JPH05290777A - 真空室焼きだし制御装置 - Google Patents
真空室焼きだし制御装置Info
- Publication number
- JPH05290777A JPH05290777A JP4085481A JP8548192A JPH05290777A JP H05290777 A JPH05290777 A JP H05290777A JP 4085481 A JP4085481 A JP 4085481A JP 8548192 A JP8548192 A JP 8548192A JP H05290777 A JPH05290777 A JP H05290777A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- exhaust system
- vacuum
- heater
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 短時間に適切な焼きだし処理を行うことがで
きる真空室の焼きだし制御装置を実現する。 【構成】 バルブ４が開けられ、第１の排気系により真
空室の排気が行われる。第１の排気系２による排気動作
により、真空室は所定の真空度にまで排気され、ヒータ
ー５がオンとされる。この時、バルブ４は開けられてお
り、第１の排気系２による排気が継続して行われてい
る。制御回路７のメモリ９には、ヒーター５がオンされ
たときの真空室１内の圧力Ｐ１よりΔＰ低い圧力Ｐ２の
値が記憶されている。制御回路７は、真空計８によって
測定された真空室１内の圧力とメモリ９に記憶された圧
力の値を比較し、真空室１内の圧力がＰ２となったと
き、ヒーター５をオフにする。その後、制御回路７はバ
ルブ４を閉じると共に、第２の排気系３を動作させ、第
２の排気系３によって真空室をより高真空に排気する。
きる真空室の焼きだし制御装置を実現する。 【構成】 バルブ４が開けられ、第１の排気系により真
空室の排気が行われる。第１の排気系２による排気動作
により、真空室は所定の真空度にまで排気され、ヒータ
ー５がオンとされる。この時、バルブ４は開けられてお
り、第１の排気系２による排気が継続して行われてい
る。制御回路７のメモリ９には、ヒーター５がオンされ
たときの真空室１内の圧力Ｐ１よりΔＰ低い圧力Ｐ２の
値が記憶されている。制御回路７は、真空計８によって
測定された真空室１内の圧力とメモリ９に記憶された圧
力の値を比較し、真空室１内の圧力がＰ２となったと
き、ヒーター５をオフにする。その後、制御回路７はバ
ルブ４を閉じると共に、第２の排気系３を動作させ、第
２の排気系３によって真空室をより高真空に排気する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム描画装置や
電子顕微鏡の電子銃室などの排気を行う際に用いて好適
な真空室焼きだし制御装置に関する。
電子顕微鏡の電子銃室などの排気を行う際に用いて好適
な真空室焼きだし制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は従来の真空室焼きだし制御系を示
しており、１は電子ビーム描画装置や電子顕微鏡の電子
銃室などの真空室である。真空室１は、ターボ分子ポン
プや拡散ポンプなどの第１の排気系２と、スパッタイオ
ンポンプなどの第２の排気系３によって排気される。真
空室１と第１の排気系２との間には、バルブ４が設けら
れている。また、真空室１と第２の排気系のまわりに
は、焼きだし用のヒーター５が配置されている。ヒータ
ー５には、加熱電源６が接続されており、電源６は制御
回路７によって制御される。制御回路７は、バルブ４の
開閉と、第２の排気系３の動作も制御できるように構成
されている。このような構成の動作を次に説明する。
しており、１は電子ビーム描画装置や電子顕微鏡の電子
銃室などの真空室である。真空室１は、ターボ分子ポン
プや拡散ポンプなどの第１の排気系２と、スパッタイオ
ンポンプなどの第２の排気系３によって排気される。真
空室１と第１の排気系２との間には、バルブ４が設けら
れている。また、真空室１と第２の排気系のまわりに
は、焼きだし用のヒーター５が配置されている。ヒータ
ー５には、加熱電源６が接続されており、電源６は制御
回路７によって制御される。制御回路７は、バルブ４の
開閉と、第２の排気系３の動作も制御できるように構成
されている。このような構成の動作を次に説明する。
【０００３】まず、バルブ４が開けられ、第１の排気系
２により真空室の排気が行われる。図２は真空室１の真
空度の変化を示しており、横軸は時間、縦軸は真空室１
の圧力である。第１の排気系２による排気動作により、
真空室１は所定の真空度にまで排気され、時刻ｔ１の時
にヒーター５の加熱電源６が制御され、ヒーター５がオ
ンとされる。この時、バルブ４は開けられており、第１
の排気系２による排気が継続して行われている。制御回
路７は、ヒーター５のオンの時刻ｔ１から予め定めた時
間Ｔが経過した後の時刻ｔ２に、ヒーター５の加熱を停
止する。この間、真空室１内は焼きだし処理が行われ、
一時的に圧力が高くなるものの、時刻ｔ １には焼きだし
開始時点の圧力より低くなる。逆にいえば、ヒーター５
のオンの時間Ｔは、焼き出しによって真空室１内の圧力
が焼きだし前の圧力より低くなる時間に設定されてい
る。ヒーター５をオフにしてから所定時間経過後の時刻
ｔ３に、制御回路７はバルブ４を閉じると共に、第２の
排気系３を動作させ、第２の排気系３によって真空室１
をより高真空に排気する。
２により真空室の排気が行われる。図２は真空室１の真
空度の変化を示しており、横軸は時間、縦軸は真空室１
の圧力である。第１の排気系２による排気動作により、
真空室１は所定の真空度にまで排気され、時刻ｔ１の時
にヒーター５の加熱電源６が制御され、ヒーター５がオ
ンとされる。この時、バルブ４は開けられており、第１
の排気系２による排気が継続して行われている。制御回
路７は、ヒーター５のオンの時刻ｔ１から予め定めた時
間Ｔが経過した後の時刻ｔ２に、ヒーター５の加熱を停
止する。この間、真空室１内は焼きだし処理が行われ、
一時的に圧力が高くなるものの、時刻ｔ １には焼きだし
開始時点の圧力より低くなる。逆にいえば、ヒーター５
のオンの時間Ｔは、焼き出しによって真空室１内の圧力
が焼きだし前の圧力より低くなる時間に設定されてい
る。ヒーター５をオフにしてから所定時間経過後の時刻
ｔ３に、制御回路７はバルブ４を閉じると共に、第２の
排気系３を動作させ、第２の排気系３によって真空室１
をより高真空に排気する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記したヒーター５の
オンの時間Ｔは、経験的に決められており、時として真
空室が望ましい圧力以下に排気されていないにもかかわ
らず、ヒーター５がオフにされ、また、圧力の高い状態
で第２の排気系による排気が開始されてしまい、十分な
焼きだし処理が行われないため、所定の到達圧力を得る
ことができなくなる。また、時間Ｔを過度に長く設定す
ると、トータルの排気時間が長くなる欠点を生じる。
オンの時間Ｔは、経験的に決められており、時として真
空室が望ましい圧力以下に排気されていないにもかかわ
らず、ヒーター５がオフにされ、また、圧力の高い状態
で第２の排気系による排気が開始されてしまい、十分な
焼きだし処理が行われないため、所定の到達圧力を得る
ことができなくなる。また、時間Ｔを過度に長く設定す
ると、トータルの排気時間が長くなる欠点を生じる。
【０００５】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、短時間に適切な焼きだし処理を行
うことができる真空室の焼きだし制御装置を実現するに
ある。
もので、その目的は、短時間に適切な焼きだし処理を行
うことができる真空室の焼きだし制御装置を実現するに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく真空室の
焼きだし制御装置は、真空室と、真空室を焼きだし処理
するためのヒーターと、真空室を排気するための第１の
排気系と第２の排気系と、第１の排気系と真空室との間
に設けられたバルブと、真空室内の真空度を測定する真
空計と、真空計の測定値が供給されると共に、ヒーター
のオンオフ，バルブの開閉の制御，第２の排気系の制御
を行う制御回路とを備えており、制御回路は、バルブを
開けた状態でヒーターをオンし、真空室内の真空度が所
定レベルとなったとき、ヒーターをオフし、その後、バ
ルブを閉じ、第２の排気系の動作を開始するように制御
可能であることを特徴としている。
焼きだし制御装置は、真空室と、真空室を焼きだし処理
するためのヒーターと、真空室を排気するための第１の
排気系と第２の排気系と、第１の排気系と真空室との間
に設けられたバルブと、真空室内の真空度を測定する真
空計と、真空計の測定値が供給されると共に、ヒーター
のオンオフ，バルブの開閉の制御，第２の排気系の制御
を行う制御回路とを備えており、制御回路は、バルブを
開けた状態でヒーターをオンし、真空室内の真空度が所
定レベルとなったとき、ヒーターをオフし、その後、バ
ルブを閉じ、第２の排気系の動作を開始するように制御
可能であることを特徴としている。
【０００７】
【作用】本発明に基づく真空室の焼きだし制御装置は、
真空室を焼きだし処理するためのヒーターをオンし、真
空室内の真空度が所定レベルとなったとき、ヒーターを
オフし、その後、第１の排気系に接続されたバルブを閉
じ、第２の排気系の動作を開始する。
真空室を焼きだし処理するためのヒーターをオンし、真
空室内の真空度が所定レベルとなったとき、ヒーターを
オフし、その後、第１の排気系に接続されたバルブを閉
じ、第２の排気系の動作を開始する。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図３は、本発明の一実施例を示しており、
図１の従来装置と同一部分は同一番号を付し、その詳細
な説明は省略する。この実施例では、真空室１に真空室
１内部の真空度を測定する真空計８が接続されており、
また、制御回路７にはメモリ９が接続されている。この
ような構成の動作を次に説明する。
に説明する。図３は、本発明の一実施例を示しており、
図１の従来装置と同一部分は同一番号を付し、その詳細
な説明は省略する。この実施例では、真空室１に真空室
１内部の真空度を測定する真空計８が接続されており、
また、制御回路７にはメモリ９が接続されている。この
ような構成の動作を次に説明する。
【０００９】図１に示した従来装置と同様に、まず、バ
ルブ４が開けられ、第１の排気系２により真空室の排気
が行われる。第１の排気系２による排気動作により、真
空室１は所定の真空度にまで排気され、図２に示すよう
に、時間ｔ１の時にヒーター５の加熱電源６が制御さ
れ、ヒーター５がオンとされる。この時、バルブ４は開
けられており、第１の排気系２による排気が継続して行
われている。制御回路７のメモリ９には、ヒーター５が
オンされたときの真空室１内の圧力Ｐ１よりΔＰ低い圧
力Ｐ２の値が記憶されている。制御回路７は、真空計８
によって測定された真空室１内の圧力とメモリ９に記憶
された圧力の値を常に比較しており、真空室１内の圧力
がＰ２となったとき、ヒーター５の電源６を制御し、ヒ
ーター５をオフにする。ヒーター５をオフにしてから所
定時間経過後の時刻ｔ３に、制御回路７はバルブ４を閉
じると共に、第２の排気系３を動作させ、第２の排気系
３によって真空室１をより高真空に排気する。
ルブ４が開けられ、第１の排気系２により真空室の排気
が行われる。第１の排気系２による排気動作により、真
空室１は所定の真空度にまで排気され、図２に示すよう
に、時間ｔ１の時にヒーター５の加熱電源６が制御さ
れ、ヒーター５がオンとされる。この時、バルブ４は開
けられており、第１の排気系２による排気が継続して行
われている。制御回路７のメモリ９には、ヒーター５が
オンされたときの真空室１内の圧力Ｐ１よりΔＰ低い圧
力Ｐ２の値が記憶されている。制御回路７は、真空計８
によって測定された真空室１内の圧力とメモリ９に記憶
された圧力の値を常に比較しており、真空室１内の圧力
がＰ２となったとき、ヒーター５の電源６を制御し、ヒ
ーター５をオフにする。ヒーター５をオフにしてから所
定時間経過後の時刻ｔ３に、制御回路７はバルブ４を閉
じると共に、第２の排気系３を動作させ、第２の排気系
３によって真空室１をより高真空に排気する。
【００１０】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、電子銃室の排
気を例に説明したが、他の真空室の排気系にも本発明を
適用することができる。
明はこの実施例に限定されない。例えば、電子銃室の排
気を例に説明したが、他の真空室の排気系にも本発明を
適用することができる。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく真
空室の焼きだし制御装置は、真空室を焼きだし処理する
ためのヒーターをオンし、真空室内の真空度が所定レベ
ルとなったとき、ヒーターをオフし、その後、第１の排
気系に接続されたバルブを閉じ、第２の排気系の動作を
開始するように構成したので、第２の排気系による排気
動作を望ましい真空度となったときに行うことができる
ので、短時間に適切な焼きだし処理を行うことができ
る。
空室の焼きだし制御装置は、真空室を焼きだし処理する
ためのヒーターをオンし、真空室内の真空度が所定レベ
ルとなったとき、ヒーターをオフし、その後、第１の排
気系に接続されたバルブを閉じ、第２の排気系の動作を
開始するように構成したので、第２の排気系による排気
動作を望ましい真空度となったときに行うことができる
ので、短時間に適切な焼きだし処理を行うことができ
る。
【図１】従来の真空室の焼きだし制御装置を示す図であ
る。
る。
【図２】真空室の圧力変化を示す図である。
【図３】本発明に基づく真空室の焼きだし制御装置の一
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
１ 真空室 ２ 第１の排気系 ３ 第２の排気系 ４ バルブ ５ ヒーター ６ 加熱電源 ７ 制御回路 ８ 真空計 ９ メモリ
Claims (1)
- 【請求項１】 真空室と、真空室を焼きだし処理するた
めのヒーターと、真空室を排気するための第１の排気系
と第２の排気系と、第１の排気系と真空室との間に設け
られたバルブと、真空室内の真空度を測定する真空計
と、真空計の測定値が供給されると共に、ヒーターのオ
ンオフ，バルブの開閉の制御，第２の排気系の制御を行
う制御回路とを備えており、制御回路は、バルブを開け
た状態でヒーターをオンし、その後、真空室内の真空度
が所定レベルとなったとき、ヒーターをオフし、バルブ
を閉じ、第２の排気系の動作を開始するように制御可能
であることを特徴とする真空室焼きだし制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4085481A JPH05290777A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 真空室焼きだし制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4085481A JPH05290777A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 真空室焼きだし制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290777A true JPH05290777A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=13860107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4085481A Withdrawn JPH05290777A (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 真空室焼きだし制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290777A (ja) |
-
1992
- 1992-04-07 JP JP4085481A patent/JPH05290777A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |