JPH05302096A

JPH05302096A - 電子部品用低泡液体洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH05302096A
Application number: JP13197692A
Authority: JP
Inventors: Kenji Yokoi; 健二横井; Hirotoshi Ushiyama; 広俊牛山; Anri Tominaga; 安里富永
Original assignee: Lion Corp
Current assignee: Lion Corp
Priority date: 1992-04-24
Filing date: 1992-04-24
Publication date: 1993-11-16

Abstract

(57)【要約】【構成】（ａ）３価のＡｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｃ
ｏ，Ｓｃ，Ｌａまたは２価のＭｎイオンが添加されたＭ
ｇＯ触媒の存在下に、脂肪酸アルキルエステルとアルキ
レンオキシドを反応させて得られた脂肪酸ポリオキシア
ルキレンアルキルエーテル、（ｂ）アルキルまたはアル
キルフェニルアルコキシレート、（ｃ）炭素数６〜１８
のパラフィンからなる電子部品用液体洗剤。（ｄ）脂肪
酸ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、（ｅ）炭素
数１〜１０のアルキルまたはアルキルフェニルアルコキ
シレート、（ｃ）炭素数６〜１８のパラフィンからなる
電子部品用液体洗剤。【効果】半田フラックス、油脂汚れ部品、液晶等に対
する高度な洗浄性能と、スプレー洗浄も可能な低泡性が
得られ、水系洗浄が可能。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品の洗浄に有用
な、フロン系溶剤や塩素系溶剤に替わる水系の洗浄剤に
関する。

【０００２】

【従来の技術】プリント基板等に用いられる半田フラッ
クス、精密部品、その組立工程に使用される治工具等の
電子部品用金属部品、液晶セル、プリント配線、集積回
路、シャドーマスク等の腐食加工部品などの電子部品に
おいては、高度の洗浄仕上りが追求されており、また、
経済性等の観点から、一定の洗浄剤で多くの部品を高度
に洗浄することが要求される。

【０００３】例えば、エレクトロニクス産業において
は、プリント基板の半田付けの際にロジン系等の半田フ
ラックスが使用されているが、このようなフラックス
は、プリント基板および最終製品の高品質を維持するた
めに、半田付け作業の終了後に、高清浄度に洗浄するこ
とが要求されている。

【０００４】また液晶セルの製造に際しては、透明電極
が形成された２枚の基板間に液晶を封入すべく、一部開
口を残して上下基板をその周縁部で接着剤により貼り合
わせて液晶室を形成し、空の液晶セルを作成する。この
空セルは、真空にした注入室内で開口部が液晶物質中に
浸され、ついで、注入室を大気に開放することにより、
液晶物質が基板間(液晶室内)に吸引され、開口部をシー
ルすることにより、基板間に液晶物質の封入された液晶
セルが形成される。

【０００５】しかしながら、２枚の液晶セル基板の接着
部の外側には、液晶セル基板が微小ギャップで対向する
空隙部の生じることが避けられない。そのため、上記の
空セルへの液晶の注入時に、毛細管現象により液晶がこ
の空隙部に入り込む。この空隙部には、透明電極に信号
を印加するための電極端子が、各々絶縁を保って高密度
に形成されていることから、この部分の液晶をそのまま
にしておくと、液晶が大気中の汚染物質を溶解して絶縁
不良を起こしやすい。そこで、液晶を洗浄除去する必要
がある。しかし、この空隙部のギャップは10μm以下と
狭いため、入り込んだ液晶を洗浄除去するには高度な洗
浄性能が要求される。

【０００６】さらに、電子機器の製造に使用する精密金
属部品は、その加工、処理、組立時において油脂、機械
油、グリース等の汚れが付くことがさけられない。これ
ら汚れは、最終製品の性能に大きな影響を与えることか
ら、高度な脱脂洗浄が要求される。金属部品の組立、加
工等に使用される治工具類も同様である。

【０００７】以上のような高度の洗浄能力が要求される
分野においては、従来、フロン系溶剤、塩素系溶剤が主
として用いられてきた。しかしながら、これらの溶剤は
優れた洗浄性能を有する反面、環境への安全性に大きな
問題を有しており、近年、水系の洗浄剤への要望が高ま
っている。

【０００８】特開平３−６２８９６号公報には、環式飽
和炭化水素を７０重量％以上含有する洗浄剤組成物が開
示され、さらに０．１〜３０重量％の脂肪族アルコール
および／または界面活性剤を添加しうることが記載され
ている。しかし、この洗浄剤組成物は、有機溶剤を主体
とした非水系の洗浄剤であり、安全性や作業環境の点で
問題がある。

【０００９】また、特開平３−１４６５９７号公報に
は、炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素および極性基を有
する有機化合物を含むプリント基板用洗浄剤組成物が報
告されており、極性基を有する有機化合物としてアルコ
ール、エーテル、エステル、ケトンなどが示されてい
る。また、０．００１〜１０重量％の界面活性剤を配合
しうることも記載されている。しかし、この洗浄剤組成
物も、脂肪族炭化水素を主体とする非水系の洗浄剤であ
り、上記と同様の問題を抱えている。

【００１０】さらに、特開平３−１５３７９９号公報に
は、炭素数８〜１１の脂肪族炭化水素と、一価アルコー
ルと、脂肪族二価アルコールモノ低級アルキルエーテル
および／または脂肪族二価アルコールモノ低級アルキル
エーテルアセテートとからなるブレーキ装置の洗浄剤が
報告されている。

【００１１】以上のように脂肪族炭化水素を洗浄剤に使
用することについては従来から報告されているが、いず
れもそれ自体を主溶剤成分として利用する非水系の洗浄
剤であり、その特性をアルコールや界面活性剤などで改
善しうることを示しているにすぎない。

【００１２】また、均一性を損なわない範囲で水を使用
でき、最後に温水でリンスが可能な電子部品用洗浄剤と
して、高級アルコール、高級脂肪酸またはアミンのアル
キレンオキシド付加物、これらアルキレンオキシド付加
物の末端水酸基をアルキルクロライド等でメチル化、エ
チル化またはブチル化した化合物、あるいは炭素数１〜
４のアルコールにアルキレンオキシドを付加し、さらに
高級脂肪酸でエステル化した化合物を５０重量％以上含
む洗浄剤組成物が報告され、ポリオキシプロピレンポリ
オキシエチレンエチルエーテルのラウリン酸エステルと
ポリオキシエチレンラウリルエーテルとを併用した洗浄
剤組成物が示されている（特開平３−６２８９５号公
報）。しかし、この洗浄剤組成物の洗浄性能は末だ十分
なものではない。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、半田フラッ
クス、油脂類、液晶物質等に高度な洗浄性能を有し、し
かも、低泡性で種々の洗浄方式に対応可能な電子部品用
洗浄剤を提供するものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の電子部品
用低泡液体洗浄剤組成物（第１発明）は、以下の（ａ）
成分を含有し、あるいはさらに（ｂ）および／または
（ｃ）成分を含有することを特徴とする。

【００１５】（ａ）３価のアルミニウムイオン、ガリ
ウムイオン、インジウムイオン、トリウムイオン、コバ
ルトイオン、スカンジウムイオン、ランタンイオンおよ
び２価のマンガンイオンから選ばれる金属イオンの１種
以上が添加された酸化マグネシウムからなる触媒の存在
下に、脂肪酸アルキルまたはアルケニルエステルとアル
キレンオキシドとを反応させて得られた化５で示される
脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルまたはアルケニル
エーテル（以下、単に脂肪酸ポリオキシアルキレンアル
キルエーテルと呼ぶ）。

【００１６】

【化５】（Ｒ₁:炭素数７〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはヒドロ
キシアルケニル基Ｒ₂:炭素数１〜２２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たはアルケニル基Ｘ₁:炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜１００の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独
で付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシ
ドが混合して付加していてもよい）

【００１７】（ｂ）化６で示される化合物。

【化６】Ｒ₃Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₃:炭素数１〜１８のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００１８】（ｃ）炭素数６〜１８のパラフィン系炭
化水素。本発明の第２の電子部品用低泡液体洗浄剤組成
物（第２発明）は、以下の（ｄ）および（ｅ）成分を含
有し、あるいはさらに上記（ｃ）成分を含有することを
特徴とする。

【００１９】（ｄ）化７で示される脂肪酸ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル。

【化７】（Ｒ₁:炭素数７〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはヒドロ
キシアルケニル基Ｒ₂:炭素数１〜２２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たはアルケニル基Ｘ₁:炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜１００の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独
で付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシ
ドが混合して付加していてもよい）

【００２０】（ｅ）化８で示される化合物。

【化８】Ｒ₄Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₄:炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００２１】上記の脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテルは、既述の特開平３−６２８９５号公報に記
載のように電子部品の洗浄に対して興味ある性能を示す
が、従来から知られているものを単独で用いたのでは十
分に満足のいく結果は得られない。

【００２２】本出願人は先に、特開平１−１６４４３７
号公報において、本発明で用いられる上記の金属イオン
添加酸化アルミニウム触媒が、活性水素を有する有機化
合物とアルキレンオキシドとの反応に特異な作用を有
し、アルキレンオキシド付加モル数分布の極めて狭い生
成物が得られることを述べた。この触媒の有用性をさら
に追求した結果、分子中に活性水素を有しない脂肪酸ア
ルキルエステルへのアルキレンオキシドの付加重合を直
接可能としうることを見い出して出願した（特願平３−
６３９０４号）。

【００２３】本発明者らがさらに、得られた脂肪酸ポリ
オキシアルキレンアルキルエーテルの特性について研究
を重ねた結果、電子部品用の低泡性液体洗浄剤の主活性
成分として優れていることを見い出し、本出願の第１発
明を完成させた。この洗浄性能は意外にも、前述の特開
平３−６２８９５号公報に記載された高級アルコールの
アルキレンオキシド付加物の末端水酸基をアルキルクロ
ライド等でメチル化、エチル化またはブチル化した化合
物や、低級アルコールにアルキレンオキシドを付加させ
た後さらに高級脂肪酸でエステル化した化合物のよう
に、合成経路が異なる従来法によって製造された脂肪酸
ポリオキシアルキレンアルキルエーテルによっては得ら
れない。

【００２４】また一方において、上記（ｅ）成分として
示した特定の化合物と併用すれば、製法にかかわらず脂
肪酸ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが優れた洗
浄剤系を構成し、電子部品に対する洗浄性能と低泡性が
得られることを見い出し本出願の第２発明を完成させ
た。以下、上記第１発明、第２発明、任意成分（共通事
項）の順に説明する。

【００２５】

【発明の実施態様】第１発明本発明の（ａ）成分の出発原料として用いられる脂肪酸
アルキルまたはアルケニルエステルＲ₁ＣＯＯＲ₂として
は、Ｒ₁が炭素数７〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはヒド
ロキシアルケニル基であるものが用いられ、好ましくは
Ｒ₁の炭素数が１１〜１７である。また、Ｒ₂は炭素数１
〜２２、好ましくは１〜４のアルキル基またはアルケニ
ル基である。

【００２６】Ｒ₁ＣＯＯＲ₂の脂肪酸部分の具体例として
は、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、
ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデ
カン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン、オクタデカン
酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、ヘンエイコサン酸、
ドコサン酸、オレイン酸、エライジン酸、エルカ酸、リ
ノール酸、リノレイン酸等の脂肪酸残基が挙げられ、ま
た植物性、動物性由来の天然脂肪酸残基であってもよい
し、合成脂肪酸残基であっても良い。

【００２７】植物由来の天然脂肪酸としては、例えばと
うもろこし油、綿実油、ヒマシ油、パーム油、パーム核
油、落花生油、菜種油、ゴマ油、大豆油、サフラワー
油、ヤシ油等から得られる。動物由来の天然脂肪酸とし
ては豚脂油、牛脂油、ニシン油、イカ油、鯨油等から得
られる。

【００２８】石油を原料とした脂肪酸の工業的製造法と
しては、パラフィンの液相空気酸化、オレフィンのヒド
ロフォルミル化、カルボニル化等の製法が行なわれてい
る。これら動植物油由来あるいは合成脂肪酸由来の脂肪
酸残基を単独で、あるいは２種以上混合して用いても良
い。

【００２９】付加重合されるアルキレンオキシドとして
は、炭素数２〜４のエチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドが用いられる。上記の脂肪酸ア
ルキルまたはアルケニルエステルおよびアルキレンオキ
シドは、それぞれ単独であるいは２種以上の混合物とし
て反応に供される。

【００３０】本発明の（ａ）成分の製造に用いられる触
媒は、アルミニウム（３価）、ガリウム（３価）、イン
ジウム（３価）、トリウム（３価）、コバルト（３
価）、スカンジウム（３価）、ランタン（３価）または
マンガン（２価）から選ばれる金属イオンの１種以上が
添加された金属イオン添加酸化マグネシウム触媒であ
る。酸化マグネシウム中に添加される添加金属イオンの
量は、触媒量の０．１〜３０重量％が好ましく、より好
ましくは０．５〜１０重量％である。

【００３１】この触媒の製造方法は、既述の特開平１−
１６４４３７号公報に記載されているが、以下の方法の
ように添加金属イオンを含む水溶液から、添加金属イオ
ンを析出させて触媒粒子を製造することが望ましい。

【００３２】１）含浸法：硝酸アルミニウム水溶液の
ような添加金属イオンを含む水溶液に、ＭｇＯ粒子を添
加、混合したのち、蒸発乾固→粉砕→焼成により触媒粒
子を得る。

【００３３】２）共沈法：硝酸マグネシウム水溶液の
ようなマグネシウム塩水溶液と、硝酸アルミニウム水溶
液のような添加金属イオンを含む水溶液とを混合し、こ
れにアンモニア等の沈澱剤を加え、水溶液からマグネシ
ウムと添加金属を同時に水酸化物として析出させ、濾過
→乾燥→粉砕→焼成により触媒粒子を製造する。

【００３４】３）沈着法：酸化マグネシウム粒子を分
散した分散液に、添加金属イオンを含む水溶液を添加
し、酸化マグネシウム粒子表面に添加金属の水酸化物を
析出、沈着させ、濾過→乾燥→焼成する。

【００３５】また、上記共沈法、沈着法等の沈澱法によ
り触媒を製造する場合は、沈澱処理後に触媒スラリー中
に存在する不要イオン（陰イオン）をイオン交換樹脂で
除去することもでき、これにより濾過後の洗浄工程を省
略ないしは簡略化できる。

【００３６】反応は、通常の操作手順および反応条件の
下で容易に行なうことができる。反応温度は８０〜２３
０℃、好ましくは１２０〜１８０℃である。また、反応
圧力は反応温度にもよるが０〜２０ａｔｍ、好ましくは
２〜８ａｔｍである。

【００３７】触媒の使用量は、反応に供されるアルキレ
ンオキシドと脂肪酸アルキルエステルとのモル比によっ
ても変わるが、通常は脂肪酸アルキルエステル量の０．
１〜２０重量％が好ましく、０．５〜６重量％がより好
ましい。

【００３８】本発明の反応は、例えばオートクレーブ中
に脂肪酸アルキルエステルと触媒とを仕込み、窒素雰囲
気中で所定の温度、圧力条件下でアルキレンオキシドを
導入して反応させた後、冷却し、触媒を濾別することに
より行なうことができる。

【００３９】この反応により、アルキレンオキシドが脂
肪酸アルキルまたはアルケニルエステルＲ₁ＣＯＯＲ₂の
エステル部位の炭素−酸素結合の間に入り込んで付加重
合し、本発明の（ａ）成分が得られる。

【００４０】（ａ）成分を示す中の（Ｘ₁Ｏ）はエチレ
ンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドが
単独または混合して付加していることを示し、混合付加
の場合はブロック付加でもランダム付加でもよい。アル
キレンオキシドの平均付加モル数ｎは、１〜１００であ
り、好ましくは５〜４０である。

【００４１】（ａ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１〜６０重量％配合することが好ましく、より好ま
しくは０．５〜４０重量％である。上記（ａ）成分のみ
でも優れた洗浄力と低起泡性の液体洗浄剤を実現できる
が、さらに強力な洗浄力が要求される場合は、化９で示
される物質を（ｂ）成分として併用することにより、満
足のいく結果が得られる。

【００４２】

【化９】Ｒ₃Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₃:炭素数１〜１８のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００４３】（ｂ）成分の化合物は、炭素数１〜１８、
好ましくは４〜１０の飽和または不飽和アルコールのア
ルキレンオキシド付加物である。式中の（Ｘ₂Ｏ）はエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシ
ドが単独または混合して付加していることを示し、混合
付加の場合はブロック付加でもランダム付加でもよい。
特に、エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキ
シドが１〜１０モル（ｍ＝１〜１０）付加したものが好
ましい。

【００４４】（ｂ）成分は、本発明の洗浄剤組成物中に
０．１〜６０重量％配合することが好ましく、より好ま
しくは０．５〜４０重量％である。（ｃ）成分のパラフ
ィン系炭化水素は、直鎖または分岐鎖を有する炭素数６
〜１８の鎖状飽和炭化水素であり、好ましくは炭素数８
〜１６である。これらパラフィン系炭化水素は、それぞ
れ単独で用いても混合物として使用してもよい。

【００４５】（ｃ）成分のパラフィン系炭化水素は、本
発明の洗浄剤組成物中に０．１〜６０重量％配合するこ
とが好適であり、より好ましくは０．５〜４０重量％で
ある。（ｃ）成分の配合により、スタミナ洗浄性が得ら
れ、同一の洗浄液でより多くの物品を高度に洗浄するこ
とができる。

【００４６】第２発明（ｄ）成分の脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルエー
テルは、その製造方法が問われない以外は（ａ）成分と
同じ条件のものが用いられ、（ｄ）成分は例えば以下の
ようにして製造される。

【００４７】（１）前記（ａ）成分と同じ製造方法。（２）アルコール（Ｒ₂ＯＨ）にアルキレンオキシド
を付加させたのち、脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ）またはその
エステルによりエステル化あるいはエステル交換する。

【００４８】（３）脂肪酸にアルキレンオキシドを付
加させたのち、その末端水酸基をアルキルハライド等を
用いてエーテル化する。

【００４９】（ｅ）成分としては、以下の化１０で示さ
れる化合物が用いられる。

【化１０】Ｒ₄Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₄:炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００５０】（ｅ）成分の化合物は、炭素数１〜１０、
好ましくは４〜９の飽和または不飽和アルコールのアル
キレンオキシド付加物である。式中の（Ｘ₂Ｏ）はエチ
レンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド
が単独または混合して付加していることを示し、混合付
加の場合はブロック付加でもランダム付加でもよい。特
に、エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシ
ドが１〜１０モル（ｍ＝１〜１０）付加したものが好ま
しい。

【００５１】第２発明における（ｃ）成分としては、第
１発明の（ｃ）成分と同じパラフィン系炭化水素が用い
られ、スタミナ洗浄性が改善される。第２発明の洗浄剤
組成物における各成分の好ましい配合量は、以下の通り
である。

【００５２】好ましい配合量さらに好ましい配合量（ｄ）成分 0.1〜60重量％ 0.5〜40重量％（ｅ）成分 0.1〜60重量％ 0.5〜40重量％（ｃ）成分 0.1〜60重量％ 0.5〜40重量％

【００５３】任意成分および共通事項本発明の洗浄剤組成物中には、上記（ａ）〜（ｅ）の各
成分に加え、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノ
ニオン界面活性剤、液安定剤等を任意に配合することが
できる。

【００５４】アニオン界面活性剤としては、例えば以下
のものが例示できる。１）平均炭素数８〜１６のアルキル基を有する直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩、２）平均炭素数１０〜２０のα−オレフィンスルホン
酸塩、

【００５５】３）アルキル基またはアルケニル基の炭
素数が４〜１０のジアルキルスルホコハク酸塩、４）化１１で表される脂肪酸低級アルキルエステルの
スルホン酸塩または脂肪酸スルホン化物のジ塩、

【００５６】

【化１１】（Ｒ：炭素数８〜２０のアルキル基またはアルケニル基Ｙ：炭素数１〜３のアルキル基または対イオンＺ：対イオン）

【００５７】５）平均炭素数１０〜２０のアルキル硫
酸塩、６）平均炭素数１０〜２０の直鎖または分岐鎖のアル
キル基もしくはアルケニル基を有し、平均０．５〜８モ
ルのエチレンオキシドを付加したアルキルエーテル硫酸
塩、７）平均炭素数１０〜２２の飽和または不飽和脂肪酸
塩。

【００５８】これらのアニオン界面活性剤における対イ
オンとしては、通常ナトリウムやカリウムなどのアルカ
リ金属塩がなどが用いられる。また、ノニオン界面活性
剤としては、以下のものが例示される。ここで、ｐはア
ルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。アルキレン
オキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドまたはこれらの混合付加物が用
いられる。

【００５９】１）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５
〜４０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミ
ン２）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜５０）アル
キルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミド３）エチレンオキシド／プロピレンオキシドブロック
付加物（プルロニック型界面活性剤）

【００６０】その他の任意成分としては、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン
等のアルカノールアミン；クエン酸塩、燐酸塩、エチレ
ンジアミン四酢酸塩等のビルダー；液安定性を保持する
ためのエチレングリコール、プロピレングリコール等の
グリコール類、メタノール、エタノール等の低級アルコ
ール類、トルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩
等のハイドロトロープ剤；さらに目的に応じてベンゾト
リアゾール等の防錆剤、安息香酸塩等の防腐剤を配合す
ることが可能である。

【００６１】本発明の洗浄剤組成物は、上記各成分また
はこれらと任意成分と水を混合し、水性液体洗浄剤組成
物として調製することができる。本発明の洗浄剤組成物
は、組成物そのままの濃度で洗浄に使用することがで
き、また、水で希釈して（例えば、５〜７０重量％の水
溶液として）使用することもできる。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、活性成分として（ａ）
特定の製法で得られた脂肪酸ポリオキシアルキレンアル
キルエーテルを用いて洗浄剤組成物とすることにより、
または、（ｄ）脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルエ
ーテルと（ｅ）特定の化合物とを併用することにより、
電子部品に対する高度な洗浄性能と低泡性能を満足する
ことが可能となり、さらに（ｂ）および／または（ｃ）
成分を併用することにより、洗浄性能をいっそう改善で
きる。

【００６３】本発明の洗浄剤組成物は、水系の洗浄剤で
あり、フロン系溶剤や塩素系溶剤のような環境破壊の問
題がなく、また、脂肪族炭化水素等の有機溶剤を主体と
する非水系洗浄剤のように火炎や作業環境上の問題もな
い。

【００６４】また、低泡性であるため、あらゆる洗浄方
法を用いて使用可能であり、特に、今までの水系洗浄で
は不可能であったスプレー洗浄に対応が可能となる。さ
らに、洗浄ラインやすすぎラインでの発泡性も少なく、
洗浄液管理、すすぎ液管理等にも優れた洗浄剤である。

【００６５】本発明の洗浄剤組成物は、高度な洗浄性能
を要求される電子部品用洗浄剤として好適であり、例え
ば、ロジン系等の半田フラックスプリント基板用洗浄
剤、金属部品、治工具等の脱脂用洗浄剤をはじめとし
て、液晶セル用洗浄剤、光学ガラス用洗浄剤などに利用
することができる。

【００６６】

【実施例】以下の実施例で用いた評価方法について、ま
ず説明する。（１）プリント基板の洗浄性能評価方法銅張積層板から製造された基板上にロジン系ハンダフラ
ックスをとり、２１０℃、５分の焼結処理を行なう。

【００６７】調製した各々の洗浄剤の５倍希釈品中にお
いて、６０℃、５分間の超音波洗浄を行なう。この超音
波洗浄は、ラボ・超音波洗浄器を用い、洗浄液５リット
ル、３５ＫＨｚ，６００Ｗの条件で行なう。ついで、純
水で充分すすいだ後、洗浄前・後の重量差より、フラッ
クス洗浄率を算出し、以下の評価基準に従い評価する。
○以上が合格である。

【００６８】◎：洗浄率９０〜１００％ ○：洗浄率７０〜８９％ △：洗浄率５０〜６９％ ×：洗浄率５０％未満

【００６９】（２）脱脂洗浄性能評価方法金属部品（ＳＵＳ３０４：７８ｃｍ²／個）表面に油溶
性切削油を塗布し、４０℃で３時間静置し、油切りを行
なう。調製した各々の洗浄剤の５倍希釈品において、５
０℃、３分間の超音波洗浄（３５ＫＨｚ，６００Ｗ）を
行なう。洗浄液中から、部品をひき上げ、純水で充分す
すいだ後、乾燥を行なう。乾燥後、四塩化炭素で抽出を
行ない、油分測定装置を用いて、定量分析を行なう。

【００７０】洗浄性能の評価基準は以下に示す。○以上
が合格である。 ◎：残存油分量が１０μｇ／ｃｍ²以下 ○：残存油分量が５０μｇ／ｃｍ²〜１１μｇ／ｃｍ² △：残存油分量が１００μｇ／ｃｍ²〜５１μｇ／ｃｍ² ×：残存油分量が１０１μｇ／ｃｍ²以上

【００７１】（３）起泡性試験各組成物の５倍希釈洗浄液を調製する。ラボスプレー洗
浄器を用い、洗浄液５リットル、スプレー圧力１ｋｇ／
ｃｍ²の条件で、フルコーンタイプノズル１個を用い、
１０分間のスプレー実験を行なう。洗浄槽の泡量を測定
し以下の基準により評価・判定する。○以上が合格であ
る。

【００７２】◎：泡量が１００ｍｍ以下 ○：泡量が１０１〜２００ｍｍ以下 △：泡量が２０１〜３００ｍｍ以下 ×：泡量が３００ｍｍ以上

【００７３】製造例１特願平３−６３９０４号の実施例１の方法に準拠して触
媒を製造した。ＭｇＯ７０ｇをＨ₂Ｏ５２５ｍｌに
分散した分散液中に、Ａｌ（ＮＯ₃）₃・９Ｈ₂Ｏ３０ｇ
をＨ₂Ｏ８７ｇに溶解した水溶液を滴下して３０分熟
成を行ない、触媒スラリーを調製した。この触媒スラリ
ーに、あらかじめ前処理を行ないＯＨ型にした強塩基性
イオン交換樹脂（ＳＡ−２０Ａ、三菱化成（株）製）２
６３ｃｃを加え室温で１時間攪拌してイオン交換を行な
い、スラリー中のＮＯ₃ ^-を除去した。

【００７４】イオン交換後、３００μｍのスクリーンを
用いて触媒スラリーとイオン交換樹脂を分離した。つい
で、この触媒スラリーを噴霧乾燥した後、９５０℃で１
時間焼成してＡｌイオン添加ＭｇＯ触媒を得た。

【００７５】上記触媒２２．５ｇおよびラウリン酸メチ
ルエステル７５０ｇをオートクレーブに仕込み、オート
クレーブ内を窒素で置換した後、撹拌しながら昇温し
た。次いで、温度を１６０℃、圧力を３ａｔｍに維持し
つつ、エチレンオキシド１５３１ｇを導入し、約１時間
反応させた。次に、反応液を７０℃に冷却し、触媒を濾
別した。この様にして得られたラウリン酸ポリオキシエ
チレンメチルエーテルの平均エチレンオキシド付加モル
数は１０．０であった。

【００７６】製造例２〜１１製造例１に準拠して種々の金属イオンが添加されたＭｇ
Ｏ触媒を製造し、以下の表１に示したポリオキシアルキ
レンエーテルを製造した。

【００７７】

【表１】添加金属イオン製造物製造例２ＧａＣ₁₂Ｈ₂₅ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₅ＯＣ₃Ｈ₇ 製造例３ＡｌＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例４ＩｎＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例５ＴｌＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例６ＣｏＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例７ＳｃＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例８ＬａＣ₁₄Ｈ₂₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₂(ＯＣ₃Ｈ₆)₃ＯＣＨ₃ 製造例９ＭｎＣ₁₈Ｈ₃₇ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₁₅ＯＣＨ₃ 製造例10 ＡｌＣ₆Ｈ₁₃ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₅ＯＣＨ ₃ 製造例11 ＡｌＣ₂₄Ｈ₄₉ＣＯ(ＯＣ₂Ｈ₄)₅₀ＯＣＨ₃

【００７８】実施例１：本願の第１発明後記表２〜５に示す組成の洗浄剤組成物（水で１００ｗ
ｔ％にバランス）を調製し、その性能を同表に示した。
ここで、（ａ）成分は製造例１〜１１で製造したものを
用いた。なお、試料Ｎｏ．９〜２３は、本願の第２発明
の実施例でもある。

【００７９】実施例２：本願の第２発明後記表６〜８に示す組成の洗浄剤組成物（水で１００ｗ
ｔ％にバランス）を調製し、その性能を同表に示した。
ここで、（ｄ）成分は製法ＡまたはＢで製造したものを
用いた。

【００８０】

【表２】実施例試料No. １２３４５６７８組成(wt％)： (a)成分*¹： C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製造例1] 40 − − − − − − − C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₅OC₃H₇[製造例2] − − 40 − − − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例3] − 40 − − − − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例4] − − − − 40 − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例5] − − − − − 40 − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例6] − − − − − − 40 − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例7] − − − − − − − 40 C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例8] − − − − − − − − C₁₈H₃₇CO(OC₂H₄)₁₅OCH₃[製造例9] − − − 40 − − − − 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − − − − − 性能：半田フラックス洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 金属部品洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 抑泡性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ＊１）カッコ内は、製造方法を示す。

【００８１】

【表３】実施例試料No. ９ 10 11 12 13 14 15 16 組成(wt％)： (a)成分*¹： C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製造例1] − 20 − − − − − − C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₅OC₃H₇[製造例2] − − − 20 − − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例3] − − 20 − − − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例4] − − − − 15 − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例5] − − − − − 15 − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例6] − − − − − − 10 − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例7] − − − − − − 10 − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例8] 40 − − − − − − 10 C₁₈H₃₇CO(OC₂H₄)₁₅OCH₃[製造例9] − − − − − − − 10 (b)成分： C₄H₉O(C₂H₄O)₃H − 20 − − − − − − C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀H − − 20 − 20 20 20 20 C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀(C₃H₆O)₂H − − − 20 − − − − 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − 5 5 − − 性能：半田フラックス洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 金属部品洗浄性 ○ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 抑泡性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ＊１）カッコ内は、製造方法を示す。

【００８２】

【表４】実施例試料No. 17 18 19 20 21 22 23 組成(wt％)： (a)成分*¹： C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製造例1] 20 − − − − − − C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₅OC₃H₇[製造例2] − 20 − − 20 − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例3] − − 20 − − 20 20 C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製造例4] − − − 20 − − − (b)成分： C₄H₉O(C₂H₄O)₃H − − − 20 − − 20 C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀H 20 20 20 − 20 20 − (c)成分： C₆H₁₄5 − − − − − − C₈H₁₈− 5 − − − − − C₁₀H₂₂− − 5 − − − − C₁₂H₂₆− − − 5 − − − C₁₄H₃₀− − − − 5 − − C₁₆H₃₄− − − − − 5 − C₁₈H₃₈− − − − − − 5 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − − − − 性能：半田フラックス洗浄性 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 金属部品洗浄性 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 抑泡性 ○ ○ ◎ ◎ ◎ ○ ○ ＊１）カッコ内は、製造方法を示す。

【００８３】

【表５】比較例試料No. 24 25 組成(wt％)： (a)成分の類似物*¹： C₆H₁₃CO(OC₂H₄)₅OCH₃[製造例10] − 20 C₂₄H₄₉CO(OC₂H₄)₅₀OCH₃[製造例11] 20 − 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ 20 20 性能：半田フラックス洗浄性 × × 金属部品洗浄性 × × 抑泡性 ○ ○ ＊１）カッコ内は、製造方法を示す。

【００８４】

【表６】実施例試料No. 31 32 33 34 35 36 37 38 組成(wt％)： (d)成分*¹： C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製法A] 20 − − − − − 15 − C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₅OC₃H₇[製法B] − 20 − − − − − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製法A] − − 20 − − 20 − − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製法B] − − − 20 − − − 15 C₁₈H₃₇CO(OC₂H₄)₁₅OCH₃[製法A] − − − − 20 − − − (e)成分： C₄H₉O(C₂H₄O)₃H − 20 − 20 − 20 − − C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀H 20 − 20 − 20 − 20 − C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀(C₃H₆O)₂H − − − − − − − 20 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − − − 5 5 性能：半田フラックス洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 金属部品洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 抑泡性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ＊１）製法Ａ：アルコールのアルキレンオキシド付加
物と脂肪酸とのエステル化により製造製法Ｂ：脂肪酸のアルキレンオキシド付加物とアルキル
ハライドとのエーテル化により製造

【００８５】

【表７】実施例試料No. 39 40 41 42 43 44 45 組成(wt％)： (d)成分*¹： C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製法B] − 20 − 20 − 20 − C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製法A] 20 − 20 − 20 − 15 (e)成分： C₄H₉O(C₂H₄O)₃H − 20 − − − − − C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀H 20 − 20 20 20 20 − C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀(C₃H₆O)₂H − − − − − − 20 (c)成分： C₆H₁₄5 − − − − − − C₈H₁₈− 5 − − − − − C₁₀H₂₂− − 5 − − − − C₁₂H₂₆− − − 5 − − − C₁₄H₃₀− − − − 5 − − C₁₆H₃₄− − − − − 5 − C₁₈H₃₈− − − − − − 5 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − − − 5 性能：半田フラックス洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 金属部品洗浄性 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 抑泡性 ○ ○ ◎ ◎ ◎ ○ ○ ＊１）製法Ａ：アルコールのアルキレンオキシド付加
物と脂肪酸とのエステル化により製造製法Ｂ：脂肪酸のアルキレンオキシド付加物とアルキル
ハライドとのエーテル化により製造

【００８６】

【表８】比較例試料No. 46 47 48 49 50 組成(wt％)： (a)成分およびその類似物*¹： C₆H₁₃CO(OC₂H₄)₅OCH₃[製法A] − − 20 − − C₂₄H₄₉CO(OC₂H₄)₅₀OCH₃[製法B] − − − 20 − C₁₂H₂₅CO(OC₂H₄)₁₀OCH₃[製法B] − 40 − − 20 C₁₄H₂₉CO(OC₂H₄)₁₂(OC₃H₆)₃OCH₃[製法A] 40 − − − − (b)成分： C₉H₁₉O(C₂H₄O)₁₀H − − 20 20 − C₁₂H₂₅O(C₂H₄O)₁₀H − − − − 20 任意成分(界面活性剤)：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸Ｎａ − − − − − 性能：半田フラックス洗浄性 △ △ × × × 金属部品洗浄性 △ △ × × △ 抑泡性 ○ ○ ○ ○ △ ＊１）製法Ａ：アルコールのアルキレンオキシド付加
物と脂肪酸とのエステル化により製造製法Ｂ：脂肪酸のアルキレンオキシド付加物とアルキル
ハライドとのエーテル化により製造

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）３価のアルミニウムイオン、ガリ
ウムイオン、インジウムイオン、トリウムイオン、コバ
ルトイオン、スカンジウムイオン、ランタンイオンおよ
び２価のマンガンイオンから選ばれる金属イオンの１種
以上が添加された酸化マグネシウムからなる触媒の存在
下に、脂肪酸アルキルまたはアルケニルエステルとアル
キレンオキシドとを反応させて得られた化１で示される
脂肪酸ポリオキシアルキレンアルキルまたはアルケニル
エーテル【化１】（Ｒ₁:炭素数７〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはヒドロ
キシアルケニル基Ｒ₂:炭素数１〜２２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たはアルケニル基Ｘ₁:炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜１００の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独
で付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシ
ドが混合して付加していてもよい）を含有することを特
徴とする電子部品用低泡液体洗浄剤組成物。
【請求項２】さらに、（ｂ）化２で示される化合物【化２】Ｒ₃Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₃:炭素数１〜１８のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）を含有する請求項１に
記載の電子部品用低泡液体洗浄剤組成物。
【請求項３】さらに、（ｃ）炭素数６〜１８のパラフィン系炭化水素を含有
する請求項１または２に記載の電子部品用低泡液体洗浄
剤組成物。
【請求項４】（ｄ）化３で示される脂肪酸ポリオキシ
アルキレンアルキルまたはアルケニルエーテルおよび【化３】（Ｒ₁:炭素数７〜２１の直鎖もしくは分岐のアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基またはヒドロ
キシアルケニル基Ｒ₂:炭素数１〜２２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たはアルケニル基Ｘ₁:炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜１００の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独
で付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシ
ドが混合して付加していてもよい）（ｅ）化４で示される化合物【化４】Ｒ₄Ｏ(Ｘ₂Ｏ)mＨ（Ｒ₄:炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｘ₂:炭素数２〜４のアルキレン基ｍ：アルキレンオキシドの平均付加モル数を表わし、１
〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが単独で
付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）を含有することを特徴
とする電子部品用低泡液体洗浄剤組成物。
【請求項５】さらに、（ｃ）炭素数６〜１８のパラフィン系炭化水素を含有
する請求項４に記載の電子部品用低泡液体洗浄剤組成
物。