JPH05291642A - 電歪効果素子およびその製造方法 - Google Patents
電歪効果素子およびその製造方法Info
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- JPH05291642A JPH05291642A JP8690092A JP8690092A JPH05291642A JP H05291642 A JPH05291642 A JP H05291642A JP 8690092 A JP8690092 A JP 8690092A JP 8690092 A JP8690092 A JP 8690092A JP H05291642 A JPH05291642 A JP H05291642A
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Landscapes
- General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 積層体側面に露出した内部電極を一層おきに
外部電極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部
電極と外部電極を高い信頼性で絶縁する方法を提案す
る。 【構成】 電歪効果層と内部電極を交互に積層し、内部
電極の端部が露出している2つの面と、一層おきに内部
電極が露出している2つの面を有する積層体を作製し、
該積層体の一層おきに内部電極が露出している2つの面
に仮設外部電極を形成する。次に、一方の仮設外部電極
を陰極として、メッキにより該積層体の一つの面の内部
電極露出部に一層おきに金属を析出させた後、他方の仮
設外部電極を陰極として、当該積層体のメッキを析出さ
せた面と異なる内部電極露出部にメッキにより金属を析
出させる。該メッキを行った面において、メッキで被わ
れていない部分に、析出金属の一部が表面に露出するよ
うに、ほぼ均一な厚さに絶縁層を塗布し、焼成する。次
に、該露出した部分から析出金属を溶解させ取り除くこ
とにより内部電極を一層おきに露出させ、最後に、金属
ペーストの焼成により外部電極を形成する。
外部電極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部
電極と外部電極を高い信頼性で絶縁する方法を提案す
る。 【構成】 電歪効果層と内部電極を交互に積層し、内部
電極の端部が露出している2つの面と、一層おきに内部
電極が露出している2つの面を有する積層体を作製し、
該積層体の一層おきに内部電極が露出している2つの面
に仮設外部電極を形成する。次に、一方の仮設外部電極
を陰極として、メッキにより該積層体の一つの面の内部
電極露出部に一層おきに金属を析出させた後、他方の仮
設外部電極を陰極として、当該積層体のメッキを析出さ
せた面と異なる内部電極露出部にメッキにより金属を析
出させる。該メッキを行った面において、メッキで被わ
れていない部分に、析出金属の一部が表面に露出するよ
うに、ほぼ均一な厚さに絶縁層を塗布し、焼成する。次
に、該露出した部分から析出金属を溶解させ取り除くこ
とにより内部電極を一層おきに露出させ、最後に、金属
ペーストの焼成により外部電極を形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、縦効果を利用した電歪
効果素子およびその製造方法に関するものであり、特
に、積層体側面に露出した内部電極を一層おきに外部電
極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部電極と
外部電極を高い信頼性で絶縁する方法に関するものであ
る。
効果素子およびその製造方法に関するものであり、特
に、積層体側面に露出した内部電極を一層おきに外部電
極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部電極と
外部電極を高い信頼性で絶縁する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】縦効果を利用した電歪効果素子の構造に
おいては歪発生時の応力集中を防ぐため、電歪効果素子
の断面積と同じ大きさの断面積の内部電極を持つ、いわ
ゆる全面電極構造が有効であるといわれている(例え
ば、特開昭58−196074号公報参照)。また、低
電圧で高い電界を発生させ大きな歪みを得るためには内
部電極相互の間隔を100μm以下にする必要がある。
しかしながら、上記2つの要求を同時に満足させるため
には、素子断面と同じ面積の内部電極を一層おきに電気
的に並列接続しなければならず、そのためには特別の工
夫を必要とする。すなわち、積層コンデンサーの作成方
法を応用して作られた電歪効果素子は、隣接する電極間
の間隔が10μmないし100μmであり、さらに露出
している電極の厚さは僅か数μmであるため、一層おき
に電極(リード線)を取り出すことは極めて困難であ
る。
おいては歪発生時の応力集中を防ぐため、電歪効果素子
の断面積と同じ大きさの断面積の内部電極を持つ、いわ
ゆる全面電極構造が有効であるといわれている(例え
ば、特開昭58−196074号公報参照)。また、低
電圧で高い電界を発生させ大きな歪みを得るためには内
部電極相互の間隔を100μm以下にする必要がある。
しかしながら、上記2つの要求を同時に満足させるため
には、素子断面と同じ面積の内部電極を一層おきに電気
的に並列接続しなければならず、そのためには特別の工
夫を必要とする。すなわち、積層コンデンサーの作成方
法を応用して作られた電歪効果素子は、隣接する電極間
の間隔が10μmないし100μmであり、さらに露出
している電極の厚さは僅か数μmであるため、一層おき
に電極(リード線)を取り出すことは極めて困難であ
る。
【0003】この問題を解決する方法として、特公平2
−56826公報には、このような電歪材料積層体の側
面に露出した内部電極の端面に、メッキにより一層おき
に金属を帯状に析出することを特徴とする電気的接続方
法が提案されている。
−56826公報には、このような電歪材料積層体の側
面に露出した内部電極の端面に、メッキにより一層おき
に金属を帯状に析出することを特徴とする電気的接続方
法が提案されている。
【0004】図7はその方法により接続した電歪効果素
子の縦断面図である。まず、図7に示す電歪効果素子の
製造方法について説明する。図8に示すような電歪材料
1、2と内部電極3、4とを交互に積層した積層体を積
層セラミックコンデンサーの製造技術を応用して作成す
る。多数の内部電極3、4は表面と裏面の相対する側面
に露出しており、また他の側面(他の対向する2面)に
形成した2つの仮設外部電極13、14に一層おきに交
互に接続している。メッキ浴中にこの積層体と対向電極
用金属板とを設置し、この対向電極用金属板から仮設外
部電極13、14に向けて直流電圧を印加すると、メッ
キ浴中のプラスに帯電した金属イオンは内部電極3、4
上に析出し析出金属5、6となる。次に析出金属5、6
を形成した面に絶縁層7、8を塗布し、焼成する。図9
は析出金属5上に絶縁層7を焼成した積層体を示す部分
断面図である。次に析出金属5、6上の絶縁層7、8を
析出金属5、6が露出するまで削り落とす。このような
積層体を仮設外部電極13、14の付いた面と平行な面
で切断すると、両端の仮設外部電極の付いた小片を除く
部分が電歪効果素子となる。図10に示すように析出金
属5および絶縁層7を施した面に外部電極9を形成する
と素子内部の多数の内部電極は一層おきに互いに接続さ
れる。それらの間に電圧を印加することにより素子が駆
動される。
子の縦断面図である。まず、図7に示す電歪効果素子の
製造方法について説明する。図8に示すような電歪材料
1、2と内部電極3、4とを交互に積層した積層体を積
層セラミックコンデンサーの製造技術を応用して作成す
る。多数の内部電極3、4は表面と裏面の相対する側面
に露出しており、また他の側面(他の対向する2面)に
形成した2つの仮設外部電極13、14に一層おきに交
互に接続している。メッキ浴中にこの積層体と対向電極
用金属板とを設置し、この対向電極用金属板から仮設外
部電極13、14に向けて直流電圧を印加すると、メッ
キ浴中のプラスに帯電した金属イオンは内部電極3、4
上に析出し析出金属5、6となる。次に析出金属5、6
を形成した面に絶縁層7、8を塗布し、焼成する。図9
は析出金属5上に絶縁層7を焼成した積層体を示す部分
断面図である。次に析出金属5、6上の絶縁層7、8を
析出金属5、6が露出するまで削り落とす。このような
積層体を仮設外部電極13、14の付いた面と平行な面
で切断すると、両端の仮設外部電極の付いた小片を除く
部分が電歪効果素子となる。図10に示すように析出金
属5および絶縁層7を施した面に外部電極9を形成する
と素子内部の多数の内部電極は一層おきに互いに接続さ
れる。それらの間に電圧を印加することにより素子が駆
動される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図9で
示したように、析出金属5、6上の絶縁層7、8を析出
金属5、6が露出するまで削り落とす際、削り落とす量
が大きいと内部電極と外部電極との距離(例えば、図1
0の内部電極4と外部電極9の距離、すなわち、絶縁層
7の厚さ)が小さくなり、素子化後、電圧を印加した
時、絶縁層の耐電圧を越えて絶縁破壊が起きる危険があ
る。さらに、外部電極と内部電極との距離の一部が短い
場合も同様に絶縁破壊が起きるため、析出金属5、6が
形成された面に平行に加工する必要がある。また、削り
落とす条件が不適当の場合、絶縁層内部にクラックが発
生し、絶縁破壊に到る危険性がある。従って、上記構造
の素子作製において、絶縁層の削り落とし加工時の、削
り落とし量、平行度、加工速度等、を厳密に管理する必
要があり、歩留り良く、安定に量産することが困難であ
るという問題があった。さらに、素子を駆動した場合、
図10で示す電歪効果層(例えば、1、2)は変形する
が、析出金属5および絶縁層7は変形し難いため、析出
金属5と内部電極の接続部、および絶縁層7と電歪効果
層の界面で応力が発生する。このため、該接続部が剥離
し、内部電極と外部電極の接続信頼性が低下したり、絶
縁層内部にクラックが発生し、絶縁層の絶縁信頼性が低
下するという問題があった。本発明は、上記問題点を解
決し、積層体側面に露出した内部電極を一層おきに外部
電極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部電極
と外部電極を高い信頼性で絶縁する方法を提案するもの
である。
示したように、析出金属5、6上の絶縁層7、8を析出
金属5、6が露出するまで削り落とす際、削り落とす量
が大きいと内部電極と外部電極との距離(例えば、図1
0の内部電極4と外部電極9の距離、すなわち、絶縁層
7の厚さ)が小さくなり、素子化後、電圧を印加した
時、絶縁層の耐電圧を越えて絶縁破壊が起きる危険があ
る。さらに、外部電極と内部電極との距離の一部が短い
場合も同様に絶縁破壊が起きるため、析出金属5、6が
形成された面に平行に加工する必要がある。また、削り
落とす条件が不適当の場合、絶縁層内部にクラックが発
生し、絶縁破壊に到る危険性がある。従って、上記構造
の素子作製において、絶縁層の削り落とし加工時の、削
り落とし量、平行度、加工速度等、を厳密に管理する必
要があり、歩留り良く、安定に量産することが困難であ
るという問題があった。さらに、素子を駆動した場合、
図10で示す電歪効果層(例えば、1、2)は変形する
が、析出金属5および絶縁層7は変形し難いため、析出
金属5と内部電極の接続部、および絶縁層7と電歪効果
層の界面で応力が発生する。このため、該接続部が剥離
し、内部電極と外部電極の接続信頼性が低下したり、絶
縁層内部にクラックが発生し、絶縁層の絶縁信頼性が低
下するという問題があった。本発明は、上記問題点を解
決し、積層体側面に露出した内部電極を一層おきに外部
電極と確実に接続し、かつ、接続されていない内部電極
と外部電極を高い信頼性で絶縁する方法を提案するもの
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決する方
法として、本発明では電歪効果層と内部電極を交互に積
層し、内部電極の端部が露出している2つの面と、一層
おきに内部電極が露出している2つの面を有する積層体
を作製し、該積層体の一層おきに内部電極が露出してい
る2つの面に仮設外部電極を形成する。次に、一方の仮
設外部電極を陰極として、メッキにより該積層体の一つ
の面の内部電極露出部に一層おきに金属を析出させた
後、他方の仮設外部電極を陰極として、当該積層体のメ
ッキを析出させた面と異なる内部電極露出部にメッキに
より金属を析出させる。該メッキを行った面において、
メッキで被われていない部分に、析出金属の一部が表面
に露出するように、ほぼ均一な厚さに絶縁層を塗布し、
焼成する。次に、該露出した部分から析出金属を溶解さ
せ取り除くことにより内部電極を一層おきに露出させ、
最後に、金属ペーストの焼成により外部電極を形成し、
内部電極を一層おきに接続するものである。
法として、本発明では電歪効果層と内部電極を交互に積
層し、内部電極の端部が露出している2つの面と、一層
おきに内部電極が露出している2つの面を有する積層体
を作製し、該積層体の一層おきに内部電極が露出してい
る2つの面に仮設外部電極を形成する。次に、一方の仮
設外部電極を陰極として、メッキにより該積層体の一つ
の面の内部電極露出部に一層おきに金属を析出させた
後、他方の仮設外部電極を陰極として、当該積層体のメ
ッキを析出させた面と異なる内部電極露出部にメッキに
より金属を析出させる。該メッキを行った面において、
メッキで被われていない部分に、析出金属の一部が表面
に露出するように、ほぼ均一な厚さに絶縁層を塗布し、
焼成する。次に、該露出した部分から析出金属を溶解さ
せ取り除くことにより内部電極を一層おきに露出させ、
最後に、金属ペーストの焼成により外部電極を形成し、
内部電極を一層おきに接続するものである。
【0007】
【作用】本発明によれば、析出金属の一部が表面に露出
しているため、絶縁層の削り落とし加工の必要がなく、
従来問題となっていた、加工条件の不適当による絶縁層
の絶縁破壊の問題が解消でき、かつ、素子の駆動時に変
形し難い析出金属を除去しているため、外部電極と内部
電極の接続部や絶縁層と電歪効果層の界面に発生する応
力による、外部電極と内部電極の接続信頼性の低下、絶
縁層の絶縁信頼性低下の問題が解決できる。
しているため、絶縁層の削り落とし加工の必要がなく、
従来問題となっていた、加工条件の不適当による絶縁層
の絶縁破壊の問題が解消でき、かつ、素子の駆動時に変
形し難い析出金属を除去しているため、外部電極と内部
電極の接続部や絶縁層と電歪効果層の界面に発生する応
力による、外部電極と内部電極の接続信頼性の低下、絶
縁層の絶縁信頼性低下の問題が解決できる。
【0008】
【実施例】以下、実施例に従い本発明を詳細に説明す
る。Pb(Zr、Ti)O3を主成分とする電歪材料粉
末に、有機バインダーとしてPVB(ポリビニルブチラ
ール)、可塑剤としてBPBG(ブチルフタリルブチル
グリコレート)、有機溶剤としてトリクレンを各々添加
して混合し、スラリーを作成した。このスラリーをドク
ターブレード法によりキャリアフィルム上に厚さ100
μmのシート状に形成した。これをフィルムから剥離
し、図1に(A)または(B)で示すように、一端部に
電歪効果層1または2の表面が露出残存するようなパタ
ーンでその片面に銀−パラジュームペーストまたは白金
ペーストを印刷し内部電極3または4を形成した。これ
を順次数十枚積層して加熱圧着する。その後、脱バイン
ダーを行い、1100〜1250℃で1〜5時間、酸素
中にて焼成して、図8に示すような、左右両側面におい
て内部電極が一層おきに露出した積層体を作成し、前記
両側面に、露出した内部電極が互いに接続されるように
銀ペーストを塗布、焼成することにより仮設外部電極1
3、14を形成した。
る。Pb(Zr、Ti)O3を主成分とする電歪材料粉
末に、有機バインダーとしてPVB(ポリビニルブチラ
ール)、可塑剤としてBPBG(ブチルフタリルブチル
グリコレート)、有機溶剤としてトリクレンを各々添加
して混合し、スラリーを作成した。このスラリーをドク
ターブレード法によりキャリアフィルム上に厚さ100
μmのシート状に形成した。これをフィルムから剥離
し、図1に(A)または(B)で示すように、一端部に
電歪効果層1または2の表面が露出残存するようなパタ
ーンでその片面に銀−パラジュームペーストまたは白金
ペーストを印刷し内部電極3または4を形成した。これ
を順次数十枚積層して加熱圧着する。その後、脱バイン
ダーを行い、1100〜1250℃で1〜5時間、酸素
中にて焼成して、図8に示すような、左右両側面におい
て内部電極が一層おきに露出した積層体を作成し、前記
両側面に、露出した内部電極が互いに接続されるように
銀ペーストを塗布、焼成することにより仮設外部電極1
3、14を形成した。
【0009】次に、前記積層体の仮設外部電極の付いて
いない側面のうち一方をマスキング材によりマスキング
した後、対向面にメッキを行う。メッキ液の組成は、純
水1lに対して、硫酸ニッケル300g、塩化ニッケル
45g、ほう酸45g、である。このメッキ液中に前記
積層体およびニッケル製の対向電極を浸漬し、仮設外部
電極13(または14)をマイナスに、対向電極板をプ
ラスに接続し、電流密度40A/dm2で20分間直流
電圧を印加することにより、高さ30μm、幅50μm
のニッケルメッキの帯状析出物5(または6)が内部電
極上に一層おきに形成される。図2はニッケルメッキを
行った積層体の外観図である。図中番号5はニッケルの
帯状析出物を示す。
いない側面のうち一方をマスキング材によりマスキング
した後、対向面にメッキを行う。メッキ液の組成は、純
水1lに対して、硫酸ニッケル300g、塩化ニッケル
45g、ほう酸45g、である。このメッキ液中に前記
積層体およびニッケル製の対向電極を浸漬し、仮設外部
電極13(または14)をマイナスに、対向電極板をプ
ラスに接続し、電流密度40A/dm2で20分間直流
電圧を印加することにより、高さ30μm、幅50μm
のニッケルメッキの帯状析出物5(または6)が内部電
極上に一層おきに形成される。図2はニッケルメッキを
行った積層体の外観図である。図中番号5はニッケルの
帯状析出物を示す。
【0010】次に、マスキングを施した裏側の側面に
は、前回とは異なる仮設外部電極14(または13)を
用い、上記と同様の手段によってニッケルメッキを形成
する。次に、図3に示すように前記ニッケルメッキを行
った2面に絶縁材料7をほぼ均一な厚さに塗布し、焼成
する。絶縁材料の塗布は、ガラスペーストのスクリーン
印刷によった。スクリーン印刷によれば、スクリーンの
膜厚や塗布回数の設定によって、ガラスペーストの印刷
後の厚みを再現性良く制御することが可能である。析出
金属の一部をガラス上に容易に露出させるためには、ガ
ラスペースト中の溶剤量を増やすことが有効であり、選
択的に電歪効果層2の露出表面には密着性良く、他方、
析出金属5に対しては密着性を低下させることができ
る。また、焼成温度は流動性が大きい流動点以上である
ことが好ましい。本実施例では、酸化鉛とシリカを主成
分とするガラスペーストに、溶剤として酢酸ブチルカル
ビトールをペースト重量に対して1%添加したペースト
で印刷し、酸素中、850℃で焼成した。次に、上記積
層体を10%塩化ニッケル溶液に浸漬し、前記仮設外部
電極13、14を陽極に、ニッケル製の対向電極板を陰
極に接続し、電流密度40A/dm2で30分間直流電
圧を印加し、図4に示すように、上記積層体の露出した
部分から析出金属5、6を電界エッチングにより取り除
いた。このようにして得られた、絶縁層の表面が焼成面
である積層体ブロックを図5に点線部分で示すように仮
設外部電極13または14面にほぼ平行に切断し、単素
子とした後、絶縁層の表面に銀ペーストまたは金−白金
ペーストを塗布し、800〜900℃で0.5〜1時
間、大気中にて焼成することにより、図6に示すよう
に、外部電極9、10を形成した。本発明および従来法
であるメッキによる方法(従来法)によって素子を、そ
れぞれ100個作成した場合の不良個数および不良内容
を表1に示す。本発明による素子では、不良は認められ
なかった。しかし、従来法により作成した素子では、絶
縁層の加工条件の不適当による絶縁抵抗不足(導通を含
む)、絶縁破壊の頻度が非常に高くなっている。
は、前回とは異なる仮設外部電極14(または13)を
用い、上記と同様の手段によってニッケルメッキを形成
する。次に、図3に示すように前記ニッケルメッキを行
った2面に絶縁材料7をほぼ均一な厚さに塗布し、焼成
する。絶縁材料の塗布は、ガラスペーストのスクリーン
印刷によった。スクリーン印刷によれば、スクリーンの
膜厚や塗布回数の設定によって、ガラスペーストの印刷
後の厚みを再現性良く制御することが可能である。析出
金属の一部をガラス上に容易に露出させるためには、ガ
ラスペースト中の溶剤量を増やすことが有効であり、選
択的に電歪効果層2の露出表面には密着性良く、他方、
析出金属5に対しては密着性を低下させることができ
る。また、焼成温度は流動性が大きい流動点以上である
ことが好ましい。本実施例では、酸化鉛とシリカを主成
分とするガラスペーストに、溶剤として酢酸ブチルカル
ビトールをペースト重量に対して1%添加したペースト
で印刷し、酸素中、850℃で焼成した。次に、上記積
層体を10%塩化ニッケル溶液に浸漬し、前記仮設外部
電極13、14を陽極に、ニッケル製の対向電極板を陰
極に接続し、電流密度40A/dm2で30分間直流電
圧を印加し、図4に示すように、上記積層体の露出した
部分から析出金属5、6を電界エッチングにより取り除
いた。このようにして得られた、絶縁層の表面が焼成面
である積層体ブロックを図5に点線部分で示すように仮
設外部電極13または14面にほぼ平行に切断し、単素
子とした後、絶縁層の表面に銀ペーストまたは金−白金
ペーストを塗布し、800〜900℃で0.5〜1時
間、大気中にて焼成することにより、図6に示すよう
に、外部電極9、10を形成した。本発明および従来法
であるメッキによる方法(従来法)によって素子を、そ
れぞれ100個作成した場合の不良個数および不良内容
を表1に示す。本発明による素子では、不良は認められ
なかった。しかし、従来法により作成した素子では、絶
縁層の加工条件の不適当による絶縁抵抗不足(導通を含
む)、絶縁破壊の頻度が非常に高くなっている。
【0011】
【表1】 本実施例では、絶縁材料の塗布方法にガラスペーストの
スクリーン印刷を採用したが、塗布量の再現性および塗
布面内の膜厚均一性があれば、ディップ(浸漬)法等
の、他の塗布方法でも可能である。
スクリーン印刷を採用したが、塗布量の再現性および塗
布面内の膜厚均一性があれば、ディップ(浸漬)法等
の、他の塗布方法でも可能である。
【0012】
【発明の効果】本発明により、絶縁層の削り落とし加工
が不要となるため、加工によって生じる絶縁信頼性の低
下は起こらない。従って、歩留りの向上が期待できる。
また、素子の駆動時に変形し難い析出金属を除去してい
るため、外部電極と内部電極の接続部や絶縁層と電歪効
果層の界面に発生する応力が低減され、外部電極と内部
電極の接続信頼性、絶縁層の絶縁信頼性が向上する。さ
らに、析出金属の一部のみが絶縁層の表面に露出してい
ればよいため、メッキ高さの不均一性は不問である。
が不要となるため、加工によって生じる絶縁信頼性の低
下は起こらない。従って、歩留りの向上が期待できる。
また、素子の駆動時に変形し難い析出金属を除去してい
るため、外部電極と内部電極の接続部や絶縁層と電歪効
果層の界面に発生する応力が低減され、外部電極と内部
電極の接続信頼性、絶縁層の絶縁信頼性が向上する。さ
らに、析出金属の一部のみが絶縁層の表面に露出してい
ればよいため、メッキ高さの不均一性は不問である。
【図1】本発明における交互電極積層体ブロックの内部
電極パターンを示す図である。
電極パターンを示す図である。
【図2】交互電極積層体ブロックに一層おきにメッキを
行った後の外観説明図である。
行った後の外観説明図である。
【図3】本発明におけるニッケルメッキ後に絶縁材料を
施したときの部分断面説明図である。
施したときの部分断面説明図である。
【図4】本発明における電解研磨により析出金属を除去
したときの部分断面説明図である。
したときの部分断面説明図である。
【図5】本発明における積層体ブロックから単素子へ切
断加工する際の説明図である。
断加工する際の説明図である。
【図6】本発明における積層体の概略構成断面図であ
る。
る。
【図7】従来の構造の積層体の概略構成断面図である。
【図8】仮設外部電極を有する交互電極積層体ブロック
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図9】従来構造の積層体の加工工程の一部を示す概略
説明図である。
説明図である。
【図10】従来構造の積層体の加工工程の一部を示す概
略説明図である。
略説明図である。
1 電歪効果層 2 電歪効果層 3 内部電極 4 内部電極 5 析出金属 6 析出金属 7 絶縁層 8 絶縁層 9 外部電極 10 外部電極 11 リード線 12 リード線 13 仮設外部電極 14 仮設外部電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 純一 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地日立金属株式 会社磁性材料研究所内 (72)発明者 渡部 嘉幸 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地日立金属株式 会社磁性材料研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 次の工程を有することを特徴とする電歪
効果素子の製造方法;(a)電歪効果層と内部電極を交
互に積層し、内部電極の端部が露出している2つの面
と、一層おきに内部電極が露出している2つの面を有す
る積層体を作製する工程、(b)該積層体の一層おきに
内部電極が露出している2つの面に仮設外部電極を形成
する工程、(c)一方の仮設外部電極を陰極として、メ
ッキにより該積層体の一つの面の内部電極露出部に一層
おきに金属を析出させた後、他方の仮設外部電極を陰極
として、当該積層体のメッキを析出させた面と異なる内
部電極露出部にメッキにより金属を析出させる工程、
(d)該メッキを行った面において、メッキで被われて
いない部分に、析出金属の一部が表面に露出するよう
に、ほぼ均一な厚さに絶縁層を塗布し、焼成する工程、
(e)該露出した部分から析出金属を溶解させ取り除く
ことにより内部電極を一層おきに露出させる工程、
(f)金属ペーストの焼成により外部電極を形成する工
程。 - 【請求項2】 積層方向の断面積がほぼ等しい、電歪材
料と内部電極が交互に積層されてなる積層体本体と、積
層体本体の一側面に露出された内部電極端部のうちの一
層おきの各内部電極の少なくとも一部を被うように形成
された第1の絶縁層と、積層体本体の一側面に露出され
た内部電極端部のうち前記第1の絶縁層に被われていな
い他の一層おきの各内部電極の少なくとも一部を被うよ
うに形成された第2の絶縁層と、前記第1の絶縁層によ
り絶縁されていない一層おきの内部電極端部に電気的に
接続されるようにして前記第1の絶縁層上に形成された
第1の外部電極と、前記第2の絶縁層により接続されて
いない一層おきの内部電極端部に電気的に接続されるよ
うにして前記第2の絶縁層上に形成された第2の外部電
極とを有する電歪効果素子であって、前記第1および第
2の絶縁層の厚さがほぼ均一であり、かつ表面が焼成面
であることを特徴とする電歪効果素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8690092A JPH05291642A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 電歪効果素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8690092A JPH05291642A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 電歪効果素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05291642A true JPH05291642A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=13899714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8690092A Pending JPH05291642A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 電歪効果素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05291642A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015520517A (ja) * | 2012-06-04 | 2015-07-16 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 多層デバイスおよび多層デバイスの製造方法 |
-
1992
- 1992-04-08 JP JP8690092A patent/JPH05291642A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015520517A (ja) * | 2012-06-04 | 2015-07-16 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 多層デバイスおよび多層デバイスの製造方法 |
| US10276306B2 (en) | 2012-06-04 | 2019-04-30 | Epcos Ag | Method of producing a multilayer component |
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