JPH05292405A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPH05292405A JPH05292405A JP4092744A JP9274492A JPH05292405A JP H05292405 A JPH05292405 A JP H05292405A JP 4092744 A JP4092744 A JP 4092744A JP 9274492 A JP9274492 A JP 9274492A JP H05292405 A JPH05292405 A JP H05292405A
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Abstract
方式を容易に切り替えることができるようなラインアド
レスタイプの固体撮像装置を提供することである。 【構成】 インタレースの画素選択パルスを発生するイ
ンタレース回路27Aと垂直走査線配線の間にフィール
ド蓄積の画素選択信号をフィールド蓄積とフレーム蓄積
に切り替えられるインタレース切り替え回路40を配し
た。 【効果】 この発明によるインタレース方式切り替え回
路は外部よりの制御信号によりインタレース方式を切り
替えられるようにして撮像環境や目的に応じた最適なイ
ンタレース方式で撮像できる固体撮像装置を得ることが
可能になる。
Description
プの画素選択動作をする固体撮像装置の画素選択方法に
係わるものである。
荷を読みだす機構を備えた固体撮像素子は開発が進み、
可視の固体撮像素子はVTRカメラ等に多数使用されて
いる。一方赤外領域の固体撮像素子としては、シリコン
ショットキーバリアダイオードを赤外線の光検出器に用
いたもので百万画素を持つものも開発されていて、十分
に実用に耐え得る画素数と感度が実現されている。
式が提案されている。大きく分けるとCCD(Charge C
oupled Device:電荷結合素子) を用いたものと、MOS
スイッチを用いたものに分類される。CCDを用いた代
表的な方式としてインターラインCCD方式があり、M
OSスイッチを用いたものにはMOS方式がある。
号電荷を転送する垂直CCDを配置したもので低雑音で
あるが所定の信号電荷を転送するためにはCCDはある
程度以上の面積が必要なため開口率(画素の面積に対す
る検出器の面積の割合)を大きくできず感度が稼げず、
また取り扱える最大電荷量が小さいと言う欠点がある。
一方MOS方式は検出器以外はMOSスイッチと配線だ
けなので微細化により開口率を大きくして大きな感度が
得られ、また取り扱える最大電荷量が大きくできるが雑
音が大きいと言う欠点がある。
方式の欠点を改善する方式として、インターラインCC
D方式の垂直CCDをCSD(Charge Sweep Device:電
荷掃き寄せ素子) にしたCSD方式が提案された。CS
D方式は低雑音であるCCD方式の利点を生かしながら
画素の信号の読みだし方式はMOS方式と同じラインア
ドレスタイプの画素選択動作をし、大きな最大電荷量と
高い開口率を持つ。VTRカメラ用の可視の固体撮像素
子では低雑音であることを重視し、また種々の感度改善
も行い、現在ではインターラインCCD方式が主流にな
っている。
る室温付近の物体の放射する赤外線の撮像(熱像の撮
像)では、大きな背景光の中の小さな温度変化を検出し
なければならないため、大きな最大電荷量と高い開口率
と低雑音であることが要求されCSD方式が有用であ
る。赤外線の撮像はその応用分野によって要求される性
能が異なるため赤外線固体撮像素子は、色々な方式や読
みだし方法が混在している。本発明はCSD方式やMO
S方式等のラインアドレスタイプの画素選択動作をする
固体撮像素子の画素選択方法に関するものであるので、
代表的な素子としてCSD方式の赤外固体撮像素子を例
として説明をするが、MOS方式等の他のラインアドレ
スタイプの素子や赤外以外の可視等、他の波長域の素子
にも適用は可能である。
ドを光検出器としたCSD方式の赤外固体撮像素子の配
置を示した配置図である。図4において、画素はショッ
トキ接合を用いた光検出部21と垂直方向に電荷を転送す
るCSD22と光検出部21の電荷信号をCSD22へ転送す
るトランスファゲート部23より構成される。24は水平方
向に電荷を転送するCCD方式よりなる水平シフトレジ
スタ、25は外部へ電荷を読み出す出力部、26はトランス
ファゲート(TG)スキャナ回路、27はインタレース回
路、28はCSDスキャナで一水平ライン上のゲート電極
(CSD22とトランスファゲート23の構成要素) が垂直
走査線配線7で電気的に接続されTGスキャナ回路26と
インタレース回路27からの読み出しパルスとCSDスキ
ャナ28からの転送パルスが印加できるようになってい
る。また29, 30はCSD23と水平CCD24の間にある蓄
積ゲートと蓄積制御ゲートである。
−V断面の構造を示した断面構造図である。図5におい
て1はP形Si半導体基板、2は白金、パラジュウム、
イリジュウム、もしくは白金珪化物、パラジュウム珪化
物、イリジュウム珪化物等の金属または金属珪化物から
なる金属電極と基板1で形成されるショットキ接合より
なる光電変換層であり、3は光電変換層2の周辺での電
界集中を緩和し、暗電流を防止するためのN型領域より
なるガードリングであり、4は光検出部21よりCSD22
ヘ信号電荷を転送するトランスファゲート部23のN+型
領域で、5,6,はそれぞれ垂直シフトレジスタを構成
するCSDのN形埋め込みチャネルとゲート電極であ
る。ゲート電極6はトランスファゲートの電極とCSD
の転送電極を兼ねている。7はアルミ配線よりなる垂直
走査線配線、8はシリコン酸化膜よりなる素子分離及び
絶縁のためのフィールド絶縁膜、9,10は酸化膜等より
なる層間絶縁膜、11は光電変換層2の上に層間絶縁膜10
を挟んで形成され光電変換層2を透過した赤外光を反射
して光電変換層2に再入射させるためのアルミ反射膜で
ある。
説明する。P形Si半導体基板1の裏面(図の下側)よ
り入射した赤外光は、ショットキ接合の光電変換層2に
到達し、そこで光電変換されて信号電荷が生じる。この
信号電荷はショットキ接合に蓄積される。蓄積された信
号電荷はゲート電極6にTGスキャナ回路26とインタレ
ース回路27からの読み出しパルスを印加することにより
N形埋め込みチャネル5へ転送される。ショットキ接合
の光電変換層2は読み出しパルス印加時に信号電荷を読
み出すと同時に読み出しパルスの電圧に応じた電圧まで
リセットされる。リセット後、次に読み出されるまで光
電変換層2は光信号電荷を検出し蓄積する。
インタレース回路27により垂直走査線配線7が選択され
る。この選択された垂直走査線配線7につながる一水平
ライン上のゲート電極6に読み出しパルスが印加され一
水平ラインの光信号電荷がN形埋め込みチャネル5へ転
送される。フィールド蓄積モードで動作するインタレー
ス回路では同時に隣合う2ラインの垂直走査線配線7が
選択される。この同時に選択される垂直走査線配線7の
ペアはフィールド毎に交互に変更される。2個の選択画
素からの信号電荷は混ざりCSDチャネル全体に広が
る。次にCSDスキャナ回路28より垂直転送パルスを垂
直走査線配線7を通しゲート電極6に印加することによ
りCSDチャネル全体に広がった信号電荷は垂直方向に
転送され蓄積ゲート29に集められ一時的に蓄積される。
CSDスキャナの垂直転送パルスは、例えばCCDで一
般に使われている4相のクロックパルスでよい。この電
荷掃き寄せ動作は水平CCD24が動作している水平走査
期間中に行う。掃き寄せ動作で蓄積ゲート29に集められ
た信号電荷は次の水平帰線期間に水平CCD24に転送さ
れる。次に水平シフトレジスタのCCDにより信号電荷
は水平方向へ転送され出力25から一水平ラインの映像信
号として外部へ読み出される。次にTGスキャナ回路26
とインタレース回路27で選択する垂直走査線配線7のペ
アを一段ずらして読み出しパルスを印加し同様な動作を
繰り返すことにより1フィールドの画面の映像出力(こ
れをAフィールドの画面と呼ぶことにする)を得る。次
のフィールドでは垂直走査線配線7のペアを変えて同様
な動作を行いAフィールドの画面の走査線の間を埋める
画面(これをBフィールドの画面と呼ぶ)を得て、Aフ
ィールドとBフィールドの画面で1フレームの画面がT
Vモニタ上に表示される。(通常のNTSC方式のTV
は上記のように2フィールドで1フレームが構成され
る。)
ゲートの電極と転送ゲートの電極を兼ねている場合は、
垂直転送パルスが印加されている時にトランスファゲー
トが開かないようにトランスファゲートのしきい値電圧
は少なくとも垂直転送パルスの「H」レベルの電圧以上
になるよう設定しなければならい。なお、アルミ反射膜
11は、光電変換層2で吸収されずに透過した赤外光を反
射して光電変換層2へ再入射させ感度の向上を図るもの
である。
作では同時に隣合う2ラインの垂直走査線配線7が選択
され、そのペアがフィールド毎に変わるので検出部21は
1フィールドの間信号電荷を蓄積する。
作もある。フレーム蓄積モードでは垂直走査線配線は1
本ずつ選択される。まずAフィールドで1本おきに垂直
走査線配線が順次選択され、BフィールドではAフィー
ルドの間を埋めるようにAフィールドで選択されなかっ
た垂直走査線配線が選択される。そのため検出部21は1
フレームの間信号電荷を蓄積する。フィールド蓄積モー
ドのインタレース回路27もフレーム蓄積モードのインタ
レース回路27も通常のMOS回路で構成可能である。
ス回路27aの一例を示す。TGスキャナ回路26からイン
タレース回路27aへの出力配線51(T1,T2)は垂直
走査線配線52 (L0〜4)の2本に対して1本の割合で
ある。インタレース回路27aは通常のNチャネルのエン
ハンスメントMOSトランジスタ(QE,QF,QG,
QH)で構成される。
る。TGスキャナ回路26とインタレース回路27aは水平
帰線期間に駆動する。TGスキャナ26は出力配線51に順
次電圧VTGの選択パルスを印加する。選択パルスが出る
前はすべてのTGスキャナ26の出力配線51はVTGより低
電圧のVCRの電圧に保たれ、垂直走査線配線52 (L0〜
4)はVCRで決まるレベルにリセットされている。画素
選択パルスが出るとTGスキャナ26の1ラインの出力配
線51にVTGの電圧が印加される。それ以外の出力配線に
はVCRの低電圧に保たれている。
明する。AフィールドではφFAが「H」レベルでφFBが
「L」レベルなのでトランジスタスイッチQFとQGは
開き、QEとQHは閉じている。まずTGスキャナ26の
T1の出力配線51にVTGの画素選択パルスが印加される
と、垂直走査線配線52のL1とL2のペアにVTGで決ま
る電圧が印加され、それ以外の垂直走査線配線52はVCR
で決まるレベルにある。次にTGスキャナが1段進み、
T1がVCRになりT2がVTGになると、こんどはL3と
L4のペアにVTGが印加されるが、それ以外の垂直走査
線配線はVCRで決まるレベルになる。このようにして画
素選択パルスが印加される垂直走査線のペアが順次シフ
トしていく。TGスキャナ26は終段までシフトすると、
また初段にもどり、こんどはBフィールドになる。Bフ
ィールドではφFBが「H」レベルでφFAが「L」レベル
になるのでトランジスタスイッチQEとQHは開き、Q
FとQGは閉じる。従って、TGスキャナの出力配線T
1に画素選択パルスが印加されると、垂直走査線配線L
0とL1のペアがVTGになり、T2に画素選択パルスが
印加されると、L2とL3のペアがVTGになる。このよ
うにBフィールドではAフィールドと異なるペアが選択
されていく。
フィールドの時はT1の選択パルスでL0のみ選択さ
れ、T2の選択パルスでL2のみ選択され、Bフィール
ドの時はT1の選択パルスでL1のみ選択され、T2の
選択パルスでL3のみ選択されるようにインタレース回
路27aを構成する必要がある。
回路27bの一例を示す。TGスキャナ回路26からインタ
レース回路27bへの出力配線51(T1,T2)は垂直走
査線配線52(L1〜4)の2本に対して1本の割合であ
る。インタレース回路27bは通常のNチャネルのエンハ
ンスメントMOSトランジスタ(QJ,QK,QL,Q
M)で構成される。次にラインアドレス動作について説
明する。TGスキャナ回路26とインタレース回路27bは
水平帰線期間に駆動する。TGスキャナ26は出力配線51
に順次電圧VTGの選択パルスを印加する。選択パルスが
出る前はすべてのTGスキャナ26の出力配線51はVTGよ
り低電圧のVCRの電圧に保たれ、垂直走査線配線 (L1
〜4)はVCRで決まるレベルにリセットされている。画
素選択パルスが出るとTGスキャナ26の1ラインの出力
配線にVTGの電圧が印加される。それ以外の出力配線に
はVCRの低電圧に保たれている。
明する。AフィールドではφFAが「H」レベルでφFBが
「L」レベルなのでトランジスタスイッチQLとQKは
開き、QJとQMは閉じている。従ってL2,L4はT
1,T2にそれぞれ接続され、L1,L3はVCRの電源
に接続される。まずTGスキャナ26のT1の出力配線51
にVTGの画素選択パルスが印加されると、垂直走査線配
線52のL2にVTGで決まる電圧が印加され、それ以外の
垂直走査線配線52はVCRで決まるレベルになっている。
次にTGスキャナ26が1段進み、T1がVCRになりT2
がVTGになると、こんどはL4にVTGが印加されるが、
それ以外の垂直走査線配線52はVCRで決まるレベルにな
る。このようにして画素選択パルスが印加される垂直走
査線配線52が一本おきに順次シフトしていく。TGスキ
ャナ26は終段までシフトすると、また初段にもどり、こ
んどはBフィールドになる。BフィールドではφFBが
「H」レベルでφFAが「L」レベルになるのでトランジ
スタスイッチQJとQMは開き、QKとQLは閉じる。
従って、L1,L3はT1,T2にそれぞれ接続され、
L2,L4等はVCRの電源に接続される。TGスキャナ
26の出力配線51のT1に画素選択パルスが印加される
と、垂直走査線配線L1のみがVTGになり、T2に画素
選択パルスが印加されると、L2のみがVTGになる。こ
のようにBフィールドではAフィールドで選択できなか
った垂直走査線配線が順次選択されていく。
D方式やMOS方式ではインタラインCCD方式のよう
に垂直電荷転送素子の最大電荷転送量で飽和電荷量が決
まることはなく、飽和電荷量は検出器の電荷蓄積容量で
決まるため大きな飽和電荷量が実現できる。従ってCS
D方式やMOS方式ではフィールド蓄積動作をすること
により大きな飽和電荷量が得られる。つまりフィールド
蓄積動作では1回に2本の垂直走査線の配線のペアが選
択され2画素分の信号が混合して読みだされるため飽和
電荷量は2画素分の検出器の電荷蓄積容量で決まるから
である。一方フレーム蓄積動作では1回には1本の検出
器のみが選択されるので飽和電荷量はフィールド蓄積の
場合の半分になる。
の熱像の撮像に使用されることが多い。室温程度の背景
が放射する赤外線の量は大きいので、室温背景での撮像
では背景信号量が非常に大きくなる。従ってこの場合、
赤外固体撮像素子は大きな背景信号でも出力が飽和しな
いように、大きな飽和電荷量を持つことが要求される。
そのため室温背景の熱像の撮像にはフィールド蓄積のイ
ンタレース動作がよく使用される。一方フレーム蓄積の
インタレース動作の方が有利になる環境条件の場合があ
る。例えば背景の温度が低く背景信号量がさほど大きく
ない環境で小さなターゲットを検出しなければならない
時などである。この場合背景信号量は大きくないのでフ
レーム蓄積の飽和電荷量の小ささは問題にはならない。
もし検出しようとするターゲットが遠方にあり画素サイ
ズ以下の像しか結ばない場合、2画素混合読みだしのフ
ィールド蓄積の場合ターゲットの信号は2画素分の背景
信号にまぎれてしまうが、フレーム蓄積ではターゲット
の信号は1画素分の背景信号と混ざるだけである。その
ためフレーム蓄積の方がフィールド蓄積より、ターゲッ
トの像が結んでいる画素の信号と他の画素の信号を容易
に識別できる。以上のように赤外線の撮像では一般に飽
和電荷量の大きなフィールド蓄積のインタレース動作が
有利であるが撮像環境や目的によってはフレーム蓄積の
インタレースの方が有利な場合がある。またインタレー
ス動作をしないノンインタレース動作が有利な場合も考
えられる。また赤外線の場合で説明したが可視や紫外線
等他の波長域の固体撮像素子でも撮像環境や目的によっ
て有利なインタレース方式は異なる。
方式は、その撮像環境や目的により最適なインタレース
方式が異なる。ところが従来のラインアドレスタイプの
固体撮像素子は、インタレース動作が画素選択回路の回
路構成で決まるため予想される撮像環境や目的に応じて
最適なインタレース方式を決めて画素選択回路を設計す
る。そのため撮像環境や目的の変化に対応できなかっ
た。
するためになされたもので、その目的とするところは、
外部からの制御信号でインタレースの方式を容易に切り
替えることができる画素選択回路を提供することによ
り、撮像環境や目的に応じて最適なインタレース方式を
容易に切り替えることができるようなラインアドレスタ
イプの固体撮像装置を提供することである。
に、この発明に係わるラインアドレスタイプの固体撮像
装置は、画素選択パルスを一段ずつ順次出力するTGス
キャナからの画素選択パルスをフィールド蓄積モードの
インタレースの画素選択パルスにするインタレース回路
と垂直走査線配線の間にフィールド蓄積の画素選択信号
をフィールド蓄積とフレーム蓄積に切り替えられるイン
タレース切り替え回路を配し、外部よりの制御信号によ
りフィールド蓄積モードのインタレースの画素選択パル
スをフィールド蓄積モードかフレーム蓄積モードに切り
替えることができる構成である。インタレース切り替え
回路の基本的な構成はフィールド蓄積のインタレース回
路の出力配線と垂直走査線配線の間にトランジスタ(T
r)回路があり、フィールド蓄積モードの時はインタレ
ース回路の出力配線と垂直走査線配線の間のTrのゲー
トが開きそれらが接続されるようになっており、またフ
レーム蓄積モードの時はインタレース回路の出力配線と
垂直走査線配線は一つおきに接続されるようにTrのゲ
ートが開閉し、接続されない垂直走査線配線は非選択の
電圧に固定されるように非選択の電源との間のゲートが
開くようになっていてフィールド毎に接続/非接続が切
り替わる構成である。
わるラインアドレスタイプの固体撮像装置は、画素選択
パルスを一段ずつ順次出力するTGスキャナからの画素
選択パルスを、フレーム蓄積モードのインタレースの画
素選択パルスにするインタレース回路と、垂直走査線配
線の間に、フレーム蓄積の画素選択信号をフィールド蓄
積とフレーム蓄積に切り替えられるインタレース切り替
え回路を配し、外部よりの制御信号によりフレーム蓄積
モードのインタレースの画素選択パルスをフィールド蓄
積モードかフレーム蓄積モードに切り替えることができ
るようにした。インタレース切り替え回路の基本的な構
成はフレーム蓄積のインタレース回路の出力配線と垂直
走査線配線の間にトランジスタ回路があり、フレーム蓄
積モードの時はインタレース回路の出力配線と垂直走査
線配線の間のトランジスタのゲートが開きそれらが接続
されるようになっており、またフィールド蓄積モードの
時は、インタレース回路の出力配線のうち画素選択パル
スが順次印加される出力配線の組(一本おきに配置され
ている)は水平ラインに接続され、その時その接続され
るインタレース回路の出力配線一本に対し2本の隣合う
水平ラインが接続されるようにトランジスタのゲートが
開閉し、次のフィールドでは前フィールドで画素選択パ
ルスが印加されなかったインタレース回路の出力配線の
組が水平ラインに接続され、その時接続されるインタレ
ース回路の出力配線一本に対し前フィールドとは異なっ
た組合せの2本の隣合う水平ラインが接続されるように
トランジスタのゲートが開閉するようになっている。
は外部よりの制御信号によりインタレース方式を切り替
えられるようにして撮像環境や目的に応じた最適なイン
タレース方式で撮像できる固体撮像装置を得ることが可
能になる。
実施例につき、図1、図2を参照して詳細に説明する。 実施例1.図1は、この発明の一実施例を適用した赤外
固体撮像装置の配置を示した図である。画素部の構造は
従来と同じであるので画素部の断面構造図は従来の図5
と同じである。図1に示す実施例構成において前記図
4、図5に示す従来例構成と同一符号は同一または相当
部分を示している。
外固体撮像装置においても、符号21はショットキ接合を
用いた光検出部であり、22は垂直方向に電荷を転送する
CSD、23はトランスファゲート、24は水平方向に電荷
を転送するCCD方式よりなる水平シフトレジスタ、25
は外部へ電荷を読み出す出力部、26はトランスファゲー
ト(TG)スキャナ回路、27Aはインタレース回路、28
はCSDスキャナである。一水平ライン上のゲート電極
(CSD22とトランスファゲート23の構成要素) は垂直
走査線配線7で電気的に接続されTGスキャナ回路26と
インタレース回路27Aからの読み出しパルスとCSDス
キャナ28からの転送パルスが印加できるようになってい
る。図1ではインタレース回路27と垂直走査線配線7の
間にインタレース切り替え回路40が配置されている。
5で説明したものと同じなので省略する。従来との違い
はインタレース切り替え回路40を追加したことである。
インタレース切り替え回路40の基本的な構成はフィール
ド蓄積のインタレース回路の出力配線と垂直走査線配線
の間にトランジスタ回路があり、フィールド蓄積モード
の時はインタレース回路27Aの出力配線と垂直走査線配
線7の間のトランジスタのゲートが開きそれらが接続さ
れるようになっており、またフレーム蓄積モードの時は
インタレース回路27Aの出力配線と垂直走査線配線7は
一つおきに接続されるようにトランジスタのゲートが開
閉し、接続されない垂直走査線配線7は非選択の電圧に
固定されるように非選択の電源との間のゲートが開くよ
うになっていてフィールド毎に接続/非接続が切り替わ
るようになっている。
回路の回路構成の一実施例を示す。図2においてQE,
QF,QG,QHのMOSTrで構成されるインタレー
ス回路は図6と同じで、図6で垂直走査線配線52のL
1,L2,L3に接続されていたトランジスタQE,Q
F,QG,QHのドレインにつながるインタレース回路
27Aの出力配線52のA1,A2,A3の先に新たにQ1
〜11のトランジスタで構成されるインタレース切り替え
回路40が追加されている。インタレース回路27Aの出力
配線52のA1,A2,A3等には、図6の52のL1,L
2,L3等と同じく、フィールド蓄積のインタレース方
式に対応した画素選択パルスが出力される。53a,53b
に示すFI,FRはインタレースの方式をフィールド蓄
積とフレーム蓄積とに切り替えるための制御ピンであ
る。51に示すT1,T2はTGスキャナ回路26の出力配
線、L0〜4は垂直走査線配線52aである。
明する。フィールド蓄積の場合は53aのFIを「H」
に、53bのFRを「L」にする。この場合Q1とQ5と
Q7が開き、Q2とQ9とQ11が閉じる。Aフィールド
の場合φFAが「H」レベルでφFBが「L」レベルなので
トランジスタスイッチQFとQGは開き、QEとQHは
閉じている。まずTGスキャナ26のT1の出力配線にV
TGの画素選択パルスが印加されると、インタレース回路
27Aの出力配線A1とA2がVTGで決まる電圧が印加さ
れ、それ以外の出力配線はVCRで決まるレベルにある。
Q1とQ5とQ7が開いているので垂直走査線配線L1
とL2のペアにVTGの画素選択パルスが印加され、他の
走査線配線はVCRのレベルに保たれる。次にTGスキャ
ナ26が1段進み、T1がVCRになりT2がVTGになる
と、こんどはA3と図示しないA4にVTGが印加され、
それ以外の出力配線はVCRで決まるレベルになる。従っ
て走査線配線L3とL4のペアにVTGの画素選択パルス
が印加される。このようにして画素選択パルスが印加さ
れる垂直走査線のペアが順次シフトしていく。TGスキ
ャナ26は終段までシフトすると、また初段にもどり、こ
んどはBフィールドになる。
FAが「L」レベルになるのでトランジスタスイッチQE
とQHは開き、QFとQGは閉じる。従って、TGスキ
ャナ26の出力配線T1に画素選択パルスが印加される
と、インタレース回路27Aの出力配線A0とA1がVTG
になりQ1,Q5,Q7等のトランジスタが開いている
ので垂直走査線配線L0とL1のペアがVTGになる。T
2に画素選択パルスが印加されると、同様にL2とL3
のペアがVTGになる。このようにBフィールドではAフ
ィールドと異なるペアが選択されていく。
に、FRを「H」にする。この場合Q2とQ9とQ11が
開き、Q1とQ5とQ7が閉じる。Aフィールドの場合
φFAが「H」レベルでφFBが「L」レベルなのでトラン
ジスタスイッチQFとQGは開き、QEとQHは閉じて
いる。まずTGスキャナ26のT1の出力配線にVTGの画
素選択パルスが印加されると、インタレース回路27Aの
出力配線のA1とA2にVTGで決まる電圧が印加され
る。それ以外の出力配線はVCRで決まるレベルにある。
この場合Q1が閉じているのでA2の選択パルスは閉ざ
される。A1の選択パルスは1段上のQ2とQ6(φFA
が「H」レベルなので開いている)を通しL0に印加さ
れる。他の走査配線はQ8につながるものは(L1,L
3等)Q8とQ9を通してVCRのレベルに保たれ、Q10
につながるもの例えばL2等はA3等がVCRのレベルな
のでQ2とQ6を通してVCRのレベルに保たれる。次に
TGスキャナ26が1段進み、T1がVCRになりT2がV
TGになると、こんどはA3とA4にVTGが印加され、そ
れ以外の出力配線はVCRで決まるレベルになる。従って
走査線配線L2にVTGの画素選択パルスが印加され、そ
れ以外の走査線配線はVCRのレベルになる。このように
AフィールドではQ8につながる走査線配線(L1,L
3等)はQ8とQ9を通してVCRのレベルに保たれ、そ
の間の走査線配線(L0,L2,L4等)はQ2とQ6
を通してA1,A3等につながり画素選択パルスが順次
シフトして印加されていく。TGスキャナ26は終段まで
シフトすると、また初段にもどり、こんどはBフィール
ドになる。
線(L0,L2,L4等)はQ10とQ11を通してVCRの
レベルに保たれ、その間の走査線配線(L1,L3等)
はQ3とQ4を通してA1,A3等の画素選択パルスが
順次シフトして印加されていく。
と異なる垂直走査線配線が選択されていく。なおQ3,
Q4はインタレース回路27Aの出力配線52と走査線配線
を接続するトランジスタの数がAフィールドとBフィー
ルドで異ならないように入れたもので動作としてはQ3
とQ4の組は一個のトランジスタと同じ働きをする。
替え回路では外部よりFI,FRの2ピンの「H」,
「L」を切り替えることによりフィールド蓄積の画素選
択信号をフィールド蓄積とフレーム蓄積に切り替えられ
る。
レスタイプの固体撮像素子において、画素選択パルスを
順次出力するTGスキャナからの画素選択パルスをフィ
ールド蓄積モードのインタレースの画素選択パルスにす
るインタレース回路と垂直走査線配線の間にフィールド
蓄積の画素選択信号をフィールド蓄積とフレーム蓄積に
切り替えられるインタレース切り替え回路を配し、外部
よりの制御信号によりフィールド蓄積モードのインタレ
ースの画素選択パルスをフィールド蓄積モードかフレー
ム蓄積モードに切り替えることができるようにしたの
で、撮像環境や目的に応じた最適なインタレース方式で
撮像できる固体撮像装置を得ることが可能になった。
タレース回路27Aと垂直走査線配線52aの間にフィール
ド/フレームインタレース切り替え回路40を配置したも
のについて説明したが、インタレース回路27Aがフレー
ム蓄積をするよう構成されていてインタレース回路と垂
直走査線配線の間にフィールド/フレームインタレース
切り替え回路を配置したものでもよい。この場合インタ
レース切り替え回路の基本的な構成はフレーム蓄積のイ
ンタレース回路の出力配線52と垂直走査線配線52aの間
にトランジスタ回路があり、フレーム蓄積モードの時は
インタレース回路の出力配線と垂直走査線配線52aの間
のトランジスタのゲートが開きそれらが接続されるよう
になっており、また出力配線52と垂直走査線配線52aの
間にトランジスタ回路があり、またフィールド蓄積モー
ドの時は、インタレース回路の出力配線のうち画素選択
パルスが順次印加される出力配線の組(一本おきに配置
されている)は水平ラインに接続され、その時その接続
されるインタレース回路の出力配線一本に対し2本の隣
合う水平ラインが接続されるようにトランジスタのゲー
トが開閉し、次のフィールドでは前フィールドで画素選
択パルスが印加されなかったインタレース回路の出力配
線の組が水平ラインに接続され、その時接続されるイン
タレース回路の出力配線一本に対し前フィールドとは異
なった組合せの2本の隣合う水平ラインが接続されるよ
うにトランジスタのゲートが開閉するようになってい
る。
回路の回路構成の一実施例を示す。図3においてQJ,
QK,QL,QMのMOSTrで構成されるインタレー
ス回路27Bは図7と同じで、図7で垂直走査線配線52に
示すL1,L2,L3,L4等に接続されていたトラン
ジスタQJ,QK,QL,QMのドレインにつながるイ
ンタレース回路27Bの出力配線52に示すA1,A2,A
3,A4の先に新たにQ21〜28のトランジスタで構成さ
れるインタレース切り替え回路40aが追加されている。
インタレース回路27Bの出力配線52のA1,A2,A
3,A4等には、図7の52に示すL1,L2,L3,L
4等と同じく、フレーム蓄積のインタレース方式に対応
した画素選択パルスが出力される。53a,53bに示すF
I,FRはインタレースの方式をフィールド蓄積とフレ
ーム蓄積とに切り替えるための制御ピンである。T1,
T2はTGスキャナ回路の出力配線51、L0〜4は垂直
走査線配線52aである。
明する。フィールド蓄積の場合はFIを「H」に、FR
を「L」にする。この場合Q26とQ28が開き、Q25とQ
27が閉じる。Aフィールドの場合φFAが「H」レベルで
φFBが「L」レベルなのでトランジスタスイッチQLと
QKは開き、QJとQMは閉じている。またQ22とQ23
は開き、Q21とQ24は閉じている。まずTGスキャナ26
のT1の出力配線にVTGの画素選択パルスが印加される
と、インタレース回路27Aの出力配線A2にVTGで決ま
る電圧が印加され、それ以外の出力配線はVCRで決まる
レベルにある。Q22とQ26が開いているので出力配線A
2と垂直走査線配線L1が接続され、またQ23とQ28も
開いているので出力配線A2は垂直走査線配線L2にも
接続される。従って垂直走査線配線L1とL2のペアに
出力配線A2からのVTGの画素選択パルスが印加され、
他の走査線配線はVCRのレベルに保たれる。(L3,L
4はA4に接続されている)次にTGスキャナ26が1段
進み、T1がVCRになりT2がVTGになると、こんどは
A4にVTGが印加され、それ以外の出力配線はVCRで決
まるレベルになる。従って走査線配線L3とL4のペア
にVTGの画素選択パルスが印加される。このようにして
画素選択パルスが印加される垂直走査線のペアが順次シ
フトしていく。TGスキャナ26は終段までシフトする
と、また初段にもどり、こんどはBフィールドになる。
FAが「L」レベルになるのでトランジスタスイッチQJ
とQMは開き、QKとQLは閉じる。またQ21とQ24は
開き、Q22とQ23は閉じている。Q21とQ24とQ26とQ
28が開いているので出力配線A1は垂直走査線配線L0
とL1のペアに接続され、出力配線A3は垂直走査線配
線L2とL3のペアに接続されている。まずTGスキャ
ナ26のT1の出力配線にVTGの画素選択パルスが印加さ
れると、インタレース回路27Aの出力配線A1にVTGで
決まる電圧が印加され、それ以外の出力配線はVCRで決
まるレベルにある。従って垂直走査線配線L0とL1の
ペアに出力配線A1からのVTGの画素選択パルスが印加
され、他の走査線配線はVCRのレベルに保たれる。次に
TGスキャナ26が1段進み、T1がVCRになりT2がV
TGになると、こんどはA3にVTGが印加され、それ以外
の出力配線はVCRで決まるレベルになる。従って走査線
配線L2とL3のペアにVTGの画素選択パルスが印加さ
れる。このようにして画素選択パルスが印加される垂直
走査線のペアが順次シフトしていく。このようにBフィ
ールドではAフィールドと異なるペアが選択されてい
く。
に、FRを「H」にする。この場合Q25とQ27が開き、
Q26とQ28が閉じる。従って出力配線A1はTrQ25を
通して垂直走査線配線L1に接続され、出力配線A2は
TrQ27を通して垂直走査線配線L2に接続される。同
様にA3はL3に接続されA4はL4に接続される。従
ってこの様にフレーム蓄積のインタレース回路27Aの出
力が垂直走査線配線にそのまま接続されるのでフレーム
蓄積動作が可能になる。
替え回路では外部よりFI,FRの2ピンの「H」,
「L」を切り替えることによりフレーム蓄積の画素選択
信号をフィールド蓄積とフレーム蓄積に切り替えられ
る。
ョットキ接合の赤外線光検出器で、垂直方向の読み出し
がCSD方式である場合について述べたが、検出器は他
の種類のものでもよく、また他の波長域(例えば可視
光)の検出器でもよく、また読みだし方式はMOS方式
(光検出器の出力にMOS-Trを付けて、そのON/OFFによっ
て信号読み出しを行う方式) など他のラインアドレスタ
イプのものでもよい。
ドレスタイプの固体撮像素子において、画素選択パルス
を順次出力するTGスキャナからの画素選択パルスをフ
レーム蓄積モードのインタレースの画素選択パルスにす
るインタレース回路と垂直走査線配線の間にフレーム蓄
積の画素選択信号をフィールド蓄積とフレーム蓄積に切
り替えられるインタレース切り替え回路を配し、外部よ
りの制御信号によりフレーム蓄積モードのインタレース
の画素選択パルスをフィールド蓄積モードかフレーム蓄
積モードに切り替えることができるようにしたので、撮
像環境や目的に応じた最適なインタレース方式で撮像で
きる固体撮像装置を得ることが可能になった。
置を示した図。
タレース回路の回路構成の一実施例を示す図。
え回路とインタレース回路の回路構成を示す図。
要部分の断面図。
が可能なインタレース回路の回路構成図。
可能なインタレース回路の回路構成図。
Claims (4)
- 【請求項1】 2次元のアレイ状に配置された光検出器
と、上記光検出器に蓄積された光信号電荷を読み出すた
めの選択パルスを出力するTGスキャナ回路と、上記T
Gスキャナ回路からの選択パルスをフィールド蓄積モー
ドの選択パルスに変換するインタレース回路と、上記イ
ンタレース回路の出力パルスをフィールド蓄積モードま
たはフレーム蓄積モードに切り替えるインタレース切り
替え回路とを備えた固体撮像装置。 - 【請求項2】 2次元のアレイ状に配置された光検出器
と、上記光検出器に蓄積された光信号電荷を読み出すた
めの選択パルスを出力するTGスキャナ回路と、上記T
Gスキャナ回路からの選択パルスをフレーム蓄積モード
の選択パルスに変換するインタレース回路と、上記イン
タレース回路の出力パルスをフィールド蓄積モードまた
はフレーム蓄積モードに切り替えるインタレース切り替
え回路とを備えた固体撮像装置。 - 【請求項3】 上記インタレース切り替え回路がフィー
ルド蓄積のインタレース回路の出力配線と、上記2次元
アレイの水平ラインの間にトランジスタ回路が設けら
れ、フィールド蓄積モードの時にはインタレース回路の
出力配線と水平ラインの間のトランジスタのゲートが開
き、上記インタレース回路の出力配線と水平ラインが接
続されるようになっており、フレーム蓄積モードの時に
はインタレース回路の出力配線と水平ラインは一つおき
に接続されるようにトランジスタのゲートが開閉し、接
続されない水平ラインは非選択の電源との間のゲートが
開くようになっていて、フィールド毎に接続/非接続が
切り替わるようになっていることを特長とする特許請求
の範囲第1項に記載の固体撮像装置。 - 【請求項4】 上記インタレース切り替え回路が上記フ
レーム蓄積のインタレース回路の出力配線と上記2次元
アレイの水平ラインの間にトランジスタ回路が設けら
れ、フレーム蓄積モードの時にはインタレース回路の出
力配線と水平ラインの間のトランジスタのゲートが開
き、上記インタレース回路の出力配線と水平ラインが接
続されるようになっており、フィールド蓄積モードの時
には、インタレース回路の出力配線のうち選択パルスが
順次印加される出力配線の組は水平ラインに接続され、
その時接続されるインタレース回路の出力配線一本に対
し2本の隣合う水平ラインが接続されるようにトランジ
スタのゲートが開閉し、次のフィールドでは前フィール
ドで選択パルスが印加されなかったインタレース回路の
出力配線の組が水平ラインに接続され、その時接続され
るインタレース回路の出力配線一本に対し前フィールド
とは異なった組合せの2本の隣合う水平ラインが接続さ
れるようにトランジスタのゲートが開閉するようになっ
ていることを特長とする特許請求の範囲第1項に記載の
固体撮像装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09274492A JP3173851B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Csd方式の固体撮像装置 |
| EP92119701A EP0565775B1 (en) | 1992-04-13 | 1992-11-19 | Solid-state imaging device |
| DE69226164T DE69226164T2 (de) | 1992-04-13 | 1992-11-19 | Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung |
| US07/979,912 US5444484A (en) | 1992-04-13 | 1992-11-23 | Solid-state imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09274492A JP3173851B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Csd方式の固体撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05292405A true JPH05292405A (ja) | 1993-11-05 |
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Family
ID=14062928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09274492A Expired - Lifetime JP3173851B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | Csd方式の固体撮像装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0565775B1 (ja) |
| JP (1) | JP3173851B2 (ja) |
| DE (1) | DE69226164T2 (ja) |
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1992
- 1992-04-13 JP JP09274492A patent/JP3173851B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-19 DE DE69226164T patent/DE69226164T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-11-19 EP EP92119701A patent/EP0565775B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-23 US US07/979,912 patent/US5444484A/en not_active Expired - Lifetime
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| DE69226164T2 (de) | 1999-01-21 |
| US5444484A (en) | 1995-08-22 |
| DE69226164D1 (de) | 1998-08-13 |
| EP0565775B1 (en) | 1998-07-08 |
| JP3173851B2 (ja) | 2001-06-04 |
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| EP0565775A3 (ja) | 1994-03-30 |
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