JPH05329221A - Fire extinguisher for semiconductor clean room - Google Patents

Fire extinguisher for semiconductor clean room

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Publication number
JPH05329221A
JPH05329221A JP16335492A JP16335492A JPH05329221A JP H05329221 A JPH05329221 A JP H05329221A JP 16335492 A JP16335492 A JP 16335492A JP 16335492 A JP16335492 A JP 16335492A JP H05329221 A JPH05329221 A JP H05329221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pure water
carbon dioxide
dioxide gas
valve device
fire
Prior art date
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Pending
Application number
JP16335492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toa Hayasaka
東亜 早坂
Michiyuki Harada
宙幸 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Corp
NTT Inc
Original Assignee
Mitsubishi Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Corp, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Mitsubishi Corp
Priority to JP16335492A priority Critical patent/JPH05329221A/en
Publication of JPH05329221A publication Critical patent/JPH05329221A/en
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  • Fire-Extinguishing By Fire Departments, And Fire-Extinguishing Equipment And Control Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体クリーンルームを汚染したり腐食した
りせず、かつ気流によって消火効果が低減しない消化器
具を提供する。 【構成】 使用時に安全ピン11を取り外し、安全スト
ッパ9を回動してレバー10と握り部8の間から取り除
いて、レバー10を握り部8と一緒に強く握ると、ガス
導入弁装置6で封止板5が破られ、二酸化炭素ガスボン
ベ7から二酸化炭素ガスが純水容器1内に噴出し、純水
2に溶け込むと同時に純水2を加圧する。加圧された純
水2は、サイホン管16からシール弁15を通ってホー
ス17の放出ノズル18から噴出し消火を行う。
(57) [Summary] [Purpose] To provide a fire extinguisher which does not contaminate or corrode a semiconductor clean room and whose fire extinguishing effect is not reduced by air flow. [Structure] When in use, the safety pin 11 is removed, the safety stopper 9 is rotated to remove it from between the lever 10 and the grip portion 8, and the lever 10 is firmly gripped together with the grip portion 8. The sealing plate 5 is broken, and carbon dioxide gas is ejected from the carbon dioxide gas cylinder 7 into the pure water container 1 and melts into the pure water 2 and simultaneously pressurizes the pure water 2. The pressurized pure water 2 is extinguished by ejecting from the discharge nozzle 18 of the hose 17 from the siphon pipe 16 through the seal valve 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造クリーンル
ームで使用可能な、清浄で、かつクリーンルーム清浄気
流によって消火剤が吹き流されない半導体クリーンルー
ム用消火器具に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fire extinguisher for a semiconductor clean room which can be used in a semiconductor manufacturing clean room and is clean and in which a fire extinguisher is not blown by a clean room clean air stream.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体クリーンルームに設置され
ている消火器等の消火器具としては、ABC粉末消火
器、泡消火器、ハロン消火器、二酸化炭素ガス消火器等
がある。ABC粉末消火器や泡消火器は、燃焼物に付着
して燃焼反応に必要な空気中の酸素の供給を断ち、消火
するものである。したがって、半導体クリーンルームの
ような気流のある場所で使用しても消火効果はほとんど
影響されない。しかし、消火剤の微粉末や飛沫が飛び散
り、クリーンルーム内のあらゆる場所に入り込んで汚染
源となり、容易に除去することが困難なため、場合によ
っては半導体クリーンルームとして使用できなくなるこ
とも考えられるので、半導体クリーンルームでの使用は
困難であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a fire extinguisher such as a fire extinguisher installed in a semiconductor clean room, there are an ABC powder fire extinguisher, a foam fire extinguisher, a halon fire extinguisher and a carbon dioxide gas fire extinguisher. The ABC powder fire extinguisher and the foam fire extinguisher extinguish the fire by adhering to the combustible substance and cutting off the supply of oxygen in the air necessary for the combustion reaction. Therefore, the fire extinguishing effect is hardly affected even when used in a place where there is an air flow such as a semiconductor clean room. However, fine powder and splashes of fire extinguishing agent will scatter and enter everywhere in the clean room to become a pollution source, which may be difficult to remove easily.Therefore, it may not be possible to use it as a semiconductor clean room. Was difficult to use.

【0003】ハロン消火器は、ハロンガスを使用した消
火器であり、6%程度の低濃度で消火できるため、クリ
ーンルームの気流にあまり影響されないで消火でき、し
かも、ハロンガスそのものは無害で清浄なガスであるた
めABC粉末消火器や泡消火器のような汚染の心配がな
く、クリーンルームで使用することに問題がないと考え
られてきた。しかし、ハロンはフロンと同類であり、今
後生産を削減し、使用しないことが国連の環境会議でも
認められているため、代替品の開発が必要とされてい
る。また、ハロンの消火機構は、ハロンが燃焼物の熱で
熱分解した時に発生する臭素ラジカルが燃焼反応である
酸化反応を阻害する負の触媒作用をすることに基づいて
いるが、ハロンの熱分解では臭素以外にも、ふっ酸や臭
酸といった強力な腐食性ガスが発生する。このため、精
密機械が設置されているクリーンルームでは、これらの
機械が腐食されるので、半導体クリーンルームで使用す
る場合には特別な対策が必要となり問題であった。
The halon fire extinguisher is a fire extinguisher using halon gas and can extinguish at a low concentration of about 6%, so that it can be extinguished without being significantly affected by the air flow in a clean room, and the halon gas itself is a harmless and clean gas. Therefore, it has been considered that there is no concern of contamination such as ABC powder fire extinguisher and foam fire extinguisher, and that there is no problem in using it in a clean room. However, halon is similar to chlorofluorocarbon, and it is necessary to develop alternatives because it has been approved by the United Nations Environment Council to reduce production and not use it. In addition, the extinguishing mechanism of halon is based on the fact that the bromine radicals that are generated when halon is thermally decomposed by the heat of a combustion product act as a negative catalyst that inhibits the oxidation reaction, which is a combustion reaction. Then, besides bromine, strong corrosive gases such as hydrofluoric acid and hydrobromic acid are generated. For this reason, these machines are corroded in a clean room in which precision machines are installed, so that a special measure is required when used in a semiconductor clean room, which is a problem.

【0004】二酸化炭素ガス消火器は、二酸化炭素ガス
で燃焼物を覆い、物理的に空気中の酸素を遮断して消火
する消火器である。この消火器は、腐食性ガスや汚染物
を発生しないので、クリーン度の点からは何ら問題はな
い。しかし、消火には50%以上の濃度を必要とし、し
かも、空気より重いガスであるため、垂直層流のクリー
ンルームでは消火剤である二酸化炭素ガスが床下に吹き
流されてしまい、消火効果が非常に低減されるので、半
導体クリーンルームでは消火器として能力を発揮できな
いといった問題点がある。
The carbon dioxide gas fire extinguisher is a fire extinguisher which covers the combusted material with carbon dioxide gas and physically shuts off oxygen in the air to extinguish the fire. Since this fire extinguisher does not generate corrosive gas or contaminants, there is no problem in terms of cleanliness. However, extinguishing requires a concentration of 50% or more, and since it is a gas heavier than air, carbon dioxide gas, which is an extinguishing agent, is blown under the floor in a vertical laminar clean room, and the extinguishing effect is extremely high. Therefore, there is a problem that it cannot be used as a fire extinguisher in a semiconductor clean room.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】以上の説明から分かる
ように、従来技術により提供される消火器等の消火器具
は、全て半導体クリーンルームで使用する場合、汚染や
腐食が問題となったり、消火器等の消火器具としての消
火効果が期待できなかったりといった重大な問題を抱え
ている。このため、クリーンで強力な消火効果のある半
導体クリーンルーム用消火器具の開発が強く望まれてい
た。
As can be seen from the above description, the fire extinguishers such as the fire extinguisher provided by the prior art are all contaminated or corroded when used in a semiconductor clean room. There is a serious problem that the fire extinguishing effect as a fire extinguisher cannot be expected. Therefore, there has been a strong demand for the development of a clean and powerful fire extinguisher for semiconductor clean rooms.

【0006】本発明は、半導体クリーンルームを汚染し
たり腐食したりしない純水と、二酸化炭素ガスを使用
し、半導体クリーンルーム内のような気流のある場所で
も効果のある半導体クリーンルーム用消火器具を提供す
ることを目的とする。
The present invention provides a fire extinguisher for a semiconductor clean room, which uses pure water that does not contaminate or corrode the semiconductor clean room and carbon dioxide gas and is effective even in a place where there is an air flow such as in the semiconductor clean room. The purpose is to

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明にかかる半導体ク
リーンルーム用消火器具は、二酸化炭素ガスを加圧封入
した二酸化炭素ガスボンベと、純水を封入した純水容器
と、消火時にガスボンベから純水容器へ二酸化炭素ガス
を導入するガス導入弁装置と、純水容器の一部を開放し
て二酸化炭素ガスの圧力で純水を噴出させる純水噴出弁
装置と、この純水噴出弁装置より噴出してくる二酸化炭
素ガスと純水を一方向に放出させるための放出ノズルと
からなり、純水容器は、少なくとも純水と接する部分が
純水を汚染しない材料で作成したものである。
A fire extinguisher for a semiconductor clean room according to the present invention is a carbon dioxide gas cylinder in which carbon dioxide gas is pressurized and sealed, a pure water container in which pure water is sealed, and a pure water container from a gas cylinder when extinguishing a fire. A gas introduction valve device for introducing carbon dioxide gas, a pure water jet valve device for opening a part of the pure water container to jet pure water at the pressure of carbon dioxide gas, and a pure water jet valve device for jetting The deionized water container is made of a material that does not contaminate the deionized water, at least a portion in contact with the deionized water.

【0008】また、純水容器へ純水を導入する純水導入
弁装置と、純水容器から純水が溢れ出る量を制御する溢
量制御弁装置と、火災検知器と、この火災検知器からの
信号で、各弁装置を作動させる制御装置を備えたもので
ある。
Further, a pure water introduction valve device for introducing pure water into the pure water container, an overflow control valve device for controlling the amount of pure water overflowing from the pure water container, a fire detector, and this fire detector. It is provided with a control device for actuating each valve device by a signal from.

【0009】[0009]

【作用】本発明においては、二酸化炭素ガスを純水に溶
解して使用するので、純水による消火作用と二酸化炭素
ガスによる消火作用の両方が同時に作用する。しかも、
二酸化炭素ガスは、それが溶解している純水から二酸化
炭素ガスがなくなるまで発生し続けるので、クリーンル
ーム内のような気流のある場所でも二酸化炭素が吹き流
され、瞬時にして消火作用がなくなるといったことはな
い。さらに、消火材は、純水と二酸化炭素ガスであり、
両方とも半導体製造で問題となるナトリウム等のアルカ
リ金属や鉄、クロム等の重金属等をほとんど含んでいな
い高純度な材料の入手が容易である。加えて、純水を長
期にわたって保存する容器の純水と接する部分が純水を
汚染しない材質で構成されている。したがって、消火剤
がクリーンルームを汚染することもないので、半導体ク
リーンルームに設置し、使用する消火器等の消火器具と
して問題がない。
In the present invention, since carbon dioxide gas is used after being dissolved in pure water, both the fire extinguishing action by pure water and the fire extinguishing action by carbon dioxide gas act simultaneously. Moreover,
Carbon dioxide gas continues to be generated until the carbon dioxide gas disappears from the pure water in which it is dissolved, so carbon dioxide is blown away even in a place with an air flow such as in a clean room, and the fire extinguishing effect disappears instantly. There is no such thing. Furthermore, the fire extinguishing materials are pure water and carbon dioxide gas,
In both cases, it is easy to obtain a high-purity material containing almost no alkali metals such as sodium and heavy metals such as iron and chromium, which are problems in semiconductor manufacturing. In addition, the portion of the container that stores pure water for a long period of time is made of a material that does not contaminate the pure water. Therefore, since the fire extinguishing agent does not contaminate the clean room, there is no problem as a fire extinguisher such as a fire extinguisher installed and used in the semiconductor clean room.

【0010】さらに、制御装置が火災検知器からの信号
を受けたとき各弁装置を作動させるので、消火を自動化
できる。
Further, since the control device operates each valve device when receiving a signal from the fire detector, extinguishing can be automated.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明の実施例の断面図である。1は
純水容器で、純水2が充填されている。純水容器1の内
側には純水2に溶けて重金属汚染源となることのない材
質、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)や
アルマイト処理されたアルミが使用されている。
1 is a sectional view of an embodiment of the present invention. A pure water container 1 is filled with pure water 2. Inside the pure water container 1, a material that does not dissolve in the pure water 2 and becomes a source of heavy metal contamination, such as polyether ether ketone (PEEK) or anodized aluminum is used.

【0012】純水容器1の上部には、二酸化炭素ガスボ
ンベホルダ3がネジでOリングシールされて固定され
る。二酸化炭素ガスボンベホルダ3の下部には、薄い封
止板5が封止板固定ネジ4で固定されシールされてい
る。封止板5の上にはニードル管等のガス導入弁装置6
があり、その上に二酸化炭素ガスボンベ7が設置されて
いる。
A carbon dioxide gas cylinder holder 3 is fixed on the pure water container 1 by O-ring sealing with a screw. Below the carbon dioxide gas cylinder holder 3, a thin sealing plate 5 is fixed and sealed with a sealing plate fixing screw 4. A gas introduction valve device 6 such as a needle tube is provided on the sealing plate 5.
There is a carbon dioxide gas cylinder 7 on it.

【0013】使用しない時は、安全ストッパ9が握り部
8とレバー10の間に固定されており、不用意にレバー
10により二酸化炭素ガスボンベ7が押し下げられない
ようになっている。使用する時は、安全ピン11を上方
に引き抜き、安全ストッパー9を弁開閉棒13を軸にし
て回し、握り部8およびレバー10の間からどけ、レバ
ー10と握り部8とを一緒に強く握るとレバーピン12
を支点に二酸化炭素ガスボンベ7が押し下げられ、二酸
化炭素ガスボンベ7のシール板(図示せず)および封止
板5の両方を突き破り、注射針のような細いニードル管
等のガス導入弁装置6内を通って二酸化炭素ガスボンベ
7内の二酸化炭素ガスが純水容器1の内部に放出され、
純水2に溶けるとともに純水容器1を加圧する。
When not in use, a safety stopper 9 is fixed between the grip portion 8 and the lever 10 so that the lever 10 cannot inadvertently push down the carbon dioxide gas cylinder 7. When using, the safety pin 11 is pulled out upward, the safety stopper 9 is rotated around the valve opening / closing rod 13, and is removed from between the grip portion 8 and the lever 10, and the lever 10 and the grip portion 8 are firmly gripped together. And lever pin 12
The carbon dioxide gas cylinder 7 is pushed down with the fulcrum as a fulcrum, and both the seal plate (not shown) and the sealing plate 5 of the carbon dioxide gas cylinder 7 are pierced and the inside of the gas introduction valve device 6 such as a thin needle tube such as an injection needle is penetrated. Carbon dioxide gas in the carbon dioxide gas cylinder 7 is discharged through the inside of the pure water container 1,
It is dissolved in pure water 2 and the pure water container 1 is pressurized.

【0014】さらに、強くレバー10を握ると、二酸化
炭素ガスボンベ7を支点にしてバネ14で下方に押さえ
られている弁開閉棒13を引き上げ、純水噴出弁装置で
あるシール弁15が開き、加圧された純水2がサイホン
管16、ホース17を通って放出ノイズ18から放射さ
れる。このとき、放出ノズル18をノズル固定部19か
ら離して消火対象物に向けると、消火対象物に二酸化炭
素ガスを含む純水2をかけることができ、消火すること
ができる。
Further, when the lever 10 is firmly gripped, the valve opening / closing rod 13 which is held downward by the spring 14 with the carbon dioxide gas cylinder 7 as a fulcrum is pulled up, and the deionized water jet valve device, the seal valve 15, is opened. The pressurized pure water 2 passes through the siphon pipe 16 and the hose 17 and is emitted from the emission noise 18. At this time, if the discharge nozzle 18 is separated from the nozzle fixing portion 19 and directed toward the fire extinguishing target, the pure water 2 containing carbon dioxide gas can be sprinkled on the fire extinguishing target to extinguish the fire.

【0015】図2は本発明による有機溶剤を使用するク
リーンベンチでの実施例である。図2において、20は
純水供給口で、純水導入弁装置21を介して純水容器2
2内に純粋2を供給する。23は前記純水2の溢れ出る
のを規制する溢量規制弁装置であり、24は流量計、2
5は純水リターン口である。26は二酸化炭素ガスボン
ベで、減圧弁27,ガスバルブ28,ガス配管29,ガ
ス導入弁装置30を介して純水容器22内に二酸化炭素
ガスを送出する。また、純水容器22の圧力のかかった
純水2は、放出配管31を介して放出ノズル32から噴
射される。33は洗浄槽、34は炎センサのような火災
検知器、35はクリーンベンチ、36はロート、37は
回収容器、38は廃水管、39は廃水容器、40はバル
ブ、41は廃水管、42は高水位センサ、42′は予報
用の高水位センサ、43は低水位センサ、44は制御装
置で、流量計24や火災検知器34の信号を受け、制御
配線45を介して純水導入弁装置21,ガス導入弁装置
30,バルブ40,溢量規制弁装置23,ガスバルブ2
8を制御する。この実施例では、純水導入弁装置21は
純水噴出弁装置を兼用している。
FIG. 2 shows an example of a clean bench using the organic solvent according to the present invention. In FIG. 2, reference numeral 20 is a pure water supply port, and a pure water container 2 is provided via a pure water introduction valve device 21.
Pure 2 is fed into 2. Reference numeral 23 is an overflow control valve device for restricting the overflow of the pure water 2, and 24 is a flow meter, 2
Reference numeral 5 is a pure water return port. A carbon dioxide gas cylinder 26 sends carbon dioxide gas into the pure water container 22 via the pressure reducing valve 27, the gas valve 28, the gas pipe 29, and the gas introduction valve device 30. Further, the pure water 2 under pressure of the pure water container 22 is jetted from the discharge nozzle 32 via the discharge pipe 31. 33 is a cleaning tank, 34 is a fire detector such as a flame sensor, 35 is a clean bench, 36 is a funnel, 37 is a collection container, 38 is a waste water pipe, 39 is a waste water container, 40 is a valve, 41 is a waste water pipe, 42 Is a high water level sensor, 42 'is a high water level sensor for forecasting, 43 is a low water level sensor, and 44 is a control device, which receives signals from the flow meter 24 and the fire detector 34 and receives the pure water introduction valve via the control wiring 45. Device 21, gas introduction valve device 30, valve 40, overflow control valve device 23, gas valve 2
Control eight. In this embodiment, the pure water introduction valve device 21 also serves as a pure water jet valve device.

【0016】次に、動作について説明する。純水容器2
2には、半導体工場の純水供給設備に接続されている純
水供給口20より、純水2が三方バルブ等からなる純水
導入弁装置21を通って常時供給され満たされている。
オーバーフローした純水2は、溢量規制弁装置23、流
量計24を通って純水リターン口25から純水供給設備
へ戻される。純水容器22への給水供給量は、流量計2
4で計算され、測定値は制御装置44に送られ、設定値
以下の場合は制御装置44により、溢量規制弁装置23
および純水導入弁装置21を閉にし、純水容器22に純
水2が満たされた状態を保つようになっている。
Next, the operation will be described. Pure water container 2
2, pure water 2 is constantly supplied from a pure water supply port 20 connected to a pure water supply facility of a semiconductor factory through a pure water introduction valve device 21 such as a three-way valve to be filled.
The overflowed pure water 2 is returned from the pure water return port 25 to the pure water supply facility through the overflow control valve device 23 and the flow meter 24. The amount of water supplied to the pure water container 22 is measured by the flow meter 2
4, the measured value is sent to the control device 44, and when the measured value is less than or equal to the set value, the control device 44 causes the overflow control valve device
Further, the pure water introducing valve device 21 is closed to keep the pure water container 22 filled with the pure water 2.

【0017】純水容器22が以上のようにして純水2で
満たされた状態で、クリーンベンチ35内の有機溶剤が
満たされた洗浄槽33に引火した場合を考える。
Consider a case where the pure water container 22 is filled with the pure water 2 as described above, and the cleaning tank 33 filled with the organic solvent in the clean bench 35 is ignited.

【0018】洗浄槽33の引火は直ちに火災検知器34
で検知され、制御装置44に伝えられると、制御装置4
4よりガスバルブ28およびガス導入弁装置30の開動
作が実行され、二酸化炭素ガスボンベ26内の二酸化炭
素ガスは減圧弁27で設定された圧力で純水容器22へ
吹き込まれ、純水2へ溶け込むとともに、純水容器22
を加圧する。このとき、制御装置44により溢量規制弁
装置23は閉じられ、純水導入弁装置21は純水容器2
2内の純水2が放出配管31を通って放出ノズル32よ
り放出される方向に開けられるので、放出ノズル32よ
り洗浄槽33へ二酸化炭素を含む純水2が放射され、消
火される。
The ignition of the cleaning tank 33 immediately causes a fire detector 34.
Is detected by the control device 44 and transmitted to the control device 44,
4, the opening operation of the gas valve 28 and the gas introduction valve device 30 is executed, and the carbon dioxide gas in the carbon dioxide gas cylinder 26 is blown into the pure water container 22 at the pressure set by the pressure reducing valve 27 and melts into the pure water 2. , Pure water container 22
Pressurize. At this time, the control device 44 closes the overflow control valve device 23, and the pure water introduction valve device 21 sets the pure water container 2
Since the pure water 2 in 2 is opened in the direction of being discharged from the discharge nozzle 32 through the discharge pipe 31, the pure water 2 containing carbon dioxide is radiated from the discharge nozzle 32 to the cleaning tank 33 to extinguish the fire.

【0019】この消火方法で問題となるのは、消火に用
いた純水2による漏水であるが、本実施例では、消火に
用いた純水2は廃水管38により廃水容器39へ導かれ
貯められる。廃水容器39の容量は、純水容器22に比
べ十分大きくしておくことにより、消火に用いた純水2
が溢れ出ることはない。
The problem with this fire extinguishing method is the leakage of the pure water 2 used for extinguishing the fire, but in this embodiment, the pure water 2 used for extinguishing is guided to the waste water container 39 by the waste water pipe 38 and stored. Be done. The capacity of the waste water container 39 is set to be sufficiently larger than that of the pure water container 22, so that the pure water 2
Never overflows.

【0020】有機溶剤を使用するクリーンベンチ35で
は、使用済の有機溶剤をロート36を用いて回収容器3
7に回収する方法が広く使用されているが、ロート36
の位置を廃水管38の位置より高い位置に設置すること
により、消火に用いた純水2がロート36から回収容器
37に流入するのが防止できる。
In the clean bench 35 using the organic solvent, the used organic solvent is collected by using the funnel 36.
The method of recovering in 7 is widely used, but the funnel 36
By arranging the position of 3 above the position of the waste water pipe 38, it is possible to prevent the pure water 2 used for extinguishing the fire from flowing from the funnel 36 into the recovery container 37.

【0021】なお、図2の実施例の場合も、純水容器2
2の内面は、純水2を汚染しない材質で構成するのがよ
い。
In the case of the embodiment shown in FIG. 2, the pure water container 2 is also used.
The inner surface of 2 is preferably made of a material that does not contaminate the pure water 2.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体製造クリーンルームに設置する消火器具におい
て、二酸化炭素ガスを加圧封入した二酸化炭素ガスボン
ベと、純水を封入した純水容器と、消火時に二酸化炭素
ガスボンベから純水容器へ二酸化炭素ガスを導入するガ
ス導入弁装置と、純水容器の一部を開放して二酸化炭素
ガスの圧力で純水を噴出させる純水噴出弁装置と、この
純水噴出弁装置より噴出してくる二酸化炭素ガスと純水
を一方向に放出させるための放出ノズルとからなるの
で、半導体クリーンルームの清浄度を損なうことなく有
効な消火作用を果たす半導体クリーンルーム用消火器具
を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
In a fire extinguisher installed in a semiconductor manufacturing clean room, a carbon dioxide gas cylinder pressurized with carbon dioxide gas, a pure water container filled with pure water, and a gas for introducing carbon dioxide gas from the carbon dioxide gas cylinder into the pure water container during fire extinguishing Introducing valve device, pure water jet valve device that opens a part of the pure water container and jets pure water by the pressure of carbon dioxide gas, carbon dioxide gas and pure water jetted from this pure water jet valve device Since it is composed of a discharge nozzle for discharging in one direction, it is possible to provide a fire extinguisher for a semiconductor clean room, which can effectively extinguish a fire without impairing the cleanliness of the semiconductor clean room.

【0023】また、純水を導入する純水導入弁装置と、
純水容器から純水が溢れ出る量を制御する溢量制御弁装
置と、火災検知器と、この火災検知器からの信号で各弁
装置を作動させる制御装置を備えたものは、自動消火を
行いうる利点がある。
A pure water introduction valve device for introducing pure water,
A device equipped with an overflow control valve device that controls the amount of deionized water that overflows from the pure water container, a fire detector, and a control device that activates each valve device with a signal from this fire detector will There are advantages that can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明するための一部を断面
で示した正面図である。
FIG. 1 is a front view showing a part in section for explaining an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例を説明するための構成なら
びに配線図である。
FIG. 2 is a configuration and wiring diagram for explaining another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 純水容器 2 純水 3 二酸化炭素ガスボンベホルダ 4 封止板固定ネジ 5 封止板 6 ガス導入弁装置 7 二酸化炭素ガスボンベ 8 握り部 9 安全ストッパ 10 レバー 11 安全ピン 12 レバーピン 13 弁開閉棒 14 バネ 15 シール弁 16 サイホン管 17 ホース 18 放出ノズル 19 ノズル固定具 20 純水供給口 21 純水導入弁装置 22 純水容器 23 溢量規制弁装置 24 流量計 25 純水リターン口 26 二酸化炭素ガスボンベ 27 減圧弁 28 ガスバルブ 29 ガス配管 30 ガス導入弁装置 31 放出配管 32 放出ノズル 33 洗浄槽 34 火災検知器 35 クリーンベンチ 36 ロート 37 回収容器 38 廃水管 39 廃水容器 40 バルブ 41 廃水管 42 高水位センサー 43 低水位センサー 44 制御装置 45 制御配線 1 Pure water container 2 Pure water 3 Carbon dioxide gas cylinder holder 4 Sealing plate fixing screw 5 Sealing plate 6 Gas introduction valve device 7 Carbon dioxide gas cylinder 8 Grip part 9 Safety stopper 10 Lever 11 Safety pin 12 Lever pin 13 Valve opening / closing rod 14 Spring 15 seal valve 16 siphon tube 17 hose 18 discharge nozzle 19 nozzle fixture 20 pure water supply port 21 pure water introduction valve device 22 pure water container 23 overflow control valve device 24 flow meter 25 pure water return port 26 carbon dioxide gas cylinder 27 decompression Valve 28 Gas valve 29 Gas pipe 30 Gas introduction valve device 31 Discharge pipe 32 Discharge nozzle 33 Cleaning tank 34 Fire detector 35 Clean bench 36 Funnel 37 Recovery container 38 Waste water pipe 39 Waste water container 40 Valve 41 Waste water pipe 42 High water level sensor 43 Low water level Sensor 44 Control device 45 Control Line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体製造クリーンルームに設置する消
火器具において、二酸化炭素ガスを加圧封入した二酸化
炭素ガスボンベと、純水を封入した純水容器と、消火時
に前記二酸化炭素ガスボンベから前記純水容器へ前記二
酸化炭素ガスを導入するガス導入弁装置と、前記純水容
器の一部を開放して二酸化炭素ガスの圧力で前記純水を
噴出させる純水噴出弁装置と、この純水噴出弁装置より
噴出してくる二酸化炭素ガスと純水を一方向に放出させ
るための放出ノズルとからなり、前記純水容器は、少な
くともその純水と接する部分が純水を汚染しない材質で
構成されていることを特徴とする半導体クリーンルーム
用消火器具。
1. A fire extinguisher to be installed in a semiconductor manufacturing clean room, wherein a carbon dioxide gas cylinder pressurized and filled with carbon dioxide gas, a pure water container filled with pure water, and the carbon dioxide gas cylinder to the pure water container when extinguishing a fire. A gas introduction valve device for introducing the carbon dioxide gas, a pure water ejection valve device for ejecting the pure water at a pressure of carbon dioxide gas by opening a part of the pure water container, and the pure water ejection valve device. It is composed of a jetting carbon dioxide gas and a discharge nozzle for discharging pure water in one direction, and the pure water container is made of a material that does not contaminate the pure water at least in a portion in contact with the pure water. Fire extinguishing equipment for semiconductor clean rooms.
【請求項2】 半導体製造クリーンルームに設置する消
火器具において、二酸化炭素ガスを加圧封入した二酸化
炭素ガスボンベと、純水を封入した純水容器と、消火時
に前記二酸化炭素ガスボンベから前記純水容器へ前記二
酸化炭素ガスを導入するガス導入弁装置と、前記純水容
器の一部を開放して二酸化炭素ガスの圧力で前記純水を
噴出させる純水噴出弁装置と、この純水噴出弁装置より
噴出してくる二酸化炭素ガスと純水を一方向に放出させ
るための放出ノズルと、前記純水容器へ純水を導入する
純水導入弁装置と、この純水導入弁装置から導入された
純水が前記純水容器から溢れ出る量を制御する溢量規制
弁装置と、火災検知器と、この火災検知器の信号により
前記各弁装置を制御して前記放出ノズルより二酸化炭素
ガスと純水を放出せしめる制御装置とからなるり、前記
純水容器は、少なくともその純水と接する部分が純水を
汚染しない材質で構成されていことを特徴とする半導体
クリーンルーム用消火器具。
2. A fire extinguisher to be installed in a semiconductor manufacturing clean room, wherein a carbon dioxide gas cylinder pressurized and filled with carbon dioxide gas, a pure water container filled with pure water, and the carbon dioxide gas cylinder to the pure water container when extinguishing a fire. A gas introduction valve device for introducing the carbon dioxide gas, a pure water ejection valve device for ejecting the pure water at a pressure of carbon dioxide gas by opening a part of the pure water container, and the pure water ejection valve device. A discharge nozzle for discharging the jetted carbon dioxide gas and pure water in one direction, a pure water introduction valve device for introducing pure water into the pure water container, and a pure water introduced from the pure water introduction valve device. An overflow control valve device for controlling the amount of water overflowing from the pure water container, a fire detector, and each of the valve devices controlled by a signal from the fire detector to control carbon dioxide gas and pure water from the discharge nozzle. Emit A fire extinguisher for a semiconductor clean room, characterized in that the deionized water container is made of a material that does not contaminate the deionized water, at least a portion in contact with the deionized water.
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