JPH05333532A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
- Publication number
- JPH05333532A JPH05333532A JP16177892A JP16177892A JPH05333532A JP H05333532 A JPH05333532 A JP H05333532A JP 16177892 A JP16177892 A JP 16177892A JP 16177892 A JP16177892 A JP 16177892A JP H05333532 A JPH05333532 A JP H05333532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- level
- pattern
- reference level
- signal
- binarization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パターン信号を得てこれを基準レベルと検出
することでパターン欠陥を検出する検査装置において、
中間濃度のパターン欠陥を確実に検出できるようにす
る。 【構成】 マスクフィルムに形成されたパターン濃度に
応じた電気信号を得るＣＣＤカメラ１と、得られた信号
のレベルを高レベル側に偏った第１の基準レベルと比較
する第１の２値化部２１と、同信号を低レベル側に偏っ
た第２の基準レベルと比較する第２の２値化部２２と、
得られた２値化信号の特徴を抽出する第１及び第２の特
徴抽出部３１，３２と、抽出された特徴から欠陥を判定
する判定部４と、システム制御部５とで構成される。
することでパターン欠陥を検出する検査装置において、
中間濃度のパターン欠陥を確実に検出できるようにす
る。 【構成】 マスクフィルムに形成されたパターン濃度に
応じた電気信号を得るＣＣＤカメラ１と、得られた信号
のレベルを高レベル側に偏った第１の基準レベルと比較
する第１の２値化部２１と、同信号を低レベル側に偏っ
た第２の基準レベルと比較する第２の２値化部２２と、
得られた２値化信号の特徴を抽出する第１及び第２の特
徴抽出部３１，３２と、抽出された特徴から欠陥を判定
する判定部４と、システム制御部５とで構成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はマスクフィルムに形成さ
れたパターンを検出してパターンの検査を行うパターン
検査装置に関する。
れたパターンを検出してパターンの検査を行うパターン
検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、透明なフィルムに光不透過性の材
料でパターンを形成したマスクフィルムのパターン検査
を行う装置として、図４にそのブロック構成を示す装置
が提案されている。同図において、１はパターンを撮像
するためのＣＣＤカメラ、２はＣＣＤカメラ１で撮像さ
れたパターンに対応して得られる電気信号のレベルを基
準レベルと比較して電気信号を２値化する２値化部、３
は得られた２値化信号を隣接する信号と比較することで
その特徴を抽出する特徴抽出部、４はその抽出された特
徴に基づいて対象部分が欠陥であるか否かを検出する判
定部である。又、５はシステム制御部である。前記２値
化部２での基準レベルは、パターンが存在しない透明
（白色）箇所から得られる信号を高レベルとし、パター
ンが存在する光不透過（黒色）箇所から得られる信号を
低レベルとしたときに、これらの中間のレベルを基準レ
ベルとし、検出された信号をこの基準レベルと比較する
ことで２値化を行っている。
料でパターンを形成したマスクフィルムのパターン検査
を行う装置として、図４にそのブロック構成を示す装置
が提案されている。同図において、１はパターンを撮像
するためのＣＣＤカメラ、２はＣＣＤカメラ１で撮像さ
れたパターンに対応して得られる電気信号のレベルを基
準レベルと比較して電気信号を２値化する２値化部、３
は得られた２値化信号を隣接する信号と比較することで
その特徴を抽出する特徴抽出部、４はその抽出された特
徴に基づいて対象部分が欠陥であるか否かを検出する判
定部である。又、５はシステム制御部である。前記２値
化部２での基準レベルは、パターンが存在しない透明
（白色）箇所から得られる信号を高レベルとし、パター
ンが存在する光不透過（黒色）箇所から得られる信号を
低レベルとしたときに、これらの中間のレベルを基準レ
ベルとし、検出された信号をこの基準レベルと比較する
ことで２値化を行っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の検査
方法では、非パターン部分に生じた中間濃度のゴミや、
パターン部分に生じた濃度不足部等の欠陥部を検査した
際に、これらの欠陥部から得られる信号がそれぞれ基準
レベルにまで達していないと、これを見逃してしまうと
いう問題がある。例えば、図５（ａ）のように、非パタ
ーン部ＮＰとパターン部Ｐにそれぞれ中間濃度の欠陥部
Ｘ１，Ｘ２が生じていた場合、このパターンを線Ｓに沿
って得られる信号レベルＳＬは図５（ｂ）となる。そし
て、この信号レベルＳＬを基準レベルＲＬと比較して
も、各欠陥部Ｘ１，Ｘ２の信号レベルの変位量はそれぞ
れ基準レベルＲＬにまで達していないため、この部分が
検出されることはなく、図５（ｃ）のような２値化信号
ＤＳが出力されることになる。したがって、欠陥が存在
しないものとして検査結果が出力されることになる。
方法では、非パターン部分に生じた中間濃度のゴミや、
パターン部分に生じた濃度不足部等の欠陥部を検査した
際に、これらの欠陥部から得られる信号がそれぞれ基準
レベルにまで達していないと、これを見逃してしまうと
いう問題がある。例えば、図５（ａ）のように、非パタ
ーン部ＮＰとパターン部Ｐにそれぞれ中間濃度の欠陥部
Ｘ１，Ｘ２が生じていた場合、このパターンを線Ｓに沿
って得られる信号レベルＳＬは図５（ｂ）となる。そし
て、この信号レベルＳＬを基準レベルＲＬと比較して
も、各欠陥部Ｘ１，Ｘ２の信号レベルの変位量はそれぞ
れ基準レベルＲＬにまで達していないため、この部分が
検出されることはなく、図５（ｃ）のような２値化信号
ＤＳが出力されることになる。したがって、欠陥が存在
しないものとして検査結果が出力されることになる。
【０００４】このような中間濃度の欠陥部は、後工程に
おいて、このマスクフィルムを用いてフォトリソグラフ
ィ工程を行う際に使用するレジスト（フォトレジスト）
の感度が安定していれば、レジストのラチュード範囲に
入るため、特に問題とされるものではない。しかしなが
ら、実際にはレジストには感度のバラツキが生じている
ため、中間濃度の欠陥部を通した露光量がレジストのラ
チチュード範囲外となったときに、形成されるパターン
の対応する部分に欠陥として現れることになり、正しい
パターン形状の転写ができなくなるという問題が生じ
る。本発明の目的は、中間濃度のパターン欠陥を確実に
検出できるようにしたパターン検査装置を提供すること
にある。
おいて、このマスクフィルムを用いてフォトリソグラフ
ィ工程を行う際に使用するレジスト（フォトレジスト）
の感度が安定していれば、レジストのラチュード範囲に
入るため、特に問題とされるものではない。しかしなが
ら、実際にはレジストには感度のバラツキが生じている
ため、中間濃度の欠陥部を通した露光量がレジストのラ
チチュード範囲外となったときに、形成されるパターン
の対応する部分に欠陥として現れることになり、正しい
パターン形状の転写ができなくなるという問題が生じ
る。本発明の目的は、中間濃度のパターン欠陥を確実に
検出できるようにしたパターン検査装置を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、マスクフィル
ムに形成されたパターン濃度に応じて得られる電気信号
を、高レベル側に偏った第１の基準レベルと、低レベル
側に偏った第２の基準レベルとをそれぞれ用いて２値化
を行ない。得られた２値化信号に基づいてパターン検査
を行うように構成する。第１の基準レベルと第２の基準
レベルとのレベル差は、当該マスクフィルムを用いてフ
ォトリソグラフィ工程を行う感光体の感度のバラツキ量
に対応して設定する。
ムに形成されたパターン濃度に応じて得られる電気信号
を、高レベル側に偏った第１の基準レベルと、低レベル
側に偏った第２の基準レベルとをそれぞれ用いて２値化
を行ない。得られた２値化信号に基づいてパターン検査
を行うように構成する。第１の基準レベルと第２の基準
レベルとのレベル差は、当該マスクフィルムを用いてフ
ォトリソグラフィ工程を行う感光体の感度のバラツキ量
に対応して設定する。
【０００６】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明のパターン検査装置の一実施例のブロ
ック構成図である。同図において、１は検査されるマス
クフィルムのパターンを撮像するためのＣＣＤカメラで
あり、撮像したパターンの濃度に応じたレベルの電気信
号を出力する。通常では、透明な非パターン部分から得
られる電気信号が高レベル（白レベル）の電気信号とし
て出力され、光不透過なパターン部分から得られる電気
信号が略零に近い低レベル（黒レベル）の電気信号とし
て出力される。前記ＣＣＤカメラ１の出力は、２分され
た後、それぞれ第１の２値化部２１と、第２の２値化部
２２に入力される。
る。図１は本発明のパターン検査装置の一実施例のブロ
ック構成図である。同図において、１は検査されるマス
クフィルムのパターンを撮像するためのＣＣＤカメラで
あり、撮像したパターンの濃度に応じたレベルの電気信
号を出力する。通常では、透明な非パターン部分から得
られる電気信号が高レベル（白レベル）の電気信号とし
て出力され、光不透過なパターン部分から得られる電気
信号が略零に近い低レベル（黒レベル）の電気信号とし
て出力される。前記ＣＣＤカメラ１の出力は、２分され
た後、それぞれ第１の２値化部２１と、第２の２値化部
２２に入力される。
【０００７】図２に各２値化部２１，２２における信号
レベルを示すように、第１の２値化部２１は、高レベル
ＨＬと低レベルＬＬの中間レベルよりも高レベル側に寄
ったレベルを第１の基準レベルＲＬ１とし、入力された
信号をこの第１の基準レベルＲＬ１に基づいて２値化す
る。又、第２の２値化部２２は、高レベルＨＬと低レベ
ルＬＬの中間レベルよりも低レベル側に寄ったレベルを
第２の基準レベルＲＬ２とし、入力された信号をこの第
２の基準レベルＲＬ２に基づいて２値化する。
レベルを示すように、第１の２値化部２１は、高レベル
ＨＬと低レベルＬＬの中間レベルよりも高レベル側に寄
ったレベルを第１の基準レベルＲＬ１とし、入力された
信号をこの第１の基準レベルＲＬ１に基づいて２値化す
る。又、第２の２値化部２２は、高レベルＨＬと低レベ
ルＬＬの中間レベルよりも低レベル側に寄ったレベルを
第２の基準レベルＲＬ２とし、入力された信号をこの第
２の基準レベルＲＬ２に基づいて２値化する。
【０００８】前記各２値化部２１，２２の出力はそれぞ
れ第１の特徴抽出部３１，第２の特徴抽出部３２に入力
され、ここで検査対象となる部分のレベルとその隣接部
分のレベルとの比較を行うことで、対象とする部分が隣
接部分に対してレベルの偏りが存在しているか否かを検
出する。そして、このような偏りが生じている部分を抽
出したときに、各特徴抽出部３１，３２の抽出結果は判
定部４にそれぞれ入力される。この判定部４は論理和回
路として構成され、少なくとも一方の特徴抽出部からの
出力が入力されたときに、これを所要のアルゴリズムに
基づいて判定を行ない、対象とする部分が欠陥であるか
否かの判定を出力する。この判定出力はシステム制御部
５に入力され、種々のシステム制御を実行させる。
れ第１の特徴抽出部３１，第２の特徴抽出部３２に入力
され、ここで検査対象となる部分のレベルとその隣接部
分のレベルとの比較を行うことで、対象とする部分が隣
接部分に対してレベルの偏りが存在しているか否かを検
出する。そして、このような偏りが生じている部分を抽
出したときに、各特徴抽出部３１，３２の抽出結果は判
定部４にそれぞれ入力される。この判定部４は論理和回
路として構成され、少なくとも一方の特徴抽出部からの
出力が入力されたときに、これを所要のアルゴリズムに
基づいて判定を行ない、対象とする部分が欠陥であるか
否かの判定を出力する。この判定出力はシステム制御部
５に入力され、種々のシステム制御を実行させる。
【０００９】図３は図１の検査装置による検査方法を示
す図である。ここでは、比較のために図５に示した従来
例と同じパターン欠陥の場合を示している。即ち、図３
（ａ）は非パターン部ＮＰとパターン部Ｐのそれぞれに
中間濃度の欠陥部Ｘ１，Ｘ２が存在するマスクフィルム
の平面図であり、線Ｓに沿ってＣＣＤカメラ１でパター
ン検出を行っている。ＣＣＤカメラ１から得られた信号
はそれぞれ２分された上で第１の２値化部２１と第２の
２値化部２２でその信号レベルＳＬがそれぞれ第１の基
準レベルＲＬ１と第２の基準レベルＲＬ２と比較され
る。
す図である。ここでは、比較のために図５に示した従来
例と同じパターン欠陥の場合を示している。即ち、図３
（ａ）は非パターン部ＮＰとパターン部Ｐのそれぞれに
中間濃度の欠陥部Ｘ１，Ｘ２が存在するマスクフィルム
の平面図であり、線Ｓに沿ってＣＣＤカメラ１でパター
ン検出を行っている。ＣＣＤカメラ１から得られた信号
はそれぞれ２分された上で第１の２値化部２１と第２の
２値化部２２でその信号レベルＳＬがそれぞれ第１の基
準レベルＲＬ１と第２の基準レベルＲＬ２と比較され
る。
【００１０】このとき、図３（ｂ）のように、前記各欠
陥部Ｘ１，Ｘ２が中間濃度の場合でも、非パターン部分
ＮＰの欠陥部Ｘ１は高レベル側に偏った第１の基準レベ
ルＲＬ１と比較されることで、図３（ｃ１）のように欠
陥部Ｘ１の部分の値が非パターン部ＮＰと異なる２値化
信号の値ＤＳ１となり、結果として欠陥部としての検出
が可能とされる。又、パターン部分Ｐの欠陥部Ｘ２は低
レベル側に偏った第２の基準レベルＲＬ２と比較される
ことで、図３（ｃ２）のように欠陥部Ｘ２の部分の値が
パターン部Ｐと異なる２値化信号の値ＤＳ２となり、結
果として欠陥部としての検出が可能とされる。
陥部Ｘ１，Ｘ２が中間濃度の場合でも、非パターン部分
ＮＰの欠陥部Ｘ１は高レベル側に偏った第１の基準レベ
ルＲＬ１と比較されることで、図３（ｃ１）のように欠
陥部Ｘ１の部分の値が非パターン部ＮＰと異なる２値化
信号の値ＤＳ１となり、結果として欠陥部としての検出
が可能とされる。又、パターン部分Ｐの欠陥部Ｘ２は低
レベル側に偏った第２の基準レベルＲＬ２と比較される
ことで、図３（ｃ２）のように欠陥部Ｘ２の部分の値が
パターン部Ｐと異なる２値化信号の値ＤＳ２となり、結
果として欠陥部としての検出が可能とされる。
【００１１】このようにして得られた２値化信号ＤＬ
１，ＤＳ２を用いて第１の特徴抽出部３１及び第２の特
徴抽出部３２でそれぞれ特徴抽出を行ない、かつ判定部
４で判定を行うことで、これら中間濃度の欠陥部Ｘ１，
Ｘ２の部分では隣接部分との信号値が明確に相違するた
めに、図３（ｄ）のように、これらの部分を欠陥として
判定した信号ＦＯが出力されることになる。即ち、各中
間濃度の部分を非パターン部分の欠陥及びパターン部分
の欠陥としてそれぞれ欠陥を検出することになる。
１，ＤＳ２を用いて第１の特徴抽出部３１及び第２の特
徴抽出部３２でそれぞれ特徴抽出を行ない、かつ判定部
４で判定を行うことで、これら中間濃度の欠陥部Ｘ１，
Ｘ２の部分では隣接部分との信号値が明確に相違するた
めに、図３（ｄ）のように、これらの部分を欠陥として
判定した信号ＦＯが出力されることになる。即ち、各中
間濃度の部分を非パターン部分の欠陥及びパターン部分
の欠陥としてそれぞれ欠陥を検出することになる。
【００１２】このように、パターン部分Ｐや非パターン
部分ＮＰに生じている欠陥部Ｘ１，Ｘ２が中間濃度の場
合でも、この欠陥部を見逃すことなく確実に検出するこ
とが可能となる。したがって、図２に括弧書きしたよう
に、第１の基準レベルＲＬ１と第２の基準レベルＲＬ２
とのレベル差を、後工程のフォトリソグラフィ工程で使
用するレジストの感度のバラツキ量に対応したレベル差
に設定しておけば、前述したようなフォトリソグラフィ
工程を実行する際に、レジストに感度のバラツキが存在
している場合でも、中間濃度部分によってパターンの転
写不良が発生することを未然に防止することができる。
部分ＮＰに生じている欠陥部Ｘ１，Ｘ２が中間濃度の場
合でも、この欠陥部を見逃すことなく確実に検出するこ
とが可能となる。したがって、図２に括弧書きしたよう
に、第１の基準レベルＲＬ１と第２の基準レベルＲＬ２
とのレベル差を、後工程のフォトリソグラフィ工程で使
用するレジストの感度のバラツキ量に対応したレベル差
に設定しておけば、前述したようなフォトリソグラフィ
工程を実行する際に、レジストに感度のバラツキが存在
している場合でも、中間濃度部分によってパターンの転
写不良が発生することを未然に防止することができる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、パターン
から得られる電気信号を２値化する手段を、高レベル側
の第１の基準レベルと、低レベル型の第２の基準レベル
とを用いてそれぞれ比較を行っているので、パターン部
分や非パターン部分に生じている中間濃度の欠陥部を確
実に検出することができる。特に、第１及び第２の基準
レベルのレベル差を使用するレジストの感度パラツキ量
に対応して設定しておけば、レジストを用いてパターン
転写を行う際の転写不良を未然に防止することができる
効果がある。
から得られる電気信号を２値化する手段を、高レベル側
の第１の基準レベルと、低レベル型の第２の基準レベル
とを用いてそれぞれ比較を行っているので、パターン部
分や非パターン部分に生じている中間濃度の欠陥部を確
実に検出することができる。特に、第１及び第２の基準
レベルのレベル差を使用するレジストの感度パラツキ量
に対応して設定しておけば、レジストを用いてパターン
転写を行う際の転写不良を未然に防止することができる
効果がある。
【図１】本発明のパターン検査装置の一実施例のブロッ
ク構成図である。
ク構成図である。
【図２】本発明における２値化部の高，低の各レベルと
第１及び第２の基準レベルとの関係を示すレベル図であ
る。
第１及び第２の基準レベルとの関係を示すレベル図であ
る。
【図３】本発明におけるパターンの２値化を説明するた
めの図である。
めの図である。
【図４】従来のパターン検査装置の一例のブロック構成
図である。
図である。
【図５】従来のパターン検査方法を説明するための図３
と同様の図である。
と同様の図である。
１ ＣＣＤカメラ ２，２１，２２ ２値化部 ３，３１，３２ 特徴抽出部 ４ 判定部 ５ システム制御部 ＲＬ１ 第１基準レベル ＲＬ２ 第２基準レベル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 1/40 １０３ Ａ 9068−5Ｃ
Claims (3)
- 【請求項１】 マスクフィルムに形成されたパターン濃
度を電気信号レベルとして検出し、この電気信号レベル
を基準レベルと比較して２値化し、２値化した信号に基
づいてパターン欠陥を検出する装置において、前記２値
化を行う手段は、高レベル側に偏った第１の基準レベル
と、低レベル側に偏った第２の基準レベルとをそれぞれ
用いて２値化を行うように構成したことを特徴とするパ
ターン検査装置。 - 【請求項２】 第１の基準レベルと第２の基準レベルと
のレベル差を、当該マスクフィルムを用いてフォトリソ
グラフィ工程を行う感光体の感度のバラツキ量に対応し
て設定してなる請求項１のパターン検査装置。 - 【請求項３】 マスクフィルムに形成されたパターン濃
度に応じた電気信号を得る撮像手段と、得られた信号の
レベルを高レベル側に偏った第１の基準レベルと比較す
る第１の２値化部と、同信号を低レベル側に偏った第２
の基準レベルと比較する第２の２値化部と、得られた２
値化信号の特徴を抽出する第１及び第２の特徴抽出部
と、抽出された特徴から欠陥を判定する判定部と、シス
テム制御部とで構成したことを特徴とするパターン検査
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177892A JPH05333532A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177892A JPH05333532A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | パターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05333532A true JPH05333532A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15741732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16177892A Pending JPH05333532A (ja) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05333532A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005043178A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
| CN108227371A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板探伤装置及探伤方法 |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP16177892A patent/JPH05333532A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005043178A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-17 | Nippon Avionics Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
| CN108227371A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板探伤装置及探伤方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0623999B2 (ja) | パタ−ン欠陥検出方法 | |
| KR20080011235A (ko) | 기판 검사 장치 | |
| JPH05333532A (ja) | パターン検査装置 | |
| JP3879904B2 (ja) | グレートーンマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | |
| JP6628185B2 (ja) | 透明体の検査方法 | |
| CN117611568A (zh) | 一种蚀刻线路视觉检测方法、装置及存储介质 | |
| JP4474006B2 (ja) | 検査装置 | |
| JP3618589B2 (ja) | 欠陥検査方法及びその装置 | |
| JP3260425B2 (ja) | パターンのエッジライン推定方式及びパターン検査装置 | |
| JP4220061B2 (ja) | 周期性パターンの欠陥検査方法及び装置 | |
| JPH0160766B2 (ja) | ||
| JPH08145904A (ja) | 明欠陥／暗欠陥検査装置 | |
| JP3200748B2 (ja) | マーク検査方法 | |
| JPS62249005A (ja) | 物体の形状異常検査装置 | |
| JPS6138450A (ja) | パタ−ン欠陥検査方法および装置 | |
| West et al. | The automatic visual inspection of printed circuit boards | |
| JP3190173B2 (ja) | 半導体装置の外観検査方法および外観検査装置 | |
| JPH09288037A (ja) | Ｌｃｄパネルの検査方法 | |
| JP2517570B2 (ja) | パタ−ン検出方法 | |
| JPS6057929A (ja) | パターン欠陥検出装置 | |
| JPH058762B2 (ja) | ||
| JP2765339B2 (ja) | スルーホール検査装置 | |
| JPS6135303A (ja) | パタ−ン欠陥検査装置 | |
| JPS61140804A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| JPH0617875B2 (ja) | パターン検査方法およびその装置 |