JPH0533691B2 - - Google Patents
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- JPH0533691B2 JPH0533691B2 JP59227270A JP22727084A JPH0533691B2 JP H0533691 B2 JPH0533691 B2 JP H0533691B2 JP 59227270 A JP59227270 A JP 59227270A JP 22727084 A JP22727084 A JP 22727084A JP H0533691 B2 JPH0533691 B2 JP H0533691B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- propylene
- cos
- propane
- raw material
- fcc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プロピレン及びプロパンを主成分と
するC3留分（以下、単にC3留分という。）中に含
まれているCOSの除去方法に関するものである。
するC3留分（以下、単にC3留分という。）中に含
まれているCOSの除去方法に関するものである。
プロピレンは石油化学の中でエチレンと並ぶ重
要な基礎化学品であり、ポリプロピレン、アクリ
ロニトリル、キユメン、アクリル酸等の原料とし
て広く使われている。プロピレンは通常ナフサを
原料とするエチレンプラントからエチレンの併産
品として製出されているが、プロピレン／エチレ
ン生成比を大きく変えることが難しいため、エチ
レン、プロピレン各々の需要変化によつてプロピ
レンが不足する場合が生ずる。このような背景の
下に近年プロピレン、プロパンを主成分とする
C3留分への需要が高まり、その１つとして石油
精製工程のFCC装置から製出される、いわゆる
FCC−PPが重要なプロピレン源になつている。
要な基礎化学品であり、ポリプロピレン、アクリ
ロニトリル、キユメン、アクリル酸等の原料とし
て広く使われている。プロピレンは通常ナフサを
原料とするエチレンプラントからエチレンの併産
品として製出されているが、プロピレン／エチレ
ン生成比を大きく変えることが難しいため、エチ
レン、プロピレン各々の需要変化によつてプロピ
レンが不足する場合が生ずる。このような背景の
下に近年プロピレン、プロパンを主成分とする
C3留分への需要が高まり、その１つとして石油
精製工程のFCC装置から製出される、いわゆる
FCC−PPが重要なプロピレン源になつている。
一般にFCC−PPはプロピレン約70wt％、プロ
パン約30wt％及び少量のC2、C4留分からなるが、
主としてCOS及びH2S等の微量の硫黄化合物を含
むのが普通である。この硫黄化合物はポリプロピ
レン製造プロセスあるいはキユメン製造プロセス
に悪影響を与えることが知られている。
パン約30wt％及び少量のC2、C4留分からなるが、
主としてCOS及びH2S等の微量の硫黄化合物を含
むのが普通である。この硫黄化合物はポリプロピ
レン製造プロセスあるいはキユメン製造プロセス
に悪影響を与えることが知られている。
例えば、気相法によるキユメン製造プロセスに
ついては“石油化学とその工業（昭晃堂出版）
P81”に「原料中のイオウ化合物は触媒の作用効
果を低下させるので除去する必要がある。」と記
載されている。
ついては“石油化学とその工業（昭晃堂出版）
P81”に「原料中のイオウ化合物は触媒の作用効
果を低下させるので除去する必要がある。」と記
載されている。
このため、従来COS等の硫黄化合物を含むC3
留分はプロピレンを原料とする化学反応プロセス
にそのまゝ使用されることはなく、C3留分を原
料として使用する場合には、希釈して使用する
か、或いはC3留分中の硫黄化合物を予め除去す
ることが通常行われている。
留分はプロピレンを原料とする化学反応プロセス
にそのまゝ使用されることはなく、C3留分を原
料として使用する場合には、希釈して使用する
か、或いはC3留分中の硫黄化合物を予め除去す
ることが通常行われている。
前者の場合、C3留分を例えばエチレンプラン
トのプロピレン精留塔を利用して主流のプロピレ
ンにより希釈して使用する方法がある。
トのプロピレン精留塔を利用して主流のプロピレ
ンにより希釈して使用する方法がある。
後者の場合、比較的高濃度（％オーダー）の硫
黄化合物を数ppm〜数百ppmのレベルまで除去す
るのに適したものとして、アミンによる反応吸収
法、例えばADIP法（Oil＆Gas International，
Vol.10，No.９，Sept.1970，p.109−111）や物理
吸収法、例えばRECTISOL法（Ｉ＆EC.，
Vol.62，No.７，1970，p37−43）がある。
黄化合物を数ppm〜数百ppmのレベルまで除去す
るのに適したものとして、アミンによる反応吸収
法、例えばADIP法（Oil＆Gas International，
Vol.10，No.９，Sept.1970，p.109−111）や物理
吸収法、例えばRECTISOL法（Ｉ＆EC.，
Vol.62，No.７，1970，p37−43）がある。
また、COSを低濃度まで除去する方法として、
特開昭55−27102号公開公報には加水分解法が、
又、特開昭55−27103号公開公報ではKOHによる
反応除去法が提案されており、この他活性炭によ
る吸着除去法等も知られている。
特開昭55−27102号公開公報には加水分解法が、
又、特開昭55−27103号公開公報ではKOHによる
反応除去法が提案されており、この他活性炭によ
る吸着除去法等も知られている。
C3留分をプロピレン精留塔を利用して精製す
る場合、プロピレン精留塔の能力が許す範囲内で
はプロピレン精留塔のフイードラインにFCC−
PPを追加することで精製が可能となるが、沸点
の近いCOSが製品プロピレン中に同伴されるた
め主流の製品プロピレンまでもCOSにより汚染
され、製品プロピレン中のCOS許容濃度により
その利用には制限を受ける。なおエチレンプラン
トの脱硫塔前にFCC−PPをフイードすることも
考えられるがCOS除去にはほとんど効果が認め
られない。
る場合、プロピレン精留塔の能力が許す範囲内で
はプロピレン精留塔のフイードラインにFCC−
PPを追加することで精製が可能となるが、沸点
の近いCOSが製品プロピレン中に同伴されるた
め主流の製品プロピレンまでもCOSにより汚染
され、製品プロピレン中のCOS許容濃度により
その利用には制限を受ける。なおエチレンプラン
トの脱硫塔前にFCC−PPをフイードすることも
考えられるがCOS除去にはほとんど効果が認め
られない。
また、ADIP法やRECTISOL法は硫黄化合物
を1ppm以下の低濃度迄除去するのは困難であり、
とりわけCOSを低濃度迄除去するのは非常に難
しい。そして、加水分解法やKOHによる反応除
去法や活性炭による吸着除去法を含めてこれらの
方法は何れも新たに除去装置を設置する必要があ
り、経済的に大きな負担となるものである。
を1ppm以下の低濃度迄除去するのは困難であり、
とりわけCOSを低濃度迄除去するのは非常に難
しい。そして、加水分解法やKOHによる反応除
去法や活性炭による吸着除去法を含めてこれらの
方法は何れも新たに除去装置を設置する必要があ
り、経済的に大きな負担となるものである。
本発明者等はより経済性のあるCOS除去法に
ついて鋭意検討を行ない、燐酸触媒による気相法
キユメン製造プロセスにおいて精製プロピレンの
代りに、FCC−PPの直接原料化が可能であるこ
とを見い出し、本発明に到達した。
ついて鋭意検討を行ない、燐酸触媒による気相法
キユメン製造プロセスにおいて精製プロピレンの
代りに、FCC−PPの直接原料化が可能であるこ
とを見い出し、本発明に到達した。
（発明の目的）
本発明は、上記のような状況に鑑みてなされた
もので、その目的は、C3留分中のCOSをより経
済的に除去する方法を提供することにある。
もので、その目的は、C3留分中のCOSをより経
済的に除去する方法を提供することにある。
（発明の構成）
即ち、本発明は、
(1) プロピレンを原料とする化学反応プロセスに
おいて、COSを含有し、プロピレン、プロパ
ンを主成分とするC3留分を直接原料として使
用し、プロピレンのみを実質的に消費した後、
COSを含むプロパン留分を炭化水素の熱分解
用原料として使用することにより含まれる
COSをH2Sに転換し、引続き脱硫装置で該H2S
を除去することを特徴とするCOSの除去方法 (2) プロピレンを原料とする化学反応プロセスが
燐酸触媒によるキユメン製造プロセスであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
法 である。
おいて、COSを含有し、プロピレン、プロパ
ンを主成分とするC3留分を直接原料として使
用し、プロピレンのみを実質的に消費した後、
COSを含むプロパン留分を炭化水素の熱分解
用原料として使用することにより含まれる
COSをH2Sに転換し、引続き脱硫装置で該H2S
を除去することを特徴とするCOSの除去方法 (2) プロピレンを原料とする化学反応プロセスが
燐酸触媒によるキユメン製造プロセスであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
法 である。
（発明の具体的説明）
プロピレンを原料とする化学反応プロセス
本発明で対象とするプロピレンを原料とする化
学反応プロセスとは、例えば、触媒としてAlCl3
＋HCl又は燐酸を用いてベンゼンとプロピレンと
を縮合してキユメンを製造するプロセス、プロピ
レンを分子状酸素で、モリブデン−ビスマス複合
酸化物系触媒により接触酸化してアクロレインを
製造するプロセス、モリブデン系あるいはアンチ
モン系の各種複合酸化物系触媒によりプロピレ
ン、アンモニア及び酸素を一段で反応させてアク
リロニトリルを製造するプロセス、プロピレンを
硫酸又はタングステン、チタン、鉄等の酸化物の
触媒により水和してイソプロピルアルコールを製
造するプロセス或いは、プロピレンを燐酸を触媒
としてプロピレンのテトラマーを製造するプロセ
ス等がある。
学反応プロセスとは、例えば、触媒としてAlCl3
＋HCl又は燐酸を用いてベンゼンとプロピレンと
を縮合してキユメンを製造するプロセス、プロピ
レンを分子状酸素で、モリブデン−ビスマス複合
酸化物系触媒により接触酸化してアクロレインを
製造するプロセス、モリブデン系あるいはアンチ
モン系の各種複合酸化物系触媒によりプロピレ
ン、アンモニア及び酸素を一段で反応させてアク
リロニトリルを製造するプロセス、プロピレンを
硫酸又はタングステン、チタン、鉄等の酸化物の
触媒により水和してイソプロピルアルコールを製
造するプロセス或いは、プロピレンを燐酸を触媒
としてプロピレンのテトラマーを製造するプロセ
ス等がある。
C3留分
本発明で対象とするC3留分とはプロピレン及
びプロパンを主成分とするもので、例えば、石油
精製工程のFCC装置から製出されるC3留分、い
わゆるFCC−PP、或いは、水素化分解装置から
製出されるC3留分、等がある。
びプロパンを主成分とするもので、例えば、石油
精製工程のFCC装置から製出されるC3留分、い
わゆるFCC−PP、或いは、水素化分解装置から
製出されるC3留分、等がある。
FCC−PPの代表的な組成としては、プロピレ
ン60〜80wt％、プロパン20〜35wt％、C20.1〜
0.3wt％、C40.1〜5wt％から成るが、この他の主
として、COS1〜30ppm及びCH3SH0.1〜10ppm
等の微量の硫黄化合物を含んでいる。
ン60〜80wt％、プロパン20〜35wt％、C20.1〜
0.3wt％、C40.1〜5wt％から成るが、この他の主
として、COS1〜30ppm及びCH3SH0.1〜10ppm
等の微量の硫黄化合物を含んでいる。
キユメン製造プロセス
本発明で対象とするキユメン製造プロセスは、
燐酸触媒を充填した反応塔にベンゼンとC3留分
を加圧加熱の気相状で通過せしめてアルキル化を
行なうもので、ベンゼン／プロピレン比は５：１
〜８：１、200〜300℃、液空間速度１〜2.5、収
率としてはキユメン１Kg当たりプロピレン0.42
Kg、ベンゼン0.70Kgが消費される。キユメン製造
プロセスにFCC−PPが供給された場合プロピレ
ンのみが反応により実質的に100％消費され、反
応に関与しないプロパンは系外に排出される。こ
の際プロパンといつしよにCOSもほぼ全量排出
され、プロパン中にCOSが濃縮されることがわ
かつた。しかも触媒活性および製品キユメン品質
への悪影響は認められなかつた。
燐酸触媒を充填した反応塔にベンゼンとC3留分
を加圧加熱の気相状で通過せしめてアルキル化を
行なうもので、ベンゼン／プロピレン比は５：１
〜８：１、200〜300℃、液空間速度１〜2.5、収
率としてはキユメン１Kg当たりプロピレン0.42
Kg、ベンゼン0.70Kgが消費される。キユメン製造
プロセスにFCC−PPが供給された場合プロピレ
ンのみが反応により実質的に100％消費され、反
応に関与しないプロパンは系外に排出される。こ
の際プロパンといつしよにCOSもほぼ全量排出
され、プロパン中にCOSが濃縮されることがわ
かつた。しかも触媒活性および製品キユメン品質
への悪影響は認められなかつた。
C3留分の熱分解プロセス
本発明で対象とする炭化水素の熱分解プロセス
としては、例えば管式加熱法、スチームクラツキ
ング法、Pebble Heater法、蓄熱炉法等がある
が、管式加熱法を例にとつて説明すると原料炭化
水素は対流管部に入つて予熱され、そこで吹込ま
れたスチームと混合されて放射加熱管部に移り、
分解温度に達する。
としては、例えば管式加熱法、スチームクラツキ
ング法、Pebble Heater法、蓄熱炉法等がある
が、管式加熱法を例にとつて説明すると原料炭化
水素は対流管部に入つて予熱され、そこで吹込ま
れたスチームと混合されて放射加熱管部に移り、
分解温度に達する。
該COSを含むプロパンをエチレンプラント分
解炉の原料として使用するとプロパン分解と並行
してCOSをH2Sに転換し得ることがわかつた。分
解条件としては通常行われる滞留時間0.05〜1.5
秒好ましくは0.1〜0.5秒、スチーム比0.2〜1.0重
量対原料好ましくは0.3〜0.5重量対原料の範囲内
で希望するプロパン転化率およびCOS転化率に
合わせて分解温度（分解シビアリテイ）が決定さ
れればよい。該H2Sは分解炉に続く精製系の脱硫
塔で容易に除去されるため主流の製品プロピレン
もCOSにより汚染されることがなくなる。
解炉の原料として使用するとプロパン分解と並行
してCOSをH2Sに転換し得ることがわかつた。分
解条件としては通常行われる滞留時間0.05〜1.5
秒好ましくは0.1〜0.5秒、スチーム比0.2〜1.0重
量対原料好ましくは0.3〜0.5重量対原料の範囲内
で希望するプロパン転化率およびCOS転化率に
合わせて分解温度（分解シビアリテイ）が決定さ
れればよい。該H2Sは分解炉に続く精製系の脱硫
塔で容易に除去されるため主流の製品プロピレン
もCOSにより汚染されることがなくなる。
フローシート
第２図はエチレンプラント１２にあるプロピレ
ン精留塔１８のフイードラインにFCC−PP１を
追加する従来法を示したものである。エチレンプ
ラントではナフサ等の炭化水素原料５が分解炉１
３にフイードされ分解炉から流出する分解ガスは
急冷系１４、圧縮脱硫系１５を通り、低温精製系
１６にてH2、CH4の軽質ガス６、エチレン、エ
タンのC2留分７、およびC4以上の重質留分８が
分離され、残りのC3留分がC3アセチレン水添槽
１７を通つてプロピレン精留塔にフイードされ製
品プロピレン９とプロパン留分１０になる。ここ
でFCC−PP中のCOSはそのまま製品プロピレン
中に同伴されるためエチレンプラント主流のプロ
ピレンと追加FCC−PPとの量比から定まるCOS
濃度に希釈されるが、製品プロピレン中のCOS
許容濃度からFCC−PP追加処理量には厳しい制
限が生ずる。
ン精留塔１８のフイードラインにFCC−PP１を
追加する従来法を示したものである。エチレンプ
ラントではナフサ等の炭化水素原料５が分解炉１
３にフイードされ分解炉から流出する分解ガスは
急冷系１４、圧縮脱硫系１５を通り、低温精製系
１６にてH2、CH4の軽質ガス６、エチレン、エ
タンのC2留分７、およびC4以上の重質留分８が
分離され、残りのC3留分がC3アセチレン水添槽
１７を通つてプロピレン精留塔にフイードされ製
品プロピレン９とプロパン留分１０になる。ここ
でFCC−PP中のCOSはそのまま製品プロピレン
中に同伴されるためエチレンプラント主流のプロ
ピレンと追加FCC−PPとの量比から定まるCOS
濃度に希釈されるが、製品プロピレン中のCOS
許容濃度からFCC−PP追加処理量には厳しい制
限が生ずる。
第１図は本発明の実施態様の１例を示したもの
である。リン酸触媒による気相法キユメン製造プ
ラント１１ではFCC−PP１およびベンゼン２が
フイードされ製品キユメン３が選出されるが、こ
の際FCC−PP中のプロピレンは実質上100％反応
するため未反応プロパン４にCOSが同伴濃縮さ
れる。このCOS含有プロパンは次いでエチレン
プラント分解炉の原料として単独にあるいはナフ
サ、エタン等の炭化水素に混合して処理されるこ
とによりプロパンが有効に原料化されると同時に
COSの大部分がH2Sに転換される。そして該H2S
が後続の圧縮脱硫酸系で除去される結果、主流の
製品プロピレンに与える影響は非常に小さくな
る。
である。リン酸触媒による気相法キユメン製造プ
ラント１１ではFCC−PP１およびベンゼン２が
フイードされ製品キユメン３が選出されるが、こ
の際FCC−PP中のプロピレンは実質上100％反応
するため未反応プロパン４にCOSが同伴濃縮さ
れる。このCOS含有プロパンは次いでエチレン
プラント分解炉の原料として単独にあるいはナフ
サ、エタン等の炭化水素に混合して処理されるこ
とによりプロパンが有効に原料化されると同時に
COSの大部分がH2Sに転換される。そして該H2S
が後続の圧縮脱硫酸系で除去される結果、主流の
製品プロピレンに与える影響は非常に小さくな
る。
以下、本発明を実施例を以つて更に詳細に説明
する。
する。
実施例 １
第３図に示すリン酸触媒によるキユメン製造プ
ロセスでFCC−PPを処理した。原料となるFCC
−PP１およびベンゼン２の循環ベンゼンと共に
サージタンク９に供給し、これに水３を添加して
反応塔１０にフイードした。反応流出物４は脱プ
ロパン塔１１で末反応プロパン５を除去され、ベ
ンゼン蒸留塔１２で循環ベンゼン６を分離され、
精製塔１３で製品キユメンと罐出液８に分留され
た。プロセス条件は下記の通りであつた。
ロセスでFCC−PPを処理した。原料となるFCC
−PP１およびベンゼン２の循環ベンゼンと共に
サージタンク９に供給し、これに水３を添加して
反応塔１０にフイードした。反応流出物４は脱プ
ロパン塔１１で末反応プロパン５を除去され、ベ
ンゼン蒸留塔１２で循環ベンゼン６を分離され、
精製塔１３で製品キユメンと罐出液８に分留され
た。プロセス条件は下記の通りであつた。
FCC−PPフイード量 9.6T／Ｈ
Bzフイード量 12.4T／Ｈ
キユメン製出量 1.0T／Ｈ
反応温度 190〜220℃
反応圧力 25〜35atm
FCC−PP中COS濃度 6volppm
末反応プロパン中COS濃度 17volppm
以上の運転において触媒活性および製品キユメ
ン品質に問題は生じなかつた。
ン品質に問題は生じなかつた。
実施例 ２
50〜80volppmのCOSを含有するブロパンを管
式熱分解炉にて滞留時間0.5sec、スチーム比0.3
（wt）の条件で熱分解した。分解温度を種々変え
て実施したときのプロパン転化率とCOS転化率
の関係が第４図である。プロパン転化率と略同等
のCOS転化率が得られることがわかる。また分
解ガス中にH2Sの生成が確認され、かつ生成
H2S／消失COSモル比は略１に等しかつた。
式熱分解炉にて滞留時間0.5sec、スチーム比0.3
（wt）の条件で熱分解した。分解温度を種々変え
て実施したときのプロパン転化率とCOS転化率
の関係が第４図である。プロパン転化率と略同等
のCOS転化率が得られることがわかる。また分
解ガス中にH2Sの生成が確認され、かつ生成
H2S／消失COSモル比は略１に等しかつた。
本発明によれば、脱硫せずに直接FCC−PPを
原料として使えるプロセスとエチレンプロセスと
を組合わせることによりFCC−PP中のプロピレ
ン、プロパンを無駄なく活用するだけでなく、か
つCOSをH2Sの形に変えて除去できることがわか
る。
原料として使えるプロセスとエチレンプロセスと
を組合わせることによりFCC−PP中のプロピレ
ン、プロパンを無駄なく活用するだけでなく、か
つCOSをH2Sの形に変えて除去できることがわか
る。
本発明の方法はFCC−PPに限らずプロピレン、
プロパンを主成分とするC3留分に同様に適用で
きる。これにより従来COS含有のため使用に制
限を受けていたFCC−PP等のC3留分の利用を大
巾に高めることができる。そしてFCC−PP等の
C3留分の利用により浮いた精製プロピレンの枠
は他の用途に振り向けることが可能となる。
プロパンを主成分とするC3留分に同様に適用で
きる。これにより従来COS含有のため使用に制
限を受けていたFCC−PP等のC3留分の利用を大
巾に高めることができる。そしてFCC−PP等の
C3留分の利用により浮いた精製プロピレンの枠
は他の用途に振り向けることが可能となる。
第１図は、本発明の実施態様の１例を示すフロ
ーシートである。第２図は、エチレンプラントの
プロピレン精留塔にFCC−PPを供給する従来方
式のフローシートである。 １…FCC−PP、２…ベンゼン…、３…製品キ
ユメン、４…未反応プロパン、５…炭化水素原
料、６…軽質ガス、７…C2留分、８…重質留分、
９…製品プロピレン、１０…プロパン留分、１１
…キユメン製造プラント、１２…エチレンプラン
ト、１３…熱分解炉、１４…急冷系、１５…圧縮
脱硫系、１６…低温精製系、１７…C3アセチレ
ン水添槽、１８…プロピレン精留塔。 第３図は、燐酸触媒によるキユメン製造プロセ
スのフローシートである。 １…FCC−PP、２…ベンゼン、３…水、４…
反応流出物、５…未反応プロパン、６…循環ベン
ゼン、８…罐出液、９…サージタンク、１０…反
応塔、１１…脱プロパン塔、１２…ベンゼン蒸留
塔、１３…精製塔、第４図は、プロパン及び
COSの転化率の関係を示す説明図である。
ーシートである。第２図は、エチレンプラントの
プロピレン精留塔にFCC−PPを供給する従来方
式のフローシートである。 １…FCC−PP、２…ベンゼン…、３…製品キ
ユメン、４…未反応プロパン、５…炭化水素原
料、６…軽質ガス、７…C2留分、８…重質留分、
９…製品プロピレン、１０…プロパン留分、１１
…キユメン製造プラント、１２…エチレンプラン
ト、１３…熱分解炉、１４…急冷系、１５…圧縮
脱硫系、１６…低温精製系、１７…C3アセチレ
ン水添槽、１８…プロピレン精留塔。 第３図は、燐酸触媒によるキユメン製造プロセ
スのフローシートである。 １…FCC−PP、２…ベンゼン、３…水、４…
反応流出物、５…未反応プロパン、６…循環ベン
ゼン、８…罐出液、９…サージタンク、１０…反
応塔、１１…脱プロパン塔、１２…ベンゼン蒸留
塔、１３…精製塔、第４図は、プロパン及び
COSの転化率の関係を示す説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プロピレンを原料とする化学反応プロセスに
おいて、COSを含有し、プロピレン、プロパン
を主成分とするC3留分を直接原料として使用し、
プロピレンのみを消費した後、COSを含むプロ
パン留分を炭化水素の熱分解用原料として使用す
ることにより含まれるCOSをH2Sに転換し、引続
き脱硫装置で該H2Sを除去することを特徴とする
COSの除去方法。 ２ プロピレンを原料とする化学反応ブロセスが
燐酸触媒によるキユメン製造プロセスであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227270A JPS61106525A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Ｃ↓３留分中のｃｏｓの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59227270A JPS61106525A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Ｃ↓３留分中のｃｏｓの除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106525A JPS61106525A (ja) | 1986-05-24 |
| JPH0533691B2 true JPH0533691B2 (ja) | 1993-05-20 |
Family
ID=16858187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59227270A Granted JPS61106525A (ja) | 1984-10-29 | 1984-10-29 | Ｃ↓３留分中のｃｏｓの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61106525A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4507276B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-07-21 | Ｊｆｅエンジニアリング株式会社 | 廃棄物ガス化処理装置の操業方法 |
-
1984
- 1984-10-29 JP JP59227270A patent/JPS61106525A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61106525A (ja) | 1986-05-24 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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