JPH053360A - レーザ用光安定器 - Google Patents
レーザ用光安定器Info
- Publication number
- JPH053360A JPH053360A JP17896391A JP17896391A JPH053360A JP H053360 A JPH053360 A JP H053360A JP 17896391 A JP17896391 A JP 17896391A JP 17896391 A JP17896391 A JP 17896391A JP H053360 A JPH053360 A JP H053360A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- prism
- laser
- light
- refractive index
- minute
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- Pending
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- Lasers (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 発熱を起こさずにレーザ光を減衰させる。減
衰量を精密に、かつ連続的に可変調整し、光強度を高度
に安定化する。 【構成】 全反射プリズム2の反射面の外側に高屈折率
プレート4を微小な間隔をおいて配置する。その微小間
隔を微小変位素子6で微細に変化させる。全反射面に生
じるエバネッセント波を利用した原理により、光エネル
ギーの一部を別の方向に逃すことで光強度を減衰させ
る。その減衰量をフィードバック制御する。
衰量を精密に、かつ連続的に可変調整し、光強度を高度
に安定化する。 【構成】 全反射プリズム2の反射面の外側に高屈折率
プレート4を微小な間隔をおいて配置する。その微小間
隔を微小変位素子6で微細に変化させる。全反射面に生
じるエバネッセント波を利用した原理により、光エネル
ギーの一部を別の方向に逃すことで光強度を減衰させ
る。その減衰量をフィードバック制御する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザ発振器からの
レーザ光の強度を精密に調整して安定化するためのレー
ザ用光安定器に関する。
レーザ光の強度を精密に調整して安定化するためのレー
ザ用光安定器に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ発振器の出力の安定化や波長の安
定化についてさかんに研究されているが、現状では、波
長を一定に保ったままで出力を任意に変化させることは
困難である。そのため、一定波長のレーザ光の強度を任
意に調整するには、レーザ発振器からのレーザビームを
光減衰器により適宜に減衰させなければならない。
定化についてさかんに研究されているが、現状では、波
長を一定に保ったままで出力を任意に変化させることは
困難である。そのため、一定波長のレーザ光の強度を任
意に調整するには、レーザ発振器からのレーザビームを
光減衰器により適宜に減衰させなければならない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の光減衰器は、濃
度値(光透過率)を何段階にも調整してあるガラス板か
らなるフィルターを用いている。フィルターでは吸収し
た光のエネルギーが熱に変るので、少し大きな出力のレ
ーザ光を通すと、発熱によりフィルターの濃度値が変化
してしまうし、発熱が大きいとフィルターが破損する。
また、フィルターではレーザ光強度を連続的に変化させ
て調整することはできない。さらに、レーザ発振器の出
力が変動すると、減衰器の出射ビームの強度が変動する
ので、高度な安定化は望めなかった。
度値(光透過率)を何段階にも調整してあるガラス板か
らなるフィルターを用いている。フィルターでは吸収し
た光のエネルギーが熱に変るので、少し大きな出力のレ
ーザ光を通すと、発熱によりフィルターの濃度値が変化
してしまうし、発熱が大きいとフィルターが破損する。
また、フィルターではレーザ光強度を連続的に変化させ
て調整することはできない。さらに、レーザ発振器の出
力が変動すると、減衰器の出射ビームの強度が変動する
ので、高度な安定化は望めなかった。
【0004】この発明は前述した従来の問題点に鑑みな
されたもので、その目的は、発熱を起こさず、レーザ光
の強度を連続的にしかも精密に減衰させて高度に安定化
させることができるようにしたレーザ用光安定器を提供
することにある。
されたもので、その目的は、発熱を起こさず、レーザ光
の強度を連続的にしかも精密に減衰させて高度に安定化
させることができるようにしたレーザ用光安定器を提供
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明のレーザ用光安
定器は、レーザビームを全反射させて進路を変えるプリ
ズムと、このプリズムの反射面の外側に微小な間隔をお
いて配置された高屈折率プレートと、この高屈折率プレ
ートと前記プリズム表面との前記間隔を微細に変化させ
る微小変位素子と、前記プリズムで反射した出射ビーム
の強度を検出する光検出手段と、検出した光強度と設定
値との偏差に基づいて偏差をゼロにするように前記微小
変位素子を駆動するフィードバック制御手段とを備えた
ものである。
定器は、レーザビームを全反射させて進路を変えるプリ
ズムと、このプリズムの反射面の外側に微小な間隔をお
いて配置された高屈折率プレートと、この高屈折率プレ
ートと前記プリズム表面との前記間隔を微細に変化させ
る微小変位素子と、前記プリズムで反射した出射ビーム
の強度を検出する光検出手段と、検出した光強度と設定
値との偏差に基づいて偏差をゼロにするように前記微小
変位素子を駆動するフィードバック制御手段とを備えた
ものである。
【0006】
【作用】前記のプリズム、光屈折率プレート、微小変位
素子とで光減衰器が構成される。この光減衰器は、全反
射にともなうエバネッセント波の作用を応用している。
周知のように全反射とは、屈折率の高い透明な第一媒質
(前記プリズム)から屈折率の低い透明な第二媒質(空
気)へ光がすすむとき、境界面で光が100%反射する
現象である。
素子とで光減衰器が構成される。この光減衰器は、全反
射にともなうエバネッセント波の作用を応用している。
周知のように全反射とは、屈折率の高い透明な第一媒質
(前記プリズム)から屈折率の低い透明な第二媒質(空
気)へ光がすすむとき、境界面で光が100%反射する
現象である。
【0007】光が全反射した場合、第二媒質中に光がま
ったく入射しないわけではなくて、第二媒質中には境界
面に平行に進み、かつその振幅が境界面からの距離に比
例して指数関数的に急激に減衰する光波が存在する。こ
れはエバネッセント波とよばれる。
ったく入射しないわけではなくて、第二媒質中には境界
面に平行に進み、かつその振幅が境界面からの距離に比
例して指数関数的に急激に減衰する光波が存在する。こ
れはエバネッセント波とよばれる。
【0008】そこで第二媒質中に高屈折率の第三媒質
(前記高屈折率プレート)を置き、第二媒質のごく薄い
層(前記の微小な間隔)をはさんで第一媒質と対向させ
る。すると、エバネッセント波を介して光のエネルギー
を第三媒質に伝えることができる。この現象は一種のト
ンネル効果として説明され、誘電体光導波路用のプリズ
ム結合器やある種の半透鏡などに利用されている。
(前記高屈折率プレート)を置き、第二媒質のごく薄い
層(前記の微小な間隔)をはさんで第一媒質と対向させ
る。すると、エバネッセント波を介して光のエネルギー
を第三媒質に伝えることができる。この現象は一種のト
ンネル効果として説明され、誘電体光導波路用のプリズ
ム結合器やある種の半透鏡などに利用されている。
【0009】つまり境界面で光は100%反射せず、一
部が第三媒質の側に進む。したがって、その分だけ境界
面で反射する光の強度が低下する。そしてエバネッセン
ト波を介して第三媒質に伝わる光のエネルギー量は、第
一媒質と第三媒質との間隔によって変化する。
部が第三媒質の側に進む。したがって、その分だけ境界
面で反射する光の強度が低下する。そしてエバネッセン
ト波を介して第三媒質に伝わる光のエネルギー量は、第
一媒質と第三媒質との間隔によって変化する。
【0010】この発明における光減衰器は以上の原理で
動作する。つまり、レーザ発振器からのレーザビームが
前記プリズムで反射する際に、レーザ光のエネルギーの
一部が反射面から前記高屈折率プレート側へ逃げ、プリ
ズムで反射して利用系へと導かれる出射ビームの強度は
全反射の場合より低下する。高屈折率プレート側へ逃げ
る光のエネルギー量は、前記プレートとプリズムとの微
小な間隔を変えることで変る。したがって、前記微小変
位素子によって前記間隔を制御すれば、出射ビームの強
度、すなわち減衰量を連続的に任意に調整することがで
きる。
動作する。つまり、レーザ発振器からのレーザビームが
前記プリズムで反射する際に、レーザ光のエネルギーの
一部が反射面から前記高屈折率プレート側へ逃げ、プリ
ズムで反射して利用系へと導かれる出射ビームの強度は
全反射の場合より低下する。高屈折率プレート側へ逃げ
る光のエネルギー量は、前記プレートとプリズムとの微
小な間隔を変えることで変る。したがって、前記微小変
位素子によって前記間隔を制御すれば、出射ビームの強
度、すなわち減衰量を連続的に任意に調整することがで
きる。
【0011】この発明のレーザ用光安定器は、前記の光
減衰器にフィードバック制御系を組合せたもので、出射
ビームの強度が設定値に一致するように、前記微小変位
素子が自動制御される。
減衰器にフィードバック制御系を組合せたもので、出射
ビームの強度が設定値に一致するように、前記微小変位
素子が自動制御される。
【0012】
【実施例】図1と図2にこの発明の一実施例によるレー
ザ用光安定器の概略構成を示している。まず、光減衰器
の部分について詳しく説明する。
ザ用光安定器の概略構成を示している。まず、光減衰器
の部分について詳しく説明する。
【0013】入射ビーム1が全反射プリズム2で反射し
て出射ビーム3となる。プリズム2の反射面4の表面に
は、前記高屈折率プレートとしてのガラス板5が接合さ
れている。ガラス板5とプリズム2の接合面の周辺部分
にはごく薄いスペーサが挟み込まれており、ガラス板5
の中央部分とプリズム2の表面との間にはごく僅かな空
隙が保たれている。
て出射ビーム3となる。プリズム2の反射面4の表面に
は、前記高屈折率プレートとしてのガラス板5が接合さ
れている。ガラス板5とプリズム2の接合面の周辺部分
にはごく薄いスペーサが挟み込まれており、ガラス板5
の中央部分とプリズム2の表面との間にはごく僅かな空
隙が保たれている。
【0014】ガラス板5とプリズム2の間の微小間隔を
精密に制御するための微小変位素子として、積層タイプ
の圧電アクチュエータ6を用いている。図のように、ガ
ラス板5をカバーするフレーム7をプリズム2と一体的
に固定して、このフレーム7とガラス板5とを柱状の圧
電アクチュエータ6で連結している。圧電アクチュエー
タ6は印加電圧によって寸法(圧電板の積層方向の寸
法)が微細に変化する素子であり、印加電圧をコントロ
ールする駆動回路8と組合せて使用する。
精密に制御するための微小変位素子として、積層タイプ
の圧電アクチュエータ6を用いている。図のように、ガ
ラス板5をカバーするフレーム7をプリズム2と一体的
に固定して、このフレーム7とガラス板5とを柱状の圧
電アクチュエータ6で連結している。圧電アクチュエー
タ6は印加電圧によって寸法(圧電板の積層方向の寸
法)が微細に変化する素子であり、印加電圧をコントロ
ールする駆動回路8と組合せて使用する。
【0015】圧電アクチュエータ6の印加電圧をコント
ロールすることで、ガラス板5とプリズム2との微小間
隔を調整し、それによって出射ビーム3の強度(光減衰
量)を微細に、かつ連続的に変化させることができる。
ロールすることで、ガラス板5とプリズム2との微小間
隔を調整し、それによって出射ビーム3の強度(光減衰
量)を微細に、かつ連続的に変化させることができる。
【0016】次にフィードバック制御系について説明す
る。プリズム2(光減衰器)からの出射ビーム3の一部
がビームスプリッタ9で分岐されて、光センサ10に受
光される。光センサ10からは出射ビーム3の強度に対
応したレベルの検出信号が出力され、アンプ11を経て
コントローラ12に入力される。コントローラ12は、
光センサ10の出力と設定値とを比較して、その偏差を
ゼロにする方向の制御信号を駆動回路8に与える。駆動
回路8は制御信号に対応した大きさの電圧を圧電アクチ
ュエータ6に印加する。このようにして出射ビーム3の
強度が設定値に一致するように、光減衰量が自動制御さ
れる。
る。プリズム2(光減衰器)からの出射ビーム3の一部
がビームスプリッタ9で分岐されて、光センサ10に受
光される。光センサ10からは出射ビーム3の強度に対
応したレベルの検出信号が出力され、アンプ11を経て
コントローラ12に入力される。コントローラ12は、
光センサ10の出力と設定値とを比較して、その偏差を
ゼロにする方向の制御信号を駆動回路8に与える。駆動
回路8は制御信号に対応した大きさの電圧を圧電アクチ
ュエータ6に印加する。このようにして出射ビーム3の
強度が設定値に一致するように、光減衰量が自動制御さ
れる。
【0017】
【発明の効果】この発明のレーザ用光安定器は、全反射
面に生じる前述のエバネッセント波を利用した原理によ
り、光エネルギーの一部を別の方向に逃すことで主光路
の光強度を減衰させるので、光エネルギーを吸収して減
衰させるフィルターと異なり、発熱はほとんど起こら
ず、大出力のレーザビームにも問題なく対応する。ま
た、微小変位素子を電気的に制御することで、光減衰量
を精密に、かつ連続的に可変調整することができる。こ
の光減衰量をフィードバック制御することで、きわめて
高精度に安定化されたレーザビームを得ることができ
る。
面に生じる前述のエバネッセント波を利用した原理によ
り、光エネルギーの一部を別の方向に逃すことで主光路
の光強度を減衰させるので、光エネルギーを吸収して減
衰させるフィルターと異なり、発熱はほとんど起こら
ず、大出力のレーザビームにも問題なく対応する。ま
た、微小変位素子を電気的に制御することで、光減衰量
を精密に、かつ連続的に可変調整することができる。こ
の光減衰量をフィードバック制御することで、きわめて
高精度に安定化されたレーザビームを得ることができ
る。
【図1】この発明の一実施例によるレーザ用光安定器の
概略構成図
概略構成図
【図2】同上実施例における光減衰器の斜視図
1 入射ビーム 2 全反射プリズム 3 出射ビーム 5 ガラス板(高屈折率プレート) 6 圧電アクチュエータ(微小変位素子) 8 駆動回路 9 ビームスプリッタ 10 光センサ 11 コントローラ
フロントページの続き (72)発明者 木原 征夫 東京都港区新橋5丁目36番11号 富士電気 化学株式会社内 (72)発明者 佐々木 彰 静岡県静岡市大谷836番地 静岡大学内 (72)発明者 青山 尚之 静岡県静岡市大谷836番地 静岡大学内 (72)発明者 村上 健司 静岡県静岡市大谷836番地 静岡大学内 (72)発明者 石川 賢司 静岡県静岡市大谷836番地 静岡大学内 (72)発明者 野村 卓志 静岡県静岡市大谷836番地 静岡大学内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 レーザビームを全反射させて進路を変え
るプリズムと、このプリズムの反射面の外側に微小な間
隔をおいて配置された高屈折率プレートと、この高屈折
率プレートと前記プリズム表面との前記間隔を微細に変
化させる微小変位素子と、前記プリズムで反射した出射
ビームの強度を検出する光検出手段と、検出した光強度
と設定値との偏差に基づいて偏差をゼロにするように前
記微小変位素子を駆動するフィードバック制御手段とを
備えたレーザ用光安定器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17896391A JPH053360A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | レーザ用光安定器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17896391A JPH053360A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | レーザ用光安定器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH053360A true JPH053360A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=16057727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17896391A Pending JPH053360A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | レーザ用光安定器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH053360A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07148434A (ja) * | 1993-07-12 | 1995-06-13 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 光触媒体及びそれを用いた水の浄化方法 |
-
1991
- 1991-06-25 JP JP17896391A patent/JPH053360A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07148434A (ja) * | 1993-07-12 | 1995-06-13 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 光触媒体及びそれを用いた水の浄化方法 |
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