JPH05294904A - スクアリン酸誘導体 - Google Patents
スクアリン酸誘導体Info
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- JPH05294904A JPH05294904A JP4344004A JP34400492A JPH05294904A JP H05294904 A JPH05294904 A JP H05294904A JP 4344004 A JP4344004 A JP 4344004A JP 34400492 A JP34400492 A JP 34400492A JP H05294904 A JPH05294904 A JP H05294904A
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- Japan
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- compound
- squaric acid
- acid derivative
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- same
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/41—Amines
- A61K8/411—Aromatic amines, i.e. where the amino group is directly linked to the aromatic nucleus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/20—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線吸収剤として、および耐熱性ポリイミ
ド樹脂の合成原料として有用な新規スクアリン酸誘導体
を提供する。 【構成】 式： 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素ま
たは低級アルキル基を表し；アミノ基の置換位置は、同
一または異なって、メタ位またはパラ位である］で表さ
れるスクアリン酸誘導体またはその塩。
ド樹脂の合成原料として有用な新規スクアリン酸誘導体
を提供する。 【構成】 式： 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素ま
たは低級アルキル基を表し；アミノ基の置換位置は、同
一または異なって、メタ位またはパラ位である］で表さ
れるスクアリン酸誘導体またはその塩。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線吸収剤および耐
熱性ポリイミド樹脂の合成原料として有用なスクアリン
酸誘導体に関する。
熱性ポリイミド樹脂の合成原料として有用なスクアリン
酸誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、スクアリン酸の１,２−ジアニリ
ノ誘導体としては、フェニル基の４位が水素またはニト
ロである化合物［ジャーナル・オブ・オーガニック・ケ
ミストリー（J.Org.Chem.)，39，3881（1974）］、およ
び該位が水素、ヒドロキシ、またはカルボキシルである
化合物［アンゲバンテ・ヘミー・インテルナツィオナー
ル・エディツィオーン(Angew.Chem.Internat.Edit.)，
5，888（1966）］が知られている。
ノ誘導体としては、フェニル基の４位が水素またはニト
ロである化合物［ジャーナル・オブ・オーガニック・ケ
ミストリー（J.Org.Chem.)，39，3881（1974）］、およ
び該位が水素、ヒドロキシ、またはカルボキシルである
化合物［アンゲバンテ・ヘミー・インテルナツィオナー
ル・エディツィオーン(Angew.Chem.Internat.Edit.)，
5，888（1966）］が知られている。
【０００３】しかしながら、紫外線吸収剤として、ま
た、耐熱性ポリイミド樹脂の合成原料として特に有用な
スクアリン誘導体の出現が望まれている。
た、耐熱性ポリイミド樹脂の合成原料として特に有用な
スクアリン誘導体の出現が望まれている。
【０００４】本発明の目的は、紫外線吸収剤および耐熱
性ポリイミド樹脂合成原料として有用な新規スクアリン
酸誘導体を提供することにある。
性ポリイミド樹脂合成原料として有用な新規スクアリン
酸誘導体を提供することにある。
【０００５】本発明は、式（Ｉ）：
【化２】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素ま
たは低級アルキル基を表し；アミノ基の置換位置は、同
一または異なって、メタ位またはパラ位である］で表さ
れる新規なスクアリン酸誘導体［以下、ＳＱＤＡと略す
る場合もある］またはその塩に関する。
たは低級アルキル基を表し；アミノ基の置換位置は、同
一または異なって、メタ位またはパラ位である］で表さ
れる新規なスクアリン酸誘導体［以下、ＳＱＤＡと略す
る場合もある］またはその塩に関する。
【０００６】式（Ｉ）の定義中、低級アルキル基は、好
ましくは、炭素数１〜４の直鎖または分岐状の、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル等を表
す。スクアリン酸誘導体の塩としては、塩酸塩、臭化水
素酸塩等のハロゲン化水素酸塩が挙げられる。
ましくは、炭素数１〜４の直鎖または分岐状の、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル等を表
す。スクアリン酸誘導体の塩としては、塩酸塩、臭化水
素酸塩等のハロゲン化水素酸塩が挙げられる。
【０００７】次に、化合物（Ｉ）の製造法について説明
する。化合物（Ｉ）は、次の反応工程に従い得ることが
できる。
する。化合物（Ｉ）は、次の反応工程に従い得ることが
できる。
【０００８】
【化３】
【０００９】［式中、Ｘ1およびＸ2は、同一または異な
って、ヒドロキシ、低級アルコキシまたはハロゲンを表
し、Ｒは前記Ｒ1およびＲ2の定義と同義であり、Ｙはア
ミノ基の前駆体を表し、Ｙの置換位置はメタ位またはパ
ラ位である］
って、ヒドロキシ、低級アルコキシまたはハロゲンを表
し、Ｒは前記Ｒ1およびＲ2の定義と同義であり、Ｙはア
ミノ基の前駆体を表し、Ｙの置換位置はメタ位またはパ
ラ位である］
【００１０】Ｘ1およびＸ2の定義において、低級アルコ
キシ基の低級アルキル部位は、Ｒ1およびＲ2で定義した
低級アルキル基と同義である。Ｙのアミノ基の前駆体と
しては、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ等のアル
カノイルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ、ニ
トロ等が挙げられる。
キシ基の低級アルキル部位は、Ｒ1およびＲ2で定義した
低級アルキル基と同義である。Ｙのアミノ基の前駆体と
しては、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ等のアル
カノイルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ、ニ
トロ等が挙げられる。
【００１１】原料化合物（II）は、例えば、テトラヘド
ロン・レターズ（Tetrahedron Lett.)，781（1970）；
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィ（J.Am.Chem.Soc.)，88，1，533（1966）；およびシ
ンセシス（Synthesis)，869（1976）に記載されている
公知の方法によって合成できる。
ロン・レターズ（Tetrahedron Lett.)，781（1970）；
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィ（J.Am.Chem.Soc.)，88，1，533（1966）；およびシ
ンセシス（Synthesis)，869（1976）に記載されている
公知の方法によって合成できる。
【００１２】一般式（Ｉ）においてＲ1およびＲ1が同一
の基である化合物（Ia）は、不活性溶媒中、化合物（I
I）をｐ−フェニレンジアミン誘導体（IV）と反応させ
ることによって得られる。化合物（IV）は、化合物（I
I）に対して、少なくとも２モル当量、好ましくは２な
いし１０モル当量使用される。不活性溶媒としては、メ
タノールおよびエタノール等のアルコール類、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ンおよびジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンおよびキシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルム
アミド等、あるいはそれらの混合溶媒が挙げられる。化
合物（II）と化合物（IV）との反応は、０℃ないし使用
する溶媒の沸点温度で行う。通常、反応は１時間ないし
２日で完了する。
の基である化合物（Ia）は、不活性溶媒中、化合物（I
I）をｐ−フェニレンジアミン誘導体（IV）と反応させ
ることによって得られる。化合物（IV）は、化合物（I
I）に対して、少なくとも２モル当量、好ましくは２な
いし１０モル当量使用される。不活性溶媒としては、メ
タノールおよびエタノール等のアルコール類、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ンおよびジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンおよびキシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルム
アミド等、あるいはそれらの混合溶媒が挙げられる。化
合物（II）と化合物（IV）との反応は、０℃ないし使用
する溶媒の沸点温度で行う。通常、反応は１時間ないし
２日で完了する。
【００１３】別法として、化合物（IV）に代えて、化合
物（IV）の前駆体である化合物（V）を化合物（II）と
反応させて化合物（Ia）の前駆体である化合物（III）
を得ることもできる。本反応経路により、反応により生
成する副生成物の量が減少する。本反応は、化合物（I
I）と化合物（IV）との反応における条件と同一の条件
下で行うことができる。次いで、得られた化合物（II
I）を加水分解または還元反応に付すことにより化合物
（Ia）が得られる。
物（IV）の前駆体である化合物（V）を化合物（II）と
反応させて化合物（Ia）の前駆体である化合物（III）
を得ることもできる。本反応経路により、反応により生
成する副生成物の量が減少する。本反応は、化合物（I
I）と化合物（IV）との反応における条件と同一の条件
下で行うことができる。次いで、得られた化合物（II
I）を加水分解または還元反応に付すことにより化合物
（Ia）が得られる。
【００１４】
【化４】
【００１５】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ1、Ｘ2およびアミノ
基の置換位置は前記と同じである。］
基の置換位置は前記と同じである。］
【００１６】本反応経路は、一般式（Ｉ）においてＲ1
およびＲ2が相互に異なる化合物を合成するのに特に有
用である。本反応は前記した条件と同一の条件下で行う
ことができる。化合物（IVa）は、化合物（II）に対
し、好ましくは１ないし２モル当量使用される。化合物
（IVb）は、化合物（VI）に対し、好ましくは１ないし
２モル当量使用される。化合物（IVa）および（IVb）に
代えて、化合物（IVa）および（IVb）の前駆体に対応す
る化合物（V）を用いて化合物（II）と反応させて化合
物（Ｉ）の前駆体を得ることもできる。次いで、該前駆
体を加水分解または還元反応に付すことにより化合物
（Ｉ）が得られる。
およびＲ2が相互に異なる化合物を合成するのに特に有
用である。本反応は前記した条件と同一の条件下で行う
ことができる。化合物（IVa）は、化合物（II）に対
し、好ましくは１ないし２モル当量使用される。化合物
（IVb）は、化合物（VI）に対し、好ましくは１ないし
２モル当量使用される。化合物（IVa）および（IVb）に
代えて、化合物（IVa）および（IVb）の前駆体に対応す
る化合物（V）を用いて化合物（II）と反応させて化合
物（Ｉ）の前駆体を得ることもできる。次いで、該前駆
体を加水分解または還元反応に付すことにより化合物
（Ｉ）が得られる。
【００１７】上記製造法において、最終生成物ならびに
生成する中間体は、有機合成化学で使用される常法、例
えば、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶およびク
ロマトグラフィーによって単離・精製することができ
る。所望により、生成する中間体は、精製することな
く、次の工程に供することも可能である。
生成する中間体は、有機合成化学で使用される常法、例
えば、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶およびク
ロマトグラフィーによって単離・精製することができ
る。所望により、生成する中間体は、精製することな
く、次の工程に供することも可能である。
【００１８】生成物が遊離の形で得られる場合、化合物
（Ｉ）の塩を得るには、例えば、適当な有機溶媒に溶解
または懸濁し、適当な酸を添加することによって塩に変
換することができる。生成物が塩の形で得られる場合
は、公知の精製または単離プロセスに付して塩形の化合
物（Ｉ）を得ることができる。
（Ｉ）の塩を得るには、例えば、適当な有機溶媒に溶解
または懸濁し、適当な酸を添加することによって塩に変
換することができる。生成物が塩の形で得られる場合
は、公知の精製または単離プロセスに付して塩形の化合
物（Ｉ）を得ることができる。
【００１９】化合物（Ｉ）およびその塩は、水または種
々の溶媒との付加物の形で存在し得るが、これら付加物
も本発明に包含される。
々の溶媒との付加物の形で存在し得るが、これら付加物
も本発明に包含される。
【００２０】化合物（Ｉ）は２９０ｎｍないし４００ｎ
ｍの範囲に強い紫外線吸収ピークを示す。該化合物は皮
膚を紫外線から保護するための紫外線吸収剤として化粧
品等に添加することができる。また、該化合物はプラス
チックの劣化を防ぐための添加剤として、ポリオレフィ
ン類等のプラスチックに添加することもできる。また、
化合物（Ｉ）は耐熱性ポリイミド類の合成原料として用
いることもできる。
ｍの範囲に強い紫外線吸収ピークを示す。該化合物は皮
膚を紫外線から保護するための紫外線吸収剤として化粧
品等に添加することができる。また、該化合物はプラス
チックの劣化を防ぐための添加剤として、ポリオレフィ
ン類等のプラスチックに添加することもできる。また、
化合物（Ｉ）は耐熱性ポリイミド類の合成原料として用
いることもできる。
【００２１】該耐熱性ポリイミド類は、ＳＱＤＡを種々
の芳香族カルボン酸二無水物と反応させることによって
得られる。使用することができる二無水物としては、
３,３',４,４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物（ＢＴＤＡ）；ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤ
Ａ）；４,４'−オキシジフタル酸二無水物（ＯＤＰ
Ａ）；および３,３',４,４'−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物（ＢＰＤＡ）が挙げられる。当業者に公知
の他の芳香族カルボン酸二無水物も用いることができ
る。
の芳香族カルボン酸二無水物と反応させることによって
得られる。使用することができる二無水物としては、
３,３',４,４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物（ＢＴＤＡ）；ピロメリット酸二無水物（ＰＭＤ
Ａ）；４,４'−オキシジフタル酸二無水物（ＯＤＰ
Ａ）；および３,３',４,４'−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物（ＢＰＤＡ）が挙げられる。当業者に公知
の他の芳香族カルボン酸二無水物も用いることができ
る。
【００２２】種々の酸二無水物とＳＱＤＡとの重合は、
室温で、７.４５ないし１５.００パーセントの濃度（重
量／重量）で、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ
ｃ）中で行うことができる。ＤＭＡｃの他、当業者に公
知の他の溶媒も用いることができる。
室温で、７.４５ないし１５.００パーセントの濃度（重
量／重量）で、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ
ｃ）中で行うことができる。ＤＭＡｃの他、当業者に公
知の他の溶媒も用いることができる。
【００２３】
【実施例】以下に実施例および参考例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明するが、本発明はそれらに限定される
ものではない。実施例１ １,２−ビス（４−アミノアニリノ）シクロブテン−２,
４−ジオン（化合物１） ｐ−フェニレンジアミン６.５０ｇ（６０ミリモル）を
メタノール５０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、これに、
スクアリン酸ジエチルエステル１.７０ｇ（１０ミリモ
ル）をメタノール２０ｍｌに溶解した液を、室温で、１
時間にわたり滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌
し、一晩放置した。析出した結晶を濾取し、メタノール
で洗浄した後、１５０℃で１時間真空乾燥することによ
り、化合物（２.５０ｇ）を黄色固体として得た。
さらに詳しく説明するが、本発明はそれらに限定される
ものではない。実施例１ １,２−ビス（４−アミノアニリノ）シクロブテン−２,
４−ジオン（化合物１） ｐ−フェニレンジアミン６.５０ｇ（６０ミリモル）を
メタノール５０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、これに、
スクアリン酸ジエチルエステル１.７０ｇ（１０ミリモ
ル）をメタノール２０ｍｌに溶解した液を、室温で、１
時間にわたり滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌
し、一晩放置した。析出した結晶を濾取し、メタノール
で洗浄した後、１５０℃で１時間真空乾燥することによ
り、化合物（２.５０ｇ）を黄色固体として得た。
【００２４】元素分析：Ｃ16Ｈ14Ｎ4Ｏ2として 計算値(％)：Ｃ,６５.３０；Ｈ,４.７９；Ｎ,１９.０
４；Ｏ,１０.８７ 実測値(％)：Ｃ,６４.８１；Ｈ,４.７０；Ｎ,１８.４
５；Ｏ,１１.２５ ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ-1：１７９５，２７００−３７０
０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ppm）：４.９７
（ｓ,４Ｈ）；６.６０（ｄ ,Ｊ＝８.８Ｈｚ,４Ｈ）；７.１８（ｄ,Ｊ＝８.８Ｈｚ,
４Ｈ）；９.４２（ｓ,２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ppm）：１１４.４
×２；１２０.１×２；１２８.０；１４５.１；１６４.
５；１８０.８ ＵＶ：λmax（ξmax）（アセトニトリル：水＝１：１
中）：２７９.０ｎｍ（２５３００），３４５.２ｎｍ
（２８６００） （ジメチルホルムアミド中）：３２８.０ｎｍ（２６６
００），３６２.０ｎｍ（２７７００）
４；Ｏ,１０.８７ 実測値(％)：Ｃ,６４.８１；Ｈ,４.７０；Ｎ,１８.４
５；Ｏ,１１.２５ ＩＲ（ＫＢｒ） ｃｍ-1：１７９５，２７００−３７０
０1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ppm）：４.９７
（ｓ,４Ｈ）；６.６０（ｄ ,Ｊ＝８.８Ｈｚ,４Ｈ）；７.１８（ｄ,Ｊ＝８.８Ｈｚ,
４Ｈ）；９.４２（ｓ,２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ（ppm）：１１４.４
×２；１２０.１×２；１２８.０；１４５.１；１６４.
５；１８０.８ ＵＶ：λmax（ξmax）（アセトニトリル：水＝１：１
中）：２７９.０ｎｍ（２５３００），３４５.２ｎｍ
（２８６００） （ジメチルホルムアミド中）：３２８.０ｎｍ（２６６
００），３６２.０ｎｍ（２７７００）
【００２５】実施例２ １,２−ビス(３−アミノアニリノ)シクロブテン−２,４
−ジオン(化合物２) ｍ−フェニレンジアミン３２.４ｇ（０.３モル）をメタ
ノール３００ｍｌに溶解し、窒素気流下、これに、スク
アリン酸ジエチルエステル８.６ｇ（０.０５モル）をメ
タノール５０ｍｌに溶解した液を、室温で、３０分間に
わたり滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌し、メ
タノールで洗浄した後、カラムクロマトグラフィーで精
製し、１５０℃で１時間真空乾燥することにより、化合
物２（１.０ｇ）を黄色固体として得た。
−ジオン(化合物２) ｍ−フェニレンジアミン３２.４ｇ（０.３モル）をメタ
ノール３００ｍｌに溶解し、窒素気流下、これに、スク
アリン酸ジエチルエステル８.６ｇ（０.０５モル）をメ
タノール５０ｍｌに溶解した液を、室温で、３０分間に
わたり滴下した。滴下終了後、室温で３時間撹拌し、メ
タノールで洗浄した後、カラムクロマトグラフィーで精
製し、１５０℃で１時間真空乾燥することにより、化合
物２（１.０ｇ）を黄色固体として得た。
【００２６】元素分析；Ｃ16Ｈ14Ｎ4Ｏ2として 計算値(％)：Ｃ,６５.３０；Ｈ,４.７９；Ｎ,１９.０
４；Ｏ,１０.８７ 実測値(％)：Ｃ,６４.９０；Ｈ,４.７１；Ｎ,１８.７
８；Ｏ,１１.６１ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：１７９０，２７００−３７００1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ（ppm）：５.２１
（ｓ,４Ｈ），６.３２（ｍ,２Ｈ），６.６１（ｍ,２
Ｈ），６.７６（ｍ,２Ｈ），７.０１（ｍ,２Ｈ），９.
５９（ｓ,２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ（ppm）：１０３.
６，１０６.１，１０９.５，１２９.７，１３９.２，１
４９.６，１６６.５，１８１.２ ＵＶ：λmax（εmax）（ジメチルホルムアミド中）：３
４６.０ｎｍ（３４０００）
４；Ｏ,１０.８７ 実測値(％)：Ｃ,６４.９０；Ｈ,４.７１；Ｎ,１８.７
８；Ｏ,１１.６１ ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：１７９０，２７００−３７００1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ（ppm）：５.２１
（ｓ,４Ｈ），６.３２（ｍ,２Ｈ），６.６１（ｍ,２
Ｈ），６.７６（ｍ,２Ｈ），７.０１（ｍ,２Ｈ），９.
５９（ｓ,２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6） δ（ppm）：１０３.
６，１０６.１，１０９.５，１２９.７，１３９.２，１
４９.６，１６６.５，１８１.２ ＵＶ：λmax（εmax）（ジメチルホルムアミド中）：３
４６.０ｎｍ（３４０００）
【００２７】参考例１ １．３,３',４,４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物（ＢＴＤＡ）と化合物１との反応 血清ビン中、実施例１で得られた化合物１ ０.５８８５
８ｇをＢＴＤＡ ０.６４４５ｇと混合した（０.００２
モル反応）。ＤＭＡｃを７ｇ添加し、室温で溶液を撹拌
した。ほぼ５分後、粘度上昇が観察された。溶液をさら
に１時間撹拌した。ＤＭＡｃ７中０.５％濃度で２５℃
で測定したところ、固有粘度は１.１９ｄｌ／ｇであっ
た。
二無水物（ＢＴＤＡ）と化合物１との反応 血清ビン中、実施例１で得られた化合物１ ０.５８８５
８ｇをＢＴＤＡ ０.６４４５ｇと混合した（０.００２
モル反応）。ＤＭＡｃを７ｇ添加し、室温で溶液を撹拌
した。ほぼ５分後、粘度上昇が観察された。溶液をさら
に１時間撹拌した。ＤＭＡｃ７中０.５％濃度で２５℃
で測定したところ、固有粘度は１.１９ｄｌ／ｇであっ
た。
【００２８】該溶液をソーダ石灰ガラス板に注ぎ、ドク
ターナイフで厚さ約０.０１５インチとし；窒素をパー
ジしたドライボックスに入れ、溶媒を蒸発させた。数時
間後、被覆したガラス板を強制風炉に入れ、２００℃ま
で加熱して、ポリマー皮膜の硬化を確実に完了させた。
得られた赤味がかった茶色の皮膜はガラスにしっかりと
付着していた。
ターナイフで厚さ約０.０１５インチとし；窒素をパー
ジしたドライボックスに入れ、溶媒を蒸発させた。数時
間後、被覆したガラス板を強制風炉に入れ、２００℃ま
で加熱して、ポリマー皮膜の硬化を確実に完了させた。
得られた赤味がかった茶色の皮膜はガラスにしっかりと
付着していた。
【００２９】該被覆ガラスを温水に１時間浸漬し、鋭い
カミソリ刃を用いてポリマーをガラスから除去しようと
した。その結果、非常に柔軟で靱性な自立性フィルムで
あることが分かった。このフィルムを３００℃でさらに
１時間加熱したが、依然柔軟かつ靱性であった。
カミソリ刃を用いてポリマーをガラスから除去しようと
した。その結果、非常に柔軟で靱性な自立性フィルムで
あることが分かった。このフィルムを３００℃でさらに
１時間加熱したが、依然柔軟かつ靱性であった。
【００３０】２．ポリイミドの熱安定性および物理特性 ＢＴＤＡとＳＱＤＡとを反応させることによって得られ
たポリイミドの熱安定性は、該ポリマーを、昇温速度
２.５℃／分で、室温から６００℃まで空気中で加熱す
ることによって調べた。５、２５、および５０パーセン
トの重量損失が見られた温度から見て、熱安定性は非常
に高いものであった。以下の表１に、合成したポリイミ
ドの硬化法、重量損失プロフィール、および物理特性を
まとめる。
たポリイミドの熱安定性は、該ポリマーを、昇温速度
２.５℃／分で、室温から６００℃まで空気中で加熱す
ることによって調べた。５、２５、および５０パーセン
トの重量損失が見られた温度から見て、熱安定性は非常
に高いものであった。以下の表１に、合成したポリイミ
ドの硬化法、重量損失プロフィール、および物理特性を
まとめる。
【００３１】
【表１】
【００３２】結晶化を示す２００℃の硬化の後、すべて
のフィルムは半透明の外観を有していた；しかしなが
ら、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融解は認められなかっ
た。半透明性は３００℃硬化の後にも残っていた。
のフィルムは半透明の外観を有していた；しかしなが
ら、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で融解は認められなかっ
た。半透明性は３００℃硬化の後にも残っていた。
【００３３】優れた接着性と柔軟性のため、生成したポ
リイミドは高温接着剤として有用である。
リイミドは高温接着剤として有用である。
【００３４】
【発明の効果】本発明により、紫外線吸収剤および耐熱
性ポリイミド樹脂の合成原料として有用なスクアリン酸
誘導体が提供される。
性ポリイミド樹脂の合成原料として有用なスクアリン酸
誘導体が提供される。
Claims (1)
- 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素ま
たは低級アルキル基を表し；アミノ基の置換位置は、同
一または異なって、メタ位またはパラ位である］で表さ
れるスクアリン酸誘導体またはその塩。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US84525492A | 1992-03-03 | 1992-03-03 | |
| US845254 | 1992-03-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05294904A true JPH05294904A (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=25294781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4344004A Ceased JPH05294904A (ja) | 1992-03-03 | 1992-12-24 | スクアリン酸誘導体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0558894B1 (ja) |
| JP (1) | JPH05294904A (ja) |
| DE (1) | DE69302425T2 (ja) |
-
1992
- 1992-12-24 JP JP4344004A patent/JPH05294904A/ja not_active Ceased
-
1993
- 1993-01-15 EP EP93100551A patent/EP0558894B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-15 DE DE69302425T patent/DE69302425T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69302425T2 (de) | 1997-01-02 |
| EP0558894A1 (en) | 1993-09-08 |
| EP0558894B1 (en) | 1996-05-01 |
| DE69302425D1 (de) | 1996-06-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020319 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20040824 |