JPH05319932A - 炭化珪素質部材の製造方法 - Google Patents

炭化珪素質部材の製造方法

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JPH05319932A
JPH05319932A JP4155809A JP15580992A JPH05319932A JP H05319932 A JPH05319932 A JP H05319932A JP 4155809 A JP4155809 A JP 4155809A JP 15580992 A JP15580992 A JP 15580992A JP H05319932 A JPH05319932 A JP H05319932A
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JP
Japan
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silicon carbide
powder
weight
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average particle
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JP4155809A
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English (en)
Inventor
Teruhiko Hirasawa
照彦 平沢
Yukio Kobayashi
幸夫 小林
Osamu Kono
修 河野
Shigenobu Tajima
重信 田島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 平均粒径40〜70μmの粗粒炭化珪素粉末
40〜60重量部、平均粒径5〜30μmの微粒炭化珪
素粉末10〜30重量部及び平均粒径1〜5μmの炭素
粉末5〜15重量部に有機結合剤を加えて混合造粒し、
この混合造粒粉を成形し、得られた成形体を非酸化性雰
囲気にて仮焼した後、反応焼結させることを特徴とする
炭化珪素質部材の製造方法を提供する。 【効果】 本発明の炭化珪素質部材の製造方法によれ
ば、粗粒と微粒のSiC粉末を特定割合で併用したもの
を原料粉末として使用したことにより、組織が均一でか
つ高強度並びに耐熱応力性、耐熱衝撃性に優れ、半導体
拡散炉用として好適な炭化珪素質部材を品質的にバラツ
キが少なく安定に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体拡散炉の構成部
材、特にラジアントチューブとして好適に用いられる一
般構造用炭化珪素質部材の製造方法に関し、更に詳述す
ると均一な組織を有し、このために強度が均一でかつ耐
熱衝撃性が向上した炭化珪素質部材を製造する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
反応焼結法による炭化珪素質部材は、平均粒径5〜20
μmの微粒炭化珪素(SiC)粉末と平均粒径1〜5μ
mの炭素(C)粉末にフェノール樹脂等の有機結合剤を
加えて混合造粒し、この混合造粒粉を成形、仮焼した後
に溶融金属珪素(Si)を含浸させたものであった。
【0003】しかしながら、この方法では造粒での混合
が不十分となり、また有機結合剤を多く使用しているた
めに仮焼した際の収縮に伴う変形が大きく、更に仮焼体
中の気孔径が小さく、Si含浸時の反応ムラ等が発生し
易いため、得られた炭化珪素質部材は組織的に不均一で
密度、強度共にバラツキが生じるものである。このた
め、半導体拡散炉等の熱サイクルが負荷される使用条件
においては耐熱応力性、耐熱衝撃性が劣るものであっ
た。
【0004】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、組織的に均一でかつ高強度であり、耐熱衝撃性に優
れた半導体拡散炉用の炭化珪素質部材の反応焼結法によ
る製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、原料とし
て平均粒径40〜70μmの粗粒SiC粉末と平均粒径
5〜30μmの微粒SiC粉末とを併用すること、この
場合粗粒SiC粉末と微粒SiC粉末との配合割合をそ
れぞれ40〜60重量部及び10〜30重量部とし、好
ましくは前者と後者との比率を重量比として1.5〜
2.5:1とすること、更にこのSiC粉末混合物にC
粉末5〜15重量部を加え、有機結合剤を加えて混合造
粒し、この混合造粒粉をラバープレスにてチューブ形状
に成形したところ、得られる成形体が組織的に均一かつ
高密度であることを知見した。
【0006】更に、上記成形体を非酸化性雰囲気にて加
熱して仮焼体を作製した後、反応焼結させ、焼結体とし
たところ、組織的に均一で高強度かつ熱サイクル負荷時
の線膨張変化も均一で耐熱応力性、耐熱衝撃性に優れ、
半導体拡散炉用部材又は一般構造用の炭化珪素質部材、
特にラジアントチューブとして好適に使用することがで
きることを見い出し、本発明をなすに至ったものであ
る。
【0007】以下、本発明を更に詳述すると、本発明の
炭化珪素質部材の製造方法は、平均粒径40〜70μm
の粗粒SiC粉末40〜60重量部と平均粒径5〜30
μmの微粒SiC粉末10〜30重量部及び平均粒径1
〜5μmのC粉末5〜15重量部に有機結合剤を加えて
混合造粒し、この混合造粒粉を成形し、得られた成形体
を非酸化性雰囲気にて仮焼した後、反応焼結させるもの
である。
【0008】ここで、本発明において、SiC粉末の粗
粒と微粒との配合割合は、上記配合組成量の範囲内で粗
粒:微粒=1.5〜2.5:1(重量比)が望ましい。
粗粒の割合が2.5を超えると粗粒及び微粒間の成形体
での結合が不十分となり、そのため組織が不均一となる
場合が生じる。一方、微粒に対して粗粒が1.5より小
さいと、上記と同様に結合が不十分で成形体が組織的に
不均一となり、かつ成形体中の気孔径が小さくなりSi
含浸時のムラ等が発生し易くなる場合が生じる。
【0009】更に、C粉末の配合量は5〜15重量部で
あるが、C粉末が5重量部より少ないと反応焼結による
過程で新たに生成されるSiCと原料SiC粉末との結
合性が悪く、得られる焼結体は組織的に不均一かつ低強
度となる。一方、C粉末が15重量部を超えると成形体
での組織が不均一となり易く、更に反応焼結により生成
されるSiCと原料SiC粉末との結合も不均等となる
ため、得られる焼結体は組織的に不均一で、密度、強度
共にバラツキが大きく、耐熱応力性、耐熱衝撃性におい
て劣るものとなる。
【0010】次に、有機結合剤としては、特に制限され
るものではないが、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、
フラン樹脂等を使用することが好ましい。また、その配
合割合は15〜30重量部とすることが好ましい。有機
結合剤が15重量部より低い場合は、得られる成形体の
密度及び強度が低く、また仮焼体中の気孔量が少なく、
Si含浸時の反応ムラ等が発生し易くなる場合が生じ
る。一方、有機結合剤が30重量部を超えると、仮焼及
び焼結での収縮率が大きく、変形等の問題が生じる場合
がある。
【0011】上記粗粒SiC粉末、微粒SiC粉末、C
粉末、有機結合剤はアセトン等の有機溶剤を用いて湿式
混合することができ、これを造粒乾燥することができる
が、このようにして得られた造粒物は次いで常法により
チューブ状等の所望の形状に成形される。この場合、本
発明によれば、上述したように得られた成形体は、粗粒
と微粒のSiC粉末を上記特定量で併用していることに
より、組織的に均一で高密度である。
【0012】この成形体は、次いで窒素等の非酸化性雰
囲気下に通常500〜1000℃で加熱して仮焼体と
し、更に真空下において1500〜1800℃程度の温
度で溶融金属Siを含浸させることにより反応焼結さ
せ、炭化珪素質部材を得るものである。
【0013】このようにして製造された炭化珪素質部材
は、組織的に均一であり、強度が高く、耐熱衝撃性に優
れているため、半導体拡散炉用部材として有効に用いら
れる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の炭化珪素
質部材の製造方法によれば、粗粒と微粒とのSiC粉末
を特定量で併用したものを原料粉末として使用したこと
により、組織が均一でかつ高強度並びに耐熱応力性、耐
熱衝撃性に優れ、このため半導体拡散炉用として好適な
炭化珪素質部材を品質的にバラツキが少なく安定に製造
することができる。
【0015】
【実施例】以下、実施例と比較例を示して本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるもの
ではない。
【0016】〔実施例1,2、比較例〕平均粒径45μ
mの高純度SiC粉末45重量部、平均粒径5〜30μ
mの高純度SiC粉末30重量部、平均粒径5μmのC
粉末5〜12重量部(実施例1:5重量部、実施例2:
12重量部)に有機結合剤として粉末フェノール樹脂2
0重量部を加え、更にアセトン60重量部を加えて、こ
れらをボールミル中で10時間混合し、得られた混合物
を造粒し、乾燥させた。
【0017】次に、この乾燥造粒粉をラバープレスによ
り圧力を加えて成形し、外径188mm、内径178m
m、長さ2000mmのチューブ状成形体を得た。
【0018】次いで、このチューブ状成形体を窒素ガス
雰囲気下にて600℃に加熱し、フェノール樹脂を硬化
させることで仮焼体を作製し、更にこの仮焼体を150
0℃に加熱して溶融金属Siを含浸させながら反応焼結
させた(実施例1,2)。
【0019】比較のため、平均粒径5〜20μmの高純
度SiC粉末60重量部と平均粒径5μmのC粉末10
重量部に有機結合剤として粉末フェノール樹脂30重量
部を加え、更にアセトン60重量部を加えて、これらを
ボールミル中で10時間混合し、得られた混合物を造粒
し、乾燥させた。以下、実施例と同様にして焼結体を得
た(比較例)。
【0020】このようにして得られたチューブ状成形体
の一部を切断し、光学顕微鏡にて組織観察を行った。
【0021】その結果、比較例の成形体においては、S
iCとSiの分布が不均一であり、部分的に大きなSi
だまりが認められるのに対して、実施例1,2の成形体
においては、SiCとSiが均一に分布しており、しか
も空隙は全く認められなかった。なお、実施例1,2の
顕微鏡写真(倍率100倍)を参考写真1,2として示
す。
【0022】次に、上記実施例1,2及び比較例のチュ
ーブ状焼結体よりテストピース(3×4×40mm)を
作製し、3点曲げにより強度測定並びに焼結体より切り
出した幅50mmのリングによる密度測定を行うと共
に、下記の熱衝撃試験方法にて、リングが破壊する臨界
破損温度差ΔT(℃)を調べた。結果を表1に示す。
【0023】熱衝撃試験方法 図1に示すように、ヒーター1を配設した加熱室2内に
試料リング3を配置し、その片側に断熱材4を配設して
リング3の片側をヒーター1から遮蔽し、リング3のヒ
ーター曝露側3aとヒーター遮蔽側3bの温度をそれぞ
れ熱電対5,6で測定し、その温度をT1℃及T2℃と設
定した後、リング3を容器7内の水8中に浸漬し、リン
グ3の破損状態を調べ、臨界破損温度差ΔTを下記式か
ら求めた。
【0024】
【数1】
【0025】
【表1】
【0026】表1の結果より、比較例の焼結体において
は密度、強度共にバラツキが生じ、耐熱衝撃性に劣るも
のであるのに対して、実施例の焼結体では、密度、強度
共に安定で、かつ耐熱衝撃性に優れるものであることが
確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例と比較例において、臨界破損温
度差を求めるために使用された熱衝撃試験炉の概略図で
ある。
【符号の説明】
1 ヒーター 2 加熱室 3 試料リング 4 断熱材 5 熱電対 6 熱電対 7 容器 8 水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田島 重信 福井県武生市北府2−1−5 信越化学工 業株式会社磁性材料研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均粒径40〜70μmの粗粒炭化珪素
    粉末40〜60重量部、平均粒径5〜30μmの微粒炭
    化珪素粉末10〜30重量部及び平均粒径1〜5μmの
    炭素粉末5〜15重量部に有機結合剤を加えて混合造粒
    し、この混合造粒粉を成形し、得られた成形体を非酸化
    性雰囲気にて仮焼した後、反応焼結させることを特徴と
    する炭化珪素質部材の製造方法。
  2. 【請求項2】 平均粒径40〜70μmの粗粒炭化珪素
    粉末と平均粒径5〜30μmの微粒炭化珪素粉末との配
    合割合が重量比として1.5〜2.5:1である請求項
    1記載の製造方法。
JP4155809A 1992-05-22 1992-05-22 炭化珪素質部材の製造方法 Pending JPH05319932A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001040138A1 (en) * 1999-11-30 2001-06-07 Ibiden Co., Ltd. Porous silicon carbide sintered compact and silicon carbide metal composite suitable for use in table for wafer polishing machine
JP2012144389A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Taiheiyo Cement Corp SiC/Si複合材料
US20240327295A1 (en) * 2023-03-28 2024-10-03 Ngk Insulators, Ltd. Ceramic body and method for producing same

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WO2001040138A1 (en) * 1999-11-30 2001-06-07 Ibiden Co., Ltd. Porous silicon carbide sintered compact and silicon carbide metal composite suitable for use in table for wafer polishing machine
JP2012144389A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Taiheiyo Cement Corp SiC/Si複合材料
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