JPH05290412A - 光ディスク原盤のピット形成方法及び原盤露光機 - Google Patents
光ディスク原盤のピット形成方法及び原盤露光機Info
- Publication number
- JPH05290412A JPH05290412A JP11693592A JP11693592A JPH05290412A JP H05290412 A JPH05290412 A JP H05290412A JP 11693592 A JP11693592 A JP 11693592A JP 11693592 A JP11693592 A JP 11693592A JP H05290412 A JPH05290412 A JP H05290412A
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- pulse
- modulator
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ピット長にかかわりなく、図じ溝幅の安定し
た信号振幅を得る。 【構成】 レーザ光源からのレーザ光を、光量変調、パ
ルス変調してレジスト板に露光する。長いピット（１０
Ｔ）を露光する時には、短いピット（１Ｔ）のパルスを
繰り返して露光し、ピット（１Ｔ）のパルス変調の周期
を（１／４）Ｔ以下で繰り返す。パルス変調には電気光
学変調器を用いる。
た信号振幅を得る。 【構成】 レーザ光源からのレーザ光を、光量変調、パ
ルス変調してレジスト板に露光する。長いピット（１０
Ｔ）を露光する時には、短いピット（１Ｔ）のパルスを
繰り返して露光し、ピット（１Ｔ）のパルス変調の周期
を（１／４）Ｔ以下で繰り返す。パルス変調には電気光
学変調器を用いる。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、光ディスクの原盤のピット形成
方法及び原盤露光機に関する。
方法及び原盤露光機に関する。
【０００２】
【従来技術】現在、一般的に用いられている書き込み、
読み出し可能型の光ディスクは、ディスク回転面にそっ
てあらかじめ案内溝（トラッキンググルーブ）及びヘッ
ダ情報（トラックアドレス、セクターアドレス等）が原
盤露光時に露光されている。これらの光ディスクの原盤
露光を行なうときは、Ａr+（アルゴンイオン）レーザを
光源として、光量変調、パルス変調を行なって対物レン
ズをサブミクロンまで絞り、回転横移動しているレジス
ト板に露光を行なっている。
読み出し可能型の光ディスクは、ディスク回転面にそっ
てあらかじめ案内溝（トラッキンググルーブ）及びヘッ
ダ情報（トラックアドレス、セクターアドレス等）が原
盤露光時に露光されている。これらの光ディスクの原盤
露光を行なうときは、Ａr+（アルゴンイオン）レーザを
光源として、光量変調、パルス変調を行なって対物レン
ズをサブミクロンまで絞り、回転横移動しているレジス
ト板に露光を行なっている。
【０００３】この時の露光回転は、フォーマットにより
ターンテーブルがＣＬＶ（ConstantLinear Velocity：
線速一定），ＣＡＶ（Constant Angular Velocity：回
転角一定）駆動される。記録領域内を同じ露光溝幅にす
るのには、ＣＬＶは露光中光量が一定となるようにし、
ＣＡＶは半径位置により光量を変えていく必要がある。
また、円周方向の大きさ（ピットの長さ）はフォーマッ
トに応じてパルス変調器で光をＯＮ／ＯＦＦすること
で、ピットを形成又は未露光部を形成している。
ターンテーブルがＣＬＶ（ConstantLinear Velocity：
線速一定），ＣＡＶ（Constant Angular Velocity：回
転角一定）駆動される。記録領域内を同じ露光溝幅にす
るのには、ＣＬＶは露光中光量が一定となるようにし、
ＣＡＶは半径位置により光量を変えていく必要がある。
また、円周方向の大きさ（ピットの長さ）はフォーマッ
トに応じてパルス変調器で光をＯＮ／ＯＦＦすること
で、ピットを形成又は未露光部を形成している。
【０００４】図５（ａ）〜（ｃ）は、従来のピット形成
方法を説明するための図で、図（ａ）はピット平面、図
（ｂ）はピット形成パルス、図（ｃ）はピット溝を各々
示す図である。ピット長の長いピット（例えば１０Ｔ）
の時、露光光量を下げて短かいピット（１Ｔ）と同じ溝
幅になるように光量変調をして露光する。光量を一定に
して露光しても、１Ｔの短かいピットと１０Ｔの長いピ
ットではピットの幅が１０Ｔピットの方が幅広くなる傾
向がある。この傾向はＣＬＶでもＣＡＶでも同様の傾向
があり、レジスト板への照射時間によって、レジストの
温度の微妙な変化により、レジスト感度があがり、長い
ピットの方が幅広くなってしまうためである。このよう
に短かいピット（１Ｔ）と長いピット（例えば１０Ｔ）
では、溝幅（半径方向）の違いにより、信号振幅に差が
生じてしまうことになり、安定した信号振幅を有する光
ディスクを作製することは難しくなる。このように、長
いピットを露光する時に光量を下げて露光して短かいピ
ットと同じ溝幅にする方法では、ＣＬＶ露光では行なえ
るが、ＣＡＶ露光の場合では、半径位置により露光光量
を変えるようにして変調しているので、その変調信号を
さらに制御しなければならず、複雑になってしまうとい
う問題点がある。
方法を説明するための図で、図（ａ）はピット平面、図
（ｂ）はピット形成パルス、図（ｃ）はピット溝を各々
示す図である。ピット長の長いピット（例えば１０Ｔ）
の時、露光光量を下げて短かいピット（１Ｔ）と同じ溝
幅になるように光量変調をして露光する。光量を一定に
して露光しても、１Ｔの短かいピットと１０Ｔの長いピ
ットではピットの幅が１０Ｔピットの方が幅広くなる傾
向がある。この傾向はＣＬＶでもＣＡＶでも同様の傾向
があり、レジスト板への照射時間によって、レジストの
温度の微妙な変化により、レジスト感度があがり、長い
ピットの方が幅広くなってしまうためである。このよう
に短かいピット（１Ｔ）と長いピット（例えば１０Ｔ）
では、溝幅（半径方向）の違いにより、信号振幅に差が
生じてしまうことになり、安定した信号振幅を有する光
ディスクを作製することは難しくなる。このように、長
いピットを露光する時に光量を下げて露光して短かいピ
ットと同じ溝幅にする方法では、ＣＬＶ露光では行なえ
るが、ＣＡＶ露光の場合では、半径位置により露光光量
を変えるようにして変調しているので、その変調信号を
さらに制御しなければならず、複雑になってしまうとい
う問題点がある。
【０００５】また、特公昭６３−８４８号公報に提案さ
れている「光情報記録再生方式」は、円周方向のピット
長変化をなくすために、所定寸法のピット長を所定間隔
で複数個形成するもので、この方式によると、ピット長
を所定寸法にすることができるが、最小パルス幅が１Ｔ
ではないので、１Ｔと同じ溝幅にすることは難しく、こ
の方式によれば光量も同時に変調する必要があり、制御
が複雑になってしまうという問題点がある。
れている「光情報記録再生方式」は、円周方向のピット
長変化をなくすために、所定寸法のピット長を所定間隔
で複数個形成するもので、この方式によると、ピット長
を所定寸法にすることができるが、最小パルス幅が１Ｔ
ではないので、１Ｔと同じ溝幅にすることは難しく、こ
の方式によれば光量も同時に変調する必要があり、制御
が複雑になってしまうという問題点がある。
【０００６】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、ピット長にかかわらず同じ溝幅にして安定した
信号振幅を得るような露光を行なう光ディスク原盤のピ
ット形成方法を提供することを目的としてなされたもの
である。
もので、ピット長にかかわらず同じ溝幅にして安定した
信号振幅を得るような露光を行なう光ディスク原盤のピ
ット形成方法を提供することを目的としてなされたもの
である。
【０００７】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
レーザ光源からのレーザ光を光量変調、パルス変調を行
なって対物レンズで絞り、回転横移動しているレジスト
板に露光を行なう光ディスク原盤のピット形成方法にお
いて、長いピットを露光する時に、短いピットのパルス
を繰り返し露光すること、更には、（２）前記（１）に
おいて、前記短いピットを１Ｔとした場合に、該１Ｔピ
ットのパルス変調の周期を（１／４）Ｔ以下で繰り返す
こと、更には、（３）前記（１）又は（２）において、
前記パルス変調に電気光学変調器を用いて露光するこ
と、或いは、（４）レーザ光源と、該レーザ光源からの
レーザ光を光量変調する光量変調器と、該光量変調器か
らのレーザ光をパルス変調するパルス変調器と、該パル
ス変調器からのレーザ光をレジスト板に絞って露光する
対物レンズとから成り、前記レーザ光源からのレーザ光
を２分割し、前記光量変調器と前記パルス変調器を２つ
の光学系を用いて露光することを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
レーザ光源からのレーザ光を光量変調、パルス変調を行
なって対物レンズで絞り、回転横移動しているレジスト
板に露光を行なう光ディスク原盤のピット形成方法にお
いて、長いピットを露光する時に、短いピットのパルス
を繰り返し露光すること、更には、（２）前記（１）に
おいて、前記短いピットを１Ｔとした場合に、該１Ｔピ
ットのパルス変調の周期を（１／４）Ｔ以下で繰り返す
こと、更には、（３）前記（１）又は（２）において、
前記パルス変調に電気光学変調器を用いて露光するこ
と、或いは、（４）レーザ光源と、該レーザ光源からの
レーザ光を光量変調する光量変調器と、該光量変調器か
らのレーザ光をパルス変調するパルス変調器と、該パル
ス変調器からのレーザ光をレジスト板に絞って露光する
対物レンズとから成り、前記レーザ光源からのレーザ光
を２分割し、前記光量変調器と前記パルス変調器を２つ
の光学系を用いて露光することを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
【０００８】図１（ａ）〜（ｃ）は、本発明による光デ
ィスク原盤のピット形成方法の一実施例を説明するため
の図で、図（ａ）はピット平面、図（ｂ）はピット形成
パルス、図（ｃ）はピット溝を各々示す図である。図の
ように１０Ｔのような長いピットを露光する時は、溝幅
Ｗ4の１Ｔピットのパルスを繰り返し露光することで、
同じ溝幅Ｗ3＝Ｗ4の長いピットを形成する。その時のパ
ルスの間隔は、図（ｂ）に示すように、（１／４）Ｔ以
下とする。このような、露光方式によれば、従来のよう
に長いピットを露光する時にレーザ光を連続照射して、
熱による影響が生じにくく、１Ｔピットと同じ溝幅を露
光することができる。また、溝の深さも１sm ＝１vfoと
することができる。
ィスク原盤のピット形成方法の一実施例を説明するため
の図で、図（ａ）はピット平面、図（ｂ）はピット形成
パルス、図（ｃ）はピット溝を各々示す図である。図の
ように１０Ｔのような長いピットを露光する時は、溝幅
Ｗ4の１Ｔピットのパルスを繰り返し露光することで、
同じ溝幅Ｗ3＝Ｗ4の長いピットを形成する。その時のパ
ルスの間隔は、図（ｂ）に示すように、（１／４）Ｔ以
下とする。このような、露光方式によれば、従来のよう
に長いピットを露光する時にレーザ光を連続照射して、
熱による影響が生じにくく、１Ｔピットと同じ溝幅を露
光することができる。また、溝の深さも１sm ＝１vfoと
することができる。
【０００９】図２は、パルス信号とピットの径の関係を
示す図である。パルス間を（１／４）Ｔ以下とするの
は、図３（ａ）,（ｂ）に示すように、パルス間を、例
えば、図（ｂ）のように１／２Ｔとすると、レーザ光が
ガウス分布のために斜線部が露光されず、溝幅の変動を
起こす影響が多くなるからである。また、パルス変調を
行なう変調器は、Ｅ／Ｏ（Electro Optic：電気光学）
変調器を用いている。一般的に、Ｅ／Ｏ変調器は、Ａ／
Ｏ（Acousto Optic：音響光学）変調器に比べて高価で
はあるが、パルス変調の立ち上がり時間がＡ／Ｏ変調器
が２０ｎｓ程度に対して３.５〜５ｎｓと非常に早いた
め、本発明のように早い周期でパルス変調を行なって長
いピットを形成することができる。
示す図である。パルス間を（１／４）Ｔ以下とするの
は、図３（ａ）,（ｂ）に示すように、パルス間を、例
えば、図（ｂ）のように１／２Ｔとすると、レーザ光が
ガウス分布のために斜線部が露光されず、溝幅の変動を
起こす影響が多くなるからである。また、パルス変調を
行なう変調器は、Ｅ／Ｏ（Electro Optic：電気光学）
変調器を用いている。一般的に、Ｅ／Ｏ変調器は、Ａ／
Ｏ（Acousto Optic：音響光学）変調器に比べて高価で
はあるが、パルス変調の立ち上がり時間がＡ／Ｏ変調器
が２０ｎｓ程度に対して３.５〜５ｎｓと非常に早いた
め、本発明のように早い周期でパルス変調を行なって長
いピットを形成することができる。
【００１０】図４は、本発明による光ディスク原盤露光
機を示す図で、図中、１はＡr+レーザ（アリゴンイオン
レーザ）、２ａ，２ｂは光量変調器、３ａ，３ｂはパル
ス変調器、４ａ，４ｂはビームエキスパンダ、５は対物
レンズ、６はレジスト板、７はターンテーブルモータ、
８は横送りネジ、９は横送りモータである。光ディスク
の原盤露光を行なう時は、Ａr+レーザ１を光源として光
量変調器２ａ，２ｂにより光量変調と、パルス変調器３
ａ，３ｂによるパルス変調を行ない、対物レンズ５でサ
ブミクロンまで絞り、横送りモータ９と横送りネジ８に
よる横移動と、ターンテーブルモータ７による回転運動
をしてレジスト板６に露光を行なっている。なお、光量
変調器としては、Ａ／Ｏ変調器を用い、パルス変調器と
してはＥ／Ｏ変調器を用いている。
機を示す図で、図中、１はＡr+レーザ（アリゴンイオン
レーザ）、２ａ，２ｂは光量変調器、３ａ，３ｂはパル
ス変調器、４ａ，４ｂはビームエキスパンダ、５は対物
レンズ、６はレジスト板、７はターンテーブルモータ、
８は横送りネジ、９は横送りモータである。光ディスク
の原盤露光を行なう時は、Ａr+レーザ１を光源として光
量変調器２ａ，２ｂにより光量変調と、パルス変調器３
ａ，３ｂによるパルス変調を行ない、対物レンズ５でサ
ブミクロンまで絞り、横送りモータ９と横送りネジ８に
よる横移動と、ターンテーブルモータ７による回転運動
をしてレジスト板６に露光を行なっている。なお、光量
変調器としては、Ａ／Ｏ変調器を用い、パルス変調器と
してはＥ／Ｏ変調器を用いている。
【００１１】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：１Ｔのパルス変調によ
り１０Ｔピットを露光するようにすれば、レジストへの
熱の影響がなく、１Ｔと同じ溝幅の１０Ｔピットを露光
することができるので安定した信号振幅が得られる。
（２）請求項２に対応する効果：パルス変調の周期を１
／４Ｔ以下にすることで、露光ビーム形状による溝幅の
変動を防ぐことができる。 （３）請求項３に対応する効果：パルス変調にＥ／Ｏ変
調器を用いることで、早いパルス変調を行なうことがで
きる。 （４）請求項４に対応する効果：２本の光学系を有する
ので、同時に２種類の溝又はピットを露光することがで
きる。
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：１Ｔのパルス変調によ
り１０Ｔピットを露光するようにすれば、レジストへの
熱の影響がなく、１Ｔと同じ溝幅の１０Ｔピットを露光
することができるので安定した信号振幅が得られる。
（２）請求項２に対応する効果：パルス変調の周期を１
／４Ｔ以下にすることで、露光ビーム形状による溝幅の
変動を防ぐことができる。 （３）請求項３に対応する効果：パルス変調にＥ／Ｏ変
調器を用いることで、早いパルス変調を行なうことがで
きる。 （４）請求項４に対応する効果：２本の光学系を有する
ので、同時に２種類の溝又はピットを露光することがで
きる。
【図１】 本発明による光ディスク原盤のピット形成方
法の一実施例を説明するための構成図である。
法の一実施例を説明するための構成図である。
【図２】 パルス信号とピットの径の関係を示す図であ
る。
る。
【図３】 パルス間隔と露光状態を示す図である。
【図４】 本発明による原盤露光機を示す図である。
【図５】 従来のピット形成方法を説明するための図で
ある。
ある。
１…Ａr+レーザ（アリゴンイオンレーザ）、２ａ，２ｂ
…光量変調器、３ａ，３ｂ…パルス変調器、４ａ，４ｂ
…ビームエキスパンダ、５…対物レンズ、６…レジスト
板、７…ターンテーブルモータ、８…横送りネジ、９…
横送りモータ。
…光量変調器、３ａ，３ｂ…パルス変調器、４ａ，４ｂ
…ビームエキスパンダ、５…対物レンズ、６…レジスト
板、７…ターンテーブルモータ、８…横送りネジ、９…
横送りモータ。
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ光源からのレーザ光を光量変調、
パルス変調を行なって対物レンズで絞り、回転横移動し
ているレジスト板に露光を行なう光ディスク原盤のピッ
ト形成方法において、長いピットを露光する時に、短い
ピットのパルスを繰り返し露光することを特徴とする光
ディスク原盤のピット形成方法。 - 【請求項２】 前記短いピットを１Ｔとした場合に、該
１Ｔピットのパルス変調の周期を（１／４）Ｔ以下で繰
り返すことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤
のピット形成方法。 - 【請求項３】 前記パルス変調に電気光学変調器を用い
て露光することを特徴とする請求項１又は２記載の光デ
ィスク原盤のピット形成方法。 - 【請求項４】 レーザ光源と、該レーザ光源からのレー
ザ光を光量変調する光量変調器と、該光量変調器からの
レーザ光をパルス変調するパルス変調器と、該パルス変
調器からのレーザ光をレジスト板に絞って露光する対物
レンズとから成り、前記レーザ光源からのレーザ光を２
分割し、前記光量変調器と前記パルス変調器を２つの光
学系を用いて露光することを特徴とする原盤露光機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11693592A JPH05290412A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 光ディスク原盤のピット形成方法及び原盤露光機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11693592A JPH05290412A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 光ディスク原盤のピット形成方法及び原盤露光機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290412A true JPH05290412A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14699349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11693592A Pending JPH05290412A (ja) | 1992-04-09 | 1992-04-09 | 光ディスク原盤のピット形成方法及び原盤露光機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290412A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980023062A (ko) * | 1996-09-25 | 1998-07-06 | 구자홍 | 광기록 장치의 광원 제어 방법 |
| US7297472B2 (en) * | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
-
1992
- 1992-04-09 JP JP11693592A patent/JPH05290412A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980023062A (ko) * | 1996-09-25 | 1998-07-06 | 구자홍 | 광기록 장치의 광원 제어 방법 |
| US7297472B2 (en) * | 2002-03-11 | 2007-11-20 | Tdk Corporation | Processing method for photoresist master, production method for recording medium-use mater, production method for recording medium, photoresist master, recording medium-use master and recording medium |
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