JPH05314553A - 光磁気記録媒体及びその作製方法 - Google Patents
光磁気記録媒体及びその作製方法Info
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- JPH05314553A JPH05314553A JP4113439A JP11343992A JPH05314553A JP H05314553 A JPH05314553 A JP H05314553A JP 4113439 A JP4113439 A JP 4113439A JP 11343992 A JP11343992 A JP 11343992A JP H05314553 A JPH05314553 A JP H05314553A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は光磁気記録媒体及びその作製方法に
関するものであり、磁気光学効果の大きい結晶質磁性材
料の垂直磁化膜をプラスチック基板に成膜可能とすると
ともに記録消去パワーの変動に対しても記録ドメインの
消去残りによるノイズ発生が少ない光磁気記録媒体及び
その作製方法を提供するものである。 【構成】 本発明の光磁気記録媒体は、基板上に設けた
結晶質磁性膜からなる記録膜の記録トラックとして用い
る部分のみが熱処理されている構成であり、本発明の作
製方法は、結晶質磁性膜からなる記録膜を有する光磁気
記録媒体にレーザ光を照射し、記録膜の記録トラックと
して用いる部分のみを熱処理する構成である。これによ
って、プラスチック基板にも有害な損傷を与えることな
く記録膜の熱処理ができ、記録トラック部分のみに大き
な磁気光学効果と垂直磁気異方性を与えるものである。
関するものであり、磁気光学効果の大きい結晶質磁性材
料の垂直磁化膜をプラスチック基板に成膜可能とすると
ともに記録消去パワーの変動に対しても記録ドメインの
消去残りによるノイズ発生が少ない光磁気記録媒体及び
その作製方法を提供するものである。 【構成】 本発明の光磁気記録媒体は、基板上に設けた
結晶質磁性膜からなる記録膜の記録トラックとして用い
る部分のみが熱処理されている構成であり、本発明の作
製方法は、結晶質磁性膜からなる記録膜を有する光磁気
記録媒体にレーザ光を照射し、記録膜の記録トラックと
して用いる部分のみを熱処理する構成である。これによ
って、プラスチック基板にも有害な損傷を与えることな
く記録膜の熱処理ができ、記録トラック部分のみに大き
な磁気光学効果と垂直磁気異方性を与えるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光による温度上昇
を利用して記録消去を行い、磁気光学効果を利用して再
生を行う光磁気記録媒体及びその作製方法に関するもの
である。
を利用して記録消去を行い、磁気光学効果を利用して再
生を行う光磁気記録媒体及びその作製方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録媒体への記録は、レーザ光照
射により記録膜を局部的に補償温度以上の保磁力の小さ
い温度、もしくはキュリー温度以上に加熱し、照射部の
記録膜を外部磁界の向きに磁化させることによって行う
（熱磁気記録）。また、その記録信号の再生は、記録消
去時のレーザパワーより低いパワーのレーザ光照射によ
り記録膜の記録状態（磁化の向き）に応じて反射光ある
いは透過光の偏光面が回転する（磁気光学効果）状況を
検出することによって行う。また、高密度記録をするた
めに光磁気記録媒体の記録膜には垂直磁気異方性を有す
る磁性材料が用いられる。
射により記録膜を局部的に補償温度以上の保磁力の小さ
い温度、もしくはキュリー温度以上に加熱し、照射部の
記録膜を外部磁界の向きに磁化させることによって行う
（熱磁気記録）。また、その記録信号の再生は、記録消
去時のレーザパワーより低いパワーのレーザ光照射によ
り記録膜の記録状態（磁化の向き）に応じて反射光ある
いは透過光の偏光面が回転する（磁気光学効果）状況を
検出することによって行う。また、高密度記録をするた
めに光磁気記録媒体の記録膜には垂直磁気異方性を有す
る磁性材料が用いられる。
【０００３】従来の光磁気記録媒体の記録膜としては、
（１）ＴｂＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属合金系磁性
膜，（２）ＭｎＢｉ等のＭｎ合金系磁性膜等がある。
（１）ＴｂＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属合金系磁性
膜，（２）ＭｎＢｉ等のＭｎ合金系磁性膜等がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような光磁気記録媒体の記録膜うち（１）は非晶質膜で
あり、垂直磁化膜は比較的容易に得られるが、耐酸化
性，耐腐食性に劣り、磁気光学効果も充分大きいとは言
えないという課題を有していた。一方、（２）は結晶質
膜であり、磁気光学効果が比較的大きいものもあるが、
充分な磁気光学効果や垂直磁化膜を得るために成膜時の
高温での基板加熱あるいは成膜後の熱処理工程が必要で
ありプラスチック基板が使用できないという課題を有し
ていた。
ような光磁気記録媒体の記録膜うち（１）は非晶質膜で
あり、垂直磁化膜は比較的容易に得られるが、耐酸化
性，耐腐食性に劣り、磁気光学効果も充分大きいとは言
えないという課題を有していた。一方、（２）は結晶質
膜であり、磁気光学効果が比較的大きいものもあるが、
充分な磁気光学効果や垂直磁化膜を得るために成膜時の
高温での基板加熱あるいは成膜後の熱処理工程が必要で
ありプラスチック基板が使用できないという課題を有し
ていた。
【０００５】さらに、熱磁気記録する際に記録レーザパ
ワーが高いほど記録ドメインが記録トラックの幅方向に
拡大するため、高いレーザパワーで記録して低いレーザ
パワーで消去した場合には記録トラックの端部分のある
いは記録トラックからはみだした記録ドメインの消去残
りが発生し、ノイズ発生の原因になるという課題を有し
ていた。
ワーが高いほど記録ドメインが記録トラックの幅方向に
拡大するため、高いレーザパワーで記録して低いレーザ
パワーで消去した場合には記録トラックの端部分のある
いは記録トラックからはみだした記録ドメインの消去残
りが発生し、ノイズ発生の原因になるという課題を有し
ていた。
【０００６】本発明は上記課題に鑑み、比較的大きな磁
気光学効果を有する結晶質磁性材料の垂直磁化膜をプラ
スチック基板にも成膜可能とし、かつ記録消去パワーの
変動に対しても記録ドメインの消去残りによるノイズ発
生が少ない高性能の光磁気記録媒体及びその作製方法を
提供するものである。
気光学効果を有する結晶質磁性材料の垂直磁化膜をプラ
スチック基板にも成膜可能とし、かつ記録消去パワーの
変動に対しても記録ドメインの消去残りによるノイズ発
生が少ない高性能の光磁気記録媒体及びその作製方法を
提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光磁気記録媒体は、基板上に記録膜として結
晶質磁性膜を設けた構成であって、前記結晶質磁性膜の
記録トラックとして用いる部分のみが熱処理されている
構成を備えており、本発明の光磁気記録媒体の作製方法
は、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設けた構成の
光磁気記録媒体にレーザ光を照射し、結晶質磁性膜の記
録トラックとして用いる部分のみを熱処理する構成を備
えているものである。
に本発明の光磁気記録媒体は、基板上に記録膜として結
晶質磁性膜を設けた構成であって、前記結晶質磁性膜の
記録トラックとして用いる部分のみが熱処理されている
構成を備えており、本発明の光磁気記録媒体の作製方法
は、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設けた構成の
光磁気記録媒体にレーザ光を照射し、結晶質磁性膜の記
録トラックとして用いる部分のみを熱処理する構成を備
えているものである。
【０００８】
【作用】本発明の光磁気記録媒体は上記構成によって、
以下のように上記課題を解決する。すなわち、基板上に
成膜したままの状態で結晶性が不充分であり、未だ磁気
光学効果が小さな結晶質磁性膜の記録トラックとして用
いる部分のみを熱処理することにより、その部分のみの
結晶性を向上させて結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学
効果を得る一方、隣接する記録トラックを分離する部分
は成膜したままの未だ磁気光学効果が小さな状態に置
く。これによって、記録トラック部分に比較的大きな磁
気光学効果を有する結晶質磁性材料の垂直磁化膜が形成
される。さらに、記録レーザパワーが消去レーザパワー
に対して高い場合に、記録ドメインが記録トラックの幅
方向に拡大しても、前記熱処理によって磁性膜本来の大
きな磁気光学効果が得られるのは一定幅の記録トラック
部分だけなのでその幅からはみ出した記録ドメインの消
去残り部分からの信号は非常に小さく、ノイズ発生の原
因としてほとんど無視できるようになる。
以下のように上記課題を解決する。すなわち、基板上に
成膜したままの状態で結晶性が不充分であり、未だ磁気
光学効果が小さな結晶質磁性膜の記録トラックとして用
いる部分のみを熱処理することにより、その部分のみの
結晶性を向上させて結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学
効果を得る一方、隣接する記録トラックを分離する部分
は成膜したままの未だ磁気光学効果が小さな状態に置
く。これによって、記録トラック部分に比較的大きな磁
気光学効果を有する結晶質磁性材料の垂直磁化膜が形成
される。さらに、記録レーザパワーが消去レーザパワー
に対して高い場合に、記録ドメインが記録トラックの幅
方向に拡大しても、前記熱処理によって磁性膜本来の大
きな磁気光学効果が得られるのは一定幅の記録トラック
部分だけなのでその幅からはみ出した記録ドメインの消
去残り部分からの信号は非常に小さく、ノイズ発生の原
因としてほとんど無視できるようになる。
【０００９】次に、本発明の光磁気記録媒体の作製方法
は上記構成によって、以下のように上記課題を解決す
る。すなわち、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を成
膜するが、このままの状態では結晶性が不充分であり、
未だ磁気光学効果及び垂直磁気異方性が小さい。成膜後
に結晶質磁性膜の記録トラックとして用いる部分のみに
レーザ光を照射して熱処理を行うことにより、その部分
のみの結晶性を向上させて結晶質磁性膜本来の大きな磁
気光学効果と垂直磁気異方性を得る。ここで、レーザ光
照射は記録レーザパワーの数倍の強度で行われるが、基
板と記録膜との間に誘電体保護膜を有する光磁気記録媒
体の微小領域を極短時間で照射する方法であるため、記
録膜の温度が数百度上昇してもプラスチック基板に有害
な損傷を与えることなく記録膜の熱処理ができる。
は上記構成によって、以下のように上記課題を解決す
る。すなわち、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を成
膜するが、このままの状態では結晶性が不充分であり、
未だ磁気光学効果及び垂直磁気異方性が小さい。成膜後
に結晶質磁性膜の記録トラックとして用いる部分のみに
レーザ光を照射して熱処理を行うことにより、その部分
のみの結晶性を向上させて結晶質磁性膜本来の大きな磁
気光学効果と垂直磁気異方性を得る。ここで、レーザ光
照射は記録レーザパワーの数倍の強度で行われるが、基
板と記録膜との間に誘電体保護膜を有する光磁気記録媒
体の微小領域を極短時間で照射する方法であるため、記
録膜の温度が数百度上昇してもプラスチック基板に有害
な損傷を与えることなく記録膜の熱処理ができる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例の光磁気記録媒体及び
その作製方法について、図面を参照しながら説明する。
その作製方法について、図面を参照しながら説明する。
【００１１】図１は本発明の一実施例における光磁気記
録媒体の構成を示すものである。図１において、１１は
ガラス，プラスチック等の基板、１２及び１４はＳｉＯ
Ｎ膜からなる保護膜、１３はＭｎＢｉＡｌ膜からなる記
録膜、１５はエポキシアクリレート系樹脂からなる保護
層、１６は記録膜の記録トラックとして用いられる熱処
理部分、１７は記録膜の記録トラック間を分離する非熱
処理部分である。ここで基板１１上の各膜はスパッタ法
あるいは真空蒸着法により基板温度３０〜１３０℃で形
成し、保護層１５は成膜完了後にスピンコート法により
形成した。各膜厚は保護膜１２を６０〜１２０ｎｍ、記
録膜１３を３０〜１００ｎｍ、保護膜１４を８０〜１０
０ｎｍ、保護層１５は３〜６μｍと設定した。
録媒体の構成を示すものである。図１において、１１は
ガラス，プラスチック等の基板、１２及び１４はＳｉＯ
Ｎ膜からなる保護膜、１３はＭｎＢｉＡｌ膜からなる記
録膜、１５はエポキシアクリレート系樹脂からなる保護
層、１６は記録膜の記録トラックとして用いられる熱処
理部分、１７は記録膜の記録トラック間を分離する非熱
処理部分である。ここで基板１１上の各膜はスパッタ法
あるいは真空蒸着法により基板温度３０〜１３０℃で形
成し、保護層１５は成膜完了後にスピンコート法により
形成した。各膜厚は保護膜１２を６０〜１２０ｎｍ、記
録膜１３を３０〜１００ｎｍ、保護膜１４を８０〜１０
０ｎｍ、保護層１５は３〜６μｍと設定した。
【００１２】図２に上記構成の光磁気記録媒体の作製装
置の概略を示す。２１は基板上に上記の各膜を形成済み
の光磁気記録媒体（便宜上、記録膜以外の各膜の表示は
省略している。）、２２は基板、２３は記録膜の記録ト
ラックとして用いられる部分、２３ａは記録トラックの
熱処理済みの部分、２４は記録膜の記録トラック間を分
離する部分、２５は熱処理用レーザ光、２６は光学ヘッ
ド、２７はスピンドルモータである。
置の概略を示す。２１は基板上に上記の各膜を形成済み
の光磁気記録媒体（便宜上、記録膜以外の各膜の表示は
省略している。）、２２は基板、２３は記録膜の記録ト
ラックとして用いられる部分、２３ａは記録トラックの
熱処理済みの部分、２４は記録膜の記録トラック間を分
離する部分、２５は熱処理用レーザ光、２６は光学ヘッ
ド、２７はスピンドルモータである。
【００１３】光磁気記録媒体２１を２ｍ／ｓｅｃ以上の
速度で定速回転させ、通常の記録レーザパワーの２．５
倍以上の強度の熱処理用レーザ光２５を記録トラック部
２３にのみ照射するように光学ヘッド２６を制御しなが
ら熱処理を行ない、熱処理済み記録トラック部２３ａを
形成する。この時、プラスチック基板を用いても有害な
損傷を与えることなく記録膜の熱処理ができる。
速度で定速回転させ、通常の記録レーザパワーの２．５
倍以上の強度の熱処理用レーザ光２５を記録トラック部
２３にのみ照射するように光学ヘッド２６を制御しなが
ら熱処理を行ない、熱処理済み記録トラック部２３ａを
形成する。この時、プラスチック基板を用いても有害な
損傷を与えることなく記録膜の熱処理ができる。
【００１４】ここで、記録膜の熱処理済みの記録トラッ
ク部２３ａ及び記録トラック間の分離部２４における膜
面垂直方向のカーヒステリシスループを図３に示す。熱
処理されている記録トラック部２３ａではカー回転角が
１.２度前後と非常に大きいのに対して、熱処理されて
いない記録トラック間分離部２４では０.２度以下であ
る。また、カーヒステリシスループの角形比及び保磁力
については、熱処理済み記録トラック部２３ａでは角形
比がほぼ１で保磁力が約１キロエルステッドの良好な垂
直磁気特性が得られているのに対して、熱処理されてい
ない記録トラック間分離部２４では角形比及び保磁力が
小さく、垂直磁気異方性に乏しい。これは基板上に成膜
したままの状態では記録膜である結晶質磁性膜の結晶性
が不充分であるために、未だ磁性膜本来の磁気光学効果
及び垂直磁気異方性が発揮されないが、成膜後に結晶質
磁性膜の記録トラックとして用いる部分のみにレーザ光
を照射して熱処理を行うことにより、その部分のみは結
晶性が向上して結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学効果
と垂直磁気異方性を有するようになるからである。
ク部２３ａ及び記録トラック間の分離部２４における膜
面垂直方向のカーヒステリシスループを図３に示す。熱
処理されている記録トラック部２３ａではカー回転角が
１.２度前後と非常に大きいのに対して、熱処理されて
いない記録トラック間分離部２４では０.２度以下であ
る。また、カーヒステリシスループの角形比及び保磁力
については、熱処理済み記録トラック部２３ａでは角形
比がほぼ１で保磁力が約１キロエルステッドの良好な垂
直磁気特性が得られているのに対して、熱処理されてい
ない記録トラック間分離部２４では角形比及び保磁力が
小さく、垂直磁気異方性に乏しい。これは基板上に成膜
したままの状態では記録膜である結晶質磁性膜の結晶性
が不充分であるために、未だ磁性膜本来の磁気光学効果
及び垂直磁気異方性が発揮されないが、成膜後に結晶質
磁性膜の記録トラックとして用いる部分のみにレーザ光
を照射して熱処理を行うことにより、その部分のみは結
晶性が向上して結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学効果
と垂直磁気異方性を有するようになるからである。
【００１５】図４は、線速度６ｍ／ｓｅｃの条件で通常
の１.３倍の記録レーザパワーで記録した記録ドメイン
を消去した場合の消去率の消去レーザパワー依存性を、
図１の本発明の光磁気記録媒体の場合と従来の光磁気記
録媒体（ガラス基板上に記録膜としてＭｎＢｉＡｌ膜形
成し、熱処理装置内で全体を熱処理して作製したもの）
の場合について比較して示したものである。本発明の光
磁気記録媒体は、従来のものに比較して通常の消去レー
ザパワーにおいて１５ｄＢ以上消去率が向上しているこ
とが分かる。これは本発明の光磁気記録媒体おいては、
記録ドメインが記録トラックの幅方向に拡大しても、前
記熱処理によって結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学効
果が得られるのは一定幅の記録トラック部分だけなので
その幅からはみ出した記録ドメインの消去残り部分から
の信号は非常に小さく、ノイズ発生の原因としてほとん
ど無視できるようになるからである。
の１.３倍の記録レーザパワーで記録した記録ドメイン
を消去した場合の消去率の消去レーザパワー依存性を、
図１の本発明の光磁気記録媒体の場合と従来の光磁気記
録媒体（ガラス基板上に記録膜としてＭｎＢｉＡｌ膜形
成し、熱処理装置内で全体を熱処理して作製したもの）
の場合について比較して示したものである。本発明の光
磁気記録媒体は、従来のものに比較して通常の消去レー
ザパワーにおいて１５ｄＢ以上消去率が向上しているこ
とが分かる。これは本発明の光磁気記録媒体おいては、
記録ドメインが記録トラックの幅方向に拡大しても、前
記熱処理によって結晶質磁性膜本来の大きな磁気光学効
果が得られるのは一定幅の記録トラック部分だけなので
その幅からはみ出した記録ドメインの消去残り部分から
の信号は非常に小さく、ノイズ発生の原因としてほとん
ど無視できるようになるからである。
【００１６】図７に消去率５０ｄＢ以上が得られる熱処
理レーザパワー及び基板損傷が起こる熱処理レーザパワ
ーの媒体線速度依存性を示す。図７より２ｍ／ｓｅｃ以
上の線速度で通常の記録パワーの２．５倍以上のレーザ
パワーで熱処理することが望ましい。
理レーザパワー及び基板損傷が起こる熱処理レーザパワ
ーの媒体線速度依存性を示す。図７より２ｍ／ｓｅｃ以
上の線速度で通常の記録パワーの２．５倍以上のレーザ
パワーで熱処理することが望ましい。
【００１７】なお、本実施例の光磁気記録媒体では保護
膜１２及び１４としてＳｉＯＮ膜を、記録膜１３として
ＭｎＢｉＡｌ膜を、保護層１５としてエポキシアクリレ
ート系樹脂層を用いたが、保護膜１２及び１４としてＳ
ｉＯＮ膜の代わりにＺｎＳ膜等のカルコゲン化物の膜，
ＴａＯ2膜等の酸化物の膜，ＳｉＮ膜等の窒化物の膜あ
るいはそれらの混合物の膜を、記録膜１３としてＭｎＢ
ｉＡｌ膜の代わりにＭｎＢｉ膜，ＭｎＳｂＢｉ膜，Ｍｎ
Ａｌ膜，ＭｎＡｌＧｅ膜，ＭｎＧａＧｅ膜，ＰｔＭｎＳ
ｂ膜あるいはこれらにＡｌ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｐｔ，Ｓｉ，
Ｓｎ，Ｔｉ，希土類金属元素の中から選択して少なくと
も一種類を添加した膜のうちいずれか等の結晶質磁性膜
を用いてもよく、保護層１５としてエポキシアクリレー
ト系樹脂層の代わりにアクリル系等の他の樹脂層を用い
るかあるいは基板上に保護膜１４まで形成したものを張
り合わせた構成とする場合は張り合わせ用接着剤で兼用
してもよい。但し、結晶の対称性が高いＰｔＭｎＳｂ膜
等の立方晶系の結晶質磁性膜を記録膜として用いた場合
は、その成膜時に高いＡｒガス圧力でスパッタするか、
ＡｒガスにＯ2ガスあるいはＮ2ガスを混入してスパッタ
するか、Ｏ2ガスあるいはＮ2ガスを導入しながら真空蒸
着することが垂直磁化膜を得る上で望ましい。
膜１２及び１４としてＳｉＯＮ膜を、記録膜１３として
ＭｎＢｉＡｌ膜を、保護層１５としてエポキシアクリレ
ート系樹脂層を用いたが、保護膜１２及び１４としてＳ
ｉＯＮ膜の代わりにＺｎＳ膜等のカルコゲン化物の膜，
ＴａＯ2膜等の酸化物の膜，ＳｉＮ膜等の窒化物の膜あ
るいはそれらの混合物の膜を、記録膜１３としてＭｎＢ
ｉＡｌ膜の代わりにＭｎＢｉ膜，ＭｎＳｂＢｉ膜，Ｍｎ
Ａｌ膜，ＭｎＡｌＧｅ膜，ＭｎＧａＧｅ膜，ＰｔＭｎＳ
ｂ膜あるいはこれらにＡｌ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｐｔ，Ｓｉ，
Ｓｎ，Ｔｉ，希土類金属元素の中から選択して少なくと
も一種類を添加した膜のうちいずれか等の結晶質磁性膜
を用いてもよく、保護層１５としてエポキシアクリレー
ト系樹脂層の代わりにアクリル系等の他の樹脂層を用い
るかあるいは基板上に保護膜１４まで形成したものを張
り合わせた構成とする場合は張り合わせ用接着剤で兼用
してもよい。但し、結晶の対称性が高いＰｔＭｎＳｂ膜
等の立方晶系の結晶質磁性膜を記録膜として用いた場合
は、その成膜時に高いＡｒガス圧力でスパッタするか、
ＡｒガスにＯ2ガスあるいはＮ2ガスを混入してスパッタ
するか、Ｏ2ガスあるいはＮ2ガスを導入しながら真空蒸
着することが垂直磁化膜を得る上で望ましい。
【００１８】なお、図１の本実施例に用いた基板はトラ
ッキングガイドとして連続溝を設けた構成のものである
が、トラッキングガイドとして離散的なピットを設けた
構成の基板を用いても同様の効果を発揮する。
ッキングガイドとして連続溝を設けた構成のものである
が、トラッキングガイドとして離散的なピットを設けた
構成の基板を用いても同様の効果を発揮する。
【００１９】また、図５、図６に示すように、図１の光
磁気記録媒体に金属反射膜３１を加えた構成の光磁気記
録媒体であってもよい。
磁気記録媒体に金属反射膜３１を加えた構成の光磁気記
録媒体であってもよい。
【００２０】あるいは記録膜が多層からなる構成の光磁
気記録媒体に本発明の構成を適用しても同様の効果が得
られる。
気記録媒体に本発明の構成を適用しても同様の効果が得
られる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明の光磁気記録媒体
は、基板上に記録膜としてその記録トラックとして用い
る部分のみが熱処理されている結晶質磁性膜を設けた構
成を備えることによって、再生ＳＮ比に優れるのみなら
ず記録消去パワーの変動に伴う記録ドメインの消去残り
に起因するノイズ発生が大幅に低減できる。
は、基板上に記録膜としてその記録トラックとして用い
る部分のみが熱処理されている結晶質磁性膜を設けた構
成を備えることによって、再生ＳＮ比に優れるのみなら
ず記録消去パワーの変動に伴う記録ドメインの消去残り
に起因するノイズ発生が大幅に低減できる。
【００２２】また、本発明の光磁気記録媒体の作製方法
は、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設けた構成の
光磁気記録媒体にレーザ光を照射し、結晶質磁性膜の記
録トラックとして用いる部分のみを熱処理する構成を備
えることによって、プラスチック基板にも有害な損傷を
与えることなく記録膜の熱処理を行い、本発明の光磁気
記録媒体の作製を可能とするものである。
は、基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設けた構成の
光磁気記録媒体にレーザ光を照射し、結晶質磁性膜の記
録トラックとして用いる部分のみを熱処理する構成を備
えることによって、プラスチック基板にも有害な損傷を
与えることなく記録膜の熱処理を行い、本発明の光磁気
記録媒体の作製を可能とするものである。
【図１】本発明の一実施例における光磁気記録媒体の構
成図
成図
【図２】同実施例における光磁気記録媒体の作製装置の
概略図
概略図
【図３】同実施例の光磁気記録媒体における記録トラッ
ク部及び記録トラック間の分離部での膜面垂直方向のカ
ーヒステリシスループ
ク部及び記録トラック間の分離部での膜面垂直方向のカ
ーヒステリシスループ
【図４】同実施例の光磁気記録媒体において記録ドメイ
ンを消去した場合の消去率の消去レーザパワー依存性を
示す特性図
ンを消去した場合の消去率の消去レーザパワー依存性を
示す特性図
【図５】本発明の光磁気記録媒体の他の構成例を示す図
【図６】本発明の光磁気記録媒体の他の構成例を示す図
【図７】本発明の光磁気記録媒体において熱処理レーザ
パワーの媒体線速度依存性をしめす特性図
パワーの媒体線速度依存性をしめす特性図
１１ 基板 １２ 保護膜（ＳｉＯＮ膜） １３ 記録膜（ＭｎＢｉＡｌ膜） １４ 保護膜（ＳｉＯＮ膜） １５ 保護層（エポキシアクリレート樹脂層） １６ 記録膜の記録トラックとして用いられる部分 １７ 記録膜の記録トラック間を分離する部分 ２１ 光磁気記録媒体 ２２ 基板 ２３ 記録膜の記録トラックとして用いられる部分 ２３ａ 記録トラックの熱処理済みの部分 ２４ 記録膜の記録トラック間を分離する部分 ２５ 熱処理用レーザ光 ２６ 光学ヘッド ２７ スピンドルモータ ３１ 反射膜
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設
けた構成であって、前記結晶質磁性膜の記録トラックと
して用いる部分のみが熱処理されていることを特徴とす
る光磁気記録媒体。 - 【請求項２】 結晶質磁性膜がＭｎＢｉ膜，ＭｎＳｂＢ
ｉ膜，ＭｎＡｌ膜，ＭｎＡｌＧｅ膜，ＭｎＧａＧｅ膜，
ＰｔＭｎＳｂ膜あるいはこれらにＡｌ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｐ
ｔ，Ｓｉ，Ｓｎ，Ｔｉ，希土類金属元素の中から選択し
て少なくとも一種類を添加した膜のうちいずれかである
ことを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体。 - 【請求項３】 基板上に記録膜として結晶質磁性膜を設
けた構成の光磁気記録媒体にレーザ光を照射し、結晶質
磁性膜の記録トラックとして用いる部分のみを熱処理す
ることを特徴とする光磁気記録媒体の作製方法。 - 【請求項４】 結晶質磁性膜がＭｎＢｉ膜，ＭｎＳｂＢ
ｉ膜，ＭｎＡｌ膜，ＭｎＡｌＧｅ膜，ＭｎＧａＧｅ膜，
ＰｔＭｎＳｂ膜あるいはこれらにＡｌ，Ｃｕ，Ｇｅ，Ｐ
ｔ，Ｓｉ，Ｓｎ，Ｔｉ，希土類金属元素の中から選択し
て少なくとも一種類を添加した膜のうちいずれかである
ことを特徴とする請求項３記載の光磁気記録媒体の作製
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113439A JPH05314553A (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113439A JPH05314553A (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05314553A true JPH05314553A (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=14612258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4113439A Pending JPH05314553A (ja) | 1992-05-06 | 1992-05-06 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05314553A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108400009A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-08-14 | 徐靖才 | 一种晶界扩散制备高矫顽力块状锰铋纳米磁体的方法 |
-
1992
- 1992-05-06 JP JP4113439A patent/JPH05314553A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108400009A (zh) * | 2018-03-02 | 2018-08-14 | 徐靖才 | 一种晶界扩散制备高矫顽力块状锰铋纳米磁体的方法 |
| CN108400009B (zh) * | 2018-03-02 | 2019-09-10 | 中国计量大学 | 一种晶界扩散制备高矫顽力块状锰铋纳米磁体的方法 |
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