、該隙間に設けられた基板を移動させるた
めの移動手段とを備えているため、基板のＸＹＺ方向の
正確な位置合わせが可能になる効果がある。
置の露光ステージは、少なくともその一部が所定の隙間
を開けて設置された被露光基板を載置するための複数の
ブロック台と、該隙間に設けられた基板を移動させるた
めの移動手段とを備えているため、基板のＸＹＺ方向の
正確な位置合わせが可能になる効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す斜視図。
【図２】本発明の一実施例を示す部分断面図。
【図３】本発明の一実施例を示す動作説明図。
【図４】位置決め片の構造の一例を示す立面図。
【図５】位置決め片の構造の一例を示す平面図。
【図６】本発明の一実施例を示す動作説明図。
【図７】露光装置の概略全体図。
１：ブロック台、２：隙間、３：搬送用ベルト、４：Ｘ
方向位置決め片、５：Ｙ方向位置決め片、９：基台、１
０：空気孔、１１：配管、１２：ポンプ、１３：コンプ
レッサ、１４：切換バルブ、４０：ボールネジ、４１：
プーリ、４２：パルスモータ、４５：シリンダ、４６：
リニアガイド、５０：フィルムマスク装置、５１：光
源、５２：プリコンベア、５３：反転機。
方向位置決め片、５：Ｙ方向位置決め片、９：基台、１
０：空気孔、１１：配管、１２：ポンプ、１３：コンプ
レッサ、１４：切換バルブ、４０：ボールネジ、４１：
プーリ、４２：パルスモータ、４５：シリンダ、４６：
リニアガイド、５０：フィルムマスク装置、５１：光
源、５２：プリコンベア、５３：反転機。
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくともその一部が所定の隙間を開け
て設置された被露光基板を載置するための複数のブロッ
ク台と、 該隙間に設けられた基板を移動させるための移動手段
と、 を備えたことを特徴とする基板露光装置の露光ステー
ジ。 - 【請求項２】 少なくともその一部が所定の隙間を開け
て設置された被露光基板を載置するための複数のブロッ
ク台と、 該隙間に設けられた基板を搬送するための搬送手段と、 該隙間に設けられた基板を所定位置に位置決めするため
の位置決め手段と、 を備えたことを特徴とする基板露光装置の露光ステー
ジ。 - 【請求項３】 前記ブロック台に基板を吸引するための
吸引装置を設けた、 請求項１又は２に記載の基板露光装置の露光ステージ。 - 【請求項４】 前記ブロック台に基板を浮上させるため
の吹出装置を設けた、 請求項１又は２に記載の基板露光装置の露光ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11547492A JP3249172B2 (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 基板露光装置の露光ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11547492A JP3249172B2 (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 基板露光装置の露光ステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05289350A true JPH05289350A (ja) | 1993-11-05 |
| JP3249172B2 JP3249172B2 (ja) | 2002-01-21 |
Family
ID=14663438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11547492A Expired - Fee Related JP3249172B2 (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 基板露光装置の露光ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3249172B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009107026A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Y S Denshi Kogyo Kk | 組立て装置 |
| JP2009271397A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2013229625A (ja) * | 2013-06-27 | 2013-11-07 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2016035589A (ja) * | 2015-10-28 | 2016-03-17 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2017033026A (ja) * | 2016-11-04 | 2017-02-09 | 株式会社ニコン | 物体支持装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2018136575A (ja) * | 2018-05-25 | 2018-08-30 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
-
1992
- 1992-04-07 JP JP11547492A patent/JP3249172B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009107026A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Y S Denshi Kogyo Kk | 組立て装置 |
| JP2009271397A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-19 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2013229625A (ja) * | 2013-06-27 | 2013-11-07 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2016035589A (ja) * | 2015-10-28 | 2016-03-17 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2017033026A (ja) * | 2016-11-04 | 2017-02-09 | 株式会社ニコン | 物体支持装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2018136575A (ja) * | 2018-05-25 | 2018-08-30 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3249172B2 (ja) | 2002-01-21 |
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