JPH0532921A - 修正液 - Google Patents

修正液

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JPH0532921A
JPH0532921A JP21293791A JP21293791A JPH0532921A JP H0532921 A JPH0532921 A JP H0532921A JP 21293791 A JP21293791 A JP 21293791A JP 21293791 A JP21293791 A JP 21293791A JP H0532921 A JPH0532921 A JP H0532921A
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JP
Japan
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average particle
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correction
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JP21293791A
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English (en)
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Masahiro Uchino
昌洋 内野
Eiichi Okabe
鋭一 岡部
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Pentel Co Ltd
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Pentel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 酸化チタンなどの隠蔽材20〜50重量%
と、水又は有機溶剤30〜60重量%と、この水又は有
機溶剤に可溶な若しくは分散可能な(メタ)アクリル酸
エステル系エマルジョン、アクリル樹脂などの結合材5
〜20重量%と、屈折率1.8以下で、且つ平均粒子径
が0.2〜10μmの無機物又は有機物の粒子とより少
なくともなる。 【効果】 隠蔽力が高いので薄い塗膜でも充分な隠蔽力
を有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、修正液に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、修正液は、隠蔽材と、溶剤と、結
合材とを主成分としていた。
【0003】隠蔽材は、酸化チタンのような高い隠蔽性
を示す顔料を用いていた。
【0004】溶剤は、万年筆、水性サインペン等の水性
インキの筆跡に対してはトルエン、キシレン、1,1,
1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等を主溶剤
として用い、油性ボールペン、油性マーカー等の油性イ
ンキによる筆跡や、タイプライターによる印字、乾式複
写機による複写像などに対しては水を主溶剤として用い
ていた。
【0005】更に近年、筆跡の種類によって溶剤を使い
わけるといった煩雑さを解消するためシクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロ
ペンタン等のナフテン系溶剤やn−ヘキサン、n−ヘプ
タン等のパラフィン系溶剤が用いられている。
【0006】結合材は、使用する溶剤に溶解又は分散可
能な樹脂が用いられ、具体的には、トルエン、キシレ
ン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ンやナフテン系、パラフィン系の有機溶剤を用いた場
合、アクリル樹脂、ビニルアルキルエーテル樹脂、環化
ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体系エラストマー等
を用い、水を主溶剤として用いた場合、(メタ)アクリ
ル酸エステル系樹脂エマルジョン、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂エマルジョン、エチレン酢酸ビニル樹脂
エマルジョンを用いていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】修正液は文字、図柄な
どを隠蔽することによる修正を行うだけでなく、修正を
行なった後の塗膜上に再筆記を行う場合が多いので、塗
膜の乾燥性が速いことも必要である。塗膜の乾燥性は、
使用する溶剤の種類などの材質の外、塗膜の膜厚にも影
響される(言うまでもないが、膜厚は薄い方が早く乾燥
する)。従って、薄い塗膜でも高い隠蔽力を持つことが
必要となる。
【0008】修正液の塗膜の隠蔽性を向上するには、酸
化チタン等の隠蔽材が良好に分散していることが必要で
ある。しかしながら、液中に分散された隠蔽材は共凝集
を起こし易く、共凝集を起こした隠蔽材は、その隠蔽材
が有する最大隠蔽力を示す粒子径でなくなるため、塗膜
の隠蔽力が低下し、修正個所を薄い塗膜で十分に隠蔽す
ることは困難だった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、隠蔽材と、溶
剤と、この溶剤に溶解又は分散可能な結合材と、屈折率
1.8以下で、且つ平均粒子径が0.2〜10μmの粒
子とから少なくともなる修正液を要旨とするものであ
る。
【0010】以下、詳細に説明する。隠蔽材は、酸化チ
タン、酸化亜鉛などの隠蔽性の高い顔料を用いる。特
に、酸化チタンが良好である。酸化チタンとしては、ル
チル型、アナターゼ型などの各種の酸化チタンが使用で
きる。市販のものとしては、タイトーンSR−1、同R
−650、同R−3L、同A−110、同A−150,
同R−5N(以上、堺化学工業(株)製)、タイペーク
R−580、同R−550、同R−930、同A−10
0、同A−220、同CR−58(以上、石原産業
(株)製)、クロノスKR−310−310、同KR−
380、同KR−480、同KA−10、同KA−2
0、同KA−30(以上、チタン工業(株)製)、タイ
ピュアR−900、同R−931(以上、デュポン・ジ
ャパン・リミテッド社製)などが挙げられる。使用量は
修正液全量に対して20〜50重量%が好ましい。
【0011】溶剤は、結合材の溶解又は分散、及び、粘
度調整などに使用するものであり、水又は有機溶剤を用
いることができる。有機溶剤としては、n−ヘキサン、
n−ヘプタン、n−オクタンなどのパラフィン系溶剤、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロペンタ
ン、メチルシクロペンタンなどのナフテン系溶剤、1,
1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエ
チレンなどの塩素系溶剤などを1種又は2種以上混合し
て使用することができる。特に、塗膜の乾燥時間を考慮
すれば沸点が40℃〜150℃のものが好ましい。使用
量は修正液全量に対して30〜60重量%が好ましい。
【0012】上記溶剤に溶解又は分散可能な結合材は、
塗膜を形成するために使用するものである。水を主溶剤
として用いた場合は、(メタ)アクリル酸エステル系樹
脂エマルジョン、スチレン−ブタジエン共重合体系樹脂
エマルジョン、エチレン酢酸ビニル樹脂エマルジョンな
どを用いることができる。有機溶剤を主溶剤として用い
た場合は、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ビニルアルキルエーテル樹脂、
環化ゴム、スチレン−ブタジエン系エラストマーなどを
用いることができる。また、使用量は修正液全量に対し
て5〜20重量%が好ましい。
【0013】本発明の特徴点である屈折率1.8以下
で、且つ平均粒子径が0.2〜10μmの粒子は、液中
で分散している隠蔽材粒子の共凝集を防止することによ
り塗膜の隠蔽性を向上するために使用するものであり、
無機物質であっても、有機物質であってもよい。具体例
を以下に記載する。
【0014】二酸化ケイ素(屈折率1.41〜1.4
9)よりなる粒子としてマイクロシリカ980U(平均
粒子径0.3μm、エルケム・ジャパン(株)製)、ゴ
ッドボールE−6C(平均粒子径2.2μm),同Dー
11C(平均粒子径3.4μm)、同E−16C(平均
粒子径6.5μm)、同E−2C(平均粒子径0.7
μ)、同B−6C(平均粒子径2.2μm)、同A−1
1C(平均粒子径3.5μm)、同B−11C(平均粒
子径6.5μm)(以上、鈴木油脂工業(株)製)、ハ
イプレスタUFタイプ(粒子径は0.1μm区切りで、
2.0〜5.0μmのものがある)、同FQタイプ(平
均粒子径は0.2、0.3、0.5、1.0、2.0、
3.0、4.0、5.0μmの各種グレードのものがあ
る)(以上、宇部日東化成(株)製)、サイロスフェア
ー(平均粒子径2.35μm、富士デヴィソン化学
(株)製)、シーホスターKE−P30(平均粒子径
0.3μm)、同KE−P50(平均粒子径0.5μ
m)、同KE−P100(平均粒子径1.0μm)(以
上、日本触媒化学工業(株)製)などが挙げられる。
【0015】炭酸カルシウム(屈折率1.63)よりな
る粒子としてスノーライトSS(平均粒子径2.2μ
m)、同SSS(平均粒子径1.8μm)、MCコート
P−13(平均粒子径2.0μm)、同S−13(平均
粒子径2.0μm)、EC−1(平均粒子径2.2μ
m),EC−5(平均粒子径2.7μm)、Mホワイト
(平均粒子径3.0μm)、M−300(平均粒子径
0.8μm)、スーパー#1500(平均粒子径1.5
μm)、同#1700(平均粒子径1.3μm)、同#
2000(平均粒子径1.1μm)、同#2300(平
均粒子径1.0μm)(以上、丸尾カルシウム
(株))、ホワイトンSSB(平均粒子径1.25μ
m)、同#450(平均粒子径8.0μm)(以上、白
石工業(株)製)、タマパールTP−111(平均粒子
径1.5μm、奥多摩工業(株)製)カルライト−KT
(平均粒子径2.3μm、白石カルシウム(株)製)な
どが挙げられる。
【0016】アルミナシリケート(屈折率1.56)よ
りなる粒子としてASPー072(平均粒子径0.3μ
m)、同100/200(平均粒子径0.4μm)、同
170(平均粒子径0.4μm)、同600(平均粒子
径0.6μm)、同400P(平均粒子径4.8μ
m)、SATINTONE W/WHITETEX(平
均粒子径1.4μm)、同SP−33(平均粒子径1.
4μm)、同SPECIAL(平均粒子径1.2μ
m)、同No.5(平均粒子径0.8μm)(以上、米
国ENGELHARD社製)などが挙げられる。
【0017】沈降性硫酸バリウム(屈折率1.64)よ
りなる粒子として沈降性硫酸バリウム#100(平均粒
子径0.6μm)、同#300(平均粒子径0.8μ
m)、同特殊品(平均粒子径4.2μm)、(以上、丸
尾カルシウム(株)製)などが挙げられる。
【0018】ポリメタクリル酸エステル(屈折率1.4
9)よりなる粒子としてMR−7G(平均粒子径7μ
m、綜研化学((株))製)、テクポリマーMBX4
(平均粒子径2.3μm)、同MBX8(平均粒子径8
μm)(以上、積水化成品鉱業(株)製)などが挙げら
れる。
【0019】アクリル−スチレン共重合体(屈折率1.
49)よりなる粒子としてローペイクOP−84J(平
均粒子径0.55μm、米国ロームアンドハース社製、
但し、主溶剤として水を使用した場合のみ使用できる)
などがあげられる。
【0020】その他炭酸マグネシウム(屈折率1.52
〜1.53)、ケイ酸マグネシウム(屈折率1.54)
などの粒子も使用可能である。
【0021】上記粒子は、単独もしくは混合して使用可
能であり、その使用量は修正液全量に対して0.1〜3
0重量%が好ましく、より好ましくは1.0〜20重量
%である。
【0022】
【作用】本発明に係わる修正液に含まれる屈折率1.8
以下で、且つ平均粒子径が0.2〜10μmの粒子は、
修正液中に一次粒子として分散している隠蔽材の凝集を
見かけ上、防止する働きをすることによって隠蔽力の低
下を防止する。それは、以下のような理由によるものと
推察される。隠蔽材の隠蔽力は、その粒子の径に大きく
影響され、その最適な粒子径は、使用する隠蔽材及び結
合材の屈折率より算出できる。従って、修正液の製造
時、隠蔽材の粒子径は、最適な粒子径又はその近傍であ
るように調整される。ところが、液中に微細な粒子とし
て分散している隠蔽材は、経時的に凝集し、最適な粒子
径からズレを生じてしまい、隠蔽力が低下してしまう。
修正液に屈折率1.8以下で、且つ平均粒子径が0.2
〜10μmの粒子を添加すると、この粒子は、隠蔽材が
凝集しようとしたとき、隠蔽材と隠蔽材との間に挾まれ
る。この場合、凝集した隠蔽材同志は、その間に粒子が
挾まれているので、少なくとも0.2μmの距離で離れ
ている。しかも、この粒子は屈折率が1.8以下のもの
を用いているので、塗膜中において粒子は光学的に結合
材と略同等なものとなる。即ち、本発明に係る修正液
は、隠蔽材同志が近接しないので光学的に合一した粒子
とならず、しかも、隠蔽材間に存在する粒子が、光学的
に結合材と略同等なので、隠蔽材は見かけ上、凝集して
おらず、したがって、隠蔽力の低下が発生しない。
【0023】
【実施例】以下、単に「部」とあるのは「重量部」を示
す。
【0024】実施例1 クロノスKR−380 65部 アクリロイドB−66(米国ローム&ハース社製、アクリル樹脂) 12部 メチルシクロヘキサン 120部 マイクロシリカ980U(屈折率1.41〜1.49、平均粒子径0.3μm ) 18部 ホモゲノールL−18(花王(株)製、分散剤) 1.2部 上記各成分をボールミルにて24時間分散処理して修正
液を得た。
【0025】実施例2 クロノスKR−380 60部 アクリロイドB−67(米国ローム&ハース社製、アクリル樹脂) 13部 メチルシクロヘキサン 80部 ハイプレスタFQタイプ(屈折率1.41〜1.49、平均粒子径0.3μm ) 15部 MA−100(三菱化成工業(株)製、カーボンブラック) 0.05部 ホモゲノールL−18 1部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0026】実施例3 クロノスKR−380 60部 アクリロイドB−67 13部 1,1,1−トリクロロエタン 100部 シーホスターKE−P30(屈折率1.41〜1.49、平均粒子径0.3μ m) 15部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0027】実施例4 クロノスKR−380 60部 アクリロイドB−66 12部 メチルシクロヘキサン 20部 シクロペンタン 80部 カルライト−KT(屈折率1.63、平均粒子径2.3μm) 15部 ホモゲノールL−18 1部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0028】実施例5 クロノスKR−380 60部 パラロイドB−44(米国ローム&ハース社製、アクリル樹脂) 10部 1,1,1−トリクロロエタン 110部 スノーライトSS(屈折率1.63、平均粒子径2.2μm) 10部 ホモゲノールL−18 2部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0029】実施例6 クロノスKR−480 65部 パラロイドB−44 13部 1,1,1−トリクロロエタン 110部 ホワイトントSSB(屈折率1.63、平均粒子径1.25μm) 10部 ホモゲノールL−18 1.5部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0030】実施例7 クロノスKR−480 63部 カリフレックスTR−1107(シェル化学(株)製、スチレン系熱可塑性エ ラストマー) 13部 1,1,1−トリクロロエタン 100部 ASP−100/200(屈折率1.56、平均粒子径0.4μm) 15部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0031】実施例8 クロノスKR−480 67部 アサプレンT431(旭化成工業(株)製、スチレン系熱可塑性エラストマー ) 13部 1,1,1−トリクロロエタン 100部 ASP−072(屈折率1.56、平均粒子径0.3μm) 12部 ホモゲノールL−18 1.1部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0032】実施例9 タイピュアR−900 63部 カリフレックスTR−1107 11部 シクロヘキサン 100部 沈降性硫酸バリウム#100(屈折率1.64、平均粒子径0.6μm) 15部 ホモゲノールL−18 1部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0033】実施例10 タイピュアR−900 60部 アサプレンT431 14部 メチルシクロヘキサン 110部 沈降性硫酸バリウム#300(屈折率1.64、平均粒子径0.8μm) 18部 ホモゲノールL−18 1.2部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0034】実施例11 タイペークCR−58 65部 アクリロイドB−66 15部 メチルシクロヘキサン 121部 テクポリマーMBX4(屈折率1.49、平均粒子径4μm) 13部 ホモゲノールL−18 1部 上記各成分を実施例1と同様になして修正液を得た。
【0035】実施例12 タイペークCR−58 64部 アクリロイドB−66 13部 メチルシクロヘキサン 100部 テクポリマーSBX5(屈折率1.60、平均粒子径5μm) 1部
【0036】比較例1 実施例1においてマイクロシリカ980Uを除いた以外
は実施例1と同様になして修正液を得た。
【0037】比較例2 実施例1においてマイクロシリカ980Uを除き、ポリ
アクリル酸塩からなるアラソーブ800F(屈折率1.
5、平均粒子径40μm)(荒川化学工業製)を18部
加えた以外は実施例1と同様になして修正液を得た。
【0038】比較例3 実施例1においてマイクロシリカ980Uを除き、炭酸
カルシウムMC−T(屈折率1.6、平均粒子径0.0
7μm、)(丸尾カルシウム工業(株)製)を18部加
えた以外は実施例1と同様になして修正液を得た。
【0039】比較例4 実施例1においてマイクロシリカ980Uを除き、亜鉛
華(屈折率2.0、平均粒子径0.75μm、東京化学
(株)製)を18部加えた以外は実施例1と同様になし
て修正液を得た。
【0040】
【発明の効果】実施例1〜12、比較例1〜4で得られ
た修正液について隠蔽率試験を行った。結果を表1に示
す。
【0041】・隠蔽率試験:修正液を隠蔽率測定用紙
(JIS K 5400)に2ミルのアプリケーターで塗
布し、乾燥した後、45°,0°拡散反射率を算出し
た。
【0042】
【表1】
【0043】以上、詳細に説明したように、本発明に係
わる修正液は、隠蔽力が高く、薄い塗膜でも下地を隠蔽
できるという特長を有し、実用上極めて良好なものであ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 隠蔽材と、溶剤と、この溶剤に溶解又は
    分散可能な結合材と、屈折率1.8以下で、且つ平均粒
    子径が0.2〜10μmの粒子とから少なくともなる修
    正液。
JP21293791A 1991-07-30 1991-07-30 修正液 Pending JPH0532921A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10502884A (ja) * 1994-07-18 1998-03-17 ヘンケル コーポレーション 二層コートされた金属基材およびその製造方法
CN1058281C (zh) * 1995-02-16 2000-11-08 张展洪 水溶性无毒涂改液的生产方法

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