JPH05335243A - 液体バブリング装置 - Google Patents
液体バブリング装置Info
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- JPH05335243A JPH05335243A JP14267392A JP14267392A JPH05335243A JP H05335243 A JPH05335243 A JP H05335243A JP 14267392 A JP14267392 A JP 14267392A JP 14267392 A JP14267392 A JP 14267392A JP H05335243 A JPH05335243 A JP H05335243A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、気相成長において、液体有機金属
あるいは金属水銀等の液体原料をバブリングにより気化
して供給するに際し、安定して原料ガスの供給ができる
ようにする。 【構成】 液体原料2を充填したバブラー1内に多孔質
材料でなる水平板5を設け、バブリング用ガスの気泡を
小さい気泡に分割して、液体原料2中に供給するように
する。
あるいは金属水銀等の液体原料をバブリングにより気化
して供給するに際し、安定して原料ガスの供給ができる
ようにする。 【構成】 液体原料2を充填したバブラー1内に多孔質
材料でなる水平板5を設け、バブリング用ガスの気泡を
小さい気泡に分割して、液体原料2中に供給するように
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体基板上に膜を
気相成長させるのに用いる液体バブリング装置に関する
ものである。
気相成長させるのに用いる液体バブリング装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】図7は、例えば刊行物、「半導体エピタ
キシー技術」河東田隆著,産業図書刊に示された従来の
液体バブリング装置を示している。図において、バブラ
ー1には、例えば液体有機金属又は金属水銀等の液体原
料2が収容されている。バブラー1内の液体原料2中に
は、バブリング用ガス導入管3が挿入されている。バブ
ラー1の側面上部には、蒸気化した原料ガスを導出する
ための原料ガス導出管4が接続されている。
キシー技術」河東田隆著,産業図書刊に示された従来の
液体バブリング装置を示している。図において、バブラ
ー1には、例えば液体有機金属又は金属水銀等の液体原
料2が収容されている。バブラー1内の液体原料2中に
は、バブリング用ガス導入管3が挿入されている。バブ
ラー1の側面上部には、蒸気化した原料ガスを導出する
ための原料ガス導出管4が接続されている。
【0003】従来の液体バブリング装置は上記のように
構成され、水素等のバブリング用ガス(キャリアガス)
をバブリング用ガス導入管3よりバブラー1に導入し、
バブラー1中の液体原料2の中に設けたバブリング用ガ
ス導入管3の先端より気泡として供給する。液体原料2
は気泡中に蒸気化され、飽和蒸気圧に達した後、原料ガ
ス導出管4より導出され反応炉内に供給される。バブラ
ー1は、通常恒温槽中に浸して一定温度に保たれてお
り、気泡中の原料ガスのモル濃度は、恒温槽の温度を調
節して原料の飽和蒸気圧を変化させることにより調節可
能である。
構成され、水素等のバブリング用ガス(キャリアガス)
をバブリング用ガス導入管3よりバブラー1に導入し、
バブラー1中の液体原料2の中に設けたバブリング用ガ
ス導入管3の先端より気泡として供給する。液体原料2
は気泡中に蒸気化され、飽和蒸気圧に達した後、原料ガ
ス導出管4より導出され反応炉内に供給される。バブラ
ー1は、通常恒温槽中に浸して一定温度に保たれてお
り、気泡中の原料ガスのモル濃度は、恒温槽の温度を調
節して原料の飽和蒸気圧を変化させることにより調節可
能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の液
体バブリング装置では、液体原料2として比重の大きい
液体を用いると、液体原料2中への気泡の供給が断続的
になるために蒸気化原料ガスの反応炉への供給が不安定
になり、得られる結晶の組成、膜厚が不均一になるとい
う問題点があった。また、液体原料2が消費され液面が
降下すると、液体原料2の気泡中への蒸気化が不十分と
なり、原料が気泡中で飽和蒸気圧に達する前に反応炉に
供給されてしまい、原料ガスのモル濃度を正確に把握す
ることが困難であるという問題点があった。さらに、飽
和蒸気圧の高い液体原料2を使用すると、気泡中への蒸
気化が不十分のまま原料ガスが反応炉に供給されるとい
う問題点があった。
体バブリング装置では、液体原料2として比重の大きい
液体を用いると、液体原料2中への気泡の供給が断続的
になるために蒸気化原料ガスの反応炉への供給が不安定
になり、得られる結晶の組成、膜厚が不均一になるとい
う問題点があった。また、液体原料2が消費され液面が
降下すると、液体原料2の気泡中への蒸気化が不十分と
なり、原料が気泡中で飽和蒸気圧に達する前に反応炉に
供給されてしまい、原料ガスのモル濃度を正確に把握す
ることが困難であるという問題点があった。さらに、飽
和蒸気圧の高い液体原料2を使用すると、気泡中への蒸
気化が不十分のまま原料ガスが反応炉に供給されるとい
う問題点があった。
【0005】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、原料ガスの反
応炉内への供給の安定化を図ることができ、さらに、限
られたバブラーの空間内で液体原料の蒸気化の効率を高
めることができる液体バブリング装置を得ることを目的
とする。
ることを課題としてなされたものであり、原料ガスの反
応炉内への供給の安定化を図ることができ、さらに、限
られたバブラーの空間内で液体原料の蒸気化の効率を高
めることができる液体バブリング装置を得ることを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る液
体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数の
部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水平
板を、バブラー内に設けたものである。
体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数の
部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水平
板を、バブラー内に設けたものである。
【0007】請求項2の発明に係る液体バブリング装置
は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したものである。
は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したものである。
【0008】請求項3の発明に係る液体バブリング装置
は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に分割
し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下部と
の間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構造に
したものである。
は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に分割
し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下部と
の間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構造に
したものである。
【0009】
【作用】この発明においては、バブラー内に設けた水平
板によってバブリング用ガスの気泡は分割され小さくな
る。従って、原料ガスの圧力変動が小さくなる。また、
気泡を小さく分割することによって、バブラー中で気泡
が液体原料に接する全表面積の気泡の全体積に対する比
率が大きくなり、液体原料が気泡中に蒸気化する効率が
向上する。さらに、バブラー内の液体原料の液面を一定
に保つことにより、気泡が液体原料と作用する行程が一
定となる。
板によってバブリング用ガスの気泡は分割され小さくな
る。従って、原料ガスの圧力変動が小さくなる。また、
気泡を小さく分割することによって、バブラー中で気泡
が液体原料に接する全表面積の気泡の全体積に対する比
率が大きくなり、液体原料が気泡中に蒸気化する効率が
向上する。さらに、バブラー内の液体原料の液面を一定
に保つことにより、気泡が液体原料と作用する行程が一
定となる。
【0010】
実施例1.図1はこの発明の一実施例による液体バブリ
ング装置を示した断面図である。符号1,2,3,4は
上記従来装置と同様のものである。図において、バブラ
ー1内には、気体のみを選択的に通すような多孔質材料
を用いた水平板5が設けられている。この水平板5によ
って、バブラー1の内部は上下2部屋に分割されてい
る。
ング装置を示した断面図である。符号1,2,3,4は
上記従来装置と同様のものである。図において、バブラ
ー1内には、気体のみを選択的に通すような多孔質材料
を用いた水平板5が設けられている。この水平板5によ
って、バブラー1の内部は上下2部屋に分割されてい
る。
【0011】上記のように構成された液体バブリング装
置においては、液体原料2とバブリング用ガス導入管3
との間に多孔質材料を用いた水平板5(仕切板)を設け
ることにより、バブリング用ガスが非常に小さい気泡に
分割された後、液体原料2中に供給される。従って、原
料ガスの連続した安定供給が可能となり、また気泡の全
体積に対する全表面積(気泡が液体原料2に接する面
積)の比率が大きくなるため、液体原料2が気泡中に蒸
気化する効率も高くなる。これらの結果、反応炉への原
料ガスの供給を安定化することができ、得られる結晶の
組成,膜厚を均一化することができる。
置においては、液体原料2とバブリング用ガス導入管3
との間に多孔質材料を用いた水平板5(仕切板)を設け
ることにより、バブリング用ガスが非常に小さい気泡に
分割された後、液体原料2中に供給される。従って、原
料ガスの連続した安定供給が可能となり、また気泡の全
体積に対する全表面積(気泡が液体原料2に接する面
積)の比率が大きくなるため、液体原料2が気泡中に蒸
気化する効率も高くなる。これらの結果、反応炉への原
料ガスの供給を安定化することができ、得られる結晶の
組成,膜厚を均一化することができる。
【0012】実施例2.上記実施例1では多孔質材料を
用いた水平板5をバブラー1内の液体原料2とバブリン
グ用ガス導入管3との間に1枚設けたが、この実施例2
は、実施例1に加え、図2に示すように、液体原料2上
部と原料ガス導出管4との間に多孔質材料を用いた上部
水平板6を設けたものである。上部水平板6を挟んだ上
部と下部とは小穴で連通されており、この小穴から気泡
が上部に抜け出さないように小穴周辺は防護板7で囲ま
れている。
用いた水平板5をバブラー1内の液体原料2とバブリン
グ用ガス導入管3との間に1枚設けたが、この実施例2
は、実施例1に加え、図2に示すように、液体原料2上
部と原料ガス導出管4との間に多孔質材料を用いた上部
水平板6を設けたものである。上部水平板6を挟んだ上
部と下部とは小穴で連通されており、この小穴から気泡
が上部に抜け出さないように小穴周辺は防護板7で囲ま
れている。
【0013】水平板5で小さく分割された気泡は、液面
に上っていくと気泡どうしが結合する効果、および気泡
にかかる圧力が減少し気泡が膨張する効果によって、次
第に大きくなっていく。しかし、この実施例2では、上
部水平板6を設けたことによって、大きくなった気泡は
再分割される。従って、原料ガスの圧力変動が小さくな
り、原料ガスの安定供給が可能になる。
に上っていくと気泡どうしが結合する効果、および気泡
にかかる圧力が減少し気泡が膨張する効果によって、次
第に大きくなっていく。しかし、この実施例2では、上
部水平板6を設けたことによって、大きくなった気泡は
再分割される。従って、原料ガスの圧力変動が小さくな
り、原料ガスの安定供給が可能になる。
【0014】実施例3.図3は気泡を分割する水平板
(仕切板)として、気泡の大きさと比較して十分小さい
多数の小穴を設けたじゃま板8を用いたもので、このよ
うなじゃま板8をバブラー1内の液体原料2中に設ける
ことにより、気泡は十分に小さく分割され、実施例1と
同様の効果が期待される。
(仕切板)として、気泡の大きさと比較して十分小さい
多数の小穴を設けたじゃま板8を用いたもので、このよ
うなじゃま板8をバブラー1内の液体原料2中に設ける
ことにより、気泡は十分に小さく分割され、実施例1と
同様の効果が期待される。
【0015】実施例4.この実施例4は、上記実施例1
に加え、図4に示すように、多孔質材料を用いた上蓋
9、水平板5と上蓋9とに挟まれた部屋に導管で接続さ
れた液面調整容器10、および液面調整容器10上部に
設置され、液面調整容器10に導管で接続された液体原
料溜め11を設けたものである。バブラー1内は、上蓋
9によってバブリング用ガス導入管3側と原料ガス導出
管4側とに隙間なく区分されており、水平板5と上蓋9
に挟まれたバブラー1内は液面調整容器10、液体原料
溜め11とともに液体原料2で充填されている。液体原
料溜め11の底部は、上蓋9の下部より高い位置に設置
する。
に加え、図4に示すように、多孔質材料を用いた上蓋
9、水平板5と上蓋9とに挟まれた部屋に導管で接続さ
れた液面調整容器10、および液面調整容器10上部に
設置され、液面調整容器10に導管で接続された液体原
料溜め11を設けたものである。バブラー1内は、上蓋
9によってバブリング用ガス導入管3側と原料ガス導出
管4側とに隙間なく区分されており、水平板5と上蓋9
に挟まれたバブラー1内は液面調整容器10、液体原料
溜め11とともに液体原料2で充填されている。液体原
料溜め11の底部は、上蓋9の下部より高い位置に設置
する。
【0016】このような構成により、バブリングを長時
間行うとバブラー1内の液体原料2が消費されるが、液
体原料溜め11に液体原料2がある限り常に補給され、
バブラー1内の液体原料2の液面高さは常に一定に保た
れる。従って気泡が液体原料2中を通る行程が常に一定
となり、時間の経過に拘わらず安定した原料ガスの供給
が可能となる。
間行うとバブラー1内の液体原料2が消費されるが、液
体原料溜め11に液体原料2がある限り常に補給され、
バブラー1内の液体原料2の液面高さは常に一定に保た
れる。従って気泡が液体原料2中を通る行程が常に一定
となり、時間の経過に拘わらず安定した原料ガスの供給
が可能となる。
【0017】実施例5.この実施例5は、上記実施例1
に加え、図5に示すように、液面調整容器10、液体原
料溜め11および液面調整容器10内の液体原料の液面
に浮かぶ液面調整フロート12を設けたものである。液
面調整フロート12の材質としては比重が液体原料2と
比較して十分小さいものを選び、液面調整フロート12
に浮力がかかるようにする。
に加え、図5に示すように、液面調整容器10、液体原
料溜め11および液面調整容器10内の液体原料の液面
に浮かぶ液面調整フロート12を設けたものである。液
面調整フロート12の材質としては比重が液体原料2と
比較して十分小さいものを選び、液面調整フロート12
に浮力がかかるようにする。
【0018】また、液面調整容器10中には空間を残さ
ず液体原料2を充填し、液面調整容器10と液体原料溜
め11を結ぶ導管の内径は液面調整フロート12の径と
比較して十分小さくする。これにより、液面調整フロー
ト12は浮力により液面調整容器10の上部に押し付け
られ、液面調整容器10と液体原料溜め11とは弱く遮
断される。さらに、バブラー1内の液面高さは、液面調
整容器10内の液面調整フロート12の下端の位置より
高くなるよう設定しているが、バブラー1内の液体原料
の液面高さと液体原料溜め11の液面高さの差がhで液
面調整フロート12にかかる力がつりあっているとす
る。
ず液体原料2を充填し、液面調整容器10と液体原料溜
め11を結ぶ導管の内径は液面調整フロート12の径と
比較して十分小さくする。これにより、液面調整フロー
ト12は浮力により液面調整容器10の上部に押し付け
られ、液面調整容器10と液体原料溜め11とは弱く遮
断される。さらに、バブラー1内の液面高さは、液面調
整容器10内の液面調整フロート12の下端の位置より
高くなるよう設定しているが、バブラー1内の液体原料
の液面高さと液体原料溜め11の液面高さの差がhで液
面調整フロート12にかかる力がつりあっているとす
る。
【0019】いま、バブリングを長時間おこなったとす
ると、バブラー1内の液体原料2が消費され、バブラー
1内の液面が降下する。すると、バブラー1内液面高さ
と液体原料溜め11の液面高さの差が大きくなり、液面
調整フロート12にかかる鉛直下向きの力が大きくなっ
て液面調整フロート12は降下する。すると液体原料溜
め11から液面調整容器10に液体原料2が流れ込み、
液面高さの差が再びhとなって安定する。
ると、バブラー1内の液体原料2が消費され、バブラー
1内の液面が降下する。すると、バブラー1内液面高さ
と液体原料溜め11の液面高さの差が大きくなり、液面
調整フロート12にかかる鉛直下向きの力が大きくなっ
て液面調整フロート12は降下する。すると液体原料溜
め11から液面調整容器10に液体原料2が流れ込み、
液面高さの差が再びhとなって安定する。
【0020】このとき、バブラー1内の液面高さは、液
体原料2が消費され液体原料総量が減少したことにより
やや下降するが、液体原料溜め11の水平断面積を十分
大きくすると液体原料溜め11の液面の変化は非常に小
さくなるため、バブラー1内の液面高さの変化も非常に
小さくなる。従って、気泡が液体原料2中を通る行程は
時間の経過にかかわらずほぼ一定で、さらに安定した原
料ガスの供給が可能となる。
体原料2が消費され液体原料総量が減少したことにより
やや下降するが、液体原料溜め11の水平断面積を十分
大きくすると液体原料溜め11の液面の変化は非常に小
さくなるため、バブラー1内の液面高さの変化も非常に
小さくなる。従って、気泡が液体原料2中を通る行程は
時間の経過にかかわらずほぼ一定で、さらに安定した原
料ガスの供給が可能となる。
【0021】また、従来の液体バブリング装置では、長
期間使用するうちにバブラー1の内壁が原料ガスの吸着
によって曇るため、外部からの正確な液面の把握が困難
で、消費分の液体原料2を供給しバブラー1内の液面高
さを一定にすることが困難であった。しかし、この構造
の液体バブリング装置では、バブラー1内の液面高さを
液体原料溜め11の液面高さで調整できるため、液体原
料溜め11の液面高さが一定になるよう液体原料2の供
給に留意することにより、バブラー1内の液面高さを常
時一定にすることが可能である。
期間使用するうちにバブラー1の内壁が原料ガスの吸着
によって曇るため、外部からの正確な液面の把握が困難
で、消費分の液体原料2を供給しバブラー1内の液面高
さを一定にすることが困難であった。しかし、この構造
の液体バブリング装置では、バブラー1内の液面高さを
液体原料溜め11の液面高さで調整できるため、液体原
料溜め11の液面高さが一定になるよう液体原料2の供
給に留意することにより、バブラー1内の液面高さを常
時一定にすることが可能である。
【0022】実施例6.図6に示す液体バブリング装置
は、バブラー1内を垂直板13によって横方向の第1室
14と第2室15の2つの小室に分割したもので、第1
室14からの導出管16と第2室15への導入管17と
は接続されている。また、導出管16および導入管17
により連通管18が構成されている。
は、バブラー1内を垂直板13によって横方向の第1室
14と第2室15の2つの小室に分割したもので、第1
室14からの導出管16と第2室15への導入管17と
は接続されている。また、導出管16および導入管17
により連通管18が構成されている。
【0023】このような構成により、バブリング用ガス
導入管3より供給されたバブリング用ガスは、実施例1
と同様に多孔質材料を用いた水平板5によって小さな気
泡に分割された後、液体原料2中に供給され、原料ガス
として導出管16より出る。この原料ガスは、第1室1
4からの導出管16とつながった第2室15への導入管
17より再びバブラー1内(第2室15)に供給され
る。このガスは、上記の過程を再び経た後、原料ガス供
給導出管4より反応炉に供給される。
導入管3より供給されたバブリング用ガスは、実施例1
と同様に多孔質材料を用いた水平板5によって小さな気
泡に分割された後、液体原料2中に供給され、原料ガス
として導出管16より出る。この原料ガスは、第1室1
4からの導出管16とつながった第2室15への導入管
17より再びバブラー1内(第2室15)に供給され
る。このガスは、上記の過程を再び経た後、原料ガス供
給導出管4より反応炉に供給される。
【0024】また、水平板5上部と垂直板13下部との
間に隙間を設け、さらに実施例4に記述した上蓋9、液
面調整容器10、液体原料溜め11を設けることによ
り、各室14,15の液面高さは常に一定に保たれる。
なお、各室の液面高さを一定に保つ方法としては、実施
例5に記述した方法でもよいことは言うまでもない。
間に隙間を設け、さらに実施例4に記述した上蓋9、液
面調整容器10、液体原料溜め11を設けることによ
り、各室14,15の液面高さは常に一定に保たれる。
なお、各室の液面高さを一定に保つ方法としては、実施
例5に記述した方法でもよいことは言うまでもない。
【0025】このようにバブリングの過程を2段設ける
ことによって、バブリング用ガスの液体原料中を透過す
る行程が2倍になり、限られたバブラー1内の空間で液
体原料2の蒸気化の効率を高めることが可能になる。
ことによって、バブリング用ガスの液体原料中を透過す
る行程が2倍になり、限られたバブラー1内の空間で液
体原料2の蒸気化の効率を高めることが可能になる。
【0026】なお、この実施例6ではバブラー1内を2
室に分割したが、垂直板を複数枚設けて小室の数を増や
し、バブリングの過程をさらに多段設けることによりこ
の効果は一層大きくなる。また、水平板及び垂直板は、
それぞれバブラー内を上下方向及び横方向に分割できれ
ばよく、完全な水平又は垂直に配置しなくてもよい。
室に分割したが、垂直板を複数枚設けて小室の数を増や
し、バブリングの過程をさらに多段設けることによりこ
の効果は一層大きくなる。また、水平板及び垂直板は、
それぞれバブラー内を上下方向及び横方向に分割できれ
ばよく、完全な水平又は垂直に配置しなくてもよい。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明の
液体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数
の部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水
平板を、バブラー内に設けたので、原料ガスの連続した
安定供給が可能となり、また液体原料の蒸気化の効率が
高くなり、この結果反応炉への原料ガスの供給を安定化
することができ、結晶の組成,膜厚を均一化することが
できるなどの効果を奏する。
液体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数
の部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水
平板を、バブラー内に設けたので、原料ガスの連続した
安定供給が可能となり、また液体原料の蒸気化の効率が
高くなり、この結果反応炉への原料ガスの供給を安定化
することができ、結晶の組成,膜厚を均一化することが
できるなどの効果を奏する。
【0028】また、請求項2の発明の液体バブリング装
置は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したので、上記請求項1の発明の効果に加え
て、液体原料の消費量に拘わらずバブリングの過程を常
に一定にすることができ、原料ガスの供給をさらに安定
化することができるという効果を奏する。
置は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したので、上記請求項1の発明の効果に加え
て、液体原料の消費量に拘わらずバブリングの過程を常
に一定にすることができ、原料ガスの供給をさらに安定
化することができるという効果を奏する。
【0029】さらに、請求項3の発明の液体バブリング
装置は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に
分割し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下
部との間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構
造にしたので、上記請求項1の発明の効果に加えて、液
体原料の気泡中への蒸気化の効率をさらに向上させるこ
とができるという効果を奏する。
装置は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に
分割し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下
部との間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構
造にしたので、上記請求項1の発明の効果に加えて、液
体原料の気泡中への蒸気化の効率をさらに向上させるこ
とができるという効果を奏する。
【図1】請求項1の発明の一実施例による液体バブリン
グ装置を示す構成図である。
グ装置を示す構成図である。
【図2】請求項1の発明の他の実施例による液体バブリ
ング装置を示す構成図である。
ング装置を示す構成図である。
【図3】請求項1の発明のさらに他の実施例による液体
バブリング装置を示す構成図である。
バブリング装置を示す構成図である。
【図4】請求項2の発明の一実施例による液体バブリン
グ装置を示す構成図である。
グ装置を示す構成図である。
【図5】請求項2の発明の他の実施例による液体バブリ
ング装置を示す構成図である。
ング装置を示す構成図である。
【図6】請求項2および請求項3の発明の一実施例によ
る液体バブリング装置を示す構成図である。
る液体バブリング装置を示す構成図である。
【図7】従来の液体バブリング装置の一例を示す構成図
である。
である。
1 バブラー 2 液体原料 3 バブリング用ガス導入管 4 原料ガス導出管 5 水平板 6 上部水平板 8 じゃま板(水平板) 10 液面調整容器 13 垂直板 14 第1室 15 第2室 18 連通管
Claims (3)
- 【請求項1】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板とを備えていることを特徴とする液体バブリン
グ装置。 - 【請求項2】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板と、上記液体原料を充填させた部屋の何れかの
部屋に導管によって接続され、上記液体原料の液面を一
定に保つための液面調整容器とを備えていることを特徴
とする液体バブリング装置。 - 【請求項3】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板と、上記バブラー内を横方向の複数の室に分割
するように設けられた垂直板と、この垂直板により分割
された上流側の室の上部と下流側の室の下部との間を連
通する連通管とを備えていることを特徴とする液体バブ
リング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14267392A JPH05335243A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 液体バブリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14267392A JPH05335243A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 液体バブリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05335243A true JPH05335243A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15320850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14267392A Pending JPH05335243A (ja) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | 液体バブリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05335243A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008150709A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Air Products & Chemicals Inc | 高真空、大流量バブリング容器用の撥ねよけおよび導入部拡散器 |
| WO2013002567A3 (ko) * | 2011-06-30 | 2013-04-11 | (주)그랜드텍 | 캐리어 기체에 의한 화합물 기화용 버블러 |
| JP2015007286A (ja) * | 2009-03-11 | 2015-01-15 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 安定した先駆物質供給のための泡供給システム |
| JP2016208026A (ja) * | 2015-04-18 | 2016-12-08 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated | 前駆体材料の送達のための容器及び方法 |
| WO2022059507A1 (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給装置及び原料供給方法 |
| CN116253324A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-06-13 | 新特能源股份有限公司 | 一种用于多晶硅生产还原炉的进料装置 |
-
1992
- 1992-06-03 JP JP14267392A patent/JPH05335243A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008150709A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Air Products & Chemicals Inc | 高真空、大流量バブリング容器用の撥ねよけおよび導入部拡散器 |
| US8708320B2 (en) | 2006-12-15 | 2014-04-29 | Air Products And Chemicals, Inc. | Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel |
| US9435027B2 (en) | 2006-12-15 | 2016-09-06 | Air Products And Chemicals, Inc. | Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel |
| JP2015007286A (ja) * | 2009-03-11 | 2015-01-15 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 安定した先駆物質供給のための泡供給システム |
| WO2013002567A3 (ko) * | 2011-06-30 | 2013-04-11 | (주)그랜드텍 | 캐리어 기체에 의한 화합물 기화용 버블러 |
| JP2016208026A (ja) * | 2015-04-18 | 2016-12-08 | エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated | 前駆体材料の送達のための容器及び方法 |
| US10443128B2 (en) | 2015-04-18 | 2019-10-15 | Versum Materials Us, Llc | Vessel and method for delivery of precursor materials |
| WO2022059507A1 (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給装置及び原料供給方法 |
| JP2022048820A (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料供給装置及び原料供給方法 |
| CN116253324A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-06-13 | 新特能源股份有限公司 | 一种用于多晶硅生产还原炉的进料装置 |
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