JPH05312742A - 材料判定装置 - Google Patents
材料判定装置Info
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- JPH05312742A JPH05312742A JP15848192A JP15848192A JPH05312742A JP H05312742 A JPH05312742 A JP H05312742A JP 15848192 A JP15848192 A JP 15848192A JP 15848192 A JP15848192 A JP 15848192A JP H05312742 A JPH05312742 A JP H05312742A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被測定物の内部状態、材質、膜層状態等の材
料判定が容易にでき、且つ、その検出判定精度が正確に
できることを目的とする。 【構成】 パルス電源8により作動するレーザー発振器
1によって被測定物7にレーザービームを照射し、被測
定物7の照射点の温度上昇によって発生する赤外線反射
光を検出器4によって検出する。前記レーザー照射して
から所定量の赤外線が検出するまでの時間をタイマ回路
10で検出し、信号を演算処理装置12に入力し、演算
処理を行なうと共にその結果をメモリ13の既知データ
と比較処理して判定出力表示14する。
料判定が容易にでき、且つ、その検出判定精度が正確に
できることを目的とする。 【構成】 パルス電源8により作動するレーザー発振器
1によって被測定物7にレーザービームを照射し、被測
定物7の照射点の温度上昇によって発生する赤外線反射
光を検出器4によって検出する。前記レーザー照射して
から所定量の赤外線が検出するまでの時間をタイマ回路
10で検出し、信号を演算処理装置12に入力し、演算
処理を行なうと共にその結果をメモリ13の既知データ
と比較処理して判定出力表示14する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は材料判定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、被測定物にレーザー光を照射し、
その反射光をCCD等を用いて検出し、材料判定するこ
とが知られているが、これによる場合、被測定物の表面
状態は検出できても、内部の状態、材質、膜層状態等に
ついては検出判定することができなかった。又、被測定
物の反射面が傾斜したり凹凸すると2次、3次反射を繰
返し乱反射してくるから検出信号に多くの誤差を含み、
正確測定をすることができなかった。
その反射光をCCD等を用いて検出し、材料判定するこ
とが知られているが、これによる場合、被測定物の表面
状態は検出できても、内部の状態、材質、膜層状態等に
ついては検出判定することができなかった。又、被測定
物の反射面が傾斜したり凹凸すると2次、3次反射を繰
返し乱反射してくるから検出信号に多くの誤差を含み、
正確測定をすることができなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は被測定物の内
部の状態、材質、膜層状態等の材料判定が容易にでき、
且つその検出判定精度が正確にできることを目的とす
る。
部の状態、材質、膜層状態等の材料判定が容易にでき、
且つその検出判定精度が正確にできることを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】被測定物にレーザービー
ムを照射するレーザー照射装置と、前記被測定物から反
射する赤外線を検出する赤外線検出装置とを設け、赤外
線検出信号により材料判定するようにしたことを特徴と
する。又被測定物にレーザービームを照射するレーザー
照射装置と、前記被測定物から反射する赤外線を検出す
る赤外線検出装置と、該検出装置の検出信号を既知デー
タと比較判定する演算処理装置とを設けて成ることを特
徴とする。
ムを照射するレーザー照射装置と、前記被測定物から反
射する赤外線を検出する赤外線検出装置とを設け、赤外
線検出信号により材料判定するようにしたことを特徴と
する。又被測定物にレーザービームを照射するレーザー
照射装置と、前記被測定物から反射する赤外線を検出す
る赤外線検出装置と、該検出装置の検出信号を既知デー
タと比較判定する演算処理装置とを設けて成ることを特
徴とする。
【0005】
【作用】本発明は前記のように照射光と異なる波長の赤
外線反射光を検出して材料判定するものであるから、被
測定物の内部状態、材質、膜層状態等が容易に検出判定
できる。又その検出判定精度も正確にできる効果があ
る。
外線反射光を検出して材料判定するものであるから、被
測定物の内部状態、材質、膜層状態等が容易に検出判定
できる。又その検出判定精度も正確にできる効果があ
る。
【0006】
【実施例】以下、図面の一実施例により本発明を説明す
る。図1において1はレーザー発振器、2はレーザービ
ームの集束レンズ、3は反射光の受光レンズ、4は赤外
線検出器で、これらの照射系及び受光系が支持ヘッド5
に設けられ、ヘッド5の先端に距離計測用の接触針6を
隔てて被測定物7に対向させる。8はレーザー発振器1
のパルスパワー電源、9は検出器4の信号を判別する判
別器、10は電源8の信号と検出器4の信号との間の時
間信号を得るタイマ回路、11はインターフェースで、
これを通して演算処理装置CPU12に時間信号を入力
し、CPU12はこの信号により演算処理し、既知デー
タをROM,RAMメモリ13から読み出し演算データ
と比較演算処理を行なって表示器14に表示する。15
はCPU12のプリセット装置である。
る。図1において1はレーザー発振器、2はレーザービ
ームの集束レンズ、3は反射光の受光レンズ、4は赤外
線検出器で、これらの照射系及び受光系が支持ヘッド5
に設けられ、ヘッド5の先端に距離計測用の接触針6を
隔てて被測定物7に対向させる。8はレーザー発振器1
のパルスパワー電源、9は検出器4の信号を判別する判
別器、10は電源8の信号と検出器4の信号との間の時
間信号を得るタイマ回路、11はインターフェースで、
これを通して演算処理装置CPU12に時間信号を入力
し、CPU12はこの信号により演算処理し、既知デー
タをROM,RAMメモリ13から読み出し演算データ
と比較演算処理を行なって表示器14に表示する。15
はCPU12のプリセット装置である。
【0007】レーザー発信器1には半導体のHe−Ne
レーザー等が利用され、又、赤外線検出器4には赤外線
の選択検出が出来るセンサを用いる。センサの検出波長
域はPbTiO3で1〜15μm,PbSで0.8〜3
μm,LiTiO3で1〜15μmである。勿論、赤外
線フィルタを設けることができ、Siで0.6〜1.2
μm,Geで0.6〜1.5μm,InAsで0.8〜
3.6μm,InSnTeで1〜5μm等が利用され
る。
レーザー等が利用され、又、赤外線検出器4には赤外線
の選択検出が出来るセンサを用いる。センサの検出波長
域はPbTiO3で1〜15μm,PbSで0.8〜3
μm,LiTiO3で1〜15μmである。勿論、赤外
線フィルタを設けることができ、Siで0.6〜1.2
μm,Geで0.6〜1.5μm,InAsで0.8〜
3.6μm,InSnTeで1〜5μm等が利用され
る。
【0008】以上において、発振器1をパルス電源8で
駆動し、発振するパルスレーザーをレンズ2で集束して
被測定物7の1点測定点に照射する。照射点はレーザー
照射によって急激に温度上昇して赤外線を発生する。照
射点の温度上昇∂T/∂tと温度傾斜変化率との関係は
次式で表される。
駆動し、発振するパルスレーザーをレンズ2で集束して
被測定物7の1点測定点に照射する。照射点はレーザー
照射によって急激に温度上昇して赤外線を発生する。照
射点の温度上昇∂T/∂tと温度傾斜変化率との関係は
次式で表される。
【0009】
【数1】
【0010】比熱Cは次式で表される。
【0011】
【数2】
【0012】今レーザー照射してt秒後の上昇温度ΔT
は次式で表される。
は次式で表される。
【0013】
【数3】
【0014】ここで、tc=l2/π2t1/2でlは
厚さを示し、t1/2はTmaxになる時間の1/2の
時間を示す。上式をラプラス変換してl/tにln(t
1/4・ΔT)を直線回帰して−l2/4αよりαを求
めると、対数法で次式で表される。
厚さを示し、t1/2はTmaxになる時間の1/2の
時間を示す。上式をラプラス変換してl/tにln(t
1/4・ΔT)を直線回帰して−l2/4αよりαを求
めると、対数法で次式で表される。
【0015】
【数4】
【0016】1/2時間のときのΔTは次式で表され
る。
る。
【0017】
【数5】
【0018】各種材質におけるαの変化よりその材質を
判定することができ、又、膜厚lの判定検出ができる。
パルス電源8により半導体レーザー1を発振し厚さlの
被測定物7にレーザー照射したとき、パルス電源8から
の信号によりタイマ回路10をリセットし、被測定物7
のレーザー照射点が温度上昇によって所定の時間経過t
1/2後に所要の赤外線を反射するようになるから、こ
れを赤外線センサ4で検出する。検出信号を判別器9で
判別し所定の信号出力が得られたときタイマ回路10に
信号を加えてセットする。このタイマ回路10の時間信
号t1/2をCPU12に入力して熱拡散率αを演算
し、これをメモリ13内の既知データと比較することに
より被測定物14の材質判定をすることができる。又、
被測定物7の材質が明らか(αが定まる)なものの厚さ
lを時間t1/2の検出により測定することができる。
判定することができ、又、膜厚lの判定検出ができる。
パルス電源8により半導体レーザー1を発振し厚さlの
被測定物7にレーザー照射したとき、パルス電源8から
の信号によりタイマ回路10をリセットし、被測定物7
のレーザー照射点が温度上昇によって所定の時間経過t
1/2後に所要の赤外線を反射するようになるから、こ
れを赤外線センサ4で検出する。検出信号を判別器9で
判別し所定の信号出力が得られたときタイマ回路10に
信号を加えてセットする。このタイマ回路10の時間信
号t1/2をCPU12に入力して熱拡散率αを演算
し、これをメモリ13内の既知データと比較することに
より被測定物14の材質判定をすることができる。又、
被測定物7の材質が明らか(αが定まる)なものの厚さ
lを時間t1/2の検出により測定することができる。
【0019】例えば被測定物が金白金合金の場合は、レ
ーザービームにパルス幅10〜100μS程度でパワー
0.1W〜50mw程度のパルスを15μφのビーム径
に絞り、電力密度103〜104W/cm2のビーム照
射をし、照射点の加熱温度Tmaxを200〜500℃
程度で測定する。検出センサにInSbを用いれば、こ
れは波長5μm付近に感度のピークがあり3〜5μm域
の赤外線検出をし、前記200〜500℃に対応する赤
外線強度を基準にして判別信号を出力する。即ち、パル
スビームを照射してから検出センサが所定値の赤外線を
検出するまでの遅れ時間を測定して判定信号とする。
尚、めっき等の場合は照射レーザーのパルス幅は1〜1
0ms程度のパルスを利用するので、前記パルスの複数
パルスを照射する。又被測定物には金属、合金以外に有
機物判定もすることができ、この照射ビームのパワー密
度も103〜104W/cm2程度、又セラミックスの
場合は105〜108W/cm2程度のエネルギーを利
用する。その他複合材料とか傾斜材料の判定等が同様に
して出来る。
ーザービームにパルス幅10〜100μS程度でパワー
0.1W〜50mw程度のパルスを15μφのビーム径
に絞り、電力密度103〜104W/cm2のビーム照
射をし、照射点の加熱温度Tmaxを200〜500℃
程度で測定する。検出センサにInSbを用いれば、こ
れは波長5μm付近に感度のピークがあり3〜5μm域
の赤外線検出をし、前記200〜500℃に対応する赤
外線強度を基準にして判別信号を出力する。即ち、パル
スビームを照射してから検出センサが所定値の赤外線を
検出するまでの遅れ時間を測定して判定信号とする。
尚、めっき等の場合は照射レーザーのパルス幅は1〜1
0ms程度のパルスを利用するので、前記パルスの複数
パルスを照射する。又被測定物には金属、合金以外に有
機物判定もすることができ、この照射ビームのパワー密
度も103〜104W/cm2程度、又セラミックスの
場合は105〜108W/cm2程度のエネルギーを利
用する。その他複合材料とか傾斜材料の判定等が同様に
して出来る。
【0020】
【発明の効果】以上のように本発明は、レーザー照射装
置によって被測定物に微小スポットで照射し、その照射
点から反射する赤外線を赤外線検出器で検出して材料判
定を行なうようにしたものであり、即ち、材料特有の熱
拡散率がレーザー照射してから照射点の加熱により赤外
線が発生するまでの時間に反比例しているから、この遅
れ時間を測定することによって熱拡散率を求めることが
でき、これを既知データと比較することによって容易に
材料判定をすることができる。又、材料は材質判定だけ
でなく内部状態、膜層状態、膜厚の検出測定もでき、材
料内から発生する赤外線の検出であるから、被測定物の
表面状態による乱反射にあまり影響されずに正確に測定
することができる。
置によって被測定物に微小スポットで照射し、その照射
点から反射する赤外線を赤外線検出器で検出して材料判
定を行なうようにしたものであり、即ち、材料特有の熱
拡散率がレーザー照射してから照射点の加熱により赤外
線が発生するまでの時間に反比例しているから、この遅
れ時間を測定することによって熱拡散率を求めることが
でき、これを既知データと比較することによって容易に
材料判定をすることができる。又、材料は材質判定だけ
でなく内部状態、膜層状態、膜厚の検出測定もでき、材
料内から発生する赤外線の検出であるから、被測定物の
表面状態による乱反射にあまり影響されずに正確に測定
することができる。
【図1】本発明の一実施例構成図。
1 レーザー発振器 2,3 レンズ 4 赤外線検出器 7 被測定物 8 パルス電源 9 判別器 10 タイマ回路 11 I/O 12 CPU 13 メモリ 14 表示器 15 プリセット装置
Claims (2)
- 【請求項1】 被測定物にレーザービームを照射するレ
ーザー照射装置と、前記被測定物から反射する赤外線を
検出する赤外線検出装置とを設け、赤外線検出信号によ
り材料判定するようにしたことを特徴とする材料判定装
置。 - 【請求項2】 被測定物にレーザービームを照射するレ
ーサー照射装置と、前記被測定物から反射する赤外線を
検出する赤外線検出装置と、該検出装置の検出信号を既
知データと比較判定する演算処理装置とを設けて成るこ
とを特徴とする材料判定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15848192A JPH05312742A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 材料判定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15848192A JPH05312742A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 材料判定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05312742A true JPH05312742A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=15672686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15848192A Pending JPH05312742A (ja) | 1992-05-07 | 1992-05-07 | 材料判定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05312742A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6029397A (en) * | 1997-06-06 | 2000-02-29 | Technology Licensing Corp. | Stabilized natural turf for athletic field |
| US6035577A (en) * | 1998-12-03 | 2000-03-14 | Technology Licensing Corp | Temporarily stabilized natural turf |
| US6145248A (en) * | 1992-06-22 | 2000-11-14 | Turf Stabilization Technologies, Inc. | Sports playing surfaces with biodegradable backings |
| WO2004065950A3 (en) * | 2003-01-20 | 2005-06-16 | Rolton Group Ltd | Identification of materials by non desctructive testing |
-
1992
- 1992-05-07 JP JP15848192A patent/JPH05312742A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6145248A (en) * | 1992-06-22 | 2000-11-14 | Turf Stabilization Technologies, Inc. | Sports playing surfaces with biodegradable backings |
| US6029397A (en) * | 1997-06-06 | 2000-02-29 | Technology Licensing Corp. | Stabilized natural turf for athletic field |
| US6094860A (en) * | 1997-06-06 | 2000-08-01 | Technology Licensing Corp. | Stabilized turf for athletic field |
| US6035577A (en) * | 1998-12-03 | 2000-03-14 | Technology Licensing Corp | Temporarily stabilized natural turf |
| WO2004065950A3 (en) * | 2003-01-20 | 2005-06-16 | Rolton Group Ltd | Identification of materials by non desctructive testing |
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