JPH05317328A - レーザ治療装置 - Google Patents
レーザ治療装置Info
- Publication number
- JPH05317328A JPH05317328A JP4146763A JP14676392A JPH05317328A JP H05317328 A JPH05317328 A JP H05317328A JP 4146763 A JP4146763 A JP 4146763A JP 14676392 A JP14676392 A JP 14676392A JP H05317328 A JPH05317328 A JP H05317328A
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- Japan
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- irradiation light
- laser
- light
- optical means
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ランダム偏光特性を有する照射光のサンプリ
ングを、特別なコーティングを施すことなしに、簡易か
つ正確に行う。 【構成】 レーザ発振手段からのレーザ照射光に対し所
定角度その第１反射偏光面を傾斜させて配置した第１分
割光学手段と、第１反射偏光面と対向する第２反射偏光
面を有し第１分割光学手段からの反射光に対し所定角度
傾斜させて配置した第２分割光学手段とからなり、レー
ザ照射光の反射効率をその偏向成分に拘らず一定にする
ように構成した光学系を備えたことを特徴とするレーザ
治療装置。
ングを、特別なコーティングを施すことなしに、簡易か
つ正確に行う。 【構成】 レーザ発振手段からのレーザ照射光に対し所
定角度その第１反射偏光面を傾斜させて配置した第１分
割光学手段と、第１反射偏光面と対向する第２反射偏光
面を有し第１分割光学手段からの反射光に対し所定角度
傾斜させて配置した第２分割光学手段とからなり、レー
ザ照射光の反射効率をその偏向成分に拘らず一定にする
ように構成した光学系を備えたことを特徴とするレーザ
治療装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、照射光の強度をモニ
タする機能を備えたレーザ治療装置に関する。
タする機能を備えたレーザ治療装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ治療装置、たとえばＹＡＧレーザ
光凝固手術装置は、１枚のビームスプリッタをレーザ光
の照射光路中に挿入している。この１枚のビームスプリ
ッタで反射もしくは透過したレーザ光（照射光）の一部
の光をサンプリングして照射光の強度をモニタする方法
が一般的である。
光凝固手術装置は、１枚のビームスプリッタをレーザ光
の照射光路中に挿入している。この１枚のビームスプリ
ッタで反射もしくは透過したレーザ光（照射光）の一部
の光をサンプリングして照射光の強度をモニタする方法
が一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の方法
による照射光強度のモニタでは、照射光がランダム偏光
の場合には、偏光方向により反射率および透過率が変化
し、正確に照射光強度をモニタすることが不可能であ
る。特に、無コートのビームスプリッタの場合にはＰ偏
光とＳ偏光の反射率の差が顕著である。ビームスプリッ
タにコーティングを施すことにより、偏光方向による反
射率の差を減少させることが可能であるが、Ｐ偏光とＳ
偏光の比を完全な１：１にすることは不可能であるた
め、変化するランダム偏光の正確なモニタは不可能であ
る。
による照射光強度のモニタでは、照射光がランダム偏光
の場合には、偏光方向により反射率および透過率が変化
し、正確に照射光強度をモニタすることが不可能であ
る。特に、無コートのビームスプリッタの場合にはＰ偏
光とＳ偏光の反射率の差が顕著である。ビームスプリッ
タにコーティングを施すことにより、偏光方向による反
射率の差を減少させることが可能であるが、Ｐ偏光とＳ
偏光の比を完全な１：１にすることは不可能であるた
め、変化するランダム偏光の正確なモニタは不可能であ
る。
【０００４】この発明は、ランダム偏光の照射光のサン
プリングを、特別なコーティングを施すことなしに、簡
易にかつ正確に行なうことができるレーザ治療装置を提
供することを目的とする。
プリングを、特別なコーティングを施すことなしに、簡
易にかつ正確に行なうことができるレーザ治療装置を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明は、レーザ発振
手段からのレーザ照射光に対し所定角度その第１反射偏
光面を傾斜させて配置した第１分割光学手段と、第１反
射偏光面と対向する第２反射偏光面を有し第１分割光学
手段からの反射光に対し所定角度傾斜させて配置した第
２分割光学手段とからなり、レーザ照射光の反射効率を
その偏向成分に拘らず一定にするように構成した光学系
を備えたことを特徴とするレーザ治療装置を要旨として
いる。
手段からのレーザ照射光に対し所定角度その第１反射偏
光面を傾斜させて配置した第１分割光学手段と、第１反
射偏光面と対向する第２反射偏光面を有し第１分割光学
手段からの反射光に対し所定角度傾斜させて配置した第
２分割光学手段とからなり、レーザ照射光の反射効率を
その偏向成分に拘らず一定にするように構成した光学系
を備えたことを特徴とするレーザ治療装置を要旨として
いる。
【０００６】この発明は、レーザ発振手段からのレーザ
照射光に対し所定角度その第１反射偏光面を傾斜させて
配置した第１分割光学手段と、第１反射偏光面と対向す
る第２反射偏光面を有し第１分割光学手段からの第１反
射光に対し所定角度傾斜させ設けられ、レーザ照射光と
一定角度をなす方向に第２反射光を反射させるように配
置した第２分割光学手段とからなり、レーザ照射光の反
射効率をその偏光成分に拘らず一定にするように構成し
た光学系を備えたことを特徴とするレーザ治療装置を要
旨としている。
照射光に対し所定角度その第１反射偏光面を傾斜させて
配置した第１分割光学手段と、第１反射偏光面と対向す
る第２反射偏光面を有し第１分割光学手段からの第１反
射光に対し所定角度傾斜させ設けられ、レーザ照射光と
一定角度をなす方向に第２反射光を反射させるように配
置した第２分割光学手段とからなり、レーザ照射光の反
射効率をその偏光成分に拘らず一定にするように構成し
た光学系を備えたことを特徴とするレーザ治療装置を要
旨としている。
【０００７】また好ましくは第１分割光学手段をレーザ
照射光に対し４５°傾斜させて配置しかつ第２分割光学
手段を第１分割光学手段からの反射光に対し４５°傾斜
させて配置したことを特徴とするレーザ治療装置であ
る。さらに好ましくはレーザ照射光と直角をなす方向に
第２反射光を反射させるように第２分割手段を配置した
ことを特徴とするレーザ治療装置である。
照射光に対し４５°傾斜させて配置しかつ第２分割光学
手段を第１分割光学手段からの反射光に対し４５°傾斜
させて配置したことを特徴とするレーザ治療装置であ
る。さらに好ましくはレーザ照射光と直角をなす方向に
第２反射光を反射させるように第２分割手段を配置した
ことを特徴とするレーザ治療装置である。
【０００８】
【作用】第１分割光学手段と第２分割光学手段により、
レーザ照射光（サンプル光）のＰ偏光とＳ偏光の比を
１：１にする。これにより、レーザ照射光がランダム偏
光であっても偏光方向の変化に関係なくレーザ照射光の
サンプリングを行なう。
レーザ照射光（サンプル光）のＰ偏光とＳ偏光の比を
１：１にする。これにより、レーザ照射光がランダム偏
光であっても偏光方向の変化に関係なくレーザ照射光の
サンプリングを行なう。
【０００９】
【実施例】図１はこの発明のレーザ治療装置の好適な実
施例である眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置を示して
いる。
施例である眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置を示して
いる。
【００１０】ＹＡＧレーザ光凝固手術装置は、本体１０
とプローブ１２を有する。本体１０とプローブ１２は光
ファイバ１６で接続されている。本体１０には、Ｑスイ
ッチパルスＹＡＧレーザ発振装置１４と光学系２０が配
置されている。レーザ発振装置１４から出るレーザ照射
光（以下照射光という）ＬＩは、光学系２０を通りレー
ザ照射光（以下照射光という）ＬＯとして光ファイバ１
６に導光される。照射光ＬＯは光ファイバ１６を通り、
プローブ１２から眼の治療部位に照射される。
とプローブ１２を有する。本体１０とプローブ１２は光
ファイバ１６で接続されている。本体１０には、Ｑスイ
ッチパルスＹＡＧレーザ発振装置１４と光学系２０が配
置されている。レーザ発振装置１４から出るレーザ照射
光（以下照射光という）ＬＩは、光学系２０を通りレー
ザ照射光（以下照射光という）ＬＯとして光ファイバ１
６に導光される。照射光ＬＯは光ファイバ１６を通り、
プローブ１２から眼の治療部位に照射される。
【００１１】一方、照射光ＬＩは光学系２０において強
度測定用のサンプル光ＬＳＯに分離されて強度測定メー
タ２２に入射される。この強度測定メータ２２でサンプ
ル光ＬＳＯの強度が測定される。
度測定用のサンプル光ＬＳＯに分離されて強度測定メー
タ２２に入射される。この強度測定メータ２２でサンプ
ル光ＬＳＯの強度が測定される。
【００１２】光学系２０は図２に示す構成である。光学
系２０は第１ビームスプリッタ１と第２ビームスプリッ
タ２を有する。第１ビームスプリッタ１と第２ビームス
プリッタ２は、同特性を有し、特別なコーティングは必
要としない。第１ビームスプリッタ１は、図２で示すよ
うに照射光路ＯＰもしくは照射光Ｌ１に対して入射角θ
１が４５°で挿入されている。レーザ発振器１４からの
照射光ＬＩは、第１ビームスプリッタ１によりサンプル
光ＬＳと照射光ＬＯに分けられる。つまり、照射光ＬＩ
の一部が第１ビームスプリッタ１の反射偏光面６で９０
°で反射されて反射光としてサンプル光ＬＳとなり、照
射光ＬＩの残りの部分が第１ビームスプリッタ１の反射
偏光面５に透過されて照射光ＬＯとなる。
系２０は第１ビームスプリッタ１と第２ビームスプリッ
タ２を有する。第１ビームスプリッタ１と第２ビームス
プリッタ２は、同特性を有し、特別なコーティングは必
要としない。第１ビームスプリッタ１は、図２で示すよ
うに照射光路ＯＰもしくは照射光Ｌ１に対して入射角θ
１が４５°で挿入されている。レーザ発振器１４からの
照射光ＬＩは、第１ビームスプリッタ１によりサンプル
光ＬＳと照射光ＬＯに分けられる。つまり、照射光ＬＩ
の一部が第１ビームスプリッタ１の反射偏光面６で９０
°で反射されて反射光としてサンプル光ＬＳとなり、照
射光ＬＩの残りの部分が第１ビームスプリッタ１の反射
偏光面５に透過されて照射光ＬＯとなる。
【００１３】第２ビームスプリッタ２は、サンプル光Ｌ
Ｓを第１ビームスプリッタ１による反射偏光方向に対し
て９０°回転した偏光方向に入射角θ２が４５°となる
ように反射させるようになっている。言換えれば、第１
ビームスプリッタ１の反射偏光面６と第２ビームスプリ
ッタ２の反射偏光面５は９０°回転した位置に配置され
ている。サンプル光ＬＳは反射偏光面５で反射されてサ
ンプル光ＬＳＯとなる。
Ｓを第１ビームスプリッタ１による反射偏光方向に対し
て９０°回転した偏光方向に入射角θ２が４５°となる
ように反射させるようになっている。言換えれば、第１
ビームスプリッタ１の反射偏光面６と第２ビームスプリ
ッタ２の反射偏光面５は９０°回転した位置に配置され
ている。サンプル光ＬＳは反射偏光面５で反射されてサ
ンプル光ＬＳＯとなる。
【００１４】第１ビームスプリッタ１と第２ビームスプ
リッタ２の組合せにより、それぞれ１枚でのＰ偏光とＳ
偏光の反射率差がキャンセルされて、照射光ＬＩがたと
えランダム偏光であっても偏光方向の変化に関係なく正
確なサンプリングとモニタが可能になる。
リッタ２の組合せにより、それぞれ１枚でのＰ偏光とＳ
偏光の反射率差がキャンセルされて、照射光ＬＩがたと
えランダム偏光であっても偏光方向の変化に関係なく正
確なサンプリングとモニタが可能になる。
【００１５】したがって第１ビームスプリッタ１と第２
ビームスプリッタ２は、特にコーティングを施してＰ偏
光とＳ偏光の反射率を均等にする必要がなく、無コーテ
ィングでも使用可能である。しかも同じ特性を有する第
１ビームスプリッタ１と第２ビームスプリッタ２を合計
２枚組合せるだけでよい。
ビームスプリッタ２は、特にコーティングを施してＰ偏
光とＳ偏光の反射率を均等にする必要がなく、無コーテ
ィングでも使用可能である。しかも同じ特性を有する第
１ビームスプリッタ１と第２ビームスプリッタ２を合計
２枚組合せるだけでよい。
【００１６】図２では、照射光ＬＩ、サンプル光ＬＳ、
サンプル光ＬＳＯについてそれぞれ偏光成分について
Ｘ，Ｙ方向の表示が矢印で示してある。照射光ＬＩの
Ｘ、Ｙ方向と、サンプル光ＬＳＯのＸ、Ｙ向を見比べる
と、９０°回っている。サンプル光ＬＳＯは照射光ＬＩ
と直角を成している。
サンプル光ＬＳＯについてそれぞれ偏光成分について
Ｘ，Ｙ方向の表示が矢印で示してある。照射光ＬＩの
Ｘ、Ｙ方向と、サンプル光ＬＳＯのＸ、Ｙ向を見比べる
と、９０°回っている。サンプル光ＬＳＯは照射光ＬＩ
と直角を成している。
【００１７】照射光ＬＩの偏光成分をＸ方向とＹ方向に
分離してみる。第１と第２ビームスプリッタ１，２に無
コーティング板を使用した場合には、偏光方向による反
射率の差は図３に示す特性をもつ。図３は入射角θ１，
θ２と反射率の関係を示している。図３の曲線（ａ）
は、垂直方向の反射率を表している。この反射率はＹ成
分（Ｐ偏光）を示す。図３の曲線（ｂ）は、平行方向の
反射率を表している。この反射率はＸ成分（Ｓ偏光）を
示す。照射光ＬＩを第１ビームスプリッタ１に４５°の
入射角θ１で入射すると、Ｘ成分はＳ偏光でＹ成分はＰ
偏光となり、その反射率は入射角θ１が４５°のときの
図３の曲線（ａ）の値で示すように、Ｓ偏光が９％で、
曲線（ｂ）の値で示すようにＰ偏光が２％である。
分離してみる。第１と第２ビームスプリッタ１，２に無
コーティング板を使用した場合には、偏光方向による反
射率の差は図３に示す特性をもつ。図３は入射角θ１，
θ２と反射率の関係を示している。図３の曲線（ａ）
は、垂直方向の反射率を表している。この反射率はＹ成
分（Ｐ偏光）を示す。図３の曲線（ｂ）は、平行方向の
反射率を表している。この反射率はＸ成分（Ｓ偏光）を
示す。照射光ＬＩを第１ビームスプリッタ１に４５°の
入射角θ１で入射すると、Ｘ成分はＳ偏光でＹ成分はＰ
偏光となり、その反射率は入射角θ１が４５°のときの
図３の曲線（ａ）の値で示すように、Ｓ偏光が９％で、
曲線（ｂ）の値で示すようにＰ偏光が２％である。
【００１８】第２ビームスプリッタ２においては、逆に
Ｘ成分がＰ偏光で、Ｙ成分がＳ偏光となり、反射率は入
射角θ２が４５°のときの図３の曲線（ａ）の値で示す
ように、Ｐ偏光が２％で、曲線（ｂ）で表すようにＳ偏
光が９％である。すなわち、２枚の第１と第２ビームス
プリッタ１，２で反射した後にはＸ成分、Ｙ成分は、と
もに０．１８％と等しくなる。つまりＰ偏光とＳ偏光の
サンプル光量の比を完全な１：１にすることができる。
Ｘ成分がＰ偏光で、Ｙ成分がＳ偏光となり、反射率は入
射角θ２が４５°のときの図３の曲線（ａ）の値で示す
ように、Ｐ偏光が２％で、曲線（ｂ）で表すようにＳ偏
光が９％である。すなわち、２枚の第１と第２ビームス
プリッタ１，２で反射した後にはＸ成分、Ｙ成分は、と
もに０．１８％と等しくなる。つまりＰ偏光とＳ偏光の
サンプル光量の比を完全な１：１にすることができる。
【００１９】今、照射光の偏光成分が極端に変化した場
合を想定する。Ｘ成分１００％、Ｙ成分０％の照射光の
場合と、Ｘ成分０％、Ｙ成分１００％の照射光の場合を
比較する。１枚のビームスプリッタの場合には、サンプ
ル光量がそれぞれ９％と２％となり、入射光量が同じ場
合においてもそれぞれの照射光からのサンプル光量は
４．５倍もの差を生じる。しかし本発明の構成によれ
ば、偏光成分の変化に拘らず、入射光量が同じであれば
図１の強度測定メータ２２には常に０．１８％の一定の
サンプル光量が得られる。
合を想定する。Ｘ成分１００％、Ｙ成分０％の照射光の
場合と、Ｘ成分０％、Ｙ成分１００％の照射光の場合を
比較する。１枚のビームスプリッタの場合には、サンプ
ル光量がそれぞれ９％と２％となり、入射光量が同じ場
合においてもそれぞれの照射光からのサンプル光量は
４．５倍もの差を生じる。しかし本発明の構成によれ
ば、偏光成分の変化に拘らず、入射光量が同じであれば
図１の強度測定メータ２２には常に０．１８％の一定の
サンプル光量が得られる。
【００２０】ところでこの発明は上述した実施例に限定
されず、この発明は眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置
の他のレーザ治療装置やその他レーザ加工装置などに適
用することができる。
されず、この発明は眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置
の他のレーザ治療装置やその他レーザ加工装置などに適
用することができる。
【００２１】
【発明の効果】この発明によれば、ランダム偏光特性を
有するレーザ照射光のサンプリングを、特別なコーティ
ングを施すことなしに、簡易かつ正確に行なうことがで
きる。したがって正確なレーザ照射光の強度でレーザ照
射光を得ることができる。
有するレーザ照射光のサンプリングを、特別なコーティ
ングを施すことなしに、簡易かつ正確に行なうことがで
きる。したがって正確なレーザ照射光の強度でレーザ照
射光を得ることができる。
【図１】この発明のレーザ治療装置の好適な実施例であ
る眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置を示す図。
る眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置を示す図。
【図２】この発明のレーザ治療装置の好適な実施例であ
る眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置のサンプリング用
光学系を示す斜視図。
る眼科用ＹＡＧレーザ光凝固手術装置のサンプリング用
光学系を示す斜視図。
【図３】この発明における入射角と反射率の関係を示す
図。
図。
１ 第１ビームスプリッタ（第１分割光学手段） ２ 第２ビームスプリッタ（第２分割光学手段） ５ 反射偏光面（第２反射偏光面） ６ 反射偏光面（第１反射偏光面） １０ 本体 １４ レーザ発振装置 ２０ 光学系 ２２ 出力測定メータ ＬＩ 照射光（レーザ照射光） ＬＯ 照射光（レーザ照射光） ＬＳ サンプル光 ＬＳＯ サンプル光 ◆
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ発振手段からのレーザ照射光に対
し所定角度その第１反射偏光面を傾斜させて配置した第
１分割光学手段と、 第１反射偏光面と対向する第２反射偏光面を有し第１分
割光学手段からの反射光に対し所定角度傾斜させて配置
した第２分割光学手段とからなり、 レーザ照射光の反射効率をその偏向成分に拘らず一定に
するように構成した光学系を備えたことを特徴とするレ
ーザ治療装置。 - 【請求項２】 レーザ発振手段からのレーザ照射光に対
し所定角度その第１反射偏光面を傾斜させて配置した第
１分割光学手段と、 第１反射偏光面と対向する第２反射偏光面を有し第１分
割光学手段からの第１反射光に対し所定角度傾斜させて
設けられ、レーザ照射光と一定角度をなす方向に第２反
射光を反射させるように配置した第２分割光学手段とか
らなり、 レーザ照射光の反射効率をその偏光成分に拘らず一定に
するように構成した光学系を備えたことを特徴とするレ
ーザ治療装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２のレーザ治療装
置において、第１分割光学手段をレーザ照射光に対し４
５°傾斜させて配置しかつ第２分割光学手段を第１分割
光学手段からの反射光に対し４５°傾斜させて配置した
ことを特徴とするレーザ治療装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれか１項
のレーザ治療装置において、レーザ照射光と直角をなす
方向に第２反射光を反射させるように第２分割光学手段
を配置したことを特徴とするレーザ治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146763A JPH05317328A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | レーザ治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4146763A JPH05317328A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | レーザ治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05317328A true JPH05317328A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=15415016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4146763A Pending JPH05317328A (ja) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | レーザ治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05317328A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011049842A3 (en) * | 2009-10-19 | 2011-07-28 | Ipg Photonics Corporation | Assembly for monitoring power of randomly polarized light |
| DE102004052651B4 (de) * | 2003-10-31 | 2012-10-04 | Nidek Co., Ltd. | Laserbehandlungsgerät |
| CN111366241A (zh) * | 2020-03-31 | 2020-07-03 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 激光器脉冲能量测量装置、系统和方法 |
-
1992
- 1992-05-14 JP JP4146763A patent/JPH05317328A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004052651B4 (de) * | 2003-10-31 | 2012-10-04 | Nidek Co., Ltd. | Laserbehandlungsgerät |
| WO2011049842A3 (en) * | 2009-10-19 | 2011-07-28 | Ipg Photonics Corporation | Assembly for monitoring power of randomly polarized light |
| CN102667426A (zh) * | 2009-10-19 | 2012-09-12 | Ipg光子公司 | 用于监控随机偏振光的功率的组件 |
| JP2013508688A (ja) * | 2009-10-19 | 2013-03-07 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | ランダム偏光の出力監視組立体 |
| EP2491358A4 (en) * | 2009-10-19 | 2015-07-29 | Ipg Photonics Corp | ARRANGEMENT FOR PERFORMANCE MONITORING OF INCIDENTALLY POLARIZED LIGHT |
| CN111366241A (zh) * | 2020-03-31 | 2020-07-03 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 激光器脉冲能量测量装置、系统和方法 |
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