JPH05323108A - 反射鏡 - Google Patents
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- JPH05323108A JPH05323108A JP4132894A JP13289492A JPH05323108A JP H05323108 A JPH05323108 A JP H05323108A JP 4132894 A JP4132894 A JP 4132894A JP 13289492 A JP13289492 A JP 13289492A JP H05323108 A JPH05323108 A JP H05323108A
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護膜の厚み増加を伴わずに耐環境性が向上
した一般照明器具用に使用可能な反射鏡を提供する。 【構成】 反射面となる光輝金属面が保護膜５で覆われ
ている反射鏡１において、前記保護膜が、保護膜材と耐
候性改善材の複合体であることを特徴としている。
した一般照明器具用に使用可能な反射鏡を提供する。 【構成】 反射面となる光輝金属面が保護膜５で覆われ
ている反射鏡１において、前記保護膜が、保護膜材と耐
候性改善材の複合体であることを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、照明器具用反射鏡と
して利用できる反射効率の高い反射鏡に関する。
して利用できる反射効率の高い反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の反射効率の高い反射鏡（以下、適
宜「高効率反射鏡」と言う）は、下地塗装を施した基板
の表面に光輝金属材料（アルミニウム，銀など）を蒸着
することにより形成した光輝金属膜（アルミニウム膜，
銀膜など光輝金属膜）の上に有機塗装皮膜あるいは無機
系皮膜（ＳｉＯ2 膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜、ＭｇＦ2 膜など）
を保護膜として設けた構成である。勿論、光輝金属膜の
表面が反射面となる光輝金属面であり、保護膜は光透過
性のよいものである。なお、基板表面の下地塗装は施さ
ない場合もある。
宜「高効率反射鏡」と言う）は、下地塗装を施した基板
の表面に光輝金属材料（アルミニウム，銀など）を蒸着
することにより形成した光輝金属膜（アルミニウム膜，
銀膜など光輝金属膜）の上に有機塗装皮膜あるいは無機
系皮膜（ＳｉＯ2 膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜、ＭｇＦ2 膜など）
を保護膜として設けた構成である。勿論、光輝金属膜の
表面が反射面となる光輝金属面であり、保護膜は光透過
性のよいものである。なお、基板表面の下地塗装は施さ
ない場合もある。
【０００３】ただ、この反射鏡は、一般屋内用としての
使用は可能であるが、雨や雪に晒される屋外や、Ｃ
ｌ2 ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性ガスを微量だけども
含む環境（プール、温泉、トイレ、台所など）、多湿環
境（風呂場など）および塩水のかかる環境（沿岸地帯）
での使用には適さない。これは、反射面を保護する保護
膜はピンホールをなくすことが難しくて、保護膜のピン
ホールで防食性等の耐環境性が低下しているからであ
る。従来のこの種の反射鏡は厳しい環境の使用には向い
ていないのである。
使用は可能であるが、雨や雪に晒される屋外や、Ｃ
ｌ2 ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性ガスを微量だけども
含む環境（プール、温泉、トイレ、台所など）、多湿環
境（風呂場など）および塩水のかかる環境（沿岸地帯）
での使用には適さない。これは、反射面を保護する保護
膜はピンホールをなくすことが難しくて、保護膜のピン
ホールで防食性等の耐環境性が低下しているからであ
る。従来のこの種の反射鏡は厳しい環境の使用には向い
ていないのである。
【０００４】保護膜を厚くすればピンホールの発生を抑
えられるのであるが、保護膜を厚くすると、鏡全体でみ
た反射率の低下や保護膜の耐久性低下、さらには製造コ
ストの上昇などという別の問題が出てくる。
えられるのであるが、保護膜を厚くすると、鏡全体でみ
た反射率の低下や保護膜の耐久性低下、さらには製造コ
ストの上昇などという別の問題が出てくる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記事情
に鑑み、実質的に保護膜の厚み増加を伴わずに耐環境性
が向上した一般照明器具用に使用可能な反射鏡を提供す
ることを課題とする。
に鑑み、実質的に保護膜の厚み増加を伴わずに耐環境性
が向上した一般照明器具用に使用可能な反射鏡を提供す
ることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、この発明は、反射面となる光輝金属面が保護膜で覆
われている反射鏡において、前記保護膜を、保護膜材と
耐候性改善材の複合体にしている。以下、この発明の反
射鏡を、その構成例をあらわす図１を適宜参照しながら
具体的に説明する。
め、この発明は、反射面となる光輝金属面が保護膜で覆
われている反射鏡において、前記保護膜を、保護膜材と
耐候性改善材の複合体にしている。以下、この発明の反
射鏡を、その構成例をあらわす図１を適宜参照しながら
具体的に説明する。
【０００７】図１にみるように、この発明の反射鏡１で
は、普通、基板２の上に下地塗装３を施した上に光輝金
属膜４を設け、その上に保護膜５を形成するという形態
をとる。まず、反射鏡１で使われる基板２としては、金
属基板、プラスチック基板、さらにはガラス基板やセラ
ミック基板などが挙げられる。金属基板には、Ａｌ（ア
ルミニウム）、Ａｌ合金、Ｆｅ（鉄）、Ｆｅ合金、ＳＵ
Ｓ等の板状材をプレス成形やヘラ絞り成形等の成形方法
によって所定の鏡形状に仕上げたものが例示される。基
板の表面は研磨（下地処理）などで極力滑らかにしてお
くことが好ましいが、必須ではない。プラスチック基板
やガラス基板には、プラスチック材（ポリカーボネイ
ト、ナイロン、ポリイミドなど）やガラス材を金型成形
（射出成形やプレス成形）により所定の鏡形状に仕上げ
たものが例示される。
は、普通、基板２の上に下地塗装３を施した上に光輝金
属膜４を設け、その上に保護膜５を形成するという形態
をとる。まず、反射鏡１で使われる基板２としては、金
属基板、プラスチック基板、さらにはガラス基板やセラ
ミック基板などが挙げられる。金属基板には、Ａｌ（ア
ルミニウム）、Ａｌ合金、Ｆｅ（鉄）、Ｆｅ合金、ＳＵ
Ｓ等の板状材をプレス成形やヘラ絞り成形等の成形方法
によって所定の鏡形状に仕上げたものが例示される。基
板の表面は研磨（下地処理）などで極力滑らかにしてお
くことが好ましいが、必須ではない。プラスチック基板
やガラス基板には、プラスチック材（ポリカーボネイ
ト、ナイロン、ポリイミドなど）やガラス材を金型成形
（射出成形やプレス成形）により所定の鏡形状に仕上げ
たものが例示される。
【０００８】上記の基板２に下地塗装３を先に施してお
いて（ガラス基板などの場合は下地塗装無しでもよ
い）、その上にアルミニウムや銀などで光輝金属膜４を
反射膜として形成する。この光輝金属膜の表面が反射面
となる。光輝金属膜は、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、スパッタリング法などを用いて金属層を堆積形
成することで作製できる。上記の光輝金属膜を使う他、
成形した光輝金属基板（アルミニウム板）の表面を羽布
研磨後、化学研磨や電解研磨して仕上げた面を反射面用
の光輝金属面にする形態もある。
いて（ガラス基板などの場合は下地塗装無しでもよ
い）、その上にアルミニウムや銀などで光輝金属膜４を
反射膜として形成する。この光輝金属膜の表面が反射面
となる。光輝金属膜は、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、スパッタリング法などを用いて金属層を堆積形
成することで作製できる。上記の光輝金属膜を使う他、
成形した光輝金属基板（アルミニウム板）の表面を羽布
研磨後、化学研磨や電解研磨して仕上げた面を反射面用
の光輝金属面にする形態もある。
【０００９】そして、光輝金属面の上に透明の保護膜５
を形成する。この発明の場合、保護膜５が、保護膜材と
耐候性改善材の複合体である。保護膜材としては、透明
誘電体膜に出来るＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 が挙
げられるし、これ以外にＭｇＦ2 なども挙げられ、耐候
性改善材としては、フッ素化合物（フルオロアルキルシ
ラン、四フッ化エチレンやフッ素樹脂など）、アクリル
系化合物、ジメチルシリコーン樹脂等が挙げられる。こ
れらの耐候性改善材は、保護膜の透光性・密着性を損な
うことなく撥水性があってピンホールによる不具合を抑
える働きをする。
を形成する。この発明の場合、保護膜５が、保護膜材と
耐候性改善材の複合体である。保護膜材としては、透明
誘電体膜に出来るＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 が挙
げられるし、これ以外にＭｇＦ2 なども挙げられ、耐候
性改善材としては、フッ素化合物（フルオロアルキルシ
ラン、四フッ化エチレンやフッ素樹脂など）、アクリル
系化合物、ジメチルシリコーン樹脂等が挙げられる。こ
れらの耐候性改善材は、保護膜の透光性・密着性を損な
うことなく撥水性があってピンホールによる不具合を抑
える働きをする。
【００１０】保護膜用の複合体の具体的形態としては、
耐候性改善材（例えば、フッ素化合物）が複合体（全体
で１００wt％）中に２０wt％以下の含有量で混在してお
り、厚みが０．３〜１．０μｍ程度の範囲のものが適当
である。耐候性改善材の含有量が２０wt％を越すと保護
膜の反射面に対する密着性低下や保護膜の硬度低下が問
題になる。膜厚みが０．３μｍ未満だと十分な保護性能
が得難く、１．０μｍを越すと反射率の低下や密着性の
低下を招来する。この場合、加えて、光輝金属面との間
に厚み１００〜５００Å程度の純耐候性改善材薄層（例
えば、純フッ素化合物層）を有するとともに表面側に厚
み１０００〜５０００Å程度の純耐候性改善材薄層（例
えば、純フッ素化合物層）を有する複合体がより好まし
い。例えば、低分子フッ素化合物のガス雰囲気で最初の
数分だけ保護膜材の堆積を止めて純フッ素化合物層を形
成し、ついで、保護膜材の堆積を行い低分子フッ素化合
物の混在する層を形成し、再び、保護膜材の堆積を止め
て純フッ素化合物層を形成するようにする。
耐候性改善材（例えば、フッ素化合物）が複合体（全体
で１００wt％）中に２０wt％以下の含有量で混在してお
り、厚みが０．３〜１．０μｍ程度の範囲のものが適当
である。耐候性改善材の含有量が２０wt％を越すと保護
膜の反射面に対する密着性低下や保護膜の硬度低下が問
題になる。膜厚みが０．３μｍ未満だと十分な保護性能
が得難く、１．０μｍを越すと反射率の低下や密着性の
低下を招来する。この場合、加えて、光輝金属面との間
に厚み１００〜５００Å程度の純耐候性改善材薄層（例
えば、純フッ素化合物層）を有するとともに表面側に厚
み１０００〜５０００Å程度の純耐候性改善材薄層（例
えば、純フッ素化合物層）を有する複合体がより好まし
い。例えば、低分子フッ素化合物のガス雰囲気で最初の
数分だけ保護膜材の堆積を止めて純フッ素化合物層を形
成し、ついで、保護膜材の堆積を行い低分子フッ素化合
物の混在する層を形成し、再び、保護膜材の堆積を止め
て純フッ素化合物層を形成するようにする。
【００１１】保護膜用の複合体の具体的形態は、上記の
場合に限らない。純保護膜材層の上に純耐候性改善材が
積層形成された２層構成の形態や、純保護膜材層の上下
に純耐候性改善材が積層形成された３層構成の形態も挙
げられる。この発明の反射鏡の用途としては、一般照明
用器具用の反射鏡が挙げられるが、これ以外の用途に使
われてもよい。
場合に限らない。純保護膜材層の上に純耐候性改善材が
積層形成された２層構成の形態や、純保護膜材層の上下
に純耐候性改善材が積層形成された３層構成の形態も挙
げられる。この発明の反射鏡の用途としては、一般照明
用器具用の反射鏡が挙げられるが、これ以外の用途に使
われてもよい。
【００１２】
【作用】この発明の反射鏡の場合、保護膜が、保護膜材
と耐候性改善材の複合体であるため、保護膜を実質的に
厚くすることなく、耐環境性を向上させられる。その結
果、この発明の反射鏡は、雨や雪に晒される屋外や、Ｃ
ｌ2 ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性ガスを微量だけども
含む環境（プール、温泉、トイレ、台所など）、多湿環
境（風呂場など）および塩水のかかる環境（沿岸地帯）
など悪環境でも使用可能になり、一般照明器具用として
の適性も有するようになる。
と耐候性改善材の複合体であるため、保護膜を実質的に
厚くすることなく、耐環境性を向上させられる。その結
果、この発明の反射鏡は、雨や雪に晒される屋外や、Ｃ
ｌ2 ，Ｈ2 Ｓ，ＮＨ3 などの腐食性ガスを微量だけども
含む環境（プール、温泉、トイレ、台所など）、多湿環
境（風呂場など）および塩水のかかる環境（沿岸地帯）
など悪環境でも使用可能になり、一般照明器具用として
の適性も有するようになる。
【００１３】
【実施例】以下、この発明の反射鏡の実施例を説明す
る。 −実施例１− 実施例１の反射鏡は図２に示す層構成をとる。基材であ
る板状のアルミニウム材をヘラ絞り成形により、パラボ
ラ状反射鏡形状とした後、アルカリ脱脂および化学研磨
をしてから、アクリルメラミン系塗料（大日本塗料社製
商品名：テクノン♯１０００）をスプレー法で塗布し
てから、熱風焼付炉で１８０℃、４０分焼成して厚み１
５μｍの下地塗装（アンダーコート）を施した。
る。 −実施例１− 実施例１の反射鏡は図２に示す層構成をとる。基材であ
る板状のアルミニウム材をヘラ絞り成形により、パラボ
ラ状反射鏡形状とした後、アルカリ脱脂および化学研磨
をしてから、アクリルメラミン系塗料（大日本塗料社製
商品名：テクノン♯１０００）をスプレー法で塗布し
てから、熱風焼付炉で１８０℃、４０分焼成して厚み１
５μｍの下地塗装（アンダーコート）を施した。
【００１４】その後、真空蒸着法を用い、到達真空度１
×１０-5Torrとしタングステン線を用いた抵抗加熱法で
アルミニウムを蒸発させて反射膜用の光輝金属膜を形成
した。さらに、同様に真空蒸着法を用い、その上に保護
膜として、フルオロアルキルシラン添加後８×１０-5To
rrの操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材である
ＳｉＯ2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入の
ＳｉＯ2 膜（複合体）を厚み５０００Åで形成し反射鏡
を得た。
×１０-5Torrとしタングステン線を用いた抵抗加熱法で
アルミニウムを蒸発させて反射膜用の光輝金属膜を形成
した。さらに、同様に真空蒸着法を用い、その上に保護
膜として、フルオロアルキルシラン添加後８×１０-5To
rrの操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材である
ＳｉＯ2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入の
ＳｉＯ2 膜（複合体）を厚み５０００Åで形成し反射鏡
を得た。
【００１５】−実施例２− 実施例２の反射鏡は図３に示す層構成をとる。保護膜の
形成を、真空蒸着法を用い、フルオロアルキルシラン添
加後５×１０ -5Torrの操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用い
て保護膜材であるＴｉＯ2 を蒸発させ、フルオロアルコ
キシシラン混入のＴｉＯ2 膜（複合体）を厚み８０００
Åで形成した他は、実施例１と同様にして反射鏡を得
た。
形成を、真空蒸着法を用い、フルオロアルキルシラン添
加後５×１０ -5Torrの操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用い
て保護膜材であるＴｉＯ2 を蒸発させ、フルオロアルコ
キシシラン混入のＴｉＯ2 膜（複合体）を厚み８０００
Åで形成した他は、実施例１と同様にして反射鏡を得
た。
【００１６】−実施例３− 実施例３の反射鏡は図４に示す層構成をとる。実施例１
と同様にして下地塗装を施したあと、高周波イオンプレ
ーティング法（２００Ｗ）でアルミニウムを蒸発させて
反射膜用の光輝金属膜を形成した。ついで、同様に高周
波イオンプレーティング法を用い、その上に保護膜とし
て、フルオロアルキルシラン添加後３×１０-4Torrの操
作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＳｉＯ
2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入のＳｉＯ
2 膜（複合体）を厚み５０００Åで形成してから続けて
フルオロアルコキシシランだけの膜を厚み約５００Åで
形成し反射鏡を得た。
と同様にして下地塗装を施したあと、高周波イオンプレ
ーティング法（２００Ｗ）でアルミニウムを蒸発させて
反射膜用の光輝金属膜を形成した。ついで、同様に高周
波イオンプレーティング法を用い、その上に保護膜とし
て、フルオロアルキルシラン添加後３×１０-4Torrの操
作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＳｉＯ
2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入のＳｉＯ
2 膜（複合体）を厚み５０００Åで形成してから続けて
フルオロアルコキシシランだけの膜を厚み約５００Åで
形成し反射鏡を得た。
【００１７】−実施例４− 実施例４の反射鏡は図５に示す層構成をとる。実施例１
と同様にして下地塗装を施したあと、高周波イオンプレ
ーティング法（５００Ｗ）でアルミニウムを蒸発させて
反射膜用の光輝金属膜を形成した。ついで、同様に高周
波イオンプレーティング法を用い、その上に保護膜とし
て、アクリルモノマー添加後１×１０-4Torrの操作圧力
で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＡｌ2 Ｏ3 を
蒸発させ、アクリル混入Ａｌ2 Ｏ3 膜（複合体）を厚み
１．０μｍで形成し反射鏡を得た。
と同様にして下地塗装を施したあと、高周波イオンプレ
ーティング法（５００Ｗ）でアルミニウムを蒸発させて
反射膜用の光輝金属膜を形成した。ついで、同様に高周
波イオンプレーティング法を用い、その上に保護膜とし
て、アクリルモノマー添加後１×１０-4Torrの操作圧力
で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＡｌ2 Ｏ3 を
蒸発させ、アクリル混入Ａｌ2 Ｏ3 膜（複合体）を厚み
１．０μｍで形成し反射鏡を得た。
【００１８】−実施例５− 実施例５の反射鏡は図６に示す層構成をとる。保護膜の
形成を、高周波イオンプレーティング法（５００Ｗ）を
用い、フルオロアルキルシラン添加後１×１０-4Torrの
操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＭｇ
Ｆ2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入のＭｇ
Ｆ2 膜（複合体）を厚み８０００Åで形成した他は、実
施例１と同様にして反射鏡を得た。
形成を、高周波イオンプレーティング法（５００Ｗ）を
用い、フルオロアルキルシラン添加後１×１０-4Torrの
操作圧力で電子銃（ＥＢ）を用いて保護膜材であるＭｇ
Ｆ2 を蒸発させ、フルオロアルコキシシラン混入のＭｇ
Ｆ2 膜（複合体）を厚み８０００Åで形成した他は、実
施例１と同様にして反射鏡を得た。
【００１９】−比較例１− 比較例１の反射鏡は図７に示す層構成をとる。実施例１
においてフルオロアルキルシランを混入せず、純ＳｉＯ
2 膜とするようにした他は同様にして反射鏡を得た。な
お、実施例１〜５の保護膜中のフッ素化合物やアクリル
の含有量は２０wt％以下であった。上で用いたフルオロ
アルキルシランの代表例として、化学式：ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）5 ＣＨ2 ＣＨ2 ＳｉＣｌ3 であらわされる下記の構
造式で示されるペンタオクタフルオロトリクロロシラン
（東芝シリコン社製 商品名：ＴＳＬ８５２６）が挙げ
られる。
においてフルオロアルキルシランを混入せず、純ＳｉＯ
2 膜とするようにした他は同様にして反射鏡を得た。な
お、実施例１〜５の保護膜中のフッ素化合物やアクリル
の含有量は２０wt％以下であった。上で用いたフルオロ
アルキルシランの代表例として、化学式：ＣＦ3 （ＣＦ
2 ）5 ＣＨ2 ＣＨ2 ＳｉＣｌ3 であらわされる下記の構
造式で示されるペンタオクタフルオロトリクロロシラン
（東芝シリコン社製 商品名：ＴＳＬ８５２６）が挙げ
られる。
【００２０】
【化１】
【００２１】実施例および比較例の反射鏡について、耐
食性試験、耐熱性試験、および、実用点灯試験を行っ
た。耐食性試験は、ＪＩＳ Ｚ ２３７１に準じた塩水
噴霧試験であり、データは耐久時間を示す。耐熱性試験
は、期間１８０日で１２０℃と２００℃の場合について
行い、試験前と試験後の反射率（波長５５５ｎｍ）を、
反射率測定装置（島津製作所ＵＶ−３５０）を使用して
測定した。
食性試験、耐熱性試験、および、実用点灯試験を行っ
た。耐食性試験は、ＪＩＳ Ｚ ２３７１に準じた塩水
噴霧試験であり、データは耐久時間を示す。耐熱性試験
は、期間１８０日で１２０℃と２００℃の場合について
行い、試験前と試験後の反射率（波長５５５ｎｍ）を、
反射率測定装置（島津製作所ＵＶ−３５０）を使用して
測定した。
【００２２】実用点灯試験は、１ｋＷの水銀灯投光器に
装着し７３０日後の状態について、、外観で○（良
好）、×（不良）を判定した。 測定結果 試験結果 耐熱性（％） 耐食性試験 実用点灯試験 試験前 １２０℃ ２００℃ 実施例１ ５２８時間 ○ ８９ ８６ ８２ 実施例２ ５７６時間 ○ ８７ ８５ ８２ 実施例３ ５７６時間 ○ ８９ ８７ ８１ 実施例４ ５５２時間 ○ ８６ ８４ ８０ 実施例５ ５２８時間 ○ ８８ ８５ ８０ 比較例１ １９２時間 ○ ８９ ７１ ６３ 実施例と比較例の結果を比べれば、実施例の反射鏡は、
耐環境性が向上していることがよく分かる。
装着し７３０日後の状態について、、外観で○（良
好）、×（不良）を判定した。 測定結果 試験結果 耐熱性（％） 耐食性試験 実用点灯試験 試験前 １２０℃ ２００℃ 実施例１ ５２８時間 ○ ８９ ８６ ８２ 実施例２ ５７６時間 ○ ８７ ８５ ８２ 実施例３ ５７６時間 ○ ８９ ８７ ８１ 実施例４ ５５２時間 ○ ８６ ８４ ８０ 実施例５ ５２８時間 ○ ８８ ８５ ８０ 比較例１ １９２時間 ○ ８９ ７１ ６３ 実施例と比較例の結果を比べれば、実施例の反射鏡は、
耐環境性が向上していることがよく分かる。
【００２３】
【発明の効果】この発明の反射鏡の場合、保護膜が、保
護膜材と耐候性改善材の複合体であるため、保護膜を実
質的に厚くすることなく、耐環境性が向上していて、悪
環境でも使用可能となり、一般照明器具用としての適性
も有するような実用性の高いものとなっている。
護膜材と耐候性改善材の複合体であるため、保護膜を実
質的に厚くすることなく、耐環境性が向上していて、悪
環境でも使用可能となり、一般照明器具用としての適性
も有するような実用性の高いものとなっている。
【図１】この発明の反射鏡の構成例をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図２】実施例１の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図３】実施例２の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図４】実施例３の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図５】実施例４の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図６】実施例５の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
【図７】比較例１の反射鏡の層構成をあらわす断面図で
ある。
ある。
１ 反射鏡 ２ 基板 ３ 下地塗装 ４ 光輝金属膜 ５ 保護膜
Claims (3)
- 【請求項１】 反射面となる光輝金属面が保護膜で覆わ
れている反射鏡において、前記保護膜が、保護膜材と耐
候性改善材の複合体であることを特徴とする反射鏡。 - 【請求項２】 耐候性改善材がフッ素化合物であって、
複合体中に２０wt％以下の含有量で混在している請求項
１記載の反射鏡。 - 【請求項３】 保護膜材が、ＳｉＯ2 ，ＴｉＯ2 ，Ａｌ
2 Ｏ3 ，ＭｇＦ2 のうちの少なくとも一つである請求項
１または２記載の反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13289492A JP3304396B2 (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13289492A JP3304396B2 (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05323108A true JPH05323108A (ja) | 1993-12-07 |
| JP3304396B2 JP3304396B2 (ja) | 2002-07-22 |
Family
ID=15092041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13289492A Expired - Lifetime JP3304396B2 (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3304396B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012203268A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Univ Of Tokyo | ミラー及びその製造方法 |
| EP2725392A1 (en) * | 2012-10-29 | 2014-04-30 | Xxentria Technology Materials Co., Ltd. | Weatherproof high-reflection plate and manufacturing method thereof |
| CN113463037A (zh) * | 2021-07-19 | 2021-10-01 | 秦皇岛本征晶体科技有限公司 | 一种氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法 |
| JP2025536138A (ja) * | 2022-10-05 | 2025-10-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 反射光学素子のためのフッ化物保護コーティングの作製方法およびデバイス |
-
1992
- 1992-05-25 JP JP13289492A patent/JP3304396B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012203268A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Univ Of Tokyo | ミラー及びその製造方法 |
| EP2725392A1 (en) * | 2012-10-29 | 2014-04-30 | Xxentria Technology Materials Co., Ltd. | Weatherproof high-reflection plate and manufacturing method thereof |
| CN113463037A (zh) * | 2021-07-19 | 2021-10-01 | 秦皇岛本征晶体科技有限公司 | 一种氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法 |
| JP2025536138A (ja) * | 2022-10-05 | 2025-10-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 反射光学素子のためのフッ化物保護コーティングの作製方法およびデバイス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3304396B2 (ja) | 2002-07-22 |
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