JPH05347351A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JPH05347351A
JPH05347351A JP15354892A JP15354892A JPH05347351A JP H05347351 A JPH05347351 A JP H05347351A JP 15354892 A JP15354892 A JP 15354892A JP 15354892 A JP15354892 A JP 15354892A JP H05347351 A JPH05347351 A JP H05347351A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
wafer
amount
edge
positioning
Prior art date
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Pending
Application number
JP15354892A
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English (en)
Inventor
Shigeru Kobayashi
茂 小林
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、半導体ウエハを吸着したときの偏心
量を測定する時間を短縮できて半導体ウエハの位置決め
を効率よく簡単な構成で実現する。 【構成】被検査体(1) が回転したとき、この被検査体
(1) の縁部に配置された少なくとも2つの縁部検出手段
(40a,40b) により被検査体(1) の縁位置が検出される。
そして、この縁位置から吸着機構(22)の被検査体(1) に
対する吸着位置の偏心量が位置決めの補正量として補正
演算手段(50)により求められる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハの検査装
置等に適用され、半導体ウエハを吸着保持して検査装置
の所定位置に位置決めする位置決め装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの処理工程には、半導体ウ
エハに対して観察、検査等を行う工程がある。かかる工
程では、半導体ウエハを吸着して保持し、この状態で半
導体ウエハを検査用顕微鏡に対して所定の観察位置に位
置決めしている。
【0003】ところが、半導体ウエハを吸着する位置
は、半導体ウエハの中心位置から偏心してその位置が不
定であり、又、半導体ウエハのオリエンテーションフラ
ット(以下、オリフラと称する)の位置も不定となる。
このため、吸着位置の偏心量を無くし、かつオリフラの
位置を考慮した位置決めを行う必要がある。
【0004】かかる半導体ウエハの位置決めは、半導体
ウエハの縁部に接触して移動させることにより、その中
心を所定位置に位置決めすることが行われていた。しか
し、半導体ウエハへの接触により微粒子が発生し、半導
体ウエハ上の集積回路の表面を汚してしまうため、最近
では非接触により半導体ウエハの縁部を検出する方法が
行われている。
【0005】かかる方法としては、例えば特開平1−2
09740号公報、特開平3−136264号公報に記
載された技術がある。すなわち、図9に示すように半導
体ウエハ1はウエハチャック2により吸着保持されてい
る。このウエハチャック2は回転機構4に連結されて回
転自在となっている。なお、吸着位置は偏心量Cだけず
れている。又、ラインセンサ3がウエハチャック2を通
る方向に配置されている。
【0006】この状態で回転機構4が回転駆動すると、
ウエハチャック2及び半導体ウエハ1は一体となって例
えば反時計方向に回転する。このとき、ラインセンサ3
は、半導体ウエハ1の回転により遮光される面積が変化
し、その受光量に応じた電気信号を出力する。なお、ラ
インセンサ3は、図10に示すようにセンサコントロー
ル部5により駆動され、出力される電気信号は増幅部6
を通ってA/D変換部7によりディジタル変換される。
【0007】図11はラインセンサ3での受光量変化を
示しており、この受光量は回転角度90度のときに最小
となり、回転角度270度のときに最大となる。又、半
導体ウエハ1のオリフラ1aの部分での受光量は僅かに
増加するものとなっている。
【0008】この受光量変化から偏心量は回転角度90
度及び回転角度270度の各受光量の差から求められ、
オリフラ1aの中央位置はオリフラ1a部分に対応する
回転角度から求められる。ところで、このようにして求
めたオリフラ1aの中心の回転角度をθとすると、図1
2に示す各偏心量D、Eは、 D=C・ cosθ E=C・ sinθ
【0009】となる。これら偏心量D、Eは、ウエハチ
ャック2及び半導体ウエハ1等を搬送機構8に搭載する
ときの位置の補正量となる。すなわち、搬送機構8はこ
れら偏心量D、Eだけ位置補正され、この後にウエハチ
ャック2及び半導体ウエハ1等が搬送機構8に搭載され
る。そして、搬送機構8の移動により半導体ウエハ1を
規定された位置に搬送し、半導体ウエハ1をウエハチャ
ック9に載置する。
【0010】このようにラインセンサ3の受光量に応じ
てウエハチャック2を回転してオリフラ1aの方向を確
定し、偏心量D、Eを補正した位置で搬送機構8に半導
体ウエハ1を載置するので、ウエハチャック2の任意の
位置に搭載した半導体ウエハ1の偏心量の補正と、オリ
フラ1aの位置決めとを短時間で同時に行うことができ
る。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、各偏心
量D、Eは、半導体ウエハ1を1回転させたときの縁部
の受光量変化をラインセンサ3により検出し、この受光
量変化から測定しているので、どうしても半導体ウエハ
1を1回転させる必要がある。このため、半導体ウエハ
1を1回転させる期間だけ時間がかかる。又、ラインセ
ンサ3を使用することにより高価となり、このラインセ
ンサ3をコントロールするために複雑な構成のタイミン
グ処理回路等が必要となる。
【0012】そこで本発明は、半導体ウエハを吸着した
ときの偏心量を測定する時間を短縮できて半導体ウエハ
の位置決めを効率よく簡単な構成でできる位置決め装置
を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、回転自在の吸
着機構により被検査体を吸着保持し、この状態でこれら
吸着機構及び被検査体を一体的に移動して被検査体を所
定位置に位置決めする位置決め装置において、
【0014】被検査体の縁部に配置された少なくとも2
つの縁部検出手段と、被検査体が回転したときの各縁部
検出手段により検出された被検査体の縁位置から吸着機
構の被検査体に対する吸着位置の偏心量を位置決めの補
正量として求める補正演算手段とを備えて上記目的を達
成しようとする位置決め装置である。
【0015】
【作用】このような手段を備えたことにより、被検査体
が回転したとき、この被検査体の縁部に配置された少な
くとも2つの縁部検出器により被検査体の縁位置が検出
される。そして、この縁位置から吸着機構の被検査体に
対する吸着位置の偏心量が位置決めの補正量として補正
演算手段により求められる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。
【0017】図1は半導体ウエハ検査装置に適用した位
置決め装置の全体構成図である。半導体ウエハローダ1
0にはウエハカセット11が設けられ、このウエハカセ
ット11に複数の半導体ウエハ1が収納されている。
又、ローダ用アーム12が備えられ、このローダ用アー
ム12は、ウエハカセット11に収納された半導体ウエ
ハ1をウエハ位置決め機構20に搬送し、かつ観察・検
査後の半導体ウエハ1をウエハ位置決め機構20からウ
エハカセット11内に戻す機能を有している。
【0018】ウエハ位置決め機構20は、半導体ウエハ
1を吸着保持して検査用顕微鏡30に対して所定位置に
位置決めする機能を有するものである。具体的には、図
2の外観図に示すようにXY移動用ステージ21が設け
られ、このXY移動用ステージ21上にウエハ保持回転
機構22が設けられている。このウエハ保持回転機構2
2は、回転用モータ23と、この回転用モータ23の回
転軸に連結されたウエハ吸着保持部24とから構成され
ている。
【0019】半導体ウエハ1の縁部にはウエハ縁部位置
検出部40a、40b、…が少なくとも2つ配置されて
いる。この場合、ウエハ縁部位置検出部40aと40b
とが、半導体ウエハ1を介して対向配置されている。こ
れらウエハ縁部位置検出部40a、40bは、半導体ウ
エハ1の縁の位置を検出するもので、図3に示すように
半導体ウエハ1を挟んで検出用光源41と受光素子42
とを対向配置している。
【0020】又、これらウエハ縁部位置検出部40a、
40bの回路構成は、受光素子42として各フォトダイ
オード42a、42bを用いた場合、図4に示すように
各オートパワーコントロール部43、44には発光素子
としての各LED41a、41bが接続される。一方、
各フォトダイオード42a、42bには各増幅器43
a、43b及び各A/D変換器44a、44bを介して
セレクタ45が接続されている。なお、図5には受光素
子42としてPSD(位置検出素子)46a、46bを
用いた場合のウエハ縁部位置検出部40a、40bの回
路構成を示す。
【0021】ホストCPU50は、図6の機能ブロック
図に示すように半導体ウエハローダ10、ウエハ位置決
め機構20、検査用顕微鏡30及び各ウエハ縁部位置検
出部40a、40bの各CPUとの間で通信を行って全
体制御を実行する機能を有している。
【0022】又、このホストCPU50は、半導体ウエ
ハ1を回転させ、この状態に各ウエハ縁部位置検出部4
0a、40bにより検出された半導体ウエハ1の縁位置
からウエハ吸着用保持部24の半導体ウエハ1に対する
吸着位置の偏心量を位置決めの補正量として求める補正
演算手段としての機能を有している。そして、この補正
量が、ウエハ位置決め機構20の位置制御部25に送ら
れるようになっている。次に上記の如く構成された装置
の作用について説明する。
【0023】ローダ用アーム12は、ウエハカセット1
1に収納された半導体ウエハ1を1枚づつ取り出してウ
エハ位置決め機構20に搬送する。この搬送された半導
体ウエハ1は、ウエハ吸着保持部24により吸着保持さ
れる。
【0024】この状態にホストCPU50は、回転用モ
ータ23に対して回転指令を発し、かつ各ウエハ縁部位
置検出部40a、40bに対して測定指令を発する。こ
れにより、回転用モータ23はステップ回転し、これに
伴って半導体ウエハ1は反時計方向つまり矢印方向に回
転する。これとともに各ウエハ縁部位置検出部40a、
40bの各オートパワーコントロール部43、44は各
LED41a、41bを発光させる。この光は半導体ウ
エハ1の縁部で遮光又は遮光されずに各フォトダイオー
ド42a、42bに入射する。これらフォトダイオード
42a、42bは、受光量に応じた各電気信号を出力す
る。これら電気信号は、各増幅器43a、43bで増幅
され、各A/D変換器44a、44bでディジタル変換
され、セレクタ45を通ってホストCPU50に送られ
る。このような動作は回転用モータ23が1ステップ回
転する毎に行われる。
【0025】従って、ホストCPU50は、半導体ウエ
ハ1を1/2回転させることにより半導体ウエハ1の縁
部全周に渡っての受光量変化のデータを収集することに
なる。図7はかかる受光量変化データを示しており、回
転角度0度〜180度の範囲がウエハ縁部位置検出部4
0aにより測定された受光量、回転角度180度〜36
0度の範囲がウエハ縁部位置検出部40bにより測定さ
れた受光量となっている。このうち、オリフラ1aの部
分の受光量は多くなっている。
【0026】次にホストCPU50は、この受光量変化
データから偏心量を求める。すなわち、図8に示す半導
体ウエハ1の中心位置Oと吸着位置Qとのずれ角θは、
受光量の最小値minとオリフラ1a部分の中心位置と
の間の角度差となる。又、ずれ距離dは、受光量の最小
値minと最大値maxとの差が2dに対応しており、
この差2dから求める。そして、ホストCPU50は、
ずれ距離dを実際の距離に換算し、ずれ角θ及びずれ距
離dに基づいて半導体ウエハ1のX方向及びY方向の各
偏心量を補正量として求める。これら補正量は位置制御
部25に送られ、この位置制御部25は、XY移動用ス
テージ21を移動して半導体ウエハ1を検査用顕微鏡3
0に対して所定位置に位置決めするときの補正量として
用いる。この結果、検査用顕微鏡30に対して各半導体
ウエハ1が精度高く位置決めされ、各半導体ウエハ1の
同一部分の観察像が得られる。
【0027】このように上記一実施例においては、半導
体ウエハ1を1/2回転させて半導体ウエハ1の縁部に
配置された各ウエハ縁部位置検出部40a、40bによ
りその縁位置に応じた受光量データを求め、この受光量
データから半導体ウエハ1に対する偏心量を求めるよう
にしたので、半導体ウエハ1を吸着したときの偏心量を
測定する時間を短縮でき、半導体ウエハ1の位置決めを
効率よく簡単な構成でできる。これにより、半導体ウエ
ハ1を搬送する際の偏心量及びオリフラ1a位置の不定
に影響されずに高精度な位置決めができ、かつ安価で簡
単な構成の装置により位置ずれの観察像を得ることがで
きる。
【0028】なお、本発明は上記一実施例に限定される
ものでなくその要旨を変更しない範囲で変形してもよ
い。例えば、ウエハ縁部位置検出部40a、40bは2
つ配置したが、これらは2つ以上してもよく、これによ
り偏心量を測定する時間をさらに短縮できる。又、半導
体ウエハ検査装置に適用した場合について説明したが、
各種被検査体を位置決めする場合にも適用できる。
【0029】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、半
導体ウエハを吸着したときの偏心量を測定する時間を短
縮できて半導体ウエハの位置決めを効率よく簡単な構成
でできる位置決め装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる位置決め装置を半導体ウエハ検
査装置に適用した場合の一実施例を示す全体構成図。
【図2】同装置におけるウエハ位置決め機構の構成図。
【図3】同装置におけるウエハ縁部位置検出部の構成
図。
【図4】同装置におけるウエハ縁部位置検出部の回路構
成図。
【図5】同装置におけるウエハ縁部位置検出部の回路構
成図。
【図6】同装置における機能ブロック図。
【図7】同装置により測定された受光量変化を示す図。
【図8】同装置により求められるずれ角及びずれ距離を
示す模式図。
【図9】従来装置の構成図。
【図10】同装置におけるラインセンサのタイミング発
生回路の構成図。
【図11】同装置により測定された受光量変化を示す
図。
【図12】同装置により求める偏心量を示す模式図。
【符号の説明】
1…半導体ウエハ、10…半導体ウエハローダ、11…
ウエハカセット、12…ローダ用アーム、20…ウエハ
位置決め機構、21…XY移動用ステージ、22…ウエ
ハ保持回転機構、23…回転用モータ、24…ウエハ吸
着保持部、30…検査用顕微鏡、40a,40b…ウエ
ハ縁部位置検出部、41…検出用光源、42…受光素
子、43,44…オートパワーコントロール部、45…
セレクタ、46a,46b…PSD(位置検出素子)、
50…ホストCPU。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転自在の吸着機構により被検査体を吸
    着保持し、この状態でこれら吸着機構及び被検査体を一
    体的に移動して前記被検査体を所定位置に位置決めする
    位置決め装置において、 前記被検査体の縁部に配置された少なくとも2つの縁部
    検出手段と、前記被検査体が回転したときの前記各縁部
    検出手段により検出された前記被検査体の縁位置から前
    記吸着機構の前記被検査体に対する吸着位置の偏心量を
    位置決めの補正量として求める補正演算手段とを具備し
    たことを特徴とする位置決め装置。
JP15354892A 1992-06-12 1992-06-12 位置決め装置 Pending JPH05347351A (ja)

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JP15354892A JPH05347351A (ja) 1992-06-12 1992-06-12 位置決め装置

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JP15354892A JPH05347351A (ja) 1992-06-12 1992-06-12 位置決め装置

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JPH05347351A true JPH05347351A (ja) 1993-12-27

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JP15354892A Pending JPH05347351A (ja) 1992-06-12 1992-06-12 位置決め装置

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JP (1) JPH05347351A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088328A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Nec Yamagata Ltd ウェーハ位置決め装置
JP2012023287A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088328A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Nec Yamagata Ltd ウェーハ位置決め装置
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010313