JPH05293326A - 酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄処理方法及びその装置 - Google Patents
酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄処理方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH05293326A JPH05293326A JP3170536A JP17053691A JPH05293326A JP H05293326 A JPH05293326 A JP H05293326A JP 3170536 A JP3170536 A JP 3170536A JP 17053691 A JP17053691 A JP 17053691A JP H05293326 A JPH05293326 A JP H05293326A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 医療器具等の滅菌処理に使用した酸化エチレ
ン系滅菌ガスを効率よく無害化して大気に放出するため
の方法及び装置を提供する。 【構成】 下部に処理液貯溜部を形成した縦型の処理塔
(1)内の上部にスプレーノズル(6)を配置する。このス
プレーノズル(6)を処理液貯溜部に処理液循環ポンプ(1
0)を介して連通させ、処理液貯溜部内の処理液をスプレ
ーノズルが噴霧する。処理液貯溜部内に気泡発生管(5)
を配置して、気泡発生管(5)に供給された廃棄滅菌ガス
を処理液内でバブリングさせ、処理液から上部に抜け出
た廃棄滅菌ガスとスプレーノズルから噴霧された処理液
とを接触させる。処理塔(1)から取り出された処理済み
ガスの排出路(3)に送風機(19)から外気を圧送して処理
済みガスを希釈して系外に放出する。
ン系滅菌ガスを効率よく無害化して大気に放出するため
の方法及び装置を提供する。 【構成】 下部に処理液貯溜部を形成した縦型の処理塔
(1)内の上部にスプレーノズル(6)を配置する。このス
プレーノズル(6)を処理液貯溜部に処理液循環ポンプ(1
0)を介して連通させ、処理液貯溜部内の処理液をスプレ
ーノズルが噴霧する。処理液貯溜部内に気泡発生管(5)
を配置して、気泡発生管(5)に供給された廃棄滅菌ガス
を処理液内でバブリングさせ、処理液から上部に抜け出
た廃棄滅菌ガスとスプレーノズルから噴霧された処理液
とを接触させる。処理塔(1)から取り出された処理済み
ガスの排出路(3)に送風機(19)から外気を圧送して処理
済みガスを希釈して系外に放出する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医療器具等の滅菌に使
用した酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄時での処理方法及
びその廃棄処理装置に関する。
用した酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄時での処理方法及
びその廃棄処理装置に関する。
【0002】
【従来技術】一般に、病院等の医療機関で医療器具等の
滅菌をする場合、炭酸ガスあるいはフロン11・フロン
12等の不活性ガスと酸化エチレンとの混合ガスを滅菌
ガスとして使用している。この滅菌ガスに使用されてい
る酸化エチレンは急性毒性、慢性毒性があることから、
大気放散に対しては規制が設けられている。このため、
従来では、滅菌ガスを滅菌器から排出する際には、排出
ガスを簡単な水槽中に放出して、酸化エチレンと水とを
接触させて除去し、残りのガスを大気に放出するように
している。
滅菌をする場合、炭酸ガスあるいはフロン11・フロン
12等の不活性ガスと酸化エチレンとの混合ガスを滅菌
ガスとして使用している。この滅菌ガスに使用されてい
る酸化エチレンは急性毒性、慢性毒性があることから、
大気放散に対しては規制が設けられている。このため、
従来では、滅菌ガスを滅菌器から排出する際には、排出
ガスを簡単な水槽中に放出して、酸化エチレンと水とを
接触させて除去し、残りのガスを大気に放出するように
している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、単に酸化エ
チレンガスを水にくぐらせただけでは、酸化エチレンが
水に十分に溶解できず、大気に放出されるガス中に比較
的高濃度で混入していることがある。このため、十分に
除害されないまま大気に放出され、周辺の人畜に影響を
あたえるおそれがある。特に、大気圧以上の圧力で放出
されるガスは水中での滞留時間が短いことから、より高
濃度のまま放出されることになる。本発明はこのような
点に着目して、確実に有害成分を除去することのできる
医療用滅菌ガスの処理方法及びその装置を提供すること
を目的とする。
チレンガスを水にくぐらせただけでは、酸化エチレンが
水に十分に溶解できず、大気に放出されるガス中に比較
的高濃度で混入していることがある。このため、十分に
除害されないまま大気に放出され、周辺の人畜に影響を
あたえるおそれがある。特に、大気圧以上の圧力で放出
されるガスは水中での滞留時間が短いことから、より高
濃度のまま放出されることになる。本発明はこのような
点に着目して、確実に有害成分を除去することのできる
医療用滅菌ガスの処理方法及びその装置を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、処理液を貯溜した液槽の上部に処理液の
噴射器を配置し、この噴射器から処理液を噴霧するよう
に構成し、滅菌器から導出した滅菌ガスを水中に噴出さ
せて処理液中でバブリングさせて酸化エチレンを処理液
に溶解させ、処理液に溶解しないまま液面から上昇して
来たガス成分に、噴射器から噴霧状に供給した処理液を
接触させることにより未溶解成分を溶解除去するように
構成し、さらに残ったガスを大量の空気で希釈して大気
に放出するように構成したことを特徴とするものであ
る。
に、本発明は、処理液を貯溜した液槽の上部に処理液の
噴射器を配置し、この噴射器から処理液を噴霧するよう
に構成し、滅菌器から導出した滅菌ガスを水中に噴出さ
せて処理液中でバブリングさせて酸化エチレンを処理液
に溶解させ、処理液に溶解しないまま液面から上昇して
来たガス成分に、噴射器から噴霧状に供給した処理液を
接触させることにより未溶解成分を溶解除去するように
構成し、さらに残ったガスを大量の空気で希釈して大気
に放出するように構成したことを特徴とするものであ
る。
【0005】
【作用】本発明では、処理液内で排出ガスをバブリング
して排出ガスを処理液に溶解させ、溶解しきれなかった
排出ガスの溶解成分を噴霧状に噴出した処理液で溶解す
るようにしているので、滅菌ガス中の有害成分(酸化エ
チレン)を確実に除去することができる。しかも、水に
溶解したエチレンガスは危険性の少ない低濃度のエチレ
ングリコールに変質することから、滅菌装置の排気処理
終了後に処理液とともに無害化して排出することができ
る。
して排出ガスを処理液に溶解させ、溶解しきれなかった
排出ガスの溶解成分を噴霧状に噴出した処理液で溶解す
るようにしているので、滅菌ガス中の有害成分(酸化エ
チレン)を確実に除去することができる。しかも、水に
溶解したエチレンガスは危険性の少ない低濃度のエチレ
ングリコールに変質することから、滅菌装置の排気処理
終了後に処理液とともに無害化して排出することができ
る。
【0006】
【実施例】図面は本発明の実施例を示す装置の流れ図で
ある。この酸化エチレン系滅菌ガス処理装置は、縦型の
缶胴で形成した処理塔(1)の下部に処理ガス導入路(2)
を、また、上部に処理済みガス排出路(3)をそれぞれ連
通接続し、処理塔(1)の中間高さ部に処理液供給路(4)
を連通接続し、処理塔(1)内の下部に処理ガス導入路
(2)に接続した気泡発生管(5)を配置するとともに、塔
内上部にスプレーノズル(6)を配置し、このスプレーノ
ズル(6)は処理塔(1)の下部から導出した処理液循環
路(9)に接続してある。
ある。この酸化エチレン系滅菌ガス処理装置は、縦型の
缶胴で形成した処理塔(1)の下部に処理ガス導入路(2)
を、また、上部に処理済みガス排出路(3)をそれぞれ連
通接続し、処理塔(1)の中間高さ部に処理液供給路(4)
を連通接続し、処理塔(1)内の下部に処理ガス導入路
(2)に接続した気泡発生管(5)を配置するとともに、塔
内上部にスプレーノズル(6)を配置し、このスプレーノ
ズル(6)は処理塔(1)の下部から導出した処理液循環
路(9)に接続してある。
【0007】処理液循環路(9)には循環ポンプ(10)が配
置してあり、処理塔(1)の下部に貯溜されている処理液
をスプレーノズル(6)に圧送し、スプレーノズル(6)か
ら処理液を塔内に噴霧状に噴出するようになっている。
また、処理液供給路(4)の先端部には給液用定液弁(11)
が装着してあり、塔内に一定の処理液を貯溜することが
できるようにしてある。そして、前記気泡発生管(5)は
貯溜されている処理液の内部に位置しており、その先端
部には多数の小穴をあけたり、焼結金属製気泡発生具等
を装着して微細な気泡を発生できるように構成してあ
る。
置してあり、処理塔(1)の下部に貯溜されている処理液
をスプレーノズル(6)に圧送し、スプレーノズル(6)か
ら処理液を塔内に噴霧状に噴出するようになっている。
また、処理液供給路(4)の先端部には給液用定液弁(11)
が装着してあり、塔内に一定の処理液を貯溜することが
できるようにしてある。そして、前記気泡発生管(5)は
貯溜されている処理液の内部に位置しており、その先端
部には多数の小穴をあけたり、焼結金属製気泡発生具等
を装着して微細な気泡を発生できるように構成してあ
る。
【0008】処理ガス導入路(2)は、滅菌器(12)から導
出した滅菌ガス排出路(13)に配置した真空ポンプ(14)の
吐出口(15)に接続してあり、処理ガス導入路(2)には真
空ポンプ(14)側から圧力スイッチ(16)、排ガス弁(17)、
流量調整弁(18)が順に配置してある。また、処理済みガ
ス排出路(3)には送風機(19)からの圧送風が供給される
ようになっている。
出した滅菌ガス排出路(13)に配置した真空ポンプ(14)の
吐出口(15)に接続してあり、処理ガス導入路(2)には真
空ポンプ(14)側から圧力スイッチ(16)、排ガス弁(17)、
流量調整弁(18)が順に配置してある。また、処理済みガ
ス排出路(3)には送風機(19)からの圧送風が供給される
ようになっている。
【0009】図中符号(20)は処理塔(1)の底部から導出
した排液路、(21)は排液路(20)に配置した排液弁、(22)
は処理液供給路(4)に配置した給液弁、(23)は滅菌器
(1)の加温器、(24)は滅菌ガスの供給源、(25)は滅菌ガ
スの加温器、(26)は加温器への加温媒体循環路、(27)は
加温媒体循環路(28)に配置した加熱媒体循環ポンプであ
る。
した排液路、(21)は排液路(20)に配置した排液弁、(22)
は処理液供給路(4)に配置した給液弁、(23)は滅菌器
(1)の加温器、(24)は滅菌ガスの供給源、(25)は滅菌ガ
スの加温器、(26)は加温器への加温媒体循環路、(27)は
加温媒体循環路(28)に配置した加熱媒体循環ポンプであ
る。
【0010】このような滅菌ガス処理装置では、処理塔
(1)内に処理液(水)を一定量貯溜した状態で、滅菌器(1
2)からの滅菌ガス排出が開始されると、処理ガス導入路
(2)に配置した圧力スイッチ(16)が排気圧力を感知し、
処理液循環ポンプ(10)、処理済みガス排出路(3)に圧送
風を送り込む送風機(19)が作動する。処理液循環ポンプ
(10)の運転により、スプレーノズル(6)から処理液が噴
霧状に噴出される。
(1)内に処理液(水)を一定量貯溜した状態で、滅菌器(1
2)からの滅菌ガス排出が開始されると、処理ガス導入路
(2)に配置した圧力スイッチ(16)が排気圧力を感知し、
処理液循環ポンプ(10)、処理済みガス排出路(3)に圧送
風を送り込む送風機(19)が作動する。処理液循環ポンプ
(10)の運転により、スプレーノズル(6)から処理液が噴
霧状に噴出される。
【0011】その後、排ガス弁(17)が開いて気泡発生管
(5)から処理塔(1)内の処理水内に滅菌ガスが小気泡と
なって吹き出される。処理水内に吹き出された滅菌ガス
はその酸化エチレン成分が処理水中で溶解されながら水
面に達し、水面から上昇した滅菌ガスはスプレーノズル
(6)から霧状にふりそそぐ水滴をくぐる間に水滴と接触
して、さらに吸着される。そして、装置圧力の違いや、
処理水の水温の違いによる滅菌ガス放出速度は処理ガス
導入路(2)に配置した流量調整弁(18)で調節する。
(5)から処理塔(1)内の処理水内に滅菌ガスが小気泡と
なって吹き出される。処理水内に吹き出された滅菌ガス
はその酸化エチレン成分が処理水中で溶解されながら水
面に達し、水面から上昇した滅菌ガスはスプレーノズル
(6)から霧状にふりそそぐ水滴をくぐる間に水滴と接触
して、さらに吸着される。そして、装置圧力の違いや、
処理水の水温の違いによる滅菌ガス放出速度は処理ガス
導入路(2)に配置した流量調整弁(18)で調節する。
【0012】以上の工程により、滅菌ガス中の酸化エチ
レン成分の殆どは処理水に溶解するが、残った酸化エチ
レンガス成分と不活性ガス成分とはさらに上昇して処理
済みガス排出路(3)に達する。この処理済みガス排出路
(3)には送風機から多量の外気が圧送されていることか
ら、処理塔(1)から処理済みガス排出路(3)に流入した
滅菌ガスは多量の外気によって希釈された状態で放出さ
れることになる。
レン成分の殆どは処理水に溶解するが、残った酸化エチ
レンガス成分と不活性ガス成分とはさらに上昇して処理
済みガス排出路(3)に達する。この処理済みガス排出路
(3)には送風機から多量の外気が圧送されていることか
ら、処理塔(1)から処理済みガス排出路(3)に流入した
滅菌ガスは多量の外気によって希釈された状態で放出さ
れることになる。
【0013】滅菌器(12)からの排気圧力が低下し、排出
ガス圧力が圧力スイッチ(16)の検出下限圧力よりも低下
すると、圧力スイッチ(16)が切り替え作動を行い、排ガ
ス弁(17)を閉じるとともに、処理液循環ポンプ(10)、送
風機(19)の作動を停止する。続いて、排液弁(21)を開い
て処理塔(1)内の処理水を排出し、処理塔(1)内の排液
が終了すると、排液弁(21)を閉じるとともに、処理液供
給路(4)の給液弁(22)を開いて定液位まで処理水を供給
して次の排気に備える。
ガス圧力が圧力スイッチ(16)の検出下限圧力よりも低下
すると、圧力スイッチ(16)が切り替え作動を行い、排ガ
ス弁(17)を閉じるとともに、処理液循環ポンプ(10)、送
風機(19)の作動を停止する。続いて、排液弁(21)を開い
て処理塔(1)内の処理水を排出し、処理塔(1)内の排液
が終了すると、排液弁(21)を閉じるとともに、処理液供
給路(4)の給液弁(22)を開いて定液位まで処理水を供給
して次の排気に備える。
【0014】なお、上記実施例では、処理液として水を
使用したが、適当な処理液を使用することができること
はいうまでもない。また、処理塔(1)の底部に加温器を
配置して、処理液を適当な温度まで加温するように構成
してもよい。
使用したが、適当な処理液を使用することができること
はいうまでもない。また、処理塔(1)の底部に加温器を
配置して、処理液を適当な温度まで加温するように構成
してもよい。
【0015】
【発明の効果】以上述べたように、本発明では、酸化エ
チレン系の滅菌ガスを処理塔内に貯溜した処理液内に吹
き込むことにより、処理液内内でバブリングさせて酸化
エチレン成分を水に溶解させるとともに、溶解され残っ
て液面から立ちのぼったガスを霧状に噴出されている処
理液と接触させてさらに溶解させるように構成してある
から、排出される滅菌ガスから有害成分である酸化エチ
レンを確実に除去することができる。
チレン系の滅菌ガスを処理塔内に貯溜した処理液内に吹
き込むことにより、処理液内内でバブリングさせて酸化
エチレン成分を水に溶解させるとともに、溶解され残っ
て液面から立ちのぼったガスを霧状に噴出されている処
理液と接触させてさらに溶解させるように構成してある
から、排出される滅菌ガスから有害成分である酸化エチ
レンを確実に除去することができる。
【0016】さらに、処理等から処理済みガス排出路に
流れ込んだ処理済みガスを送風機から処理済みガス排出
路に圧送される外気で希釈して外部に放出することにな
るから、大気に放出されるガスは有毒成分混入率が極め
て低い、安全なガスにすることができる。
流れ込んだ処理済みガスを送風機から処理済みガス排出
路に圧送される外気で希釈して外部に放出することにな
るから、大気に放出されるガスは有毒成分混入率が極め
て低い、安全なガスにすることができる。
【図1】滅菌ガス処理装置の系統図である。
1…処理塔、 2…処理ガス
導入路、 3…処理済みガス排出路、 4…処理液供
給路、 5…気泡発生管、 6…スプレー
ノズル、 10…処理液循環ポンプ、 12…滅菌器、 18…流量調整弁、 19…送風機。
導入路、 3…処理済みガス排出路、 4…処理液供
給路、 5…気泡発生管、 6…スプレー
ノズル、 10…処理液循環ポンプ、 12…滅菌器、 18…流量調整弁、 19…送風機。
Claims (2)
- 【請求項1】 滅菌器(12)から導出される酸化エチレン
系滅菌ガスを処理液内を通して大気に放出する滅菌ガス
の廃棄処理方法であって、 処理塔(1)の内部に処理液を貯溜するとともに、処理塔
(1)の上部にスプレーノズル(6)を配置し、滅菌器(12)
から排出した滅菌ガスを処理塔(1)内に貯溜した処理液
中に導入して滅菌ガスを処理液中でバブリングするとと
もに、処理液を通過した後の滅菌ガスをスプレーノズル
(6)から噴出された処理液と接触させて可溶成分を除去
し、可溶成分を取り除いた後の滅菌ガスを処理塔(1)の
上部に連通させた処理済みガス排出路(3)から大気に排
出するように構成し、この処理済みガス排出路(3)に外
気を圧送供給して、滅菌ガスの不可溶成分を希釈するよ
うに構成した酸化エチレン系滅菌ガスの処理方法。 - 【請求項2】 滅菌器(12)で非処理物を滅菌処理した後
の酸化エチレン系滅菌ガスを処理液内を通して大気に放
出する滅菌ガスの廃棄処理装置であって、 上端部に処理済みガス排出路(3)を連通させた処理塔
(1)に処理液供給路(4)を連通して処理塔(1)内の下部
に処理液貯溜部を形成し、この処理液貯溜部の内部に気
泡発生管(5)を配置するとともに、処理塔(1)内の処理
液面よりも上方にスプレーノズル(6)を配置し、このス
プレーノズル(6)と処理液貯溜槽部とを処理液循環ポン
プ(10)を介して連通し、滅菌器(12)と気泡発生管(5)と
を接続する処理ガス導入路(2)に流量調整弁(18)を配置
し、処理塔(1)の上端部に連通している処理済みガス排
出路(3)に送風機(19)からの外気圧送路を連通接続した
ことを特徴とする酸化エチレン系滅菌ガスの処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3170536A JPH05293326A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄処理方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3170536A JPH05293326A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄処理方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05293326A true JPH05293326A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=15906735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3170536A Pending JPH05293326A (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 酸化エチレン系滅菌ガスの廃棄処理方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05293326A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999061137A1 (en) * | 1998-05-26 | 1999-12-02 | Shimakawa Seisakusyo Co., Ltd. | Device and method for cleaning noxious gas |
| US6743402B2 (en) | 1998-05-26 | 2004-06-01 | Kenzo Shimakawa | Purifier of noxious gas and method for manufacturing the same |
| JP2020151457A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | タイワン アドヴァンスド ステリライゼイション テクノロジーズ インク.Taiwan Advanced Sterilization Technologies Inc. | ガス滅菌剤の回収及び精製する方法及びシステム |
| CN114432478A (zh) * | 2022-02-12 | 2022-05-06 | 柴莹莹 | 一种医用采血管灭菌处理系统 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5331574A (en) * | 1976-09-07 | 1978-03-24 | Okawa Wataru | Gassliquid contact method and its apparatus |
| JPS53117606A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-14 | Siemens Ag | Production of composite metal comprising tugusten * silver and copper |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP3170536A patent/JPH05293326A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5331574A (en) * | 1976-09-07 | 1978-03-24 | Okawa Wataru | Gassliquid contact method and its apparatus |
| JPS53117606A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-14 | Siemens Ag | Production of composite metal comprising tugusten * silver and copper |
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| US6743402B2 (en) | 1998-05-26 | 2004-06-01 | Kenzo Shimakawa | Purifier of noxious gas and method for manufacturing the same |
| JP2020151457A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | タイワン アドヴァンスド ステリライゼイション テクノロジーズ インク.Taiwan Advanced Sterilization Technologies Inc. | ガス滅菌剤の回収及び精製する方法及びシステム |
| CN114432478A (zh) * | 2022-02-12 | 2022-05-06 | 柴莹莹 | 一种医用采血管灭菌处理系统 |
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