JPH05306500A - メッキ液中からのスラッジの除去方法 - Google Patents
メッキ液中からのスラッジの除去方法Info
- Publication number
- JPH05306500A JPH05306500A JP13616392A JP13616392A JPH05306500A JP H05306500 A JPH05306500 A JP H05306500A JP 13616392 A JP13616392 A JP 13616392A JP 13616392 A JP13616392 A JP 13616392A JP H05306500 A JPH05306500 A JP H05306500A
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- Japan
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- plating
- sludge
- plating solution
- magnet
- plating tank
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 メッキ液中から磁性スラッジを容易且つ確実
に除去する。 【構成】 メッキ槽１内あるいはメッキ液循環供給用経
路に磁石８を設け、メッキ槽１内に循環供給されるメッ
キ液中に混入する磁性スラッジ12を磁石８に吸着させ
て、メッキ液中からスラッジ12を除去する。
に除去する。 【構成】 メッキ槽１内あるいはメッキ液循環供給用経
路に磁石８を設け、メッキ槽１内に循環供給されるメッ
キ液中に混入する磁性スラッジ12を磁石８に吸着させ
て、メッキ液中からスラッジ12を除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、メッキ液中からのス
ラッジの除去方法、特に、メッキ液中から磁性スラッジ
を容易且つ確実に除去することができる、メッキ液中か
らのスラッジの除去方法に関するものである。
ラッジの除去方法、特に、メッキ液中から磁性スラッジ
を容易且つ確実に除去することができる、メッキ液中か
らのスラッジの除去方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】鋼板に連続的にメッキを施す装置につい
て、図面を参照しながら簡単に説明する。図３は、連続
メッキ装置を示す概略断面図である。
て、図面を参照しながら簡単に説明する。図３は、連続
メッキ装置を示す概略断面図である。
【０００３】図３において、１は、メッキ槽、２は、メ
ッキ槽１の入側および出側に設けられたダムロール、３
は、入側と出側ダムロール２間に水平に設置された上下
一対の電極、４は、通電ロール、そして、５は、メッキ
液をノズル６からメッキ槽１内の鋼板７に向けて循環供
給するためのポンプである。
ッキ槽１の入側および出側に設けられたダムロール、３
は、入側と出側ダムロール２間に水平に設置された上下
一対の電極、４は、通電ロール、そして、５は、メッキ
液をノズル６からメッキ槽１内の鋼板７に向けて循環供
給するためのポンプである。
【０００４】鋼板７の両面には、鋼板７が電極３間を水
平に移動する過程で連続的にメッキが施される。メッキ
槽１内のメッキ液は、ポンプ５によってメッキ槽１内に
循環供給される。
平に移動する過程で連続的にメッキが施される。メッキ
槽１内のメッキ液は、ポンプ５によってメッキ槽１内に
循環供給される。
【０００５】このようにして鋼板７に、例えば、Ni-Zn
系メッキが施されるが、時間の経過に伴ってメッキ槽１
内には、スラッジが堆積する。このスラッジがメッキ鋼
板に付着すると付着疵の原因となり、一方、通電ロール
４等に付着すると押し疵の原因となる。従って、スラッ
ジを除去することは、メッキ鋼板の品質を維持する上で
極めて重要なことである。なお、Ni-Zn 合金メッキの場
合、Znの自溶性電極と、Zn粒等とのイオン化傾向の差に
よって、Niスラッジが生成する。
系メッキが施されるが、時間の経過に伴ってメッキ槽１
内には、スラッジが堆積する。このスラッジがメッキ鋼
板に付着すると付着疵の原因となり、一方、通電ロール
４等に付着すると押し疵の原因となる。従って、スラッ
ジを除去することは、メッキ鋼板の品質を維持する上で
極めて重要なことである。なお、Ni-Zn 合金メッキの場
合、Znの自溶性電極と、Zn粒等とのイオン化傾向の差に
よって、Niスラッジが生成する。
【０００６】そこで、従来から上述した磁性スラッジを
除去するために、スラッジが混入したメッキ液をプリコ
ート型濾過機に入れて濾過したり、スラッジが混入した
メッキ液を遠心分離機にかける方法が採られていた。
除去するために、スラッジが混入したメッキ液をプリコ
ート型濾過機に入れて濾過したり、スラッジが混入した
メッキ液を遠心分離機にかける方法が採られていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、濾過機
を使用する方法は、濾材が流出した場合に、濾材および
濾過助剤を入れ替える必要があり、保守管理が不可欠で
ある。しかも、濾過処理が進むにつれ、濾過機の圧力損
失が上昇して濾過機能が低下する。一方、遠心分離機を
使用する方法は、濃度が低いスラッジの除去が行えない
といった問題を有していた。
を使用する方法は、濾材が流出した場合に、濾材および
濾過助剤を入れ替える必要があり、保守管理が不可欠で
ある。しかも、濾過処理が進むにつれ、濾過機の圧力損
失が上昇して濾過機能が低下する。一方、遠心分離機を
使用する方法は、濃度が低いスラッジの除去が行えない
といった問題を有していた。
【０００８】従って、この発明の目的は、メッキ液中に
混入している磁性スラッジを効率良く且つ確実に除去す
ることができる、メッキ液中からのスラッジの除去方法
を提供することにある。
混入している磁性スラッジを効率良く且つ確実に除去す
ることができる、メッキ液中からのスラッジの除去方法
を提供することにある。
【０００９】この発明の第１は、メッキ槽内に磁石を設
け、前記メッキ槽内に循環供給されるメッキ液中に混入
する磁性スラッジを前記磁石に吸着させて、前記メッキ
液中から前記スラッジを除去することに特徴を有し、第
２は、磁石をメッキ液の循環経路に設けたことに特徴を
有するものである。
け、前記メッキ槽内に循環供給されるメッキ液中に混入
する磁性スラッジを前記磁石に吸着させて、前記メッキ
液中から前記スラッジを除去することに特徴を有し、第
２は、磁石をメッキ液の循環経路に設けたことに特徴を
有するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】次に、第１発明の、メッ
キ液中からのスラッジの除去方法の一実施態様を、図面
を参照しながら説明する。
キ液中からのスラッジの除去方法の一実施態様を、図面
を参照しながら説明する。
【００１１】図１は、第１発明の、メッキ液中からのス
ラッジの除去方法の一実施態様を示す概略断面図であ
る。図１において、１は、メッキ槽、２は、メッキ槽１
の入側および出側に設けられたダムロール、３は、入側
と出側ダムロール２間に水平に設置された上下一対の電
極、４は、通電ロール、８は、メッキ槽１の底部に設け
られた磁石、９は、補助メッキ槽、10は、補助メッキ槽
９内のメッキ液をノズル６からメッキ槽１内の鋼板７に
向けて循環供給するためのポンプ、そして、11は、ポン
プ10の出側に接続された、メッキ液の循環用配管であ
る。
ラッジの除去方法の一実施態様を示す概略断面図であ
る。図１において、１は、メッキ槽、２は、メッキ槽１
の入側および出側に設けられたダムロール、３は、入側
と出側ダムロール２間に水平に設置された上下一対の電
極、４は、通電ロール、８は、メッキ槽１の底部に設け
られた磁石、９は、補助メッキ槽、10は、補助メッキ槽
９内のメッキ液をノズル６からメッキ槽１内の鋼板７に
向けて循環供給するためのポンプ、そして、11は、ポン
プ10の出側に接続された、メッキ液の循環用配管であ
る。
【００１２】メッキの進行に伴ってメッキ槽１内に堆積
するNiスラッジ等の磁性スラッジ12は、メッキ槽１内に
設けられた磁石８に吸着されて、メッキ液中から除去さ
れる。スラッジ12が除去されたメッキ液は、補助メッキ
槽９内に入り、ポンプ10によってメッキ槽１内に循環供
給される。
するNiスラッジ等の磁性スラッジ12は、メッキ槽１内に
設けられた磁石８に吸着されて、メッキ液中から除去さ
れる。スラッジ12が除去されたメッキ液は、補助メッキ
槽９内に入り、ポンプ10によってメッキ槽１内に循環供
給される。
【００１３】磁石８に吸着したスラッジ12は、磁石８ご
とメッキ槽１外に取り出して、磁石８から分離する。こ
の場合、磁石８が電磁石であれば、スラッジ12との分離
が容易に行える。
とメッキ槽１外に取り出して、磁石８から分離する。こ
の場合、磁石８が電磁石であれば、スラッジ12との分離
が容易に行える。
【００１４】次に、第２発明を説明する。この発明は、
磁石８をメッキ液の循環用配管11部分に設けたものであ
り、磁石８からの磁性スラッジ12の分離作業がより容易
に行えるといった効果を有している。
磁石８をメッキ液の循環用配管11部分に設けたものであ
り、磁石８からの磁性スラッジ12の分離作業がより容易
に行えるといった効果を有している。
【００１５】図１に示すメッキ装置によって、鋼板にNi
-Zn 合金メッキを施す場合において、900 ガウスの磁気
を有し、200mm ×150mm ×45mmの大きさの永久磁石８を
メッキ流量が30m3のメッキ槽１内に４個設置した。そし
て、このときの、メッキ液中のNiスラッジ量の変化につ
いて調べた。この結果を、図２に示す。
-Zn 合金メッキを施す場合において、900 ガウスの磁気
を有し、200mm ×150mm ×45mmの大きさの永久磁石８を
メッキ流量が30m3のメッキ槽１内に４個設置した。そし
て、このときの、メッキ液中のNiスラッジ量の変化につ
いて調べた。この結果を、図２に示す。
【００１６】図２から明らかなように、磁石８をメッキ
槽１内においた場合は、磁石を設けなかった場合に比べ
てNiスラッジ量が大幅に減少していることが分かった。
この場合、時間の経過に伴ってスラッジ量が増加してい
るのは、磁石８に吸着したスラッジによってスラッジの
吸着力が飽和したためである。
槽１内においた場合は、磁石を設けなかった場合に比べ
てNiスラッジ量が大幅に減少していることが分かった。
この場合、時間の経過に伴ってスラッジ量が増加してい
るのは、磁石８に吸着したスラッジによってスラッジの
吸着力が飽和したためである。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、メッキ槽内あるいはメッキ液の循環経路に磁石を設
けることによって、メッキ液中の磁性スラッジを容易且
つ確実に除去することができるといった有用な効果がも
たらされる。
ば、メッキ槽内あるいはメッキ液の循環経路に磁石を設
けることによって、メッキ液中の磁性スラッジを容易且
つ確実に除去することができるといった有用な効果がも
たらされる。
【図１】第１発明の、メッキ液中からのスラッジの除去
方法の一実施態様を示す概略断面図である。
方法の一実施態様を示す概略断面図である。
【図２】メッキの進行に伴うスラッジ量の変化を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図３】連続メッキ装置を示す概略断面図である。
１：メッキ槽、 ２：ダムロール、 ３：電極、 ４：通電ロール、 ５：ポンプ、 ６：ノズル、 ７：鋼板、 ８：磁石、 ９：補助メッキ槽、 10：ポンプ 11：メッキ液の循環供給用配管、 12：スラッジ。
Claims (2)
- 【請求項１】 メッキ槽内に磁石を設け、前記メッキ槽
内に循環供給されるメッキ液中に混入する磁性スラッジ
を前記磁石に吸着させて、前記メッキ液中から前記スラ
ッジを除去することを特徴とする、メッキ液中からのス
ラッジの除去方法。 - 【請求項２】 メッキ槽内にメッキ液を循環供給するた
めの経路に磁石を設け、前記メッキ槽内に循環供給され
るメッキ液中に混入する磁性スラッジを前記磁石に吸着
させて、前記メッキ液中から前記スラッジを除去するこ
とを特徴とする、メッキ液中からのスラッジの除去方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13616392A JPH05306500A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | メッキ液中からのスラッジの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13616392A JPH05306500A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | メッキ液中からのスラッジの除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05306500A true JPH05306500A (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=15168799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13616392A Pending JPH05306500A (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | メッキ液中からのスラッジの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05306500A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH093694A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-07 | Nec Corp | めっき槽 |
| JP2007146286A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-06-14 | Ebara Corp | 無電解めっき装置及び無電解めっき方法 |
| EP2823890A1 (de) * | 2013-07-11 | 2015-01-14 | FRANZ Oberflächentechnik GmbH & Co KG | Verfahren und Anlage zum nasschemischen Abscheiden von Nickelschichten |
-
1992
- 1992-04-28 JP JP13616392A patent/JPH05306500A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH093694A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-07 | Nec Corp | めっき槽 |
| JP2007146286A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-06-14 | Ebara Corp | 無電解めっき装置及び無電解めっき方法 |
| EP2823890A1 (de) * | 2013-07-11 | 2015-01-14 | FRANZ Oberflächentechnik GmbH & Co KG | Verfahren und Anlage zum nasschemischen Abscheiden von Nickelschichten |
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