JPH05343774A - 半導体レーザの光量制御方法及び半導体レーザ装置 - Google Patents

半導体レーザの光量制御方法及び半導体レーザ装置

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JPH05343774A
JPH05343774A JP14471192A JP14471192A JPH05343774A JP H05343774 A JPH05343774 A JP H05343774A JP 14471192 A JP14471192 A JP 14471192A JP 14471192 A JP14471192 A JP 14471192A JP H05343774 A JPH05343774 A JP H05343774A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は半導体レーザの光量制御方法及び半導
体レーザ装置に関し、半導体レーザ素子が劣化した場合
であっても、その出力光量を一定に保持して性能及び安
全性を維持することを目的とする。 【構成】レーザビームを出力する半導体レーザ素子11
と、レーザビームLBfを整形するためのビーム整形用
レンズ21と、ビーム整形用レンズ21の後方に配置さ
れ、レーザビームの主要部を通過させるための開口部2
3を有した遮光板22と、ビーム整形用レンズ21の後
方に配置され、開口部23を通過しないレーザビームを
受光してその受光量に応じた検出信号を出力する光電変
換素子12と、光電変換素子12の検出信号に基づいて
半導体レーザ素子11の光量を一定に保持するように制
御を行う制御部13とを有して構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばバーコードリー
ダ又はレーザプリンタなどの光走査装置の光源として用
いられる半導体レーザの光量制御方法及び半導体レーザ
装置に関する。
【0002】バーコードリーダの付いた商品は、バーコ
ードリーダで読み取ることによって商品名又は価格など
を容易に入力することができるので、流通業界において
急速に普及している。
【0003】一方、可視光の半導体レーザは、装置の小
型化及び一定出力の保持が容易であり且つ応答性に優れ
ることから、バーコードリーダの光源として従来のガス
レーザに代わって多く用いられている。
【0004】このような状況において、より安全で安定
性のある半導体レーザ装置が要望されている。
【0005】
【従来の技術】図4は従来の半導体レーザ装置80の構
成を示す図である。この図を参照して従来の半導体レー
ザの光量制御方法について説明する。
【0006】半導体レーザ装置80は、半導体レーザユ
ニット81とこれを制御するAPC(Auto pow
er control)回路82とから構成されてい
る。半導体レーザユニット81には、半導体レーザ素子
91及び光電変換素子92が内蔵されている。半導体レ
ーザ素子91に電流を流すと、出力側のレーザビームL
Bfとモニタ側のレーザビームLBrとがそれぞれの反
対方向に放射され、モニタ側のレーザビームLBrはモ
ニタ用の光電変換素子92で光電変換され、検出信号S
8としてAPC回路82に入力される。
【0007】この検出信号S8に基づき、APC回路8
2は予め決められた制御定数によって半導体レーザ素子
91に流す電流を制御し、出力側のレーザビームLBf
の光量が温度などによって変動するのを防止するように
なっている。
【0008】これによって、半導体レーザ装置80の光
量の安定化が図られ、バーコードリーダに使用した場合
にバーコードの読み取り性能及び使用上の安全性が確保
されるようになっている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、特に可視光
の半導体レーザ素子91は、サージ電流に対して極めて
弱い特性を有しており、瞬時であっても正規の動作電流
値を越えるサージ電流が流れた場合には素子の劣化が起
こる。また、温度又は経年変化によっても劣化が起こ
る。
【0010】半導体レーザ素子91の劣化が起こると、
出力側のレーザビームLBfの光量とモニタ側のレーザ
ビームLBrの光量との比率が変動する可能性がある。
そうすると、従来の制御方法では、出力側のレーザビー
ムLBfの光量が変動し、例えばバーコードリーダの光
源として利用した場合にはその出力光量が弱くなってバ
ーコードの読み取り性能が低下することとなり、これと
は逆に出力光量が強くなり過ぎて危険になることもあ
る。
【0011】本発明は、上述の問題に鑑み、半導体レー
ザ素子が劣化した場合であっても、その出力光量を一定
に保持し、装置の性能及び安全性を維持することを目的
とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る方
法は、上述の課題を解決するため、図1及び図3に示す
ように、半導体レーザ素子11から出力されるレーザビ
ームLBfの光量を制御するための方法であって、レー
ザビームLBfをビーム整形用レンズ21,31,32
を通過させ、通過した後のレーザビームLBfを光電変
換素子12によってモニタして光量を制御する。
【0013】請求項2の発明に係る半導体レーザ装置
1,2は、レーザビームLBfを出力する半導体レーザ
素子11と、レーザビームLBfを整形するためのビー
ム整形用レンズ21,31,32と、ビーム整形用レン
ズ21の後方に配置され、レーザビームLBfの主要部
を通過させるための開口部23を有した遮光板22と、
ビーム整形用レンズ21,31,32の後方に配置さ
れ、開口部23を通過しないレーザビームLBfを受光
してその受光量に応じた検出信号を出力する光電変換素
子12と、光電変換素子12の検出信号に基づいて半導
体レーザ素子11の光量を一定に保持するように制御を
行う制御部13とを有して構成される。
【0014】請求項3の発明に係る半導体レーザ装置
1,2は、前記遮光板22には、レーザビームLBfが
当たる位置において開口部23とは別のモニタ用穴24
が設けられており、光電変換素子12は、モニタ用穴2
4を通過したレーザビームLBfを受光するように配置
される。
【0015】
【作用】光電変換素子12は、出力側のレーザビームL
Bfを受光してその受光量に応じた検出信号を出力す
る。この検出信号に基づいて、制御部13はレーザビー
ムLBfの光量を一定に保持するように制御を行う。
【0016】したがって、半導体レーザ素子11に劣化
が起こった場合であっても、出力側のレーザビームLB
fの光量が常に一定になるように制御が行われる。な
お、本発明において、レーザビームLBfの光量が一定
であるとは、光量が一定値に固定される場合のみではな
く、光量を変動する目標値となるように制御する場合
に、その目標値に対して一定となるような場合を含む。
【0017】
【実施例】図1は本発明に係る半導体レーザ装置1の構
成を示す正面図、図2は本発明に係る半導体レーザ装置
1の側面図である。
【0018】半導体レーザ装置1は投光器5及び制御部
13から構成されている。投光器5は、半導体レーザ素
子11、光電変換素子12、ビーム整形用レンズ21、
及び遮光板22からなる。
【0019】半導体レーザ素子11は、レーザダイオー
ド(LD)とも呼ばれ、電流を流すことによってレーザ
ビームLBfを放射する。レーザビームLBfは、通
常、楕円形状に放射される。
【0020】光電変換素子12は、フォトダイオード
(PD)とも呼ばれ、受光量に応じた検出信号S1を出
力する。ビーム整形用レンズ21は、レーザビームLB
fを整形するためのものであり、半導体レーザ素子11
と遮光板22との間において半導体レーザ素子11のレ
ーザビームLBfの出力方向と同軸上に配置されてい
る。
【0021】遮光板22は、レーザビームLBfのうち
の不要な光を遮断するためのものであり、レーザビーム
LBfの出力方向と同軸上に直径1mm〜2mm程の開
口部23を有し、また、開口部23とは重ならない位置
で且つレーザビームLBfが当たる位置において直径
0.5mm程度のモニタ用穴24を有している。モニタ
用穴24の外面側に上述の光電変換素子12が取り付け
られている。
【0022】図2によく示されているように、モニタ用
穴24は、レーザビームLBfが一般に楕円状に放射さ
れるので、発散角の大きい長軸方向に変位した位置に設
けられている。したがって、光電変換素子12は、半導
体レーザ素子11からの実際の出力となるレーザビーム
LBfの不要な部分の光を受光し、その出力光量(強
度)を検出することとなる。
【0023】制御部13は半導体レーザ素子11に電流
を流して駆動する。このとき、光電変換素子12からの
検出信号S1によって電流を制御し、その出力光量を制
御する。制御部13は、基本的には従来から公知のAP
C回路と同様であるが、光電変換素子12からの検出信
号S1の大きさに応じて制御定数などが異なる。
【0024】次に、上述のように構成された半導体レー
ザ装置1の動作について説明する。制御部13の電源が
投入されると、半導体レーザ素子11からレーザビーム
LBfの放射が始まる。レーザビームLBfは、整形用
レンズ21と遮光板22の開口部23を通過して半導体
レーザ装置1の外部に放射される。
【0025】このとき、レーザビームLBfのうちの遮
断された不要な部分の光がモニタ用穴24から光電変換
素子12に入力され、レーザビームLBfの強度に応じ
た検出信号S1が制御部13に入力される。
【0026】制御部13は、検出信号S1に基づいて、
予め定められた制御定数によって光量が一定になるよう
に半導体レーザ素子11に流す電流を制御し、レーザビ
ームLBfの光量が一定になるように制御する。これに
よって、温度変化などに起因する半導体レーザ素子11
の光量のバラツキが防止されている。
【0027】さらに、実際に出力しているレーザビーム
LBfを光電変換素子12によってモニタしているた
め、半導体レーザ素子11に劣化が起こった場合であっ
ても、出力側のレーザビームLBfの光量が常に一定に
なるように制御が行われ、装置の性能及び安全性を維持
することができる。
【0028】したがって、半導体レーザ装置1を例えば
バーコードリーダに使用した場合に、半導体レーザ素子
11の劣化によって投光器5から出力されるレーザビー
ムLBfの光量が変動することがなく、バーコードの読
み取り性能が低下したり光量が強くなって危険となる恐
れもない。
【0029】また、光電変換素子12はモニタ用穴24
を通過した後のレーザビームLBfを受光しているの
で、光電変換素子12の素子形状などに係わらず受光量
が一定となり、調整が容易となり制御が安定する。
【0030】図3は本発明に係る他の実施例の半導体レ
ーザ装置2の正面図である。図3において、図1と同じ
機能を有する要素には同一の符号を付してその説明を省
略し又は簡略化する。
【0031】投光器5aは、アルミダイキャスト製の筐
体35と、筐体35の一端にある遮光板22とがネジな
どにより一体的に連結されている。筐体35の内部に
は、前段ビーム整形用レンズ31と後段ビーム整形用レ
ンズ32とが装着されている。半導体レーザ素子11
は、筐体35の遮光板22とは反対側に取り付けられて
いる。
【0032】この半導体レーザ装置2においても、図1
における半導体レーザ装置1と同様に、実際に出力され
ているレーザビームLBfを光電変換素子12によって
モニタしているため、半導体レーザ素子11が劣化した
場合であってもその出力光量を一定に保持することがで
きる。
【0033】また、投光器5aが筐体35によって一体
的に構成されているので、光電変換素子12によるモニ
タ位置の変動がなく制御の安定性が図れるとともに、取
り扱いが容易である。また、光電変換素子12を遮光板
22の外側面に取り付けることによって、光電変換素子
12の交換が容易である。
【0034】上述の実施例において、光電変換素子12
を遮光板22の外面側に設けたが、遮光板22の内面側
で開口部23を通過するレーザビームLBfと干渉しな
い位置に設けてもよい。半導体レーザ素子11に流れる
電流の基準値を可変するための調整装置を設けてもよ
い。その他、半導体レーザ素子11、光電変換素子1
2、筐体35、遮光板22の材料、形状、寸法などは、
本発明の主旨に沿って上述した以外に種々変更すること
ができる。
【0035】またレーザプリンタのレーザ光源のように
光源の明るさが基準値に対して変化する必要のある場合
にも、本発明を適用することができる。その場合には、
例えば画像濃度に応じた変調信号によって半導体レーザ
素子11に流れる電流の基準値を可変制御すればよい。
【0036】
【発明の効果】本発明によると、半導体レーザ素子が劣
化した場合であっても、その出力光量を一定に保持し、
装置の性能及び安全性を維持することができる。
【0037】請求項3記載の発明によると、光電変換素
子の素子形状などに係わらず受光量が一定となり、調整
が容易となり制御が安定する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体レーザ装置の構成を示す正
面図である。
【図2】本発明に係る半導体レーザ装置の側面図であ
る。
【図3】本発明に係る他の実施例の半導体レーザ装置の
正面図である。
【図4】従来の半導体レーザ装置の構成を示す図であ
る。
【符号の説明】
1,2 半導体レーザ装置 11 半導体レーザ素子 12 光電変換素子 13 制御部 21,31,32 ビーム整形用レンズ 22 遮光板 23 開口部 24 モニタ用穴 LBf レーザビーム

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体レーザ素子(11)から出力される
    レーザビーム(LBf)の光量を制御するための方法で
    あって、 前記レーザ素子(11)をビーム整形用レンズ(21)
    (31)(32)を通過させ、通過した後のレーザビー
    ム(LBf)を光電変換素子(12)によってモニタし
    て光量を制御することを特徴とする半導体レーザの光量
    制御方法。
  2. 【請求項2】レーザビーム(LBf)を出力する半導体
    レーザ素子(11)と、 前記レーザビーム(LBf)を整形するためのビーム整
    形用レンズ(21)(31)(32)と、 前記ビーム整形用レンズ(21)(31)(32)の後
    方に配置され、レーザビーム(LBf)の主要部を通過
    させるための開口部(23)を有した遮光板(22)
    と、 前記ビーム整形用レンズ(21)(31)(32)の後
    方に配置され、前記開口部(23)を通過しないレーザ
    ビームを受光してその受光量に応じた検出信号(S1)
    を出力する光電変換素子(12)と、 前記光電変換素子(12)の検出信号(S1)に基づい
    て前記半導体レーザ素子(11)の光量を一定に保持す
    るように制御を行う制御部(13)とを有してなること
    を特徴とする半導体レーザ装置。
  3. 【請求項3】前記遮光板(22)には、レーザビーム
    (LBf)が当たる位置において前記開口部(23)と
    は別のモニタ用穴(24)が設けられており、 前記光電変換素子(12)は、前記モニタ用穴(24)
    を通過したレーザビームを受光するように配置されてな
    ることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007335540A (ja) * 2006-06-13 2007-12-27 Canon Inc 光量制御装置、光ビーム走査装置、画像形成装置および光量制御方法
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