JPH05333201A - カラー基板の製造法 - Google Patents
カラー基板の製造法Info
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- JPH05333201A JPH05333201A JP4163583A JP16358392A JPH05333201A JP H05333201 A JPH05333201 A JP H05333201A JP 4163583 A JP4163583 A JP 4163583A JP 16358392 A JP16358392 A JP 16358392A JP H05333201 A JPH05333201 A JP H05333201A
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- color
- layer
- color filter
- sheet
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 印刷法を採用した場合であっても、平坦性が
良く、しかも精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造
すると共に、その薄膜のカラーフィルターから工業的に
有利にカラー基板を得る方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、
目標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素
(2a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収
縮された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カ
ラー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得る。つ
いで、形成されたカラーフィルターの微細カラー画素(2
b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c) となす工程と、形成されたカラーフィル
ターの基材シート(1a)側に流延法により基板層(6) を設
ける工程とを任意の順序で実施する。
良く、しかも精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造
すると共に、その薄膜のカラーフィルターから工業的に
有利にカラー基板を得る方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、
目標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素
(2a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収
縮された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カ
ラー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得る。つ
いで、形成されたカラーフィルターの微細カラー画素(2
b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c) となす工程と、形成されたカラーフィル
ターの基材シート(1a)側に流延法により基板層(6) を設
ける工程とを任意の順序で実施する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示ディス
プレイなどの目的に使用されるカラーフィルター付きの
基板に関するものである。
プレイなどの目的に使用されるカラーフィルター付きの
基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶表示ディスプレイ(LCD)に使用
されるカラーフィルターは、ガラス基板上にブラックマ
トリックス層、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色
層、オーバーコート層、透明電極を設けた構成を有す
る。
されるカラーフィルターは、ガラス基板上にブラックマ
トリックス層、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色
層、オーバーコート層、透明電極を設けた構成を有す
る。
【0003】ブラックマトリックス層は、LCDの光漏
れによるコントラストの低下防止、TFT素子の光リー
ク電流を抑える遮光層としての役割を果たす。
れによるコントラストの低下防止、TFT素子の光リー
ク電流を抑える遮光層としての役割を果たす。
【0004】着色層は、カラーフィルターの最も重要な
光学特性を決定する。R、G,Bのパターン配置は、モ
ザイク型、トライアングル型、ストライプ型、4画素配
置型などがある。
光学特性を決定する。R、G,Bのパターン配置は、モ
ザイク型、トライアングル型、ストライプ型、4画素配
置型などがある。
【0005】オーバーコート層は、着色層を保護し、汚
染から防ぎ、平坦性を付与するための層である。平坦性
の付与は、オーバーコート層形成後にその表面を研磨す
ることによりなされる。
染から防ぎ、平坦性を付与するための層である。平坦性
の付与は、オーバーコート層形成後にその表面を研磨す
ることによりなされる。
【0006】着色層の形成方法としては、印刷の原理を
応用した印刷法、フォトリソグラフィーを使用する染色
法や顔料分散法、電気化学的に色素を付着する電着法な
どがあるが、いずれも一長一短がある。
応用した印刷法、フォトリソグラフィーを使用する染色
法や顔料分散法、電気化学的に色素を付着する電着法な
どがあるが、いずれも一長一短がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】3原色が肉眼で混合さ
れるようにするためには、同一カラーの繰り返しピッチ
が300μm 以下となるようにフィルターを微細化する
必要がある。色のパターン精度や平坦性は直接画面の色
に影響を与えるため、パターンの寸法精度は数μm オー
ダー以下に抑えなければならず、平坦性も望ましくは±
0.1μm とか± 0.2μm 以下(特にSTNの場合は±0.
05μm 以下)が要求される。
れるようにするためには、同一カラーの繰り返しピッチ
が300μm 以下となるようにフィルターを微細化する
必要がある。色のパターン精度や平坦性は直接画面の色
に影響を与えるため、パターンの寸法精度は数μm オー
ダー以下に抑えなければならず、平坦性も望ましくは±
0.1μm とか± 0.2μm 以下(特にSTNの場合は±0.
05μm 以下)が要求される。
【0008】カラーLCDは現在では極めて高価である
が、その理由はカラーフィルターが極めて高価であるか
らである。
が、その理由はカラーフィルターが極めて高価であるか
らである。
【0009】着色層の形成方法のうち印刷法は、短工程
で本来大量複製技術であること、装置・ランニングコス
トが安いこと、大面積の加工ができることなどの点で、
大量生産、低コスト化が可能な方法であると期待されて
いるが、平坦性、パターン精度などの点で他の方法に比
し本質的に劣るという問題点がある。
で本来大量複製技術であること、装置・ランニングコス
トが安いこと、大面積の加工ができることなどの点で、
大量生産、低コスト化が可能な方法であると期待されて
いるが、平坦性、パターン精度などの点で他の方法に比
し本質的に劣るという問題点がある。
【0010】すなわち、印刷法にあっては粘性のあるイ
ンクに圧力をかけて圧着するため、パターン端部の精度
が出にくく、ずれや凹凸を生じやすい。印刷法による精
度は、量産レベルで、パターン解像度が70〜100μ
m 、寸法精度が300mm当りで±15μm 、平坦性が±
0.5μm といった程度である。
ンクに圧力をかけて圧着するため、パターン端部の精度
が出にくく、ずれや凹凸を生じやすい。印刷法による精
度は、量産レベルで、パターン解像度が70〜100μ
m 、寸法精度が300mm当りで±15μm 、平坦性が±
0.5μm といった程度である。
【0011】このような事情から、印刷法は現状では歩
留まりがかなり悪く、他の方法、たとえばフォトリソグ
ラフィー方法と比較して、それほど低コストにはなって
いないのが現状である。もし印刷法によっても平坦性が
良く、かつ精度の良い着色層を形成させることができれ
ば、その有用性ははかり知れないものとなる。
留まりがかなり悪く、他の方法、たとえばフォトリソグ
ラフィー方法と比較して、それほど低コストにはなって
いないのが現状である。もし印刷法によっても平坦性が
良く、かつ精度の良い着色層を形成させることができれ
ば、その有用性ははかり知れないものとなる。
【0012】本発明は、このような背景下において、印
刷法を採用した場合であっても、平坦性が良く、しかも
精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造すると共に、
その薄膜のカラーフィルターから工業的に有利にカラー
基板を得る方法を提供することを目的とするものであ
る。
刷法を採用した場合であっても、平坦性が良く、しかも
精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造すると共に、
その薄膜のカラーフィルターから工業的に有利にカラー
基板を得る方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明のカラー基板の製
造法は、収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、目
標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素(2
a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収縮
された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラ
ー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得るカラー
フィルター製造工程A、形成されたカラーフィルターの
微細カラー画素(2b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化
型または活性エネルギー線硬化型の樹脂液を供給して該
樹脂液が両者間に層状に担持されるようにし、ついでそ
の担持層を硬化させて硬化層(c) となす平坦化処理工程
B、および形成されたカラーフィルターの基材シート(1
a)側に、流延法により基板層(6)を設ける基板層設置工
程C、からなり、かつ工程Aの実施後に工程Bと工程C
を同時にまたは任意の順序で実施することを特徴とする
ものである。
造法は、収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、目
標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素(2
a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収縮
された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラ
ー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得るカラー
フィルター製造工程A、形成されたカラーフィルターの
微細カラー画素(2b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化
型または活性エネルギー線硬化型の樹脂液を供給して該
樹脂液が両者間に層状に担持されるようにし、ついでそ
の担持層を硬化させて硬化層(c) となす平坦化処理工程
B、および形成されたカラーフィルターの基材シート(1
a)側に、流延法により基板層(6)を設ける基板層設置工
程C、からなり、かつ工程Aの実施後に工程Bと工程C
を同時にまたは任意の順序で実施することを特徴とする
ものである。
【0014】以下本発明を詳細に説明する。なお、本発
明において「シート」とは薄膜を意味し、厚さを限定す
るものではない。
明において「シート」とは薄膜を意味し、厚さを限定す
るものではない。
【0015】カラーフィルター製造工程A 収縮性シートからなる基材シート(1a)としては、加熱、
湿気、活性エネルギー線照射、機械的伸張状態の解除等
の手段により一軸または二軸方向に収縮する性質を有す
る透明シートが用いられる。基材シート(1a)は、これを
収縮させたときにレターデーション値が60nm以下とな
ることが好ましい。
湿気、活性エネルギー線照射、機械的伸張状態の解除等
の手段により一軸または二軸方向に収縮する性質を有す
る透明シートが用いられる。基材シート(1a)は、これを
収縮させたときにレターデーション値が60nm以下とな
ることが好ましい。
【0016】特に、熱可塑性プラスチックスシートを一
軸または二軸方向に延伸し、熱固定を省略するか、収縮
性を失わない程度に制限した条件で熱固定して得られる
熱収縮性シートが重要である。ここで熱可塑性プラスチ
ックスとしては、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリスルホン、ポリエステル、ポリアミ
ド、塩酸ゴム、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロ
ース誘導体などが例示される。
軸または二軸方向に延伸し、熱固定を省略するか、収縮
性を失わない程度に制限した条件で熱固定して得られる
熱収縮性シートが重要である。ここで熱可塑性プラスチ
ックスとしては、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリスルホン、ポリエステル、ポリアミ
ド、塩酸ゴム、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロ
ース誘導体などが例示される。
【0017】上記基材シート(1a)へのR、G,Bの拡大
カラー画素(2a)の形成は、好ましくは印刷法によりなさ
れる。拡大カラー画素(2a)の印刷は目標サイズよりも大
きいサイズに設定するので、印刷法の採用が可能とな
る。印刷方式としては、オフセット印刷、平版オフセッ
ト印刷、凹版オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、グラビア印刷などがあげられる。インクとして
は、染料と溶媒とからなるインクあるいはそれにさらに
バインダーを配合したインク、顔料( 0.1μm 以下に粉
砕したものであることが望ましい)、溶媒およびバイン
ダーからなるインクなどが用いられる。なお拡大カラー
画素(2a)の形成の前にあるいは形成後に、通常はブラッ
クマトリックス層(4) の形成を行う。
カラー画素(2a)の形成は、好ましくは印刷法によりなさ
れる。拡大カラー画素(2a)の印刷は目標サイズよりも大
きいサイズに設定するので、印刷法の採用が可能とな
る。印刷方式としては、オフセット印刷、平版オフセッ
ト印刷、凹版オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、グラビア印刷などがあげられる。インクとして
は、染料と溶媒とからなるインクあるいはそれにさらに
バインダーを配合したインク、顔料( 0.1μm 以下に粉
砕したものであることが望ましい)、溶媒およびバイン
ダーからなるインクなどが用いられる。なお拡大カラー
画素(2a)の形成の前にあるいは形成後に、通常はブラッ
クマトリックス層(4) の形成を行う。
【0018】R、G,Bの拡大カラー画素(2a)のパター
ン配置は、モザイク型、トライアングル型、ストライプ
型、4画素配置型などとすることができる。
ン配置は、モザイク型、トライアングル型、ストライプ
型、4画素配置型などとすることができる。
【0019】上記のようにしてカラーフィルター用材料
を得た後は、基材シート(1a)の収縮挙動に応じて該基材
シート(1a)を収縮させる。たとえば、基材シート(1a)が
熱収縮性を有するときは、加熱して収縮させる。
を得た後は、基材シート(1a)の収縮挙動に応じて該基材
シート(1a)を収縮させる。たとえば、基材シート(1a)が
熱収縮性を有するときは、加熱して収縮させる。
【0020】これにより、収縮された基材シート(1b)上
に目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成された
カラーフィルターが容易に得られる。
に目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成された
カラーフィルターが容易に得られる。
【0021】平坦化処理工程B そして本発明においては、形成された微細カラー画素(2
b)と平滑化鋳型材(3)との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c)となす。
b)と平滑化鋳型材(3)との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c)となす。
【0022】ここで熱硬化型の樹脂液としては、フェノ
キシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ウレタン樹脂などがあげられ、特に好ましい樹脂
は下記の化1で示されるフェノキシエーテル型重合体で
ある。
キシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ウレタン樹脂などがあげられ、特に好ましい樹脂
は下記の化1で示されるフェノキシエーテル型重合体で
ある。
【0023】
【化1】
【0024】(式中、R1 〜R6 は、それぞれ水素、炭
素数1〜3の低級アルキル基またはBr、R7 は炭素数
2〜4の低級アルキレン基、mは0〜3の整数、nは2
0〜300の整数をそれぞれ意味する。)
素数1〜3の低級アルキル基またはBr、R7 は炭素数
2〜4の低級アルキレン基、mは0〜3の整数、nは2
0〜300の整数をそれぞれ意味する。)
【0025】活性エネルギー線硬化型の樹脂液として
は、光重合性を有するプレポリマーまたは/およびモノ
マーに、必要に他の単官能または多官能モノマー、各種
ポリマー、光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物
が用いられる。
は、光重合性を有するプレポリマーまたは/およびモノ
マーに、必要に他の単官能または多官能モノマー、各種
ポリマー、光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物
が用いられる。
【0026】ここで光重合性プレポリマーとしては、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、2官能アクリレート、3官能以上のアク
リレートなどが例示される。これらの中では、硬化後の
物性が良好なエポキシアクリレートが特に有用であるの
で、これを少なくとも一部用いることが望ましい。
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、2官能アクリレート、3官能以上のアク
リレートなどが例示される。これらの中では、硬化後の
物性が良好なエポキシアクリレートが特に有用であるの
で、これを少なくとも一部用いることが望ましい。
【0027】光重合性を有するプレポリマーまたはモノ
マーとしては、上記のほか、ホスファゼン系樹脂も好適
に用いられる。
マーとしては、上記のほか、ホスファゼン系樹脂も好適
に用いられる。
【0028】活性エネルギー線硬化型樹脂が紫外線硬化
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。
【0029】活性エネルギー線硬化型樹脂には、そのほ
か、ポリイソシアネート化合物を配合して改質を図った
り、少量の溶剤などを配合することもできる。ここでポ
リイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニル
メタンジイソシアネートまたはその変性物、イソホロン
ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネートをはじめ
とする各種のポリイソシアネートあるいはこれらのポリ
イソシアネートのアダクトやプレポリマーがあげられ、
殊に、ヘキサメチレンジイソシアネートをはじめとする
比較的長鎖の脂肪族ポリイソシアネートの誘導体が好ま
しい。ポリイソシアネート化合物を配合するときの配合
量は、活性エネルギー線硬化型の樹脂液に対し2〜30
重量%程度を占めるようにすることが望ましい。
か、ポリイソシアネート化合物を配合して改質を図った
り、少量の溶剤などを配合することもできる。ここでポ
リイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニル
メタンジイソシアネートまたはその変性物、イソホロン
ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネートをはじめ
とする各種のポリイソシアネートあるいはこれらのポリ
イソシアネートのアダクトやプレポリマーがあげられ、
殊に、ヘキサメチレンジイソシアネートをはじめとする
比較的長鎖の脂肪族ポリイソシアネートの誘導体が好ま
しい。ポリイソシアネート化合物を配合するときの配合
量は、活性エネルギー線硬化型の樹脂液に対し2〜30
重量%程度を占めるようにすることが望ましい。
【0030】平坦性の良い硬化層(c) を得る具体的な方
法の一つは、微細カラー画素(2b)と平滑フィルムからな
る平滑化鋳型材(3) との間隙に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に挟持されるようにし、ついで加熱または活性エネ
ルギー線(紫外線や電子線)の照射により上記の挟持層
を硬化させて硬化層(c) となす方法である。加熱条件や
照射条件(積算光量や線量)は、硬化層(c) の厚さなど
を考慮して最適範囲に設定し、平滑化鋳型材(3) の円滑
剥離性や硬化層(c) の耐溶剤性を確保するようにする。
平滑化鋳型材(3) は、爾後の任意の段階で剥離除去す
る。
法の一つは、微細カラー画素(2b)と平滑フィルムからな
る平滑化鋳型材(3) との間隙に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に挟持されるようにし、ついで加熱または活性エネ
ルギー線(紫外線や電子線)の照射により上記の挟持層
を硬化させて硬化層(c) となす方法である。加熱条件や
照射条件(積算光量や線量)は、硬化層(c) の厚さなど
を考慮して最適範囲に設定し、平滑化鋳型材(3) の円滑
剥離性や硬化層(c) の耐溶剤性を確保するようにする。
平滑化鋳型材(3) は、爾後の任意の段階で剥離除去す
る。
【0031】上記における平滑化鋳型材(3) としては、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。
【0032】これらの平滑フィルムは、その表面粗度が
0.15μm 以下、好ましくは 0.1μm以下、さらには0.05
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平坦性が得られなくなる。上記
の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのうち
填料を配合しないものは、二軸延伸により表面平滑性が
顕著に向上するので、平坦性を極限にまで上げることが
できる。
0.15μm 以下、好ましくは 0.1μm以下、さらには0.05
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平坦性が得られなくなる。上記
の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのうち
填料を配合しないものは、二軸延伸により表面平滑性が
顕著に向上するので、平坦性を極限にまで上げることが
できる。
【0033】平坦性の良い硬化層(c) を得る第2の方法
は、微細カラー画素(2b)上または平滑フィルムからなる
平滑化鋳型材(3) の一方に樹脂液を流延しておき、該流
延層に平滑化鋳型材(3) またはカラーフィルターの微細
カラー画素(2b)側を被覆させながらロールの間隙により
挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を硬化させて硬化層
(c) となす方法である。
は、微細カラー画素(2b)上または平滑フィルムからなる
平滑化鋳型材(3) の一方に樹脂液を流延しておき、該流
延層に平滑化鋳型材(3) またはカラーフィルターの微細
カラー画素(2b)側を被覆させながらロールの間隙により
挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を硬化させて硬化層
(c) となす方法である。
【0034】平坦性の良い硬化層(c) を得る第3の方法
は、微細カラー画素(2b)上に樹脂液を流延しておき、該
流延層に平滑化鋳型材(3) としての平滑加工したガラス
を押し当てながら挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を
硬化させて硬化層(c) となす方法である。この方法にお
いては、使用したガラスを反復使用する。
は、微細カラー画素(2b)上に樹脂液を流延しておき、該
流延層に平滑化鋳型材(3) としての平滑加工したガラス
を押し当てながら挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を
硬化させて硬化層(c) となす方法である。この方法にお
いては、使用したガラスを反復使用する。
【0035】上記の各方法により形成される硬化層(c)
の自由面の表面粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性
の程度などに応じ、 0.3μm 以下、好ましくは 0.2μm
以下、さらに好ましくは 0.1μm 以下となる。一般に、
溶融押出フィルムの表面粗度は100μm 厚のフィルム
で2〜3μm あるいはそれ以上、流延製膜フィルムの表
面粗度は100μm 厚のフィルムで 0.5〜1μm である
から、硬化層(c) の自由面の表面粗度は極めて小さいも
のである。また硬化層(c) の耐熱性、耐溶剤性、透明電
極形成性もすぐれたものとなる。
の自由面の表面粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性
の程度などに応じ、 0.3μm 以下、好ましくは 0.2μm
以下、さらに好ましくは 0.1μm 以下となる。一般に、
溶融押出フィルムの表面粗度は100μm 厚のフィルム
で2〜3μm あるいはそれ以上、流延製膜フィルムの表
面粗度は100μm 厚のフィルムで 0.5〜1μm である
から、硬化層(c) の自由面の表面粗度は極めて小さいも
のである。また硬化層(c) の耐熱性、耐溶剤性、透明電
極形成性もすぐれたものとなる。
【0036】硬化層(c) の厚さは適宜に設定できるが、
余りに厚くなると色相ずれを生じたり視角が狭くなった
りするので、1〜20μm 、殊に2〜10μm とするこ
とが多い。
余りに厚くなると色相ずれを生じたり視角が狭くなった
りするので、1〜20μm 、殊に2〜10μm とするこ
とが多い。
【0037】基板層設置工程C 本発明においては、上記の工程Aで得たカラーフィルタ
ーの基材シート(1a)側に、流延法により基板層(6) を設
ける。
ーの基材シート(1a)側に、流延法により基板層(6) を設
ける。
【0038】基板層(6) としては、一般基材層(ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル
スルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファ
スポリオレフィン、ポリアミドなど)、耐透気性樹脂層
(エチレン−ビニルアルコール共重合体層など)、架橋
性樹脂硬化物層(フェノキシエーテル型架橋性樹脂な
ど)があげられ、これらの層を適宜組み合わせて積層し
た層(耐透気性樹脂層/基材層、耐透気性樹脂層/基材
層/耐透気性樹脂層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂
硬化物層/耐透気性樹脂層/基材層/耐透気性樹脂層/
架橋性樹脂硬化物層など)とすることもできる。
ーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル
スルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファ
スポリオレフィン、ポリアミドなど)、耐透気性樹脂層
(エチレン−ビニルアルコール共重合体層など)、架橋
性樹脂硬化物層(フェノキシエーテル型架橋性樹脂な
ど)があげられ、これらの層を適宜組み合わせて積層し
た層(耐透気性樹脂層/基材層、耐透気性樹脂層/基材
層/耐透気性樹脂層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂
硬化物層/耐透気性樹脂層/基材層/耐透気性樹脂層/
架橋性樹脂硬化物層など)とすることもできる。
【0039】基板層(6) は光等方性が要求されるので、
流延法により設けることが必要となる。
流延法により設けることが必要となる。
【0040】カラー基板 上記の工程A実施後、工程Bと工程Cを同時にまたは任
意の順序で実施することにより、本発明のカラー基板が
得られる。
意の順序で実施することにより、本発明のカラー基板が
得られる。
【0041】カラー液晶表示ディスプレイに用いるとき
は、工程B終了後あるいはカラー基板製造後に、硬化層
(c) の上からITOなどの透明電極(5) を形成させる。
は、工程B終了後あるいはカラー基板製造後に、硬化層
(c) の上からITOなどの透明電極(5) を形成させる。
【0042】基板層(6) を含めたカラー基板全体の厚さ
は50〜1000μm 程度とするのが適当である。
は50〜1000μm 程度とするのが適当である。
【0043】このカラー基板と対向基板との間に液晶を
封入して液晶セルとなし、さらにその液晶セルに偏光板
や必要に応じ位相差板を積層することにより、液晶表示
ディスプレイが作製される。対向基板は、ガラス基板で
あってもプラスチクッス基板であってもよい。
封入して液晶セルとなし、さらにその液晶セルに偏光板
や必要に応じ位相差板を積層することにより、液晶表示
ディスプレイが作製される。対向基板は、ガラス基板で
あってもプラスチクッス基板であってもよい。
【0044】
【作用】上述のように、収縮性シートからなる基材シー
ト(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ(たとえば
面積で2倍以上、望ましくは3倍以上)を有する拡大カ
ラー画素(2a)を設けた後、これを収縮させると、収縮さ
れた基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラー
画素(2b)が形成されたカラーフィルターが得られる。た
とえば、収縮性シートからなる基材シート(1a)として一
軸方向につき1/nに収縮するものを用いて拡大カラー
画素(2a)を目標値のn倍に設定して印刷を行い、ついで
これを収縮させて1/nに戻せばよい。収縮後の微細カ
ラー画素(2b)は、大きさが小さくなるだけでなく、その
収縮率に応じて色濃度も濃くなる。
ト(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ(たとえば
面積で2倍以上、望ましくは3倍以上)を有する拡大カ
ラー画素(2a)を設けた後、これを収縮させると、収縮さ
れた基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラー
画素(2b)が形成されたカラーフィルターが得られる。た
とえば、収縮性シートからなる基材シート(1a)として一
軸方向につき1/nに収縮するものを用いて拡大カラー
画素(2a)を目標値のn倍に設定して印刷を行い、ついで
これを収縮させて1/nに戻せばよい。収縮後の微細カ
ラー画素(2b)は、大きさが小さくなるだけでなく、その
収縮率に応じて色濃度も濃くなる。
【0045】このようにして得られたカラーフィルター
にあっては、微細カラー画素(2b)上に平坦性の極めてす
ぐれた硬化層(c) が形成されているので、カラーフィル
ターとしての性能が極めてすぐれたものとなっている。
にあっては、微細カラー画素(2b)上に平坦性の極めてす
ぐれた硬化層(c) が形成されているので、カラーフィル
ターとしての性能が極めてすぐれたものとなっている。
【0046】そしてこのカラーフィルターの基材シート
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねていることになる。
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねていることになる。
【0047】
【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。以下「部」とあるのは重量部である。
る。以下「部」とあるのは重量部である。
【0048】実施例1 図1は本発明のカラー基板の製造工程の一例を示した説
明図である。
明図である。
【0049】厚さ30μm のエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体フィルムを加熱下に縦横方向に各4倍延伸し
た後、収縮性を損なわない程度に熱固定し、熱収縮性フ
ィルム(1a)を得た。
ル共重合体フィルムを加熱下に縦横方向に各4倍延伸し
た後、収縮性を損なわない程度に熱固定し、熱収縮性フ
ィルム(1a)を得た。
【0050】この熱収縮性フィルム(1a)に、ブラックマ
トリックス層(4) の印刷を行ってから、染料系のインク
を用いてR、G、Bの拡大カラー画素(2a)を順次印刷し
た。各拡大カラー画素(2a)の大きさは、いずれも280
μm 角に設定した。
トリックス層(4) の印刷を行ってから、染料系のインク
を用いてR、G、Bの拡大カラー画素(2a)を順次印刷し
た。各拡大カラー画素(2a)の大きさは、いずれも280
μm 角に設定した。
【0051】このようにして得られたカラーフィルター
材料を加熱雰囲気下に保ち、縦横方向に各1/4に熱収
縮させて延伸前の大きさとなした。
材料を加熱雰囲気下に保ち、縦横方向に各1/4に熱収
縮させて延伸前の大きさとなした。
【0052】これにより、収縮された基材シート(1b)上
に、目標サイズ(それぞれ70μm角) を有する微細カ
ラー画素(2b)が形成された。該微細カラー画素(2b)の色
濃度は、拡大カラー画素(2a)の色濃度よりも濃いもので
あった。
に、目標サイズ(それぞれ70μm角) を有する微細カ
ラー画素(2b)が形成された。該微細カラー画素(2b)の色
濃度は、拡大カラー画素(2a)の色濃度よりも濃いもので
あった。
【0053】別途、平滑化鋳型材(3) として、厚さ50
μm 、表面粗度0.01μm 以下のコロナ放電処理していな
い二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人
株式会社製Oタイプ)を準備した。
μm 、表面粗度0.01μm 以下のコロナ放電処理していな
い二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人
株式会社製Oタイプ)を準備した。
【0054】新日鉄化学株式会社製のエポキシアクリル
樹脂「V−2550P」100部に、ポリイソシアネー
ト化合物の一例である下記の化2で示される日本ポリウ
レタン工業株式会社製の「コロネート2094」(粘度
10000cp/25℃)3部を加え、さらにベンゾフェノン2部
を加えて混合することにより、活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物の樹脂液を調製した。
樹脂「V−2550P」100部に、ポリイソシアネー
ト化合物の一例である下記の化2で示される日本ポリウ
レタン工業株式会社製の「コロネート2094」(粘度
10000cp/25℃)3部を加え、さらにベンゾフェノン2部
を加えて混合することにより、活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物の樹脂液を調製した。
【0055】
【化2】
【0056】この樹脂液を上記の平滑化鋳型材(3) の表
面に流延した後、その流延面に上記のカラーフィルター
の微細カラー画素(2b)側を重ね合わせ、紫外線照射装置
にて下記の条件で紫外線照射を行った。
面に流延した後、その流延面に上記のカラーフィルター
の微細カラー画素(2b)側を重ね合わせ、紫外線照射装置
にて下記の条件で紫外線照射を行った。
【0057】紫外線照射条件 紫外線照射装置 ウシオ電機株式会社製UVC−253
/1MNLC3−AA08 ランプ 高圧水銀ランプ 120W/cm 照射距離 200mm コンベア速度 3m/min
/1MNLC3−AA08 ランプ 高圧水銀ランプ 120W/cm 照射距離 200mm コンベア速度 3m/min
【0058】紫外線照射により挟持層は硬化して、活性
エネルギー線硬化型樹脂硬化層(c)となった。これによ
り、平滑化鋳型材(3) /活性エネルギー線硬化型樹脂硬
化層(c) /微細カラー画素(2b)/基材シート(1b)の層構
成を有する積層体が得られた。ついで平滑化鋳型材(3)
を剥離除去したが、剥離除去性は円滑であった。
エネルギー線硬化型樹脂硬化層(c)となった。これによ
り、平滑化鋳型材(3) /活性エネルギー線硬化型樹脂硬
化層(c) /微細カラー画素(2b)/基材シート(1b)の層構
成を有する積層体が得られた。ついで平滑化鋳型材(3)
を剥離除去したが、剥離除去性は円滑であった。
【0059】このようにして得られた硬化層(c) 付きカ
ラーフィルターの硬化層(c) の厚さは5μm 、表面の鉛
筆硬度は4H、自由面の表面平滑度は光の干渉を利用し
た非接触式表面粗さ計による測定で0.05μm (つまり±
0.025μm )以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトア
ミド、44±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細
カラー画素(2b)との間の密着性も良好であった。
ラーフィルターの硬化層(c) の厚さは5μm 、表面の鉛
筆硬度は4H、自由面の表面平滑度は光の干渉を利用し
た非接触式表面粗さ計による測定で0.05μm (つまり±
0.025μm )以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトア
ミド、44±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細
カラー画素(2b)との間の密着性も良好であった。
【0060】次に、上記の硬化層(c) 付きカラーフィル
ターの基材シート(1b)側に、フェノキシエーテル樹脂
(東都化成株式会社製)40部、メチルエチルケトン4
0部、セロソルブアセテート20部、トリレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとのアダクト体の7
5%溶液(日本ポリウレタン株式会社製「コロネート
L」)40部よりなる組成の熱硬化型の樹脂液を流延し
た後、80℃で4分間乾燥し、さらに110℃で40分
間加熱して、フェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂硬
化層からなる厚さ70μm の基板層(6) を形成させた。
これにより、目的とするカラー基板が得られた。
ターの基材シート(1b)側に、フェノキシエーテル樹脂
(東都化成株式会社製)40部、メチルエチルケトン4
0部、セロソルブアセテート20部、トリレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとのアダクト体の7
5%溶液(日本ポリウレタン株式会社製「コロネート
L」)40部よりなる組成の熱硬化型の樹脂液を流延し
た後、80℃で4分間乾燥し、さらに110℃で40分
間加熱して、フェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂硬
化層からなる厚さ70μm の基板層(6) を形成させた。
これにより、目的とするカラー基板が得られた。
【0061】このカラー基板の硬化層(c) 面にスパッタ
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
【0062】このカラー基板とITO付きの対向基板
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
【0063】実施例2 実施例1と同様にして、収縮された基材シート(1b)上に
目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成されたカ
ラーフィルターを製造した。
目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成されたカ
ラーフィルターを製造した。
【0064】フェノキシエーテル樹脂(東都化成株式会
社製)40部、メチルエチルケトン40部、セロソルブ
アセテート20部、トリレンジイソシアネートとトリメ
チロールプロパンとのアダクト体の75%溶液(日本ポ
リウレタン株式会社製「コロネートL」)40部よりな
る組成の熱硬化型の樹脂液を準備し、この樹脂液を、上
記の微細カラー画素(2b)と実施例1と同じ平滑化鋳型材
(3) との間隙に吐出しつつ、該樹脂液が両者間に層状に
挟持されるようにしてから、80℃で4分間乾燥し、さ
らに120℃で20分間加熱して、フェノキシエーテル
樹脂系の架橋性樹脂硬化層(c) を形成させ、ついで平滑
化鋳型材(3) を剥離除去した。
社製)40部、メチルエチルケトン40部、セロソルブ
アセテート20部、トリレンジイソシアネートとトリメ
チロールプロパンとのアダクト体の75%溶液(日本ポ
リウレタン株式会社製「コロネートL」)40部よりな
る組成の熱硬化型の樹脂液を準備し、この樹脂液を、上
記の微細カラー画素(2b)と実施例1と同じ平滑化鋳型材
(3) との間隙に吐出しつつ、該樹脂液が両者間に層状に
挟持されるようにしてから、80℃で4分間乾燥し、さ
らに120℃で20分間加熱して、フェノキシエーテル
樹脂系の架橋性樹脂硬化層(c) を形成させ、ついで平滑
化鋳型材(3) を剥離除去した。
【0065】このようにして得られたカラーフィルター
の硬化層(c) の厚さは3μm 、表面の鉛筆硬度は3H、
自由面の表面平滑度は光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計による測定で0.05μm (つまり± 0.025μm )μ
m 以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトアミド、44
±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細カラー画素
(2b)との間の密着性も良好であった。
の硬化層(c) の厚さは3μm 、表面の鉛筆硬度は3H、
自由面の表面平滑度は光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計による測定で0.05μm (つまり± 0.025μm )μ
m 以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトアミド、44
±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細カラー画素
(2b)との間の密着性も良好であった。
【0066】以下実施例1と同様にしてフェノキシエー
テル樹脂系の架橋性樹脂硬化層からなる厚さ80μm の
基板層(6) を形成させ、カラー基板を得た。
テル樹脂系の架橋性樹脂硬化層からなる厚さ80μm の
基板層(6) を形成させ、カラー基板を得た。
【0067】このカラー基板の硬化層(c) 面にスパッタ
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
【0068】このカラー基板とITO付きの対向基板
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
【0069】
【発明の効果】本発明においては、収縮性シートからな
る基材シート(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ
を有する拡大カラー画素(2a)を設けるようにしてあるの
で、通常程度の精密技術で失敗なく正確にパターンを形
成することができる。
る基材シート(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ
を有する拡大カラー画素(2a)を設けるようにしてあるの
で、通常程度の精密技術で失敗なく正確にパターンを形
成することができる。
【0070】そして、その後にこれを収縮させるように
しているので、目標サイズを有する微細カラー画素(2b)
が形成されたカラーフィルターが得られる。
しているので、目標サイズを有する微細カラー画素(2b)
が形成されたカラーフィルターが得られる。
【0071】加えて、基材シート(1a)上に形成させる拡
大カラー画素(2a)の膜厚を薄くしても(従って色濃度が
それほど濃くなくても)、収縮により色濃度が濃くなる
という利点もある。
大カラー画素(2a)の膜厚を薄くしても(従って色濃度が
それほど濃くなくても)、収縮により色濃度が濃くなる
という利点もある。
【0072】さらに本発明により得られるカラーフィル
ターにあっては、微細カラー画素(2b)の表面が硬化層
(c) により極限にまで平坦化されている。
ターにあっては、微細カラー画素(2b)の表面が硬化層
(c) により極限にまで平坦化されている。
【0073】従って、従来においては精度、平坦性およ
び歩留まりの点で難があるため他の方法に比し必ずしも
有利とは言えなかった印刷法の欠点を完全に解消してい
る。よって、短工程で、装置・ランニングコストが安
く、大面積の加工ができるという印刷法の利点がそのま
ま生かされ、カラーフィルターの大量生産および低コス
ト化が図られる。
び歩留まりの点で難があるため他の方法に比し必ずしも
有利とは言えなかった印刷法の欠点を完全に解消してい
る。よって、短工程で、装置・ランニングコストが安
く、大面積の加工ができるという印刷法の利点がそのま
ま生かされ、カラーフィルターの大量生産および低コス
ト化が図られる。
【0074】そしてこのカラーフィルターの基材シート
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねており、従来のカラー基板とは全く異なる構成と
なっている。
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねており、従来のカラー基板とは全く異なる構成と
なっている。
【図1】本発明のカラー基板の製造工程の一例を示した
説明図である。
説明図である。
(1a)…基材シート、熱収縮性フィルム、 (1b)…収縮された基材シート、 (2a)…拡大カラー画素、 (2b)…微細カラー画素、 (R) …赤の画素、(G) …緑の画素、(B) …青の画素、 (4) …ブラックマトリックス層、 (5) …ITO、透明電極、 (6) …基板層、 (c) …硬化層
Claims (1)
- 【請求項1】収縮性シートからなる基材シート(1a)上
に、目標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー
画素(2a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させ
て、収縮された基材シート(1b)上に目標サイズを有する
微細カラー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得
るカラーフィルター製造工程A、 形成されたカラーフィルターの微細カラー画素(2b)と平
滑化鋳型材(3) との間に熱硬化型または活性エネルギー
線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に層状に
担持されるようにし、ついでその担持層を硬化させて硬
化層(c) となす平坦化処理工程B、および形成されたカ
ラーフィルターの基材シート(1a)側に、流延法により基
板層(6)を設ける基板層設置工程C、からなり、かつ工
程Aの実施後に工程Bと工程Cを同時にまたは任意の順
序で実施することを特徴とするカラーフィルターの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4163583A JPH05333201A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | カラー基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4163583A JPH05333201A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | カラー基板の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05333201A true JPH05333201A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15776674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4163583A Withdrawn JPH05333201A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | カラー基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05333201A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839123B2 (en) | 1995-01-11 | 2005-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP4163583A patent/JPH05333201A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839123B2 (en) | 1995-01-11 | 2005-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
| US8493542B2 (en) | 1995-01-11 | 2013-07-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
| US8593614B2 (en) | 1995-01-11 | 2013-11-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and system for fabricating liquid crystal cells |
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