JPH05303770A

JPH05303770A - 情報記録媒体

Info

Publication number: JPH05303770A
Application number: JP3234725A
Authority: JP
Inventors: Kazuyuki Miyamoto; 本和幸宮; Masayoshi Kurisu; 栖正吉栗; Yukari Hatsutori; 部由香里服; Noriyuki Murakoshi; 越則行村
Original assignee: Chemitech Inc; Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: Chemitech Inc; Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1991-09-13
Filing date: 1991-09-13
Publication date: 1993-11-16

Abstract

(57)【要約】【構成】基体上に、記録および／または再生部を有
し、少なくとも一方の表面が、（Ａ）重合可能なアクリ
ル基、またはメタクリル基またはビニル基を１個以上有
する化合物またはこれらの混合物と、（Ｂ）アルコール
系有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％以上含有する有機
溶剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有する組成物で被覆さ
れている情報記録媒体。また、この組成物に、（Ｄ）１
分子内に５価のホスホリル結合を有する５価のＰ原子を
１個以上含む化合物を含有する組成物で被覆されている
情報記録媒体。【効果】本発明は、空気中での硬化特性に優れ、付着
性、表面硬度、耐引掻き性、耐摩耗性、ならびに帯電防
止性能に優れる表面被覆を有するので、情報記録媒体と
して有用であり、特にコンタクト、スタート、アンド、
ストップ時の耐摩擦性に優れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク、光磁気デ
ィスク等ディスク媒体や、光カード等のカード媒体等の
情報記録媒体に関し、特に、少なくとも一方の表面が特
定の組成物で被覆されてなる情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術とその問題点】ディスク媒体やカード媒体
等の情報記録媒体には、基板が金属やガラス材料等から
なるハード媒体とプラスチック材料等からなるフレキシ
ブル媒体とがある。

【０００３】一方、これらの媒体へ情報を記録したり再
生したりするには、媒体の基板上に記録および／または
再生部を設けて行われる。記録および／または再生部を
磁性材料で形成して磁気ヘッドで磁性材料を磁化して書
き込み、読み出し、再書き込みを行う磁気記録媒体があ
る。また、記録および／または再生部にあらかじめスタ
ンパ等で情報として０と１のピットを形成させ、このピ
ットをレーザー光で読み出す光記録媒体がある。このよ
うな光記録媒体は、一般的には再書き込みすることがで
きないので再生専用媒体として使われている。再書き込
みが可能な媒体には、記録および／または再生部の結晶
状態を光により変化させて書き込み再書き込みを行う相
変化型記録媒体や、光磁気記録媒体がある。光磁気記録
媒体は、光磁気ディスクとして用いられ、記録および／
または再生部の磁性膜にレーザー光をを照射して加熱し
ながら一方向への磁場をかける、次に冷却すると一方向
への磁場だけが残り、情報を消去することができる。書
き込みは消去と逆方向の磁場をかけ、磁性膜に短時間の
パルス状のレーザー光をあてると、瞬間的に温度が上が
って、その部分だけ磁性の向きが反転することを利用し
て行う。つぎにこれよりはるかに弱いレーザー光のビー
ムを磁性膜に当てながら動かすと、磁性が反転している
部分から反射してくる光は、光の振動面が変化している
のでそれを検出して読み出す。この方式は光変調方式と
呼ばれる。一方書き込み時に連続光で加熱しながら磁界
を反転させて書き込みを行う方式は磁界変調方式と呼ば
れる。このような光磁気記録媒体は、光記録媒体のよう
に記録および／または再生部を挟んで２枚の媒体を貼合
せると磁界がとどかなくなることから、媒体の表面に記
録および／または再生部を形成する、いわゆる片面記録
が行われる。

【０００４】磁界変調方式は、記録膜上に連続光を照射
しながら信号磁界を印加し記録を行なう。信号磁界の印
加は磁気ヘッドにより行なわれる。磁気ヘッドは、ハー
ドディスクで用いられる浮上型のもの、及びフレキシブ
ルディスクで用いられる固定型の物に分けられる。浮上
型は、媒体の回転中に発生する空気の圧力によって媒体
面から０．１０〜１０ミクロン程度浮上する。利点とし
ては媒体の面振れに対するヘッドの追従性が確保され
る。一方、固定型は、媒体面に対する追従ができない。
そこで、媒体から媒体面振れ以上の距離程度ヘッドを離
さないと媒体とヘッドの衝突の危険がある。

【０００５】浮上型ヘッドを用いた応用商品としては、
コンピュータ用の外部メモリ（ＣＤ−ＲＯＭ）（信号周
波数が高い）や、また、固定ヘッドを用いた応用商品と
してＣＤなどのオーディオメモリ（信号周波数が低い）
が一般的に考えられており、各社で実用化のための研究
開発が行なわれている。

【０００６】浮上型ヘッドの動作について簡単に説明す
る。浮上型ヘッドは媒体が回転中はヘッドが浮上するが
静止中及び回転開始時には媒体と磁気ヘッドは接触状態
にある。この現象をＣＳＳ(Contact Start and Stop)と
言う。ＣＳＳ動作を行なうと媒体とヘッドは摩擦状態と
なる。摩擦を繰り返すと媒体の破壊あるいは磁気ヘッド
の破壊（ヘッドクラッシュ）が発生する危険があり機器
の信頼性を著しく損なう。従って、Contact Start and
Stop時に耐摩擦性（以下ＣＳＳ耐久性という）に優れ
た、ヘッドと媒体との間の表面被覆が必要となる。情報
記録媒体の表面の保護膜としては、基体の記録層側また
は記録層と反対側の表面に架橋硬化型樹脂を被覆する方
法が多数提案されている。樹脂または樹脂形成成分とし
て具体的には、シリコーン系モノマーまたはこれらの成
分と種々の重合体との組成物、メチロールメラミンと他
の硬化成分とからなる樹脂組成物、多官能性アクリル系
カルボン酸エステル誘導体またはこれと他の重合成分と
の組成物などが提案されている。前記被膜形成要素のう
ちで、多官能性アクリル系カルボン酸エステル誘導体と
しては種々のタイプの化合物が提案されている。たとえ
ば、アルカンポリオールのポリ（メタ）アクリレート、
ポリオキシアルキレングリコールのポリ（メタ）アクリ
レート、芳香族（フェノール性）ポリヒドロキシル化合
物のポリ（メタ）アクリレートなどの種々のタイプの化
合物を被膜形成要素として使用することが提案されてい
る。これらの多官能性アクリル系カルボン酸エステル誘
導体を単独で被膜形成要素として使用し、基体表面に被
膜を形成させても、これらの被膜は硬化の際の空気中に
おける硬化速度などの硬化特性に劣ったり、表面硬度、
耐引掻き性、耐摩耗性、可撓性、耐熱性、耐水性、耐溶
剤性、耐候性および基体への密着性などの被膜特性のい
ずれかまたはこれらの多くの物性に劣ることが多く、工
業的規模の利用における要求を充分に満足させることは
できなかった。また、これらの被膜形成要素のうちの二
種以上の化合物を組合わせて使用することによりこれら
の欠点を改善しようとする試みもなされているが、いず
れもこれらの欠点をある程度は改良することができても
基体表面に被覆する際には他の新たな難点があった。

【０００７】一方、光ディスク等の情報記録媒体の基板
側の表面被覆であるトップコートは、上述の塗膜性能に
加えて、帯電防止性能に優れる必要がある。多官能アク
リルモノマーを主成分とする樹脂組成物に界面活性剤を
添加すると帯電防止性能があがることは知られている。
しかし従来用いられている添加型の界面活性剤は、硬化
後の樹脂製品表面に液状樹脂となってにじみ出る現象、
いわゆるブリードアウトをおこしてしまい、光ディスク
等のトップコートに用いることはできない。また、十分
な帯電防止能を発揮させようとすると、被覆が白濁す
る。または基体樹脂への付着性が低下するなどの問題点
があった。また、情報記録媒体の記録層側のオーバーコ
ート膜である表面被覆は、例えばＣＳＳ耐久性のような
高度の耐摩耗性が要求されるが、これらを満足する表面
被覆は得られていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の従来技術における問題点を解決し、空気中での硬化特
性に優れるとともに、樹脂や金属などの成形体に対する
付着性に優れ、加熱工程を省略しても十分な付着力を示
し、表面硬度、耐引掻き性、ならびに特に帯電防止性能
に優れ特にＣＳＳ耐久性に優れた表面を有する情報記録
媒体を提供しようとする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、基体上に、記
録および／または再生部を有する情報記録媒体におい
て、少なくとも一方の表面が（Ａ）重合可能なアクリル
基、またはメタクリル基またはビニル基を１個以上有す
る化合物またはこれらの混合物と、（Ｂ）アルコール系
有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％以上含有する有機溶
剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有する組成物で被覆され
ていることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１０】この組成物に必要に応じて成分（Ｄ）１分
子内に下記式（１）で表される結合を有する５価のＰ原
子を１個以上含む化合物を加えてもよい。

【化２】

【００１１】少なくとも一方の表面が、記録および／ま
たは再生部を有する側の表面であってもよい。

【００１２】ここで、情報記録媒体が、磁気ディスク、
レーザー光により書込みを行う光ディスクまたは該記録
および／または再生部に連続光を照射しながら浮上型磁
気ヘッドにより信号磁界を印加して再書込みを行う光磁
気ディスクである。また、基体が、金属またはガラス材
料製のハードディスクまたはプラスチック材料製のフレ
キシブルディスクである。ここで、前記（Ａ）重合可能
なアクリル基、またはメタクリル基またはビニル基１個
以上有する化合物またはこれらの混合物１００重量部に
対し、前記（Ｂ）有機溶剤５〜１５００重量部、前記
（Ｃ）重合開始剤０．０１〜２０重量部、前記（Ｄ）５
価のＰ原子を１個以上含む化合物０．０１〜２５重量部
であるのが好ましく、前記（Ｄ）５価のＰ原子を１個以
上含む化合物が、さらに１分子中にヒドロキシル基を１
個以上含むのが良い。

【００１３】以下に本発明を詳細に説明する。

【００１４】本発明の情報記録媒体を、図面に示す好適
例を用いて説明する。

【００１５】図１は、光ディスク１の構成を示す模式図
の一例である。光ディスク１は、基体２上に記録および
／または再生部としての記録ピット３を有し、その上に
反射膜４を有し、最上層にオーバーコート膜としての表
面被覆５を有する。反射膜は、保護膜、エンハンス膜と
しての役目も持ち、多層構造にすれば反射率を高くでき
る。基体２のもう一方の表面は、トップコート膜６で保
護されている。

【００１６】図２は、光磁気ディスク１０の構成を示す
模式図の一例である。光磁気ディスク１０は、基体２上
に記録および／または再生部としての記録膜７を有し、
その上にオーバーコート膜としての表面被覆５を有す
る。基体２のもう一方の表面は、トップコート膜６で保
護されている。

【００１７】本発明は、上述したような情報記録媒体の
少なくとも一方の表面が、（Ａ）重合可能なアクリル
基、またはメタクリル基またはビニル基を１個以上有す
る化合物またはこれらの混合物と、（Ｂ）アルコール系
有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％以上含有する有機溶
剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有する硬化型樹脂組成物
で被覆されていることが特徴である。上述の硬化型樹脂
組成物は、さらに（Ｄ）１分子内に５価のホスホリル結
合を有する５価のＰ原子を１個以上含む化合物を有する
ものであるのが好ましい。

【００１８】本発明の表面被覆に用いられる組成物に使
用される（Ａ）重合可能なアクリル基、またはメタクリ
ル基またはビニル基を１個以上有する化合物またはこれ
らの混合物とは具体例をあげると、ウレタン（メタ）ア
クリレート類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、などのポリアル
キレングリコール（メタ）アクリレート類、エチレンオ
キサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート
などのアルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート類、ペンタエリトリトールテトラ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシ（メタ）メタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなど
のアルコールと（メタ）アクリル酸化合物類、Ｎビニル
ピロリドン、Ｎビニルカプロラクタム、トリアリルイソ
シアヌレートなどのビニル化合物類、などを例示するこ
とができ、これらの２種以上の混合物を使用することも
できる。

【００１９】本発明の表面被覆に用いられる組成物に使
用される（Ｂ）アルコール系有機溶剤とはメタノール、
プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イ
ソペンチルアルコール、ヘキサノール、ジアセトンアル
コール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノ
ールなどを例示することができ、これらの２種以上の混
合物を使用することもできる。アルコール系有機溶剤に
は他の有機溶剤を混合してもよい。このような混合可能
な有機溶剤の例として、アルコール系以外の有機溶剤
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、ヘキサ
ン、エチルベンゼン、ヘプタン、オクタン、石油エーテ
ル、リグロイン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ンなどの炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、プロモホルム、トリクレン、二塩化エチレ
ン、パークレン、三塩化エタン、四塩化エタン、二塩化
プロピレン、クロロベンゼン、プロモベンゼンなどのハ
ロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、などのケトン類、ギ酸メチ
ル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル類などを例
示することができ、これらの２種以上の混合物を使用す
ることもできる。

【００２０】有機溶剤中アルコール系有機溶剤が４０重
量％以上含有する事が好ましく、さらに好ましくは６０
重量％以上である。

【００２１】この範囲が好ましいとする理由はアルコー
ル系溶剤を４０重量％以上含有する有機溶剤は、樹脂組
成物のポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、
ポリオレフィンなどの被コーティング材に対する侵食を
防止し、表面の白濁現象、表面クラックを防ぎ、良好な
皮膜を形成する。

【００２２】また、本発明で用いる組成物は、成分
（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の他に、必要に応じて成分
（Ｄ）を加えてもよい。成分（Ｄ）の１分子内に下記式
（１）で表わされる結合（ホスホリル結合）をする５価
のＰ原子を１個以上含む化合物は、

【化３】例ば、下記式（２）で示される。

【化４】ここで、Ｒ、Ｒ¹ 、Ｒ² はＨまたはＣ₁ 〜Ｃ₂₄のアルキ
ル基、アリール（Ａｒｙｌ）基、アラルキル基、オキシ
アルキレン基であり、Ｈは最大２個までである。

【００２３】またＲ、Ｒ¹ 、Ｒ² がＨの場合には、１分
子中に少なくとも１個以上の１級アミノ基、２級アミノ
基、３級アミノ基を含む化合物と塩になっていてもよ
い。

【００２４】式（２）で示される化合物のうち、さらに
１分子中に重合可能な不飽和基を１個以上含むものも挙
げられる。

【００２５】これらアミノ化合物は、Ｃ₁ 〜Ｃ₂₀までの
アルキル基、アリール（Ａｒｙｌ）基、オキシアルキレ
ン基、（メタ）アクリロイルアルキレン基および（メ
タ）アクリロイルオキシアルキレン基を含むものが好ま
しく、特に２級、３級アミンが好ましい。

【００２６】好ましくは、アシッドホスホオキシエチル
（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエ
チルアシッドホスフェートモノエタノールアミンハーフ
ソルトが用いられる。

【００２７】式（２）で示される化合物は、上記（Ａ）
の化合物または混合物１００重量部に対し、０．００５
〜２５重量部、好ましくは０．０１〜２０重量部、より
好ましくは０．０２〜１８重量部とする。この範囲であ
ると被膜の帯電防止性能および透明性などの特性が良い
からである。

【００２８】本発明の情報記録媒体の表面被覆に用いら
れる組成物を基体の少なくとも一方の表面に塗布し、該
組成物を架橋硬化させて被膜を形成させるためにはこの
組成物に成分（Ｃ）の重合開始剤を配合することが必要
である。硬化方法としては、紫外線による硬化方法、熱
線による硬化方法などが通常採用される。紫外線硬化の
場合には重合開始剤として光増感剤が配合され、光増感
剤として具体的には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどの
ベンゾインまたはそのエーテル、ベンゾフェノン、ｐ−
クロルベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノンな
どのベンゾフェノン系化合物、ベンジル、ベンジルジメ
チルケタール、ベンジルエチルケタールなどのベンジル
系化合物、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、１−フェニル
−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、１−
（４−tert−ブチルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−プロパノンなどのヒドロキシアルキルフェ
ニルケトン系化合物などを例示することができる。熱に
よる硬化の場合にはラジカル開始剤が配合され、ラジカ
ル開始剤として具体的には、アゾビスイソブチロニトリ
ルなどのアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド、ラウリ
ルペルオキシド、ジtert−ブチルペルオキシド、ジクミ
ルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシドなどの過酸
化物等を例示することができる。さらに、この組成物
に、光増感剤およびラジカル開始剤の両者を配合し、紫
外線硬化と熱硬化とを同時に進行させる方法を採用する
こともできるし、紫外線硬化を進行させた後に熱硬化を
進行させる方法を採用することもできるし、さらに逆に
熱硬化を進行させた後に紫外線硬化を進行させる方法を
採用することも可能である。

【００２９】重合開始剤の配合割合は、上記（Ａ）の化
合物または混合物１００重量部に対して０．０１〜２０
重量部の範囲にあることが好ましく、さらに０．１〜１
０重量部の範囲にあることが好ましい。

【００３０】この範囲であると、硬化時の硬化特性およ
び硬化被膜の表面硬度、耐引掻き性、耐摩耗性、耐溶剤
性、基体への密着性などの特性が良いからである。

【００３１】本発明の表面被覆に用いられる組成物は前
記必須成分のみからなる組成物である場合もあるが、さ
らに必要に応じて重合禁止剤、透明性の充填剤、溶剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤などの安定剤、蛍光増白剤、
メチル（メタ）アクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレートなどの（反応性）オリゴ
マーおよびポリメチルメタクリレートなどのポリマー等
の各種添加剤を配合することができる。これらの添加剤
の配合割合は適宜である。

【００３２】本発明の表面被覆に用いられる組成物中に
は、必要に応じて微粉末状充填剤を配合しても差し支え
ない。該微粉末状充填剤の平均粒径は粉末状を形成して
いる限りにおいて任意であるが通常は０．２μｍないし
１０μｍ、好ましくは０．３μｍないし１μｍの範囲で
ある。このような微粉末状充填剤として具体的には、ア
ルミナ、αFe₂O₃ 、カーボンブラック、ガラス粉末、マ
イカ、ガラスビーズ、ガラスフレーク、ケイソウ土、無
水シリカ、水和シリカ、ケイ石、ケイ砂、石英、カオリ
ナイト、モンモリロナイト、セリサイト、タルク、縁泥
石、陶石、長石などを例示することができる。また、こ
れらの微粉末状無機充填剤の表面をアルキルカルボン酸
塩またはシランカップラーやチタンカップラー、Ｃｌ₂
Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₂ 、アルコールなどによって表面処理し
たものも同様に使用できる。また、前記充填剤を水また
はアルコール中に懸濁させたコロイダルシリカ、メタノ
ールシリカゾル、エタノールシリカゾル、イソプロパノ
ールシリカゾルなどを使用することもできる。これらの
微粉末状充填剤のうちでは、微粉末状シリカを配合する
と被覆層の表面硬度、耐引掻き性および耐摩耗性が著し
く向上しとくに好ましい。これらの微粉末状充填剤の配
合割合は、上記のメタアクリルモノマーまたはオリゴマ
ーまたはこれらの混合物１００重量部に対し、０．５〜
２００重量部、好ましくは０．５〜１００重量部とす
る、さらに好ましくは１．０〜５０重量部とする。これ
は被覆の表面硬度、耐引掻き性、耐摩耗性を向上させる
ことができるからである。

【００３３】本発明の表面被覆に用いられる組成物に
は、上記必須成分の有機溶剤以外にその塗布作業性を向
上させるために必要に応じて溶剤が加えられ、溶液状態
または懸濁状態に維持される。溶剤は該組成物を液体化
または懸濁液化したり、該組成物の粘度を調節したりあ
るいは成形物に対する濡れを向上させる目的でも使用さ
れる。

【００３４】溶剤として具体的には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クメン、エチルベンゼン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、石油エーテル、リグロイン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、
トリクレン、二塩化エチレン、パークレン、三塩化エタ
ン、四塩化エタン、二塩化プロピレン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ペ
ンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサンなどの
ケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ブチ
ルエチルエーテルジブチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルなどのエーテル、アセトニトリル、プロピオニト
リル、カプロニトリルなどのニトリル、ギ酸メチル、ギ
酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチルなどのエステル等を例示すること
ができる。これらの有機溶剤の配合割合は、上記（Ａ）
の化合物または混合物１００重量部に対し、５〜１００
重量部、好ましくは、５〜３００重量部、より好ましく
は、５〜１００重量部とする。この範囲とする理由は、
組成物の塗布適性がよいからである。

【００３５】本発明の表面被覆に用いられる組成物にお
いて、前記必須成分、必要に応じて加えられる無機、有
機充填剤、溶剤、安定剤などの各種添加剤成分を配合し
た組成物から溶液状組成物または懸濁液状組成物を調製
する方法としては、前述の原料混合物を調合し、通常、
ロール、バンバリーミキサー、ボールミル、アトライ
タ、ウィッパー、オークスミキサー、ディソルバー、ホ
モジナイザー、コロイドミル、サンドミル、振動ミル、
ミキサー混合撹拌槽などによる混練混合操作により均一
に溶解あるいは分散した組成物が得られる。該溶液状組
成物および懸濁液状組成物をポリオレフィンからなる成
形体の表面上に塗布する方法としては、刷毛塗り法、ス
プレー法、浸漬法、バーコート法、ロールコーター法、
スピンコーター法、ゲルコーター法などの従来から公知
の方法を採用することができる。また、該被膜を乾燥さ
せる方法としては、自然乾燥法、キャリアガスによる強
制乾燥法、赤外線炉、遠赤外線炉、熱風炉を用いた加熱
乾燥法などを例示することができる。また、前述の被膜
を硬化させ、被膜を形成させる方法としては、光とくに
紫外線により重合架橋硬化させる方法、熱により重合架
橋硬化させる方法などを例示することができる。これら
の重合架橋硬化の方法のうちで、光硬化法では通常−１
０ないし１５０℃、好ましくは５ないし１３０℃の温度
で光照射が実施され、その時間は通常１ｓｅｃないし１
ｈｒ、好ましくは１ｓｅｃないし１０ｍｉｎである。ま
た、熱硬化法では硬化の際の温度は通常−１０ないし１
５０℃、好ましくは５ないし１３０℃であり、硬化に要
する時間は通常０．０５ないし１０ｈｒ、好ましくは
０．１ないし８ｈｒである。

【００３６】本発明を構成する基体２の材料としては、
ガラスやアルミニウム等の無機材料、ポリメチルメタア
クリレート、ポリメタクリレートのようなアクリル樹
脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、米国特許第４６
１４７７８号明細書に示されるようなエチレン・環状オ
レフィン共重合体例えばエチレンと１，４，５，８−ジ
メタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタ
ヒドロナフタレン（テトラシクロドデセン）との共重合
体、エチレンと２−メチル−１，４，５，８−ジメタノ
−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ
ナフタレン（メチルテトラシクロドデセン）との共重合
体、エチレンと２−エチル−１，４，５，８−ジメタノ
−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロ
ナフタレンとの共重合体など、ポリ４−メチル−１−ペ
ンテン、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン、ポリ
サルフォン、ポリエーテルイミドあるいは特開昭６０−
２６０２４号広報に示されるようなテトラシクロドデセ
ン類の単独開環重合体やノルボルネン類との開環共重合
体を水添したもの、あるいはこれら各ポリマー同士もし
くは他のポリマーとを混合して得られるポリマーアロ
イ、例えばポリカーボネートとポリスチレンのポリマー
アロイ等の有機材料を使用できる。

【００３７】基体の形状はフィルム状、シート状、カー
ド状、板状、円板状その他いかなる形状の成形体であっ
てもよい。具体的には、３．５インチディスク、５．２
５インチディスク、８インチディスク、直径６４ｍｍの
ディスク等が挙げられるが、ディスク媒体に限らず光カ
ード、フロプティカルディスク(Floptical Disk)であっ
てもよい。

【００３８】前記基体の少なくとも一方の表面を前述の
組成物の被膜で被覆する際には、該基体樹脂層の少なく
とも一方の表面に、あるいは、記録層、反射層等の層を
介して表面被覆する際は、表面被覆される面に、種々の
溶剤による洗浄、アルカリ水溶液による洗浄、界面活性
剤による洗浄、超音波による洗浄、電解による洗浄、ブ
ラスト処理、サンドブラスト処理、酸またはアルカリに
よるエッチング処理、フレーム処理、コロナ放電処理、
アーク放電処理、グロー放電処理、プラズマ放電処理、
化成処理などの種々の表面処理を施すことができる。ま
た、前記基体の少なくとも一方の表面を被覆する際に、
表面被覆層と被覆される面との間にプライマーからなる
中間接着層を置いて三層積層体とすることにより、両層
間の付着性をさらに向上させることも可能である。プラ
イマーとしては、例えばα，β−不飽和カルボン酸、そ
の酸無水物、そのエステルなどのα，β−不飽和カルボ
ン酸またはその誘導体成分がグラフトされた変性ポリオ
レフィンが通常使用される。このように、必要に応じて
表面処理またはプライマー処理の施された表面上に前述
の方法によって前述の組成物が被覆され、硬化処理が施
される。本発明を構成する記録および／または再生部
は、磁気記録媒体の場合は磁性体層である。光記録媒体
の場合は、例えば、記録ビットを形成するプラスチック
部やＳｉＯ₂ 層である。光磁気記録媒体の場合は、以下
のような記録膜が例示される。たとえば記録膜が膜面に
対して垂直な方向に一軸異方性を有する光磁気記録膜で
ある場合には、記録膜は、（ｉ）３ｄ遷移金属から選ば
れる少なくとも１種と、(iii) 希土類から選ばれる少な
くとも１種の元素とからなるか、あるいは（ｉ）３ｄ遷
移金属から選ばれる少なくとも１種と、(ii)耐腐食性金
属と、(iii)希土類から選ばれる少なくとも１種の元素
からなることが好ましい。（ｉ）３ｄ遷移金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎなどが用いられるが、こ
のうちＦｅまたはＣｏあるいはこの両者であることが好
ましい。 (ii)耐腐食性金属は、記録膜に含ませることによって、
この光磁気記録膜の耐酸化性を高めることができる。こ
のような耐腐食性金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｃｒなどが用いられる
が、このうちＰｔ、Ｐｄ、Ｔｉが好ましく、特にＰｔま
たはＰｄあるいはこの両者であることが好ましい。 (iii) 希土類元素としては、たとえばＧｄ、Ｔｂ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕなどが用いられる。このう
ちＧｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｐｒが好まし
く用いられる。このような光磁気記録膜では、（ｉ）３ｄ遷移金属は、
３０〜８５原子％好ましく４０〜７０原子％の量で、(i
i)耐腐食性金属は３０原子％まで好ましくは５〜２５原
子％までの量で、(iii) 希土類元素は５〜５０原子％好
ましくは２５〜４５原子％の量で存在していることが望
ましい。記録膜がたとえば相変化型記録膜である場合に
は、記録膜は、たとえば、Ｔｅを主成分とした合金薄
膜、Ｓｅを主成分とした合金薄膜、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ合
金薄膜、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金薄膜、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｃｒ
合金薄膜、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｚｎ合金薄膜等で構成される。
またＴｅ−Ｃ−Ｈ、Ｔｅ−Ｃｒ−Ｃ−Ｈ、またはＴｅ−
Ａｇなどの記録膜をもち、一回限り書込み可能な追記型
記録膜がある。さらに追記型や相変化型の記録膜として
ポリメチン系化合物、シアニン系化合物などの有機色素
膜を用いることもできる。本発明の情報記録媒体には、
基体と、記録および／または再生部以外にも、必要に応
じて記録および／または再生部と表面被覆との間にＡ
ｌ、Ｎｉ合金等の反射膜や、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、ＳｉＮ_x （０
＜ｘ＜４／３）、Ａｌ、Ａｕ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、Ｓ
ｉ、ＳｉＯ₂ ・ＺｒＯ₂ 、Ｃｒ、ＣｄＳ等の無機化合物
膜からなる保護膜やエンハンス膜、またアクリル系の紫
外線硬化樹脂等の有機化合物膜からなる保護膜が設けら
れる。また、基体と、記録および／または再生部との間
にＳｉ₃Ｎ₄ 、ＳｉＮ_x （０＜ｘ＜４／３）、Ａｌ、Ａ
ｕ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、Ｓｉ、ＳｉＯ₂ ・ＺｒＯ₂ 、Ｃ
ｒ、ＣｄＳ等の無機化合物膜からなるエンハンス膜を設
けてもよい。

【００３９】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００４０】（実施例）１．６μｍピッチでグルーブ
（案内溝）が存在する外径３．５インチの環状ポリオレ
フィン基板上にスパッタリング法を用いて以下の薄膜を
形成した。窒化シリコン０．１３μｍ／TbFeCo0.025 μｍ／窒化シ
リコン０．０３μｍ／Ａｌ合金０．１５μｍ次に、この薄膜上に１μｍの塗布厚で以下に示す試料１
〜９の被覆用組成物をスピンコーターを用いて塗布し
た。室温で５分間放置後、ＵＶ照射装置を用いて約2800
0mJ/cm² の照射エネルギーで硬化させた。このディスク
媒体を用いて以下のようなＣＳＳ耐久試験を行なった。ＣＳＳ実験条件ヘッド浮上量：０．２μｍ媒体回転数：３６００ｒｐｍ実験位置：ディスク半径２５ｍｍ繰り返し（回転開始、停止）周期：１０秒実験環境：クラス１０００のクリーンルーム内、温度２
３℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．ＣＳＳ耐久性実験の結果、ＣＳＳ30000 回経過後、媒体
及び磁気ヘッドに変化は発生しなかった。

【００４１】被覆用組成物の調製（試料１）１Ｌの反応容器に、イソホロンジイソシアネ
ート１モル当量、２２３ｇ、ジブチルチンラウレート
０．０５ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート
３００ｇを入れた。滴下ロートより２ヒドロキシエチル
アクリレート２モル当量、２３２ｇを３０分で滴下し、
８５℃の温度でチッソガス雰囲気中で反応させた。１時
間反応後、粘調なウレタンアクリレート化合物（Ａ）を
得た。ウレタンアクリレート化合物（Ａ）３５０ｇ、ベ
ンゾインエチルエーテル１０ｇ、トルエン１５０ｇ、酢
酸エチル１５０ｇ、イソブチルアルコール３５０ｇ、ジ
デシル−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミドホスフェー
ト３ｇを撹拌容器中に入れ、均一になるまで撹拌し、試
料１とした。（試料２）１Ｌの反応容器に、イソホロンジイソシアネ
ート１モル当量、２２３ｇ、ジブチルチンラウレート
０．０５ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート
３００ｇ、を入れた。滴下ロートよりペンタエリトール
トリアクリレート２モル当量６００ｇを３０分で滴下
し、８５℃の温度でチッソガス雰囲気中で反応せさた。
１時間反応後、粘調なウレタンアクリレート化合物
（Ｂ）を得た。ウレタンアクリレート化合物（Ｂ）３５
０ｇと、ジエトキシアセトフェノン１０ｇ、キシレン１
５０ｇ、酢酸ブチル１５０ｇ、イソプロピルアルコール
３５０ｇ、メタアクリロイルオキシエチルアシッドホス
フェート１．４ｇを撹拌容器に入れ、均一になるまで撹
拌し、試料２とした。

【００４２】（試料３）ジペンタエリストールヘキサア
クリレート１８０ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２
０ｇ、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン１０ｇ、トルエン１００ｇ、キシレン１
５０ｇ、ジアセトンアルコール１００ｇ、イソプロピル
アルコール４５０ｇ、アシッドホスホオキシエチルアク
リレート１８ｇを撹拌容器に入れ均一に撹拌し、試料３
とした。

【００４３】（試料４）エチレンオキサイド変性ビスフ
ェノールＡジアクリレート（商品名ＢＰ−４ＥＡ共栄
社油脂化学工業（株）製）３３０ｇ、Ｎビニルピロリド
ン２０ｇ、トルエン１００ｇ、酢酸エチル１００ｇ、イ
ソブチルアルコール３５０ｇ、２−メトキシメタノール
１００ｇ、ｔブチルハイドロパーオキサイド２ｇ、１−
ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン３ｇ、アシ
ッドホスホオキシプロピルメタクリレート１５ｇを撹拌
容器に入れ、均一に撹拌し、試料４とした。

【００４４】（試料５）実施例の方法で製造したウレタ
ンアクリレート化合物（Ａ）３５０ｇ、ベンゾインエチ
ルエーテル１０ｇ、トルエン１５０ｇ、酢酸エチル１５
０ｇ、イソブチルアルコール３５０ｇを撹拌容器に入
れ、均一になるまで撹拌し、試料５とした。

【００４５】（試料６〜９）試料１において、ジデシル
−ジ（２−ヒドロキシエチルアミド）ホスフェートの代
わりに表２に示す化合物を使用した他は試料１と同様に
して試料６〜９を調整した。

【００４６】試料１〜９の被覆用組成物の硬化後の物性
を以下のように評価し、表１および表２に記載した。（１）ヘイズＡＳＴＭＤ−１００３の方法に準じて行なった。（２）鉛筆硬度ＪＩＳＫ５６５１に準じて測定した。（３）密着性ＪＩＳＫ５４００−１９７９中のゴバン目テストに準じ
て行った。判定は１００個のゴバン目中、何個が接着し
ていたかで示す。（４）表面抵抗値ＡＳＴＭＤ−２５７−７８に準じて測定した。（５）耐湿テスト６０℃、相対湿度８５％の恒温恒湿槽に試験片を１００
時間保持する。試験片を恒温恒湿槽から取り出した後
に、試験片が室温になるまで放置し、ヘイズ、密着性、
表面抵抗値を測定した。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】

【化５】

【００５０】

【化６】

【００５１】

【発明の効果】本発明は、空気中での硬化特性に優れる
とともに、樹脂、金属、ガラスなどに対する付着性に優
れ、加熱工程を省略しても十分な付着力を示し、表面硬
度、耐引掻き性、耐摩耗性、ならびに特に帯電防止性能
に優れている表面被覆を有する情報記録媒体であり、磁
気記録媒体、光記録媒体、光磁気記録媒体として産業上
有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ディスクの構成を示す模式図である。

【図２】光磁気ディスクの構成を示す模式図である。

【符号の説明】

１光ディスク２基体３記録ピット４反射膜５表面被覆６トップコート膜７記録膜１０光磁気ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者服部由香里千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三井石油化学工業株式会社内 (72)発明者村越則行東京都府中市若松町２−８−33 ケミテック株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基体上に、記録および／または再生部を有
する情報記録媒体において、少なくとも一方の表面が
（Ａ）重合可能なアクリル基、またはメタクリル基また
はビニル基を１個以上有する化合物またはこれらの混合
物と、（Ｂ）アルコール系有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％
以上含有する有機溶剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有する組成物で被覆されている
ことを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】前記組成物が、さらに、（Ｄ）１分子内に下記式（１）で表される結合を有する
５価のＰ原子を１個以上含む化合物を含有する請求項１
に記載の情報記録媒体。【化１】
【請求項３】前記少なくとも一方の表面が、記録および
／または再生部を有する側の表面である請求項１または
２に記載の情報記録媒体。
【請求項４】前記情報記録媒体が、磁気ディスクである
請求項１〜３のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項５】前記情報記録媒体が、レーザー光により書
込みを行う光ディスクである請求項１〜３のいずれかに
記載の情報記録媒体。
【請求項６】前記情報記録媒体が、該記録および／また
は再生部に連続光を照射しながら浮上型磁気ヘッドによ
り信号磁界を印加して再書込みを行う光磁気ディスクで
ある請求項１〜３のいずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項７】前記基体が、金属またはガラス材料製のデ
ィスクである請求項１ないし６のいずれかに記載の情報
記録媒体。
【請求項８】前記基体が、プラスチック材料製のディス
クである請求項１ないし７のいずれかに記載の情報記録
媒体。
【請求項９】前記（Ａ）重合可能なアクリル基、または
メタクリル基またはビニル基１個以上有する化合物また
はこれらの混合物１００重量部に対し、前記（Ｂ）有機
溶剤５〜１５００重量部、前記（Ｃ）重合開始剤０．０
１〜２０重量部である請求項１の情報記録媒体。
【請求項１０】前記（Ａ）重合可能なアクリル基、また
はメタクリル基またはビニル基１個以上有する化合物ま
たはこれらの混合物１００重量部に対し、前記（Ｂ）有
機溶剤５〜１５００重量部、前記（Ｃ）重合開始剤０．
０１〜２０重量部、前記（Ｄ）５価のＰ原子を１個以上
含む化合物０．０１〜２５重量部である請求項２〜８の
いずれかに記載の情報記録媒体。
【請求項１１】前記（Ｄ）５価のＰ原子を１個以上含む
化合物が、さらに１分子中にヒドロキシル基を１個以上
含むものである請求項２〜８のいずれか、または請求項
１０に記載の情報記録媒体。