JPH05313150A - 光学用積層シートおよびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 表面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シー
ト、殊に液晶表示パネル製造用の電極基板に適した光学
用積層シートを提供すること、およびそのような光学用
積層シートを工業上有利に製造する方法を提供すること
を目的とする。 【構成】 表面層が耐透気性樹脂層である単層または複
層の光等方性シート(1)と平滑面を有する平滑化鋳型材
(3) との間隙に、エポキシ樹脂またはこれとポリイソシ
アネート化合物とを配合した活性エネルギー線硬化型樹
脂組成物の樹脂液(2a)を供給して該樹脂液(2a)が両者間
に層状に挟持されるようにする。ついで活性エネルギー
線の照射によりその挟持層(2b)を硬化させて活性エネル
ギー線硬化型樹脂硬化層(2) となし、その後に平滑化鋳
型材(3) を剥離除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面平滑性の極めてす
ぐれた光学用積層シート、殊に液晶表示パネル製造用の
電極基板に適した光学用積層シートに関するものであ
る。またそのような光学用積層シートを工業上有利に製
造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示用透明電極の基板としては、従
来はガラスが用いられていたが、薄型にできないこと、
耐衝撃性が劣ること、量産化しにくいことなどの問題点
があるため、最近ではプラスチックス基板を用いること
が多くなっており、本出願人においても以下に述べるよ
うないくつかの出願を行っている。

【０００３】たとえば、特開昭６３−７１８２９号公報
には、ポリカーボネート系樹脂等のシートからなるレタ
ーデーション値３０nm以下の基材層の少なくとも片面に
水性アンカーコート層を設けた後、そのアンカーコート
層の上に耐透気性樹脂または／および架橋性樹脂硬化物
からなる単層または複層の保護層を設けた液晶表示パネ
ル用電極基板が示されている。

【０００４】特開昭６４−５００２１号公報には、耐透
気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層
体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィルム層面が
対向する状態で接着剤層を介して積層一体化された構成
を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。

【０００５】特開昭６４−５００２２号公報には、流延
製膜法により形成された耐透気性合成樹脂フィルム層の
両面に、その耐透気性合成樹脂フィルム層と反応しうる
架橋剤を使用した架橋性樹脂硬化物層を流延法により直
接形成させるようにした液晶表示パネル用電極基板の製
造法が示されている。

【０００６】特開平２−１３７９２２号公報には、耐溶
剤性を有しない樹脂層を有するレターデーション値３０
nm以下の基材シートの樹脂層側に、アルコール可溶性紫
外線硬化型接着剤層または水系熱硬化型接着剤層を積層
し、さらにその接着剤層上に剥離性シートを積層した液
晶表示パネル製造用の貼着型積層シートが示されてお
り、基材シートの例として、ポリカーボネート等の樹脂
シート／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂層
／フェノキシエーテル系架橋重合体層の層構成を有する
シートがあげられている。

【０００７】特開平２−１４９８１９号公報には、ロー
ル状に巻回可能な電極支持フィルムの片面に透明電極を
設けた構成を有する透明電極付き電極支持フィルムの電
極支持フィルム側を、レターデーション値が８０nm以
下、光線透過率が６０％以上の母材に貼着により積層一
体化した透明電極付き液晶セル基板が示されており、電
極支持フィルムの例として、樹脂フィルム層／アンカー
コーティング層／架橋性樹脂硬化物層、樹脂フィルム層
／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂フィルム
層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層／耐透気
性合成樹脂フィルム層／アンカーコーティング層／樹脂
フィルム層／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹
脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物
層／耐透気性合成樹脂フィルム層／接着剤層／耐透気性
合成樹脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層などの層構成
を有するフィルムがあげられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上にあげたシート状基
板を液晶表示パネル製造用の電極基板として用いる場合
は、架橋性樹脂硬化物層上にＩＴＯ等の透明電極を形成
させ、さらにその上に配向膜を設けてから、液晶セルに
組み立てる。この場合、基板間に封じ込める液晶がＴＮ
（ツイステド・ネマチック）液晶である場合には、透明
電極形成側の基板表面の多少の凹凸は製品品質にほとん
ど影響を及ぼさない。というのは、ＴＮ液晶を用いた液
晶セルから組み立てた液晶表示パネルは無彩色であっ
て、濃淡さえはっきりすればパネルとして合格となるか
らである。

【０００９】しかしながら、基板間に封じ込める液晶が
ＳＴＮ（スーパー・ツイステド・ネマチック）液晶であ
る場合には、基板間の間隙が５〜６μm 程度にすぎない
にもかかわらずＳＴＮ液晶によりたとえば２７０゜程度
のツイストがなされるため、透明電極形成側の基板表面
にわずかの凹凸があっても表示に紫、緑などの色がつい
て画面が非常に見にくくなるという事態を生じ、この点
がプラスチックス基板を用いた液晶表示パネルの最大の
弱点となっていた。上に引用した本出願人の出願にかか
る電極基板も、この問題点については充分な解決がなさ
れていなかった。

【００１０】本発明は、このような背景下において、表
面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート、殊に液晶
表示パネル製造用の電極基板に適した光学用積層シート
を提供すること、およびそのような光学用積層シートを
工業上有利に製造する方法を提供することを目的とする
ものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の光学用積層シー
トは、単層または複層の光等方性シート(1) 上に、エポ
キシ樹脂を配合した活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層
(2) を設けた層構成を有し、かつその活性エネルギー線
硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面粗度が 0.5μm 以
下、積層シート全体のレターデーション値が６０nm以
下、可視光線透過率が６０％以上であるものである。

【００１２】また本発明の光学用積層シートの製造法
は、単層または複層の光等方性シート(1) と平滑面を有
する平滑化鋳型材(3) との間隙に、エポキシ樹脂または
これとポリイソシアネート化合物とを配合した活性エネ
ルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を供給して該樹
脂液(2a)が両者間に層状に挟持されるようにし、ついで
活性エネルギー線の照射によりその挟持層(2b)を硬化さ
せて活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となすこと
を特徴とするものである。

【００１３】以下本発明を詳細に説明する。なお「シー
ト」、「フィルム」、「層」とあるのはいずれも薄層物
という意味であり、厚さを限定するものではない。

【００１４】光等方性シート(1) としては、耐透気性樹
脂層、基材層、架橋性樹脂硬化物層、あるいはこれらを
組み合わせた積層物があげられる。積層物である場合の
光等方性シート(1) の層構成の例は、耐透気性樹脂層／
耐透気性樹脂層、耐透気性樹脂層／基材層、耐透気性樹
脂層／基材層／耐透気性樹脂層、耐透気性樹脂層／基材
層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂
硬化物層／耐透気性樹脂層／基材層／耐透気性樹脂層／
架橋性樹脂硬化物層などである。なお積層構成の場合
は、必要に応じ層間にアンカーコーティング層や接着剤
層を設けることができる。これらの中では、その少なく
とも表面層が耐透気性樹脂層である単層または複層の光
等方性シートが特に重要である。

【００１５】耐透気性樹脂層を構成する耐透気性樹脂と
しては、たとえば、アクリロニトリル成分、ビニルアル
コール成分またはハロゲン化ビニリデン成分を５０モル
％以上含有する重合体から形成された層があげられ、特
にポリビニルアルコールまたはその共重合変性物あるい
はグラフト物、エチレン含量が１５〜５０モル％のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する
ポリマーが重要である。

【００１６】耐透気性樹脂層は通常流延法により形成さ
れ、その酸素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）が
３０cc／24hr・m²・atm 以下、殊に２０cc／24hr・m²・
atm以下さらには１０cc／24hr・m²・atm 以下であるこ
とが望ましい。耐透気性樹脂層の厚さは、１〜５０μm
、殊に２〜２０μm の範囲に設定するのが適当であ
る。

【００１７】上記中、基材層としては、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリ
オレフィン、ポリパラバン酸系樹脂、ポリアミドなどが
用いられる。

【００１８】基材層は熱変形温度が８０℃以上であるこ
とが望ましい。基材層は流延法や押出法により得られ、
その厚さは３０μm 〜３mm程度とすることが多い。

【００１９】上記中、架橋性樹脂硬化物層における架橋
性樹脂としては、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂、アクリルエポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂またはウレタン樹脂などが
あげられる。

【００２０】架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、下
記の化１で示されるフェノキシエーテル型重合体であ
る。

【００２１】

【化１】

【００２２】（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、それぞれ水素、炭
素数１〜３の低級アルキル基またはＢr 、Ｒ⁷ は炭素数
２〜４の低級アルキレン基、ｍは０〜３の整数、ｎは２
０〜３００の整数をそれぞれ意味する。）

【００２３】この重合体の水酸基の水素部分に架橋剤で
ある多官能性化合物を架橋反応させると、フェノキシエ
ーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を得るため
に反応させる架橋剤（多官能性化合物）としては、水酸
基との反応活性が高い基、例えば、イソシアネート基、
カルボキシル基、カルボキシル基における反応性誘導基
（たとえばハライド、活性アミド、活性エステル、酸無
水物基等）、メルカプト等を同一または異なって２以上
有する化合物などが用いられ、特にポリイソシアネート
が重要である。

【００２４】上記のうちアクリル樹脂としては、分子中
に少なくとも３個以上のアクリロイルオキシ基または／
およびメタアクリロイルオキシ基を含有する化合物（以
下、多官能（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物と
いう）を主成分とする多官能不飽和単量体または／およ
びその初期ラジカル反応物を主成分とする組成物をあげ
ることができる。特に好ましいのは、分子中に少なくと
も３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する
多官能不飽和単量体を、全不飽和単量体に対して５０重
量％以上、好ましくは７０重量％、特に好ましくは９０
重量％以上含有する不飽和単量体混合物または／および
その初期ラジカル反応物から成る組成物である。

【００２５】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) を
構成する活性エネルギー線硬化型樹脂としては、光重合
性を有するプレポリマーまたは／およびモノマーに、必
要に他の単官能または多官能モノマー、各種ポリマー、
光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物が用いられ
る。

【００２６】ここで光重合性プレポリマーとしては、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、２官能アクリレート、３官能以上のアク
リレートなどが例示される。

【００２７】光重合性を有するプレポリマーまたはモノ
マーとしては、上記のほか、下記の化２で示されるホス
ファゼン系樹脂も好適に用いられる。

【００２８】

【化２】

【００２９】活性エネルギー線硬化型樹脂が紫外線硬化
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。

【００３０】そして本発明においては、上記の活性エネ
ルギー線硬化型樹脂硬化層(2) として、エポキシ樹脂を
配合した活性エネルギー線硬化型樹脂から形成される硬
化層を用いる。

【００３１】ここでエポキシ樹脂としては、可撓性を有
する脂肪族系エポキシ樹脂、たとえば、ウレタン変性エ
ポキシ樹脂、エポキシ樹脂骨格を有する高分子ポリエー
テルポリオール、脂肪族ポリグリシジルエーテルを主成
分とする低粘度エポキシ樹脂、ポリグリコールジグリシ
ジルエーテル、水添ビスフェノールを主体としたエポキ
シ樹脂などが例示される。

【００３２】エポキシ樹脂の配合量は、活性エネルギー
線硬化型樹脂硬化層(2) 全体に対し、２〜５０重量％程
度を占めることが好ましく、その配合量が余りに少ない
ときは脆くてひび割れを生じやすくなり、一方許容範囲
を越えて余りに多いときには平滑性を損なうこととな
る。

【００３３】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
は、特に単層または複層の光等方性シート(1) の少なく
とも表面層が耐透気性樹脂層で構成されているときは、
エポキシ樹脂と共にポリイソシアネート化合物を配合し
た活性エネルギー線硬化型樹脂から形成される硬化層で
あることが好ましい。

【００３４】ここでポリイソシアネート化合物として
は、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート
またはその変性物、イソホロンジイソシアネート、トリ
ジンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジ
イソシアネートをはじめとする各種のポリイソシアネー
トあるいはこれらのポリイソシアネートのアダクトやプ
レポリマーがあげられ、殊に、ヘキサメチレンジイソシ
アネートをはじめとする比較的長鎖の脂肪族ポリイソシ
アネートの誘導体が好ましい。

【００３５】ポリイソシアネート化合物の配合量は、活
性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 全体に対し、２〜
５０重量％程度、殊に３〜３０重量％を占めることが好
ましく、その配合量が余りに少ないときは耐透気性樹脂
層との接着性改善効果が必ずしも充分ではなく、一方許
容範囲を越えて余りに多いときには、活性エネルギー線
硬化型樹脂硬化層(2) の硬度が小さくなり、また耐透気
性樹脂層との接着性がかえって低下して、実用性が損な
われる。

【００３６】樹脂組成物は通常は溶剤を含まないが、も
し必要なら少量の溶剤を併用しても差し支えない。

【００３７】活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の
厚さは適宜に設定できるが、１〜２０μm 、殊に２〜１
０μm とすることが多い。

【００３８】本発明の光学用積層シートは、好適には次
の第１の方法により製造される。すなわち、光等方性シ
ート(1) と平滑フィルムからなる平滑化鋳型材(3) との
間隙にエポキシ樹脂（またはこれとポリイソシアネート
化合物）を配合した活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
の樹脂液(2a)を供給して該樹脂液(2a)が両者間に層状に
挟持されるようにする。光等方性シート(1) は製膜用ロ
ール(4a)に、平滑化鋳型材(3) は製膜用ロール(4b)にそ
れぞれ予め供給しておき、両製膜用ロール(4a), (4b)間
の間隙は所定の値に調整しておく。製膜用ロール(4a),
(4b)は必要に応じ保温可能に構成しておく。

【００３９】ついで、活性エネルギー線の照射により上
記の挟持層(2b)を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹
脂硬化層(2) となす。活性エネルギー線としては、紫外
線、電子線などがあげられる。活性エネルギー線照射時
の積算光量や線量は、活性エネルギー線硬化型樹脂硬化
層(2) の厚さなどを考慮して最適範囲に設定し、平滑化
鋳型材(3) の円滑剥離性や活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の耐溶剤性を確保するようにする。

【００４０】これにより、光等方性シート(1) ／活性エ
ネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) ／平滑化鋳型材(3) よ
りなる積層体が得られるので、爾後の任意の段階でその
積層体から平滑化鋳型材(3) を剥離除去し、光等方性シ
ート(1) ／活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) より
なる積層シートを得る。

【００４１】上記における平滑化鋳型材(3) としては、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。

【００４２】これらの平滑フィルムは、その表面粗度が
0.15μm 以下、好ましくは 0.1μm以下、さらには0.05
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平滑性を有する光学用積層シー
トが得られなくなる。上記の二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムのうち填料を配合しないものは、二
軸延伸により表面平滑性が顕著に向上するので、平滑性
を極限にまで上げることができる。

【００４３】本発明の光学用積層シートを製造する第２
の方法は、光等方性シート(1) または平滑フィルムから
なる平滑化鋳型材(3) の一方にエポキシ樹脂（またはこ
れとポリイソシアネート化合物）を配合した活性エネル
ギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を流延しておき、
該流延層に平滑化鋳型材(3) または光等方性シート(1)
を被覆させながらロールの間隙により挟持層(2b)の厚さ
を制御しつつ、活性エネルギー線の照射により挟持層(2
b)を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
となす方法である。

【００４４】本発明の光学用積層シートを製造する第３
の方法は、光等方性シート(1) 上にエポキシ樹脂（また
はこれとポリイソシアネート化合物）を配合した活性エ
ネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を流延してお
き、該流延層に平滑化鋳型材(3) としての平滑加工した
ガラスを押し当てながら挟持層(2b)の厚さを制御しつ
つ、活性エネルギー線の照射により挟持層(2b)を硬化さ
せて活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) となす方法
である。この方法においては、使用したガラスを反復使
用する。

【００４５】上記の各方法により得られる積層シートの
活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性の程度などなど
に応じ、 0.5μm 以下、好ましくは 0.2μm 以下、さら
に好ましくは 0.1μm 以下となる。一般に、溶融押出フ
ィルムの表面粗度は１００μm 厚のフィルムで２〜３μ
m 、流延製膜フィルムの表面粗度は１００μm 厚のフィ
ルムで 0.5〜１μm であるから、活性エネルギー線硬化
型樹脂硬化層(2) の自由面の表面粗度は常識外とも言え
るほど小さいものである。

【００４６】また、積層シートの活性エネルギー線硬化
型樹脂硬化層(2) の耐熱性、耐溶剤性、透明電極形成性
もすぐれたものとなり、エポキシ樹脂と共にポリイソシ
アネート化合物を配合したときは耐透気性樹脂層（光等
方性シート(1) の表面層）に対する該硬化層(2) の接着
性もすぐれたものとなる。

【００４７】本発明の積層シートは、光学的用途に用い
ることを考慮して、その全体のレターデーション値が６
０nm以下、好ましくは３０nm以下、可視光線透過率が６
０％以上、好ましくは７０％以上であることが望まし
い。

【００４８】上記で得た光等方性シート(1) ／活性エネ
ルギー線硬化型樹脂硬化層 (2)よりなる層構成の積層シ
ートの活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) 上に透明
電極を設け、さらにその上から配向膜を形成すれば、液
晶セル基板が作製できる。

【００４９】透明電極の形成には、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金
属メッキ法、化学蒸着法、スプレー法などが採用され、
特にスパッタリング法が重要である。透明電極の材質と
しては、主としてＳn 、Ｉn、Ｔi 、Ｐb 、Ｔb 等の金
属またはそれらの酸化物が用いられ、透明電極の層厚
は、少なくとも１００オングストローム、さらには２０
０オングストローム以上とするのが通常である。

【００５０】本発明の方法により得られる光学用積層シ
ートは、液晶表示パネル製造用の電極基板として特に重
要であるが、位相差板用部材、偏光板用部材、光ディス
ク、光カードなどの用途にも適用することができる。

【００５１】

【作用】一般の活性エネルギー線硬化型樹脂は、硬すぎ
たり、光等方性シート(1) （殊に耐透気性樹脂層）との
接着性が劣ったりする傾向があるので、その積層に際し
ては光等方性シート(1) （殊に耐透気性樹脂層）上に予
めアンカーコーティングを施さねばならないが、そのよ
うにしても必ずしも接着性が充分でないことが多い上、
使用可能なアンカーコーティング剤が著しく制約される
という不利がある。

【００５２】しかるに、本発明においては活性エネルギ
ー線硬化型樹脂硬化層(2) にエポキシ樹脂またはこれと
ポリイソシアネート化合物とを配合しているので、表面
硬度の調整がなされる上、予めアンカーコーティング層
を形成させておかなくても、光等方性シート(1) （殊に
耐透気性樹脂層）に対する接着性が顕著に向上してい
る。

【００５３】そして本発明の光学用積層シートにあって
は、積層シートの表面に位置する活性エネルギー線硬化
型樹脂硬化層(2) の自由面の表面平滑度が極めて高いの
で、たとえばこれをＳＴＮ液晶を封入する液晶セルの電
極基板として用いた場合であっても、表示に紫、緑など
の色がついて画面が非常に見にくくなるという事態を生
じない。

【００５４】

【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。以下「部」とあるのは重量部である。

【００５５】実施例１ 図１は本発明の光学用積層シートの製造工程の一例を示
した工程図である。図２は実施例１により得られた光学
用積層シートの断面図である。

【００５６】図１中、(5) はタンク、(6) はジャケッ
ト、(7) リップ状の吐出口、(4a), (4b)は１対の製膜用
ロールである。(8) は紫外線照射装置、(9) はニップロ
ール、(10)は平滑化鋳型材(3) を剥離するための剥離用
ロール、(S) は光学用積層シートである。

【００５７】基材層の一例としてポリカーボネートシー
ト（厚さ１１０μm 、レターデーション値１２nm）の片
面に水溶性四級化エステルウレタン系アンカーコーティ
ング剤を塗布、乾燥して厚さ 0.5μm のアンカーコーテ
ィング層を設けた後、そのアンカーコーティング層の上
から、エチレン含量３２モル％のエチレン−ビニルアル
コール共重合体２０部、水４５部、ｎ−プロパノール５
０部、メチロール化メラミン (住友化学工業株式会社製
スミテックＭ−３）４部よりなる組成の樹脂液を流延
し、温度１１０℃の乾燥機中を通過させて乾燥させた。
これにより、厚さ８μm の耐透気性樹脂層が形成され
た。

【００５８】同様にして、基材層であるポリカーボネー
トシートの他面にも厚さ 0.5μm のアンカーコーティン
グ層を設け、さらにそのアンカーコーティング層の上か
ら上記と同じ厚さ８μm の耐透気性樹脂層を設けた。

【００５９】ついで、片側の耐透気性樹脂層の上から、
フェノキシエーテル樹脂（東都化成株式会社製）４０
部、メチルエチルケトン４０部、セロソルブアセテート
２０部、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとのアダクト体の７５％溶液（日本ポリウレタン
株式会社製コロネートＬ）４０部よりなる組成の硬化性
樹脂組成物をアプリケーターを使用して塗布し、８０℃
で４分間乾燥してから、１３０℃で２０分間加熱して、
厚さ１０μm のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂
硬化物層を形成させた。

【００６０】これにより、耐透気性樹脂層／アンカーコ
ーティング層／基材層／アンカーコーティング層／耐透
気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の層構成を有する光等
方性シート(1) が得られた。

【００６１】別途、平滑化鋳型材(3) として、厚さ５０
μm 、表面粗度0.04μm のコロナ放電処理していない二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人株式
会社製Ｏタイプ）を準備した。

【００６２】新日鉄化学株式会社製のエポキシアクリル
樹脂「Ｖ−２５５０Ｐ」１００部に、エポキシ樹脂の一
例であるウレタン変性エポキシ樹脂（東都化成株式会社
製の「ＺＸ０１０１」）１０部と、ポリイソシアネート
化合物の一例である下記の化３で示される日本ポリウレ
タン工業株式会社製の「コロネート２０９４」（粘度10
000 cp/25℃）６部とを加え、さらにベンゾフェノン 0.
1部を加えて混合することにより、活性エネルギー線硬
化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を調製した。

【００６３】

【化３】

【００６４】この樹脂液(2a)をタンク(5) に仕込み、ジ
ャケット(6) に熱媒を送って内容物を約３０℃に保温す
ると共に、脱気を行った。

【００６５】ついでタンク(5) の上部空間に圧を加え、
製膜用ロール(4a), (4b)の間隙に吐出口(7) から樹脂液
(2a)を吐出した。

【００６６】この製膜用ロール(4a), (4b)には、予め上
記の光等方性シート(1) および平滑化鋳型材(3) をそれ
ぞれ供給してあり、吐出口(7) から吐出した樹脂液(2a)
が光等方性シート(1) の耐透気性樹脂層面（架橋性樹脂
硬化物層とは反対側の面）と平滑化鋳型材(3) の平滑面
との間に挟持されて挟持層(2b)となるようにした。

【００６７】製膜用ロール(4a), (4b)通過後の挟持シー
トを紫外線照射装置(8) にて下記の条件で紫外線照射
後、平滑化鋳型材(3) を剥離除去した。紫外線照射によ
り挟持層(2b)は硬化して、活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) となった。これにより、活性エネルギー線硬
化型樹脂硬化層(2) ／光等方性シート(1) の層構成を有
する光学用積層シート(S) が得られた（図２参照）。な
お平滑化鋳型材(3) の剥離除去は、紫外線照射後にすぐ
行わずに、一旦巻取機に巻き取ってから、後日行うよう
にしてもよい。

【００６８】紫外線照射条件 紫外線照射装置 ウシオ電機株式会社製ＵＶＣ−２５３
／１ＭＮＬＣ３−ＡＡ０８ ランプ 高圧水銀ランプ １２０Ｗ／cm 照射距離 ２００mm コンベア速度 ３m/min

【００６９】条件および結果を表１に示す。なお、評価
項目の意味は下記の通りである。 ・厚さ (2) 厚は、形成したエネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
の厚さ。 ・剥離性 平滑化鋳型材(3) としての二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの剥離の円滑さ。（○：良好、×：不
良） ・粗度 活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面
平滑度を、光の干渉を利用した非接触式表面粗さ計によ
り測定。 ・Ｒ値 光学用積層シート(S) 全体のレターデーション値。 ・透過率 光学用積層シート(S) 全体の可視光線透過率。 ・硬度 鉛筆硬度 ・耐溶剤性 光学用積層シート(S) を４４±１℃のジメチルアセトア
ミド中に５分間浸漬して、活性エネルギー線硬化型樹脂
硬化層(2) の溶解の有無を観察した。（○：異常なし、
×：溶解） ・接着性 ＪＩＳ Ｋ５４００碁板目テープ法に基いて測定した。

【００７０】 表１ 積算光量 (2) 厚 剥離性 粗 度 Ｒ値 透過率 硬度 耐溶剤 接着性 No. (mJ/cm²) (μm) (μm) (nm) (%) 性 1 354 3.6 ○ <0.1 16 90 3H ○ 100/100 2 354 4.4 ○ <0.1 16 88 3H ○ 100/100 3 538 7.1 ○ <0.1 17 87 4H ○ 100/100 4 675 7.9 ○ <0.1 17 87 4H ○ 100/100

【００７１】次に、上記で得た No.１〜 No.４の光学用
積層シート(S) の活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層
(2) 面に、スパッタリング法により厚さ５００オングス
トロームのＩＴＯ層からなる透明電極を直接形成させ
た。以下このシートを電極基板として用いて、常法に従
い、配向膜の形成とラビング処理、液晶セルの組み立
て、位相差板および偏光板の積層を行い、液晶表示パネ
ルを作製した。得られた液晶表示パネルは、表示に着色
が見られず、ガラスを基板として用いた液晶表示パネル
と遜色のない性能を有していた。

【００７２】実施例２ エポキシ樹脂およびポリイソシアネート化合物として次
のものを用いたほかは実施例１を繰り返した。条件およ
び結果を次に表２に示す。「ＵＶ」とあるのは新日鉄化
学株式会社製のエポキシアクリル樹脂「Ｖ−２５５０
Ｐ」、「UV/Epo/NCO配合比」は重量比である。

【００７３】エポキシ樹脂 Epo-1 ウレタン変性エポキシ樹脂（東都化成株式会社
製の「ＺＸ０１０１」、粘度3000 cp/50℃、エポキシ当
量1300g/eq） Epo-2 エポキシ樹脂骨格を有する高分子ポリエーテル
ポリオール（東都化成株式会社製の「ＹＵ−１００」、
水酸基価 150〜200 mgKOH/g 、粘度 2000〜6000 cp/25
℃） Epo-3 脂肪族ポリグリシジルエーテルを主成分とした
低粘度エポキシ樹脂（東都化成株式会社製の「ＹＸ−３
０１」、エポキシ当量 135〜150 g/eq） Epo-4 ポリグリコールジグリシジルエーテル（東都化
成株式会社製の「ＰＧ−２０７Ｓ」、エポキシ当量 280
〜300 g/eq、粘度40〜50 cp/25℃） Epo-5 水添ビスフェノールを主体としたエポキシ樹脂
（東都化成株式会社製の「ＳＴ−１０００」、エポキシ
当量 200〜220 g/eq、粘度1000〜2000 cp/25℃）

【００７４】ポリイソシアネート化合物 NCO-1 先に述べた化３で示される日本ポリウレタン工
業株式会社製の「コロネート２０９４」、粘度 10000 c
p/25℃） NCO-2 ヘキサメチレンジイソシアネート系低粘度脂肪
族ポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業株式会社
製の「コロネートＤＣ−２７９７」、粘度100 cp/25
℃） NCO-3 ヘキサメチレンジイソシアネートの重合度１〜
３の混合物（日本ポリウレタン工業株式会社製の「コロ
ネートＨＸ」、粘度1700〜3600 cp/25℃） NCO-4 トリレンジイソシアネートとトリメチロールプ
ロパンとのアダクト体（日本ポリウレタン工業株式会社
製の「コロネートＬ」、固形分75重量％、稀釈剤は酢酸
エチル、粘度1000〜1700 cp/25℃）

【００７５】 表２ Ex. Epo NCO UV/Epo/NCO配合比 可撓性 密着性 耐溶剤性 5 Epo-1 NCO-1 100/10/10 ○ ○ ○ 6 Epo-1 NCO-1 100/10/ 5 ○ ○ ○ 7 Epo-2 NCO-1 100/10/10 ○ ○ ○ 8 Epo-2 NCO-1 100/10/ 5 ○ ○ ○ 9 Epo-3 NCO-1 100/10/10 ○ ○ ○ 10 Epo-3 NCO-1 100/10/ 5 ○ □ ○ 11 Epo-5 NCO-1 100/10/10 ○ ○ ○ 12 Epo-5 NCO-1 100/10/ 5 ○ □ ○ 13 Epo-1 NCO-2 100/10/10 ○ ○ ○ 14 Epo-1 NCO-2 100/10/ 6 ○ ○ ○ 15 Epo-2 NCO-2 100/10/ 6 ○ ○ ○ 16 Epo-3 NCO-2 100/10/10 ○ ○ ○ 17 Epo-3 NCO-2 100/10/ 6 ○ ○ ○ 18 Epo-4 NCO-2 100/10/10 ○ ○ ○ 19 Epo-5 NCO-2 100/10/10 ○ ○ ○ 20 Epo-5 NCO-2 100/10/ 6 ○ ○ ○ 21 Epo-1 NCO-4 100/10/30 ○ ○ ○ 22 Epo-1 NCO-4 100/10/10 ○ ○ ○ 23 Epo-2 NCO-4 100/10/30 ○ ○ ○ 24 Epo-2 NCO-4 100/10/10 ○ ○ ○ 25 Epo-3 NCO-4 100/10/30 ○ ○ ○ 26 Epo-3 NCO-4 100/10/10 ○ ○ ○ 27 Epo-4 NCO-4 100/10/30 ○ ○ ○ 28 Epo-4 NCO-4 100/10/10 ○ ○ ○ 29 Epo-5 NCO-4 100/10/30 ○ ○ ○ 30 Epo-5 NCO-4 100/10/10 ○ ○ ○ 31 Epo-1 NCO-3 100/10/20 ○ ○ ○ 32 Epo-1 NCO-3 100/10/ 3 ○ □ ○ 33 Epo-2 NCO-3 100/10/20 ○ ○ ○ 34 Epo-3 NCO-3 100/10/20 ○ ○ ○ 35 Epo-4 NCO-3 100/10/ 3 ○ ○ ○

【００７６】表２において、可撓性、密着性、耐溶剤性
は、○、□、△、×の４段階で判定した。○と□が合格
である。可撓性の○は、光学用積層シート(S) の両端を
手でつかんで１８０゜曲げたときに異常がないことを意
味する。

【００７７】実施例３ 基材層としてポリカーボネートシートに代えてポリアリ
レートシート（鐘淵化学株式会社製、厚さ１００μm 、
レターデーション値１５nm）を用い、活性エネルギー線
硬化型樹脂として出光石油化学株式会社製のホスファゼ
ン系硬化性樹脂「出光ＰＰＺ」を用い、ポリイソシアネ
ート化合物の配合を省略したほかは、実施例１を繰り返
した。得られた光学用積層シート(S) の活性エネルギー
線硬化型樹脂硬化層(2) 面の表面粗度は 0.1μm 以下で
あった。

【００７８】

【発明の効果】本発明の光学用積層シートにあっては、
活性エネルギー線硬化型樹脂を用いているにもかかわら
ず、エポキシ樹脂（またはこれとポリイソシアネート化
合物）の配合により表面硬度が適度に調整されている
上、耐溶剤性もすぐれている。ポリイソシアネート化合
物を配合したときは、アンカーコーティング層を設けな
くても光等方性シート(1) （殊に耐透気性樹脂層）との
接着性が良好である。

【００７９】加えて本発明の光学用積層シートにあって
は、表面の平滑性が極めてすぐれているので、たとえば
これをＳＴＮ液晶を封入する液晶セルの電極基板として
用いた場合であっても、表示に紫、緑などの色がついて
画面が非常に見にくくなるという事態を生じない。

【００８０】液晶表示パネルは年々大型化すると共に、
ＳＴＮ液晶方式の普及には目を見張るものがあるが、本
発明により、その用途にガラス基板に代えてプラスチッ
クス基板を用いても、表示特性が遜色のないものとなる
のである。

【００８１】そして、このようにすぐれた性能が得られ
るにもかかわらず、その製造工程がシンプルであるとい
う工業上の有利さを有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学用積層シートの製造工程の一例を
示した工程図である。

【図２】実施例１により得られた光学用積層シートの断
面図である。

【符号の説明】

(1) …光等方性シート、 (2) …活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層、 (2a)…樹脂液、(2b)…挟持層、 (3) …平滑化鋳型材、 (4a), (4b)…製膜用ロール、 (5）…タンク、 (6) …ジャケット、 (7) …吐出口、 (8) …紫外線照射装置、 (9) …ニップロール、 (10)…剥離用ロール、 (S) …光学用積層シート

フロントページの続き (72)発明者 小林 徹之介 東京都中央区日本橋馬喰町１丁目４番６号 藤森工業株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】単層または複層の光等方性シート(1) 上
   に、エポキシ樹脂を配合した活性エネルギー線硬化型樹
   脂硬化層(2) を設けた層構成を有し、かつその活性エネ
   ルギー線硬化型樹脂硬化層(2) の自由面の表面粗度が
   0.5μm 以下、積層シート全体のレターデーション値が
   ６０nm以下、可視光線透過率が６０％以上である光学用
   積層シート。
2. 【請求項２】単層または複層の光等方性シート(1) の少
   なくとも表面層が耐透気性樹脂層で構成され、かつ活性
   エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2) にエポキシ樹脂およ
   びポリイソシアネート化合物が配合されている請求項１
   記載の光学用積層シート。
3. 【請求項３】エポキシ樹脂が、可撓性を有する脂肪族系
   エポキシ樹脂である請求項１または２記載の光学用積層
   シート。
4. 【請求項４】単層または複層の光等方性シート(1) と平
   滑面を有する平滑化鋳型材(3) との間隙に、エポキシ樹
   脂またはこれとポリイソシアネート化合物とを配合した
   活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の樹脂液(2a)を供給
   して該樹脂液(2a)が両者間に層状に挟持されるように
   し、ついで活性エネルギー線の照射によりその挟持層(2
   b)を硬化させて活性エネルギー線硬化型樹脂硬化層(2)
   となすことを特徴とする光学用積層シートの製造法。