JPH05322781A - 表面異物検査装置 - Google Patents
表面異物検査装置Info
- Publication number
- JPH05322781A JPH05322781A JP4126136A JP12613692A JPH05322781A JP H05322781 A JPH05322781 A JP H05322781A JP 4126136 A JP4126136 A JP 4126136A JP 12613692 A JP12613692 A JP 12613692A JP H05322781 A JPH05322781 A JP H05322781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- foreign matter
- inspected
- surface foreign
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】マルチチャンバーを用いたプロセスにおいて、
検査のスループットを落とすことなく、高精度な表面異
物検査を行うための、表面異物検査装置におけるバッフ
ァチャンバーおよびロードロックチャンバーを提供す
る。 【構成】異物検査すべき被検査物を収容するための真空
チャンバー1と、上記被検査物上の異物によって乱反射
したレーザ光線を検出するための検出器と、上記被検査
物を処理するための複数のチャンバーを結合するための
搬送用チャンバー20を有する表面異物検査装置であっ
て、上記被検査物を収容するための真空チャンバー1と
上記搬送用チャンバー20との間にバッファチャンバー
2を設け、上記バッファチャンバー2が、第1側壁3c
に設けられた第1開口部3aと、上記被検査物を載置す
るための保持台5と、上記保持台5に載置された被検査
物を上記真空チャンバー1へ搬出するため、第2側壁4
cに設けられた第2開口部4aとを有する。
検査のスループットを落とすことなく、高精度な表面異
物検査を行うための、表面異物検査装置におけるバッフ
ァチャンバーおよびロードロックチャンバーを提供す
る。 【構成】異物検査すべき被検査物を収容するための真空
チャンバー1と、上記被検査物上の異物によって乱反射
したレーザ光線を検出するための検出器と、上記被検査
物を処理するための複数のチャンバーを結合するための
搬送用チャンバー20を有する表面異物検査装置であっ
て、上記被検査物を収容するための真空チャンバー1と
上記搬送用チャンバー20との間にバッファチャンバー
2を設け、上記バッファチャンバー2が、第1側壁3c
に設けられた第1開口部3aと、上記被検査物を載置す
るための保持台5と、上記保持台5に載置された被検査
物を上記真空チャンバー1へ搬出するため、第2側壁4
cに設けられた第2開口部4aとを有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面異物検査装置に係
わり、特に被処理物を処理するための複数のチャンバー
を結合するための搬送用チャンバーと真空チャンバーと
の接続を媒介するバッファチャンバーおよび真空チャン
バーとのみ接続するロードロックチャンバーに関するも
のである。
わり、特に被処理物を処理するための複数のチャンバー
を結合するための搬送用チャンバーと真空チャンバーと
の接続を媒介するバッファチャンバーおよび真空チャン
バーとのみ接続するロードロックチャンバーに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造技術等において、ウェハー
や平面ディスプレイ等の製造工程において、ウェハー等
の基板表面上に付着しているダスト粒子等の異物を観
察、検査することは歩留り向上のために重要である。
や平面ディスプレイ等の製造工程において、ウェハー等
の基板表面上に付着しているダスト粒子等の異物を観
察、検査することは歩留り向上のために重要である。
【0003】配線工程、薄膜形成工程等において、個々
の異なるプロセスを適当に組み合わせ、かつ一貫した雰
囲気で処理することにより、プロセスのトータル機能を
向上させる目的で構成されたマルチチャンバー装置、お
よびこれらのマルチチャンバー装置を結合する搬送用チ
ャンバーが知られている。このような装置を使用した場
合各プロセス直後の表面異物の検査を行い、各プロセス
に使用したガスおよび反応生成物の影響を受けることの
ない精度の高い表面異物検査を可能とする装置の実現が
切望されている。
の異なるプロセスを適当に組み合わせ、かつ一貫した雰
囲気で処理することにより、プロセスのトータル機能を
向上させる目的で構成されたマルチチャンバー装置、お
よびこれらのマルチチャンバー装置を結合する搬送用チ
ャンバーが知られている。このような装置を使用した場
合各プロセス直後の表面異物の検査を行い、各プロセス
に使用したガスおよび反応生成物の影響を受けることの
ない精度の高い表面異物検査を可能とする装置の実現が
切望されている。
【0004】ところで、基板表面上の異物を検査する表
面異物検査装置は、検査室内に余分なガス分子(N2,
O2,等)が存在すると、このガス分子による散乱光が
発生し、偽信号を検知し、異物検査精度が落ち、信頼性
が低下する。
面異物検査装置は、検査室内に余分なガス分子(N2,
O2,等)が存在すると、このガス分子による散乱光が
発生し、偽信号を検知し、異物検査精度が落ち、信頼性
が低下する。
【0005】そこで、この余分なガス分子の影響を避
け、高精度な表面異物検査を実現するために、真空チャ
ンバー内で異物を検査することが提案されている(特開
昭62−12844号公報)。
け、高精度な表面異物検査を実現するために、真空チャ
ンバー内で異物を検査することが提案されている(特開
昭62−12844号公報)。
【0006】図8は、上記公報に記載された表面異物検
査装置である。
査装置である。
【0007】図8に示す表面異物検査装置では、真空チ
ャンバー51の外部に配置されたレーザ光線発生導入装
置17のレーザ光源17aとスキャナ17bとによりレ
ーザ光線を発生させると共にスキャンし、レーザ光線導
入用真空窓15を通って可動テーブル12上に配置され
た被処理としての基板14に異物がなければ、レーザ光
線はその基板14上で鏡面反射してレーザ光線導出用真
空窓16を通って、真空チャンバー51の外へ出て行
く。もし基板14の表面上に異物があればその異物に衝
突したレーザ光線部分は散乱され、この散乱光が検出器
18より検出される。
ャンバー51の外部に配置されたレーザ光線発生導入装
置17のレーザ光源17aとスキャナ17bとによりレ
ーザ光線を発生させると共にスキャンし、レーザ光線導
入用真空窓15を通って可動テーブル12上に配置され
た被処理としての基板14に異物がなければ、レーザ光
線はその基板14上で鏡面反射してレーザ光線導出用真
空窓16を通って、真空チャンバー51の外へ出て行
く。もし基板14の表面上に異物があればその異物に衝
突したレーザ光線部分は散乱され、この散乱光が検出器
18より検出される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記提案のような検査
装置をマルチチャンバー装置に利用する場合、真空チャ
ンバーと例えば搬送用チャンバーの接続が不可欠とな
る。
装置をマルチチャンバー装置に利用する場合、真空チャ
ンバーと例えば搬送用チャンバーの接続が不可欠とな
る。
【0009】しかし、真空チャンバーと搬送用チャンバ
ーを直接接続するには真空チャンバーと搬送用チャンバ
ーの各開口部やゲートバルブ等を配置する位置に制約が
あり、その実現は容易ではない。更に真空チャンバー内
へ各プロセスに使用したガスや反応生成物が侵入し、目
的とする表面異物の検査精度が低下してしまう。
ーを直接接続するには真空チャンバーと搬送用チャンバ
ーの各開口部やゲートバルブ等を配置する位置に制約が
あり、その実現は容易ではない。更に真空チャンバー内
へ各プロセスに使用したガスや反応生成物が侵入し、目
的とする表面異物の検査精度が低下してしまう。
【0010】そこで、本発明はマルチチャンバーを用い
たプロセスにおいて、検査のスループットを落とすこと
なく高精度な表面異物検査を行うための表面異物検査装
置におけるバッファーチャンバーおよびロードロックチ
ャンバーを提供することを目的とする。
たプロセスにおいて、検査のスループットを落とすこと
なく高精度な表面異物検査を行うための表面異物検査装
置におけるバッファーチャンバーおよびロードロックチ
ャンバーを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によれ
ば、異物検査すべき被検査物を収容するための真空チャ
ンバーと、前記被検査物上の異物によって乱反射したレ
ーザ光線を検出するための検出器と、前記被検査物を処
理するための複数のチャンバーを結合するための搬送用
チャンバーを有する表面異物検査装置であって、前記被
検査物を収容するための真空チャンバーと前記搬送用チ
ャンバーとの間にバッファチャンバーを設け、前記バッ
ファチャンバーが、前記搬送用チャンバー内の被検査物
を搬入させるための第1開口部と、前記被検査物を載置
するための保持台と、前記保持台に載置された被検査物
を前記真空チャンバーへ搬出させるための第2開口部と
を有してなることを特徴とする表面異物検査装置によっ
て解決される。
ば、異物検査すべき被検査物を収容するための真空チャ
ンバーと、前記被検査物上の異物によって乱反射したレ
ーザ光線を検出するための検出器と、前記被検査物を処
理するための複数のチャンバーを結合するための搬送用
チャンバーを有する表面異物検査装置であって、前記被
検査物を収容するための真空チャンバーと前記搬送用チ
ャンバーとの間にバッファチャンバーを設け、前記バッ
ファチャンバーが、前記搬送用チャンバー内の被検査物
を搬入させるための第1開口部と、前記被検査物を載置
するための保持台と、前記保持台に載置された被検査物
を前記真空チャンバーへ搬出させるための第2開口部と
を有してなることを特徴とする表面異物検査装置によっ
て解決される。
【0012】また上記課題は、本発明によれば前記保持
台が昇降可能な昇降台に支持されてなることを特徴とす
る表面異物検査装置によって解決される。
台が昇降可能な昇降台に支持されてなることを特徴とす
る表面異物検査装置によって解決される。
【0013】また上記課題は、本発明によれば前記第1
開口部および第2開口部を開閉するために、前記第1側
壁には第1ゲートバルブが配置され、前記第2側壁には
第2ゲートバルブが配置されてなることを特徴とする表
面異物検査装置によって解決される。
開口部および第2開口部を開閉するために、前記第1側
壁には第1ゲートバルブが配置され、前記第2側壁には
第2ゲートバルブが配置されてなることを特徴とする表
面異物検査装置によって解決される。
【0014】また上記課題は、本発明によれば前記第1
側壁および第2側壁が取り外し可能な構造を有してなる
ことを特徴とする表面異物検査装置によって好適に解決
される。
側壁および第2側壁が取り外し可能な構造を有してなる
ことを特徴とする表面異物検査装置によって好適に解決
される。
【0015】上記課題は、本発明によれば異物検査すべ
き被検査物を収容するための真空チャンバーと、前記被
検査物上の異物によって乱反射したレーザ光線を検出す
るための検出器と、前記真空チャンバーに接続されたロ
ードロックチャンバーとを有する表面異物検査装置にお
いて、前記ロードロックチャンバーが複数個の異物検査
すべき被検査物を載置するための保持台と、該被検査物
を所定の高さに移動するため、前記保持台を支持する昇
降台と、真空排気する、その単位時間当たりの排気量を
制御するスローポンプと、ベントする、その単位時間当
たりのガス注入量を制御するスローベントと、前記真空
チャンバーへ、該被検査物を移動するため側壁に開口部
およびゲートバルブとを有してなることを特徴とする表
面異物検査装置によって解決される。
き被検査物を収容するための真空チャンバーと、前記被
検査物上の異物によって乱反射したレーザ光線を検出す
るための検出器と、前記真空チャンバーに接続されたロ
ードロックチャンバーとを有する表面異物検査装置にお
いて、前記ロードロックチャンバーが複数個の異物検査
すべき被検査物を載置するための保持台と、該被検査物
を所定の高さに移動するため、前記保持台を支持する昇
降台と、真空排気する、その単位時間当たりの排気量を
制御するスローポンプと、ベントする、その単位時間当
たりのガス注入量を制御するスローベントと、前記真空
チャンバーへ、該被検査物を移動するため側壁に開口部
およびゲートバルブとを有してなることを特徴とする表
面異物検査装置によって解決される。
【0016】また上記課題は本発明によれば、前記ロー
ドロックチャンバーが取り外し可能になることを特徴と
する表面異物検査装置によって好適に解決される。
ドロックチャンバーが取り外し可能になることを特徴と
する表面異物検査装置によって好適に解決される。
【0017】
【作用】本発明によれば、図1に示す様に被処理物を処
理するための複数チャンバーを結合するための搬送用チ
ャンバー20と、異物検査すべき被検査物を検査する真
空チャンバー1との間にバッファチャンバー2が配置さ
れ、このバッファチャンバー2内に設けられた第1開口
部3aを介して被検査物14をバッファチャンバー内の
保持台5の上に載置することが出来る。この時、真空チ
ャンバー1のバルブは閉じており搬送用チャンバー20
のダスト等が真空チャンバー1へ流入することを防止す
ることが出来る。また、搬送用チャンバー20からバッ
ファチャンバー2への搬送が完了すると、第1開口部3
aを閉じ、第2開口部4aを開き、保持台5に載置され
た被検査物14を真空チャンバー1へ移動することが出
来る。この時、第1開口部3aが閉じられているので搬
送用チャンバー20から真空チャンバー1へダスト等が
流入することを防止することが出来る。
理するための複数チャンバーを結合するための搬送用チ
ャンバー20と、異物検査すべき被検査物を検査する真
空チャンバー1との間にバッファチャンバー2が配置さ
れ、このバッファチャンバー2内に設けられた第1開口
部3aを介して被検査物14をバッファチャンバー内の
保持台5の上に載置することが出来る。この時、真空チ
ャンバー1のバルブは閉じており搬送用チャンバー20
のダスト等が真空チャンバー1へ流入することを防止す
ることが出来る。また、搬送用チャンバー20からバッ
ファチャンバー2への搬送が完了すると、第1開口部3
aを閉じ、第2開口部4aを開き、保持台5に載置され
た被検査物14を真空チャンバー1へ移動することが出
来る。この時、第1開口部3aが閉じられているので搬
送用チャンバー20から真空チャンバー1へダスト等が
流入することを防止することが出来る。
【0018】また本発明によれば、第1側壁3cに配置
された第1ゲートバルブ3bにより第1開口部3aの開
閉を、また第2側壁4cに配置された第2ゲートバルブ
4bにより第2開口部4aの開閉をそれぞれバッファチ
ャンバー独自で制御することが出来る。
された第1ゲートバルブ3bにより第1開口部3aの開
閉を、また第2側壁4cに配置された第2ゲートバルブ
4bにより第2開口部4aの開閉をそれぞれバッファチ
ャンバー独自で制御することが出来る。
【0019】また本発明によれば、上記保持台5を昇降
可能な昇降台6で支持することにより、搬送用チャンバ
ー20の搬送アーム22上に載置された被検査物14
を、第1開口部3aを介して保持台5上の所定の位置に
移動した後に保持台5を上昇させると、該被検査物14
を保持台5上に載置できる。更に、保持台5は任意の高
さに移動可能であるので、任意の高さに設けられた第1
開口部3aおよび第2開口部4aに対して搬送用チャン
バー20から真空チャンバー1へ被検査物14を移動す
ることが出来る。
可能な昇降台6で支持することにより、搬送用チャンバ
ー20の搬送アーム22上に載置された被検査物14
を、第1開口部3aを介して保持台5上の所定の位置に
移動した後に保持台5を上昇させると、該被検査物14
を保持台5上に載置できる。更に、保持台5は任意の高
さに移動可能であるので、任意の高さに設けられた第1
開口部3aおよび第2開口部4aに対して搬送用チャン
バー20から真空チャンバー1へ被検査物14を移動す
ることが出来る。
【0020】また本発明によれば、第1側壁3cおよび
第2側壁4cがバッファチャンバー2内の他の側壁およ
び床と取り外し可能で、更にバッファチャンバー2と搬
送用チャンバー20との接続部42aおよびバッファチ
ャンバー2と真空チャンバー1との接続部42bがそれ
ぞれ取り外し可能な構造とすることにより、第1側壁3
cおよび第2側壁4cをバッファチャンバー2と切り離
すことが出来る。その結果、仕様の異なる様々な搬送用
チャンバー20および真空チャンバー1と、第1側壁3
cおよび第2側壁4cを交換するのみで、接続が可能と
なる。
第2側壁4cがバッファチャンバー2内の他の側壁およ
び床と取り外し可能で、更にバッファチャンバー2と搬
送用チャンバー20との接続部42aおよびバッファチ
ャンバー2と真空チャンバー1との接続部42bがそれ
ぞれ取り外し可能な構造とすることにより、第1側壁3
cおよび第2側壁4cをバッファチャンバー2と切り離
すことが出来る。その結果、仕様の異なる様々な搬送用
チャンバー20および真空チャンバー1と、第1側壁3
cおよび第2側壁4cを交換するのみで、接続が可能と
なる。
【0021】また本発明によれば、図6に示す様にロー
ドロックチャンバー30内の保持台45上に載置した複
数個の被検査物に対して、検査対象の被検査物14を昇
降第33により所定の高さに移動した後、開口部41を
介して該被検査物14を真空チャンバー1内に移動する
ことが出来る。また、真空排気する、その単位時間当た
りの排気量を制御するためのスローポンプ34およびベ
ントするためガス注入する、その単位時間当たりの注入
量を制御するスローベント35により排気およびベント
時の巻き上げダストの付着を防止することが出来る。
ドロックチャンバー30内の保持台45上に載置した複
数個の被検査物に対して、検査対象の被検査物14を昇
降第33により所定の高さに移動した後、開口部41を
介して該被検査物14を真空チャンバー1内に移動する
ことが出来る。また、真空排気する、その単位時間当た
りの排気量を制御するためのスローポンプ34およびベ
ントするためガス注入する、その単位時間当たりの注入
量を制御するスローベント35により排気およびベント
時の巻き上げダストの付着を防止することが出来る。
【0022】更に本発明によれば、図7に示す様に真空
チャンバー1とロードロックチャンバー30との接続部
42cを取り外し可能な構造とすることにより、ロード
ロックチャンバー30と真空チャンバー1とを容易に分
離することが出来る。
チャンバー1とロードロックチャンバー30との接続部
42cを取り外し可能な構造とすることにより、ロード
ロックチャンバー30と真空チャンバー1とを容易に分
離することが出来る。
【0023】
【実施例】以下、本発明による実施例を図面に基づいて
説明する。
説明する。
【0024】図1は本発明のバッファチャンバーの一実
施例を示す斜視図であり、図2はバッファチャンバーを
搬送チャンバーと真空チャンバーとに接続した状態を示
す概略平面図である。
施例を示す斜視図であり、図2はバッファチャンバーを
搬送チャンバーと真空チャンバーとに接続した状態を示
す概略平面図である。
【0025】図1および図2に示す様に、バッファチャ
ンバー2は搬送用チャンバー20と接続部42aを介し
て接続され、また真空チャンバー1とは接続部42bを
介して接続されている。これらの接続部42a,42b
は共に内部が空洞であるフレームのみで構成されてい
る。搬送用チャンバー20には基板14を所定のチャン
バー内に移動するための搬送アーム22が配設されてお
り、この搬送用チャンバー20の周囲には被処理物(基
板)を処理するための複数のプロセスチャンバー21お
よびキャリアロードロック22が配置されている。ま
た、真空チャンバー1内にはバッファチャンバー2内の
基板14を移動し、かつ表面異物検査においては、基板
14をスキャンするための搬送兼走査アーム23が配設
されている。この搬送兼走査アーム23は、先端に真空
チャック(図示せず)が設けられ、この真空チャック部
分には金属汚染を防止するための石英板が貼り付けられ
ている。
ンバー2は搬送用チャンバー20と接続部42aを介し
て接続され、また真空チャンバー1とは接続部42bを
介して接続されている。これらの接続部42a,42b
は共に内部が空洞であるフレームのみで構成されてい
る。搬送用チャンバー20には基板14を所定のチャン
バー内に移動するための搬送アーム22が配設されてお
り、この搬送用チャンバー20の周囲には被処理物(基
板)を処理するための複数のプロセスチャンバー21お
よびキャリアロードロック22が配置されている。ま
た、真空チャンバー1内にはバッファチャンバー2内の
基板14を移動し、かつ表面異物検査においては、基板
14をスキャンするための搬送兼走査アーム23が配設
されている。この搬送兼走査アーム23は、先端に真空
チャック(図示せず)が設けられ、この真空チャック部
分には金属汚染を防止するための石英板が貼り付けられ
ている。
【0026】図3に示す様に真空チャンバー1の外部に
は表面異物を検査するためのレーザ光源17a、スキャ
ナ17b、レーザ光線導入用真空窓15、レーザ光線導
出用真空窓16、検出器18が配置されており、基板1
4の表面異物検査を行う。
は表面異物を検査するためのレーザ光源17a、スキャ
ナ17b、レーザ光線導入用真空窓15、レーザ光線導
出用真空窓16、検出器18が配置されており、基板1
4の表面異物検査を行う。
【0027】以下、バッファチャンバーの動作を詳細に
説明する。
説明する。
【0028】搬送用チャンバー20からバッファチャン
バー2へ被検査物である基板14を移動する際には、ま
ずエアー駆動シャフト47を駆動して、第1側壁3cに
配設された第1ゲートバルブ3bを開放状態に移動し、
第1開口部3aを開ける。次に、基板ホルダ5を昇降可
能な昇降台6により第1開口部3aのほぼ中央部の高さ
に移動した後、搬送アーム22上に載置された基板14
を基板ホルダ5上方に移動し、基板ホルダ5を上昇さ
せ、この基板14を基板ホルダ5上に保持する。このよ
うにして基板14がバッファチャンバー2内へ移動せし
められる。この時、第2ゲートバルブ4bは閉じてお
り、真空チャンバー1がこの基板搬送により汚染するこ
とを防止することが出来る。
バー2へ被検査物である基板14を移動する際には、ま
ずエアー駆動シャフト47を駆動して、第1側壁3cに
配設された第1ゲートバルブ3bを開放状態に移動し、
第1開口部3aを開ける。次に、基板ホルダ5を昇降可
能な昇降台6により第1開口部3aのほぼ中央部の高さ
に移動した後、搬送アーム22上に載置された基板14
を基板ホルダ5上方に移動し、基板ホルダ5を上昇さ
せ、この基板14を基板ホルダ5上に保持する。このよ
うにして基板14がバッファチャンバー2内へ移動せし
められる。この時、第2ゲートバルブ4bは閉じてお
り、真空チャンバー1がこの基板搬送により汚染するこ
とを防止することが出来る。
【0029】次に搬送アーム22を搬送用チャンバー2
0内の所定の位置に戻し、第1ゲートバルブ3bを閉じ
る。
0内の所定の位置に戻し、第1ゲートバルブ3bを閉じ
る。
【0030】また基板14を真空チャンバー1内へ移動
する場合、基板14を第2側壁4cに配置された第2開
口部4aのほぼ中央の高さに移動した後、第1ゲートバ
ルブ3bと同様に、エアー駆動シャフト(図示せず)を
駆動して第2ゲートバルブ4bを開放状態に移動し、第
2開口部4aを開ける。次にその開放した第2開口部4
aを介して図2に示した真空チャンバー1内の搬送兼走
査アーム23を延伸させ、基板14をチャック保持し、
該アーム23を引き戻し、真空チャンバー1内に基板1
4を移動する。このようにして真空チャンバー1内に配
置された基板14上の表面異物検査を行う。この時、第
2ゲートバルブ4bは閉じており、搬送用チャンバー2
0から真空チャンバー1への汚染を防止する。
する場合、基板14を第2側壁4cに配置された第2開
口部4aのほぼ中央の高さに移動した後、第1ゲートバ
ルブ3bと同様に、エアー駆動シャフト(図示せず)を
駆動して第2ゲートバルブ4bを開放状態に移動し、第
2開口部4aを開ける。次にその開放した第2開口部4
aを介して図2に示した真空チャンバー1内の搬送兼走
査アーム23を延伸させ、基板14をチャック保持し、
該アーム23を引き戻し、真空チャンバー1内に基板1
4を移動する。このようにして真空チャンバー1内に配
置された基板14上の表面異物検査を行う。この時、第
2ゲートバルブ4bは閉じており、搬送用チャンバー2
0から真空チャンバー1への汚染を防止する。
【0031】このバッファチャンバー2により真空チャ
ンバー1と搬送用チャンバー20とが容易に接続可能と
なり、しかも複数台のプロセス装置で各プロセスを終了
した直後の被処理物の表面異物検査データの採取を容易
にする。従って例えば、基板のダストQCチェック等に
おいて非常に有効なデータを得る事も可能となる。
ンバー1と搬送用チャンバー20とが容易に接続可能と
なり、しかも複数台のプロセス装置で各プロセスを終了
した直後の被処理物の表面異物検査データの採取を容易
にする。従って例えば、基板のダストQCチェック等に
おいて非常に有効なデータを得る事も可能となる。
【0032】次に図4は、第1側壁が取り外し可能な構
造を有するバッファチャンバーと搬送用チャンバーとを
取り外した状態での斜視図である。
造を有するバッファチャンバーと搬送用チャンバーとを
取り外した状態での斜視図である。
【0033】図4に示す様に、バッファチャンバー2と
搬送用チャンバー20とは接続部42aを介して接続さ
れる。この接続部42aにはバッファチャンバー2と搬
送用チャンバー20とを接続するためのねじ穴48が設
けられている。更に接続部42aには、バンファチャン
バー2および搬送用チャンバー20との接続面におい
て、その周囲にバッファチャンバー2および搬送用チャ
ンバー20を密着接続するためのO−リング溝46が設
けられており、このO−リング溝46に密閉剤が充填さ
れる。
搬送用チャンバー20とは接続部42aを介して接続さ
れる。この接続部42aにはバッファチャンバー2と搬
送用チャンバー20とを接続するためのねじ穴48が設
けられている。更に接続部42aには、バンファチャン
バー2および搬送用チャンバー20との接続面におい
て、その周囲にバッファチャンバー2および搬送用チャ
ンバー20を密着接続するためのO−リング溝46が設
けられており、このO−リング溝46に密閉剤が充填さ
れる。
【0034】図5は図4に示したバッファチャンバー2
と搬送用チャンバー20とを接続した状態での断面図で
ある。
と搬送用チャンバー20とを接続した状態での断面図で
ある。
【0035】図5に示す様に、第1壁3cとバッファチ
ャンバー2内の他の壁および床とは、ねじ40aにより
固定されているので、このねじ40aを取り外すことに
より、第1側壁3cをバッファチャンバー2から取り外
すことが出来る。また、搬送用チャンバー20とバッフ
ァチャンバー2との接続部42aは、図4に示したねじ
穴48を介してねじ40bにより固定されているので、
このねじ40bを取り外すことにより接続部42aを取
り外すことが出来る。
ャンバー2内の他の壁および床とは、ねじ40aにより
固定されているので、このねじ40aを取り外すことに
より、第1側壁3cをバッファチャンバー2から取り外
すことが出来る。また、搬送用チャンバー20とバッフ
ァチャンバー2との接続部42aは、図4に示したねじ
穴48を介してねじ40bにより固定されているので、
このねじ40bを取り外すことにより接続部42aを取
り外すことが出来る。
【0036】また第2側壁4cと真空チャンバー1との
取り外しも、また上記第1側壁3cと同様にねじにより
固定された構造とすることにより可能となる。
取り外しも、また上記第1側壁3cと同様にねじにより
固定された構造とすることにより可能となる。
【0037】従って、様々な仕様の異なる搬送用チャン
バーおよび真空チャンバーに対して、この搬送用チャン
バーおよび真空チャンバーに対応した第1側壁および第
2側壁にとり換えることにより、バッファチャンバーを
介して搬送用チャンバーと真空チャンバーとが接続可能
となる。
バーおよび真空チャンバーに対して、この搬送用チャン
バーおよび真空チャンバーに対応した第1側壁および第
2側壁にとり換えることにより、バッファチャンバーを
介して搬送用チャンバーと真空チャンバーとが接続可能
となる。
【0038】図6は本発明の真空チャンバーを接続した
ロードロックチャンバーの一実施例を示す断面図であ
る。
ロードロックチャンバーの一実施例を示す断面図であ
る。
【0039】図6に示す様に、被検査物である基板14
を複数個収納したカセット32が保持台45上に載置さ
れており、この保持台45は昇降可能な昇降台33に支
持されており、検査対象の基板14を所定の高さに移動
し、この基板14を真空チャンバー1内に配設された搬
送兼基板走査アーム23に装着し、開口部41を介して
真空チャンバー1内に移動する。
を複数個収納したカセット32が保持台45上に載置さ
れており、この保持台45は昇降可能な昇降台33に支
持されており、検査対象の基板14を所定の高さに移動
し、この基板14を真空チャンバー1内に配設された搬
送兼基板走査アーム23に装着し、開口部41を介して
真空チャンバー1内に移動する。
【0040】この真空チャンバー1の外部には既に説明
した様に表面異物を検査するための装置が配置されてお
り、表面異物検査を可能とする。また真空チャンバー1
内は真空排気口43およびエアーオペレーションバルブ
38を介して真空ポンプ36bにより真空排気される。
した様に表面異物を検査するための装置が配置されてお
り、表面異物検査を可能とする。また真空チャンバー1
内は真空排気口43およびエアーオペレーションバルブ
38を介して真空ポンプ36bにより真空排気される。
【0041】また、カセット32の収納および取り出し
は開閉扉31を介して行う。この開閉扉31の開閉を行
うために、ロードロックチャンバー30にガス(N2)
の注入を行う。その注入量はスローベント35により制
御される。次にカセット32を収納した後は、開閉扉3
1を閉め、ロードロックチャンバー30内を真空ポンプ
36aにより真空排気する。この時、スローポンプ34
により真空排気の排気量を制御する。従って、これらス
ローベント35およびスローポンプ34によりガスの注
入量および排気量を制御しているので、巻き上げ時のダ
ストの基板への付着を防止することが出来る。
は開閉扉31を介して行う。この開閉扉31の開閉を行
うために、ロードロックチャンバー30にガス(N2)
の注入を行う。その注入量はスローベント35により制
御される。次にカセット32を収納した後は、開閉扉3
1を閉め、ロードロックチャンバー30内を真空ポンプ
36aにより真空排気する。この時、スローポンプ34
により真空排気の排気量を制御する。従って、これらス
ローベント35およびスローポンプ34によりガスの注
入量および排気量を制御しているので、巻き上げ時のダ
ストの基板への付着を防止することが出来る。
【0042】次にゲートバルブ37を開け、真空チャン
バー1内に配置された搬送兼基板走査アーム23の先端
に基板14を吸着し、開口部41を介して基板14を真
空チャンバー1内に移動し、表面異物検査を行う。検査
完了後は、基板14をカセット32の所定の位置に戻
す。
バー1内に配置された搬送兼基板走査アーム23の先端
に基板14を吸着し、開口部41を介して基板14を真
空チャンバー1内に移動し、表面異物検査を行う。検査
完了後は、基板14をカセット32の所定の位置に戻
す。
【0043】この様に、真空チャンバーは常にクリーン
な状態を維持することが出来、しかも1カセットの検査
に要する真空排気とベントは各1回で済み、スループッ
トを大きく損なう事なく高精度の検査を行うことが出来
る。
な状態を維持することが出来、しかも1カセットの検査
に要する真空排気とベントは各1回で済み、スループッ
トを大きく損なう事なく高精度の検査を行うことが出来
る。
【0044】次に図7は取り外し可能な構造を有するロ
ードロックチャンバーの要部断面図である。
ードロックチャンバーの要部断面図である。
【0045】図7に示す様に、ロードロックチャンバー
30と真空チャンバー1とは接続部42cにより接続さ
れており、この接続部42cはねじ40cにより固定さ
れている。従ってこれらのねじ40cを取り外すことに
よりロードロックチャンバー30は真空チャンバー1と
分離可能となる。
30と真空チャンバー1とは接続部42cにより接続さ
れており、この接続部42cはねじ40cにより固定さ
れている。従ってこれらのねじ40cを取り外すことに
よりロードロックチャンバー30は真空チャンバー1と
分離可能となる。
【0046】この様に、ロードロックチャンバーを取り
外し可能な構造とすることにより、ロードロックチャン
バーの代わりに既に述べたバッファチャンバーを配置す
ることも可能となるので、目的に応じて真空チャンバー
を接続し、表面異物検査が可能となる。
外し可能な構造とすることにより、ロードロックチャン
バーの代わりに既に述べたバッファチャンバーを配置す
ることも可能となるので、目的に応じて真空チャンバー
を接続し、表面異物検査が可能となる。
【0047】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によればバッ
ファチャンバーおよびロードロックチャンバーにより、
真空チャンバーが汚染されることを防止することが出
来、高精度な表面異物検査をスロープットを落とすこと
なく行うことが出来る。
ファチャンバーおよびロードロックチャンバーにより、
真空チャンバーが汚染されることを防止することが出
来、高精度な表面異物検査をスロープットを落とすこと
なく行うことが出来る。
【0048】またバッファチャンバーの側壁を取り外し
可能な構造とすることにより、側壁の交換により様々な
装置の搬送用チャンバーへ接続可能となり、1台の表面
異物検査装置で複数台のプロセス装置からプロセス直後
の表面異物検査データの採取が可能となり、その結果基
板のダスト品質チェックに非常に有効なデータを得るこ
とが可能となる。
可能な構造とすることにより、側壁の交換により様々な
装置の搬送用チャンバーへ接続可能となり、1台の表面
異物検査装置で複数台のプロセス装置からプロセス直後
の表面異物検査データの採取が可能となり、その結果基
板のダスト品質チェックに非常に有効なデータを得るこ
とが可能となる。
【0049】更に、ロードロックチャンバーを取り外し
可能な構造とすることによりロードロックチャンバーの
代わりにバッファチャンバーを接続することが出来る。
可能な構造とすることによりロードロックチャンバーの
代わりにバッファチャンバーを接続することが出来る。
【図1】実施例を説明するためのバッファチャンバーの
斜視図である。
斜視図である。
【図2】バッファチャンバーを搬送用チャンバーと真空
チャンバーとに接続した状態を示す平面図である。
チャンバーとに接続した状態を示す平面図である。
【図3】実施例を説明する表面異物検査装置断面図であ
る。
る。
【図4】取り外し可能な構造を有するバッファチャンバ
ーと搬送用チャンバーとを取り外した状態での斜視図で
ある。
ーと搬送用チャンバーとを取り外した状態での斜視図で
ある。
【図5】図4に示すバッファチャンバーを取り付けた状
態での断面図である。
態での断面図である。
【図6】実施例に示すロードロックチャンバーを真空チ
ャンバーに取り付けた状態を示す断面図である。
ャンバーに取り付けた状態を示す断面図である。
【図7】取り外し可能な構造を有するロードロックチャ
ンバーの要部断面図である。
ンバーの要部断面図である。
【図8】従来例を説明するための表面異物検査装置の正
面図である。
面図である。
1,51 真空チャンバー 2 バッファチャンバー 3a 第1開口部 3b 第1ゲートバルブ 3c 第1側壁 4a 第2開口部 4b 第2ゲートバルブ 4c 第2側壁 5 基板ホルダ(支持台) 6,33 昇降台 12 可動テーブル 14 基板(被検査物) 15 レーザ光線導入用真空窓 17 レーザ光線導出用真空窓 17a レーザ光線 17b スキャナ 18 検出器 20 搬送用チャンバー 21 プロセスチャンバー 22 搬送アーム 23 搬送兼基板走査アーム 24 キャリアロードロック 30 ロードロックチャンバー 31 開閉扉 32 カセット 34 スローポンプ 35 スローベント 36 真空ポンプ 37 ゲートバルブ 38 エアーオペレーションバルブ 40a,40b,40c ねじ 41 開口部 42a,42b,42c 接続部 43 真空排気口 44 側壁 45 保持台 46 O−リング溝 47 エアー駆動シャフト 48 ねじ穴
Claims (6)
- 【請求項1】 異物検査すべき被検査物を収容するため
の真空チャンバーと、前記被検査物上の異物によって乱
反射したレーザ光線を検出するための検出器と、前記被
検査物を処理するための複数のチャンバーを結合するた
めの搬送用チャンバーを有する表面異物検査装置であっ
て、 前記被検査物を収容するための真空チャンバーと前記搬
送用チャンバーとの間にバッファチャンバーを設け、 前記バッファチャンバーが、前記搬送用チャンバー内の
被検査物を搬入させるための第1開口部と、 前記被検査物を載置するための保持台と、 前記保持台に載置された被検査物を前記真空チャンバー
へ搬出させるための第2開口部とを有してなることを特
徴とする表面異物検査装置。 - 【請求項2】 前記保持台が昇降可能な昇降台に支持さ
れてなることを特徴とする請求項1記載の表面異物検査
装置。 - 【請求項3】 前記第1開口部および第2開口部を開閉
するために、前記第1側壁には第1ゲートバルブが配置
され、前記第2側壁には第2ゲートバルブが配置されて
なることを特徴とする請求項1記載の表面異物検査装
置。 - 【請求項4】 前記第1側壁および第2側壁が取り外し
可能な構造を有してなることを特徴とする請求項1記載
の表面異物検査装置。 - 【請求項5】 異物検査すべき被検査物を収容するため
の真空チャンバーと、前記被検査物上の異物によって乱
反射したレーザ光線を検出するための検出器と、前記真
空チャンバーに接続されたロードロックチャンバーとを
有する表面異物検査装置において、 前記ロードロックチャンバーが複数個の異物検査すべき
被検査物を載置するための保持台と、 該被検査物を所定の高さに移動するため、前記保持台を
支持する昇降台と、 真空排気する、その単位時間当たりの排気量を制御する
スローポンプと、 ベントする、その単位時間当たりのガス注入量を制御す
るスローベントと、 前記真空チャンバーへ、該被検査物を移動するため側壁
に開口部およびゲートバルブとを有してなることを特徴
とする表面異物検査装置。 - 【請求項6】 前記ロードロックチャンバーが取り外し
可能になることを特徴とする請求項5記載の表面異物検
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4126136A JPH05322781A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 表面異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4126136A JPH05322781A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 表面異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05322781A true JPH05322781A (ja) | 1993-12-07 |
Family
ID=14927569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4126136A Pending JPH05322781A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 表面異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05322781A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07260698A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Sony Corp | 異物検査装置及び異物検査方法 |
| JP2001144153A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-05-25 | Applied Materials Inc | 基板産出高およびスループットを向上させる粒子検出および組み込み視覚システム |
| JP2001519021A (ja) * | 1997-03-31 | 2001-10-16 | マイクロサーム・エルエルシー | 光学検査モジュール、及び統合プロセス工具内で基板上の粒子及び欠陥を検出するための方法 |
| KR20170069978A (ko) * | 2017-06-12 | 2017-06-21 | (주)자비스 | 다중 연속 엑스레이 검사 방법 및 이를 위한 장치 |
-
1992
- 1992-05-19 JP JP4126136A patent/JPH05322781A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07260698A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Sony Corp | 異物検査装置及び異物検査方法 |
| JP2001519021A (ja) * | 1997-03-31 | 2001-10-16 | マイクロサーム・エルエルシー | 光学検査モジュール、及び統合プロセス工具内で基板上の粒子及び欠陥を検出するための方法 |
| JP2001144153A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-05-25 | Applied Materials Inc | 基板産出高およびスループットを向上させる粒子検出および組み込み視覚システム |
| KR20170069978A (ko) * | 2017-06-12 | 2017-06-21 | (주)자비스 | 다중 연속 엑스레이 검사 방법 및 이를 위한 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103454295B (zh) | 使用扫描电子显微镜的检查系统 | |
| US6231290B1 (en) | Processing method and processing unit for substrate | |
| KR100492158B1 (ko) | 웨이퍼 검사 장치 | |
| JP4542893B2 (ja) | バッファを備えた基板ローディング及びアンローディングステーション | |
| CN111009485B (zh) | 基板仓库、基板处理系统和基板检查方法 | |
| CN111819433B (zh) | 用于对晶圆和光掩模进行组合检查的系统、装置和方法 | |
| TWI288427B (en) | Air-sampling carrier, apparatus and method for analyzing air in a semiconductor process tool | |
| US20070180676A1 (en) | Method of and tool for calibrating transfer apparatus | |
| JPH05322781A (ja) | 表面異物検査装置 | |
| KR19980071865A (ko) | 기판처리장치 및 그 보수방법 | |
| KR20060126857A (ko) | 종형 열처리 장치 및 피처리체 이동 탑재 방법 | |
| KR102720916B1 (ko) | 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법 | |
| JP3730810B2 (ja) | 容器の移動装置および方法 | |
| US7428850B2 (en) | Integrated in situ scanning electronic microscope review station in semiconductor wafers and photomasks optical inspection system | |
| JP2002184839A (ja) | 基板検査装置および基板検査方法ならびに基板検査装置を備えた液処理装置 | |
| KR100920463B1 (ko) | 반도체 제조 설비 | |
| US20060154385A1 (en) | Fabrication pathway integrated metrology device | |
| US7091496B2 (en) | Electron microscopic inspection apparatus | |
| JP3270828B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
| JPH05175147A (ja) | 真空装置 | |
| JPH07201951A (ja) | 処理装置及びその使用方法 | |
| JP4147587B2 (ja) | 基板検査装置 | |
| GB2415291A (en) | Substrate handling device for a charged particle beam system | |
| JP3119098U (ja) | Tftアレイ検査装置 | |
| JP2008130369A (ja) | 真空装置 |