JPH053946B2 - - Google Patents

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JPH053946B2
JPH053946B2 JP60014541A JP1454185A JPH053946B2 JP H053946 B2 JPH053946 B2 JP H053946B2 JP 60014541 A JP60014541 A JP 60014541A JP 1454185 A JP1454185 A JP 1454185A JP H053946 B2 JPH053946 B2 JP H053946B2
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JP
Japan
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light
image sensor
mask
area
linear image
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Tosha Aikawa
Eisaku Maeda
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Nikon Corp
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Nippon Kogaku KK
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は投影された画像を光電変換するリニ
アイメージセンサに関し、特に出力画像にゴース
トが発生するのを防止したリニアイメージセンサ
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a linear image sensor that photoelectrically converts a projected image, and more particularly to a linear image sensor that prevents ghosts from occurring in output images.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

第13図は従来のリニアイメージセンサを示す
断面図、第14図は第13図に示すリニアイメー
ジセンサの光入力情報入射側から見た正面図であ
る。図において、1はセラミツクパツケージ、2
はウインドガラスすなわち透明板状部材で、セラ
ミツクパツケージ1に収納される後述の画素列3
の素子面などを保護するものである。3は画素列
で、セラミツクパツケージ1の凹部中央に直線状
に配列された光電変換素子からなる受光領域を構
成している。4a,4bは蓄積電極で、画素列3
の両側に平行に配置され、画素列3と蓄積電極4
a,4bとは交互にボンデイングワイヤによつて
接続されている。そして、画素列3によつて光電
変換された電気信号つまり受光情報は蓄積電極4
a,4bを備えた蓄積領域に一度蓄積され、シフ
トレジスタなどの読み出し領域から順次読み出さ
れる。
FIG. 13 is a sectional view showing a conventional linear image sensor, and FIG. 14 is a front view of the linear image sensor shown in FIG. 13, viewed from the light input information incident side. In the figure, 1 is a ceramic package, 2
is a window glass, that is, a transparent plate-like member, and is a pixel row 3, which will be described later, which is housed in a ceramic package 1.
This is to protect the element surface etc. Reference numeral 3 denotes a pixel column, which constitutes a light receiving area consisting of photoelectric conversion elements linearly arranged in the center of the recessed portion of the ceramic package 1. 4a and 4b are storage electrodes, which are connected to the pixel column 3.
The pixel row 3 and the storage electrode 4 are arranged in parallel on both sides of the
a and 4b are alternately connected by bonding wires. The electric signal photoelectrically converted by the pixel row 3, that is, the received light information, is transferred to the storage electrode 4.
The data is stored once in the storage area provided with the signals a and 4b, and then sequentially read out from a readout area such as a shift register.

上記のような構造の従来のイメージセンサは電
極4a,4bの部分が鏡面に近い光反射面となつ
ている。そこで、ある方向からある角度を持つた
光aがウインドガラス2を介して入射すると電極
4bの表面で反射し反射光a1となり、それがウイ
ンドガラス2の下面2bで再反射し2回反射光a2
となつて画素列3に到達してしまう。そうなると
入射光aの2回反射光a2と直接入射光bとの合成
したレベルが光bの情報として出力されることに
なる。ただし、2回反射光a2の強さはガラス当面
の反射であるから直接入射光aの4%程度にすぎ
ない。よつて入射光bと入射光aの強さが同じで
あればbとa2の合成値はbの4%増にしかならな
い。そこで実際に問題となるのは入射光aが強大
で入射光bが微少あるいは0の時に、例えばコン
トラスト大の絵の時に、本来0又は0に近いbの
情報にa2が加わるため、出力として出てしまうの
である。つまり、直接投影光で生じた絵から少し
ずれた位置に薄く同じ絵が出てしまうというゴー
スト現象が起こる。リニアイメージセンサを使用
した画像処理装置が入力信号を2値化して使用す
るものであれば2回反射光a2による信号レベル自
体小さいので影響が出ないこともあるが、階調を
再現する装置においては数%の信号でも出力面に
表現されてしまう。したがつて、装置にゴースト
を防止する手段を設けなればならない。
In the conventional image sensor having the above structure, the electrodes 4a and 4b are light reflecting surfaces close to mirror surfaces. Therefore, when light a from a certain direction and at a certain angle enters through the window glass 2, it is reflected on the surface of the electrode 4b and becomes reflected light a 1 , which is re-reflected on the lower surface 2b of the window glass 2 and becomes twice reflected light. a 2
Thus, pixel row 3 is reached. In this case, the combined level of the twice-reflected light a 2 of the incident light a and the directly incident light b will be output as information about the light b. However, the intensity of the twice reflected light a 2 is only about 4% of the directly incident light a because it is reflected from the glass surface. Therefore, if the intensities of incident light b and incident light a are the same, the combined value of b and a 2 will be only 4% more than b. The actual problem is that when the incident light a is strong and the incident light b is small or 0, for example in the case of a picture with high contrast, a 2 is added to the information of b, which is originally 0 or close to 0, so the output is It will come out. In other words, a ghost phenomenon occurs in which a faintly identical image appears at a position slightly shifted from the image created by direct projection light. If an image processing device using a linear image sensor binarizes the input signal and uses it, the signal level due to the twice reflected light a 2 is itself small and may not be affected, but the device that reproduces the gradation In this case, even a few percent of the signal is expressed on the output surface. Therefore, the device must be provided with means to prevent ghosting.

階調を再現する装置として、例えば35mm写真フ
イルム(ポジまたはネガ)からダイレクトに画像
を電送する「ダイレクト電送装置」があるが、こ
の装置により階調を持つ透過原稿を入力する際ゴ
ーストが発生しないようにするには、リニアイメ
ージセンサをスキヤンさせると同時に、光源にス
リツトをかぶせたスリツト光源を移動させるとい
う複雑な構造のものとしなければならない。
As a device for reproducing gradation, there is a "direct transmission device" that directly transmits images from 35mm photographic film (positive or negative), for example, but this device prevents ghosting from occurring when inputting transparent originals with gradation. In order to do this, it is necessary to have a complex structure in which a linear image sensor is scanned and at the same time a slit light source, which is a light source covered with a slit, is moved.

以上のように、従来のリニアイメージセンサは
画素列周辺つまり受光領域周辺に高反射率の光反
射領域を配置しているため、出力にゴーストを生
じ原画に対して忠実な出力画像を再現出来ない欠
点があつた。
As mentioned above, conventional linear image sensors have a light reflection area with a high reflectance placed around the pixel row, that is, around the light receiving area, which causes ghosts in the output and makes it impossible to reproduce an output image that is faithful to the original image. There were flaws.

なお、この欠点は専ら線状のセンサ(ラインセ
ンサ、リニアセンサ)に限られる。なぜならば、
面センサの場合電極は受光面周辺付近に設けられ
るため、その影響は受光面の周辺付近に限られ、
全体の画質に大きく影響を及ぼすものでないので
あまり問題にならないからである。
Note that this drawback is limited to linear sensors (line sensors, linear sensors). because,
In the case of a surface sensor, the electrode is installed near the periphery of the light receiving surface, so its influence is limited to the periphery of the light receiving surface.
This is because it does not significantly affect the overall image quality, so it is not a problem.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は上記のような欠点を解決するために
なされたもので、光反射領域へ照射される光源を
遮光することにより、ゴーストの生じない、原画
を忠実に再現することが出来るリニアイメージセ
ンサを得ることを目的とする。
This invention was made in order to solve the above-mentioned drawbacks, and provides a linear image sensor that can faithfully reproduce the original image without ghosting by blocking the light source that illuminates the light-reflecting area. The purpose is to obtain.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は光反射領域に照射される光線を遮光
するマスクを透明板状部材に設けることにより、
リニアイメージセンサにとつて有害な反射をなく
し、ゴースト現象の発生を防止すると共に、前記
マスクの取付位置の誤差等によつて光反射領域に
照射される光線を完全に遮光できない場合や有効
光束がマスクで遮光される場合に、リニアイメー
ジセンサの画素が配列された基板と透明板状部材
を光軸に対して傾斜させることによつて、ゴース
トの発生位置を視覚的に目立たない位置に変えた
り、有効光束の遮光を回避することを技術的要点
としている。
This invention provides a transparent plate-like member with a mask that blocks the light rays irradiated onto the light reflecting area.
In addition to eliminating reflections that are harmful to linear image sensors and preventing the occurrence of ghost phenomena, this method also prevents the occurrence of ghost phenomena when the light rays irradiated to the light reflection area cannot be completely blocked due to errors in the mounting position of the mask, or when the effective luminous flux is reduced. When light is blocked by a mask, by tilting the substrate on which the pixels of the linear image sensor are arranged and the transparent plate-like member with respect to the optical axis, the location where ghosts occur can be changed to a location that is less visually noticeable. , the technical point is to avoid blocking of the effective luminous flux.

〔実施例〕〔Example〕

第1図はこの発明の一実施例を示す正面図、第
2図は第1図の断面図、第3図はリニアイメージ
センサを用いた画像処理装置の要素の配置を示し
た上面図、第4図、第5図及び第6図はこの発明
の原理を説明するための説明図、第7図はマスク
の貼付け位置とゴースト現象との関係を示す第1
の説明図、第8図は第7図に示すリニアイメージ
センサを傾けた状態を示す説明図、第9図は第3
図に示す画像処理装置に入力された透過原稿の情
報の出力画像を示し第7図と対応させた説明図、
第10図は同じく出力画像を示し第8図と対応さ
せた説明図、第11図はマスクの貼付け位置とゴ
ースト現象との関係を示す第2の説明図、第12
図は第11図に示すリニアイメージセンサを傾け
た状態を示す説明図である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of FIG. 1, FIG. 3 is a top view showing the arrangement of elements of an image processing device using a linear image sensor, and FIG. 4, 5, and 6 are explanatory diagrams for explaining the principle of the present invention, and FIG. 7 is a first diagram showing the relationship between the mask attachment position and the ghost phenomenon.
FIG. 8 is an explanatory diagram showing the linear image sensor shown in FIG. 7 in a tilted state, and FIG.
An explanatory diagram corresponding to FIG. 7 showing an output image of information on a transparent original inputted to the image processing device shown in FIG.
FIG. 10 is an explanatory diagram that similarly shows the output image and corresponds to FIG. 8, FIG. 11 is a second explanatory diagram showing the relationship between the mask pasting position and the ghost phenomenon, and FIG.
The figure is an explanatory diagram showing a state in which the linear image sensor shown in FIG. 11 is tilted.

第1図及び第2図において、5はスリツト5a
を有するマスクで、ウインドガラス2の上面2a
に貼付けてある。このマスク5がゴースト現象を
起こす入射光線を遮光する役割を果すもので、以
下詳細に説明するように、このマスク5により蓄
積電極4a,4bに入射する光線がなくなるか
ら、ウインドガラスで再反射する光線も発生しな
い。従つて、ゴースト発生が防止される。
In FIGS. 1 and 2, 5 is the slit 5a.
with a mask having the upper surface 2a of the window glass 2.
It is pasted on. This mask 5 plays the role of blocking the incident light rays that cause the ghost phenomenon.As will be explained in detail below, this mask 5 eliminates the light rays that enter the storage electrodes 4a and 4b, so that the light rays are re-reflected by the window glass. No light rays are generated. Therefore, the occurrence of ghosts is prevented.

第3図はこのリニアイメージセンサを使つた画
像処理装置として、例えば35mm写真フイルム(ポ
ジまたはネガ)からダイレクトに画像を電送する
「ダイレクト電送装置」の要素の配置を示した上
面図である。第3図において、6は光源である照
明用のランプ、7は数枚のレンズから構成された
投光レンズ群、8は透過原稿、9は数枚のレンズ
から構成された投影レンズ群、10は投影領域
で、この投影領域10をリニアイメージセンサ1
1でスキヤンさせる。
FIG. 3 is a top view showing the arrangement of elements of an image processing device using this linear image sensor, such as a ``direct transmission device'' that directly transmits images from 35 mm photographic film (positive or negative). In FIG. 3, 6 is an illumination lamp that is a light source, 7 is a projection lens group made up of several lenses, 8 is a transmission original, 9 is a projection lens group made up of several lenses, 10 is a projection area, and this projection area 10 is a linear image sensor 1
Scan with 1.

この画像処理装置により階調を持つ透過原稿8
を入力する際は、投光レンズ群7と投影レンズ群
9との間に原稿8を挿入し、そしてランプ6の照
明光を投光レンズ群7により原稿8に一様に照射
して、原稿8からの透過光を投影レンズ群9によ
り投影領域10に投影する。そして、リニアイメ
ージセンサ11を投影領域10に沿つてスキヤン
させると原稿8の画像情報が電気信号に変換され
る。
Transparent original 8 with gradation by this image processing device
To input the original, insert the original 8 between the projection lens group 7 and the projection lens group 9, and uniformly illuminate the original 8 with the illumination light of the lamp 6 through the projection lens group 7. The transmitted light from 8 is projected onto a projection area 10 by a projection lens group 9. Then, when the linear image sensor 11 is scanned along the projection area 10, the image information of the original 8 is converted into an electrical signal.

次に、この発明の原理について説明する。第4
図において、12a,12bはゴースト現象を起
こす入射光域を示したものである。この入射光域
12a,12bは、前記理由により蓄積電極(以
下電極と略記する)4a,4bへの入射光に限定
され、その境界の入射光線12c,12d及び1
2e,12fは光の反射側から、画素列3からウ
インドガラス(以下ガラスと略記する)下面2b
までの距離h1及び画素列3から電極4a,4bま
での距離14a,14c及び14b,14dを知
る事により得られる。
Next, the principle of this invention will be explained. Fourth
In the figure, reference numerals 12a and 12b indicate incident light regions where the ghost phenomenon occurs. These incident light areas 12a, 12b are limited to the incident light to the storage electrodes (hereinafter abbreviated as electrodes) 4a, 4b for the reason mentioned above, and the incident light rays 12c, 12d and 1
2e and 12f are from the light reflection side, from the pixel row 3 to the lower surface 2b of the window glass (hereinafter abbreviated as glass).
This can be obtained by knowing the distance h 1 from the pixel row 3 to the electrodes 4a, 4b and the distances 14a, 14c, 14b, 14d from the pixel row 3 to the electrodes 4a, 4b.

従って、ゴースト現象をなくす為にはゴースト
現象を起こす入射光域12a,12bを遮光する
マスク5を設ければよい。ところで、第3図に示
すようにリニアイメージセンサ11は、投影領域
10をスキヤンしていくが、スキヤンニング全域
を通して画像入力に必要な透過光の入射光域は、
ある範囲13(第4図)に限定される。従つて、
ゴースト現象を起こす入射光12a,12bを遮
光する際には、この有効入射域13を遮光しない
ようにしなければならない。この遮光は第3図で
照明用光源6と透過原稿8の中間、あるいは投影
光学系9とリニアイメージセンサ11の中間で行
なえるが、前者の場合透過原稿8への照明範囲が
広く照明用光源6が固定されている場合は不適当
である。また後者の場合、第4図からわかるよう
にガラス2から、透過原稿8方向に離れるにした
がい、有効入射域13とゴーストを起こす入射光
域12a,12bが重なり有効入射域13内に入
つていく。従つて、有効入射域13を遮光するこ
となくゴースト現象を起こす入射光域12a,1
2bを遮光する為には、ガラス上面2aにできる
だけ近い場所で、行なわなければならない。すな
わち、第2図に示すようにガラス上面2aで遮光
を行なうのが最もよいことになる。
Therefore, in order to eliminate the ghost phenomenon, it is sufficient to provide a mask 5 that blocks light from the incident light areas 12a and 12b where the ghost phenomenon occurs. By the way, as shown in FIG. 3, the linear image sensor 11 scans the projection area 10, but the incident light area of transmitted light necessary for image input throughout the entire scanning area is
It is limited to a certain range 13 (FIG. 4). Therefore,
When blocking the incident light 12a, 12b that causes the ghost phenomenon, it is necessary to avoid blocking this effective incident area 13. This light shielding can be performed between the illumination light source 6 and the transparent original 8, or between the projection optical system 9 and the linear image sensor 11, as shown in FIG. It is inappropriate if 6 is fixed. In the latter case, as can be seen from FIG. 4, as it moves away from the glass 2 in the direction of the transparent original 8, the effective incident area 13 and the incident light areas 12a and 12b that cause ghosting overlap and enter the effective incident area 13. . Therefore, the incident light area 12a, 1 causes a ghost phenomenon without blocking the effective incident area 13.
In order to shield 2b from light, it must be done as close as possible to the top surface of the glass 2a. That is, it is best to block light at the top surface 2a of the glass as shown in FIG.

ところでこのマスク5を貼る場合、画素面3か
らガラス下面2bまでの距離(以下、ガラス高と
呼ぶことにする。)により、その貼付け精度が異
なつてくる。第5図、第6図は第4図と同様にゴ
ースト現象を起こす入射光域を15a,15b及
び16a,16bで示したものである。第5図に
おいてガラス高h2は第4図におけるガラス高h1に
比べ高くなつておりその結果、ゴースト現象を起
こす入射光域15a,15bは第4図の場合に比
べ光軸17方向に移動する。これによりガラス上
面2a上で、有効入射光域13とゴースト現象を
起こす入射光域15a,15bが近接する事にな
り、マスク5の貼付け精度が要求されることにな
る。また逆に第6図のようにガラス高h3が第4図
の場合のガラスh1に比べ低くなると、ゴースト現
象を起こす入射光16a,16bは第4図の12
a,12bに比べ光軸から離れていく方向に光域
を変化させる。この結果、ガラス上面2aで有効
入射光域13とゴースト現象を起こす入射光域1
6a,16bが離れる為、マスク5の貼付け精度
を厳しく要求する事もなく、有効入射光域13を
遮光する事故も減る。ガラス高が低いほどマスク
貼付け精度が要求されなくなり、又、ゴースト現
象を起こす入射光域が光軸17方向から離れてい
くので、この範囲に光線が入射される確率は低く
なり、従つて、ガラス高は低い方が有利である。
By the way, when pasting this mask 5, the pasting accuracy differs depending on the distance from the pixel surface 3 to the glass lower surface 2b (hereinafter referred to as glass height). In FIGS. 5 and 6, similar to FIG. 4, the incident light areas where the ghost phenomenon occurs are indicated by 15a, 15b and 16a, 16b. In Fig. 5, the glass height h2 is higher than the glass height h1 in Fig. 4, and as a result, the incident light areas 15a and 15b that cause the ghost phenomenon are moved in the direction of the optical axis 17 compared to the case in Fig. 4. do. As a result, on the glass upper surface 2a, the effective incident light area 13 and the incident light areas 15a and 15b, which cause the ghost phenomenon, become close to each other, and the mask 5 is required to be attached with high accuracy. Conversely, as shown in FIG. 6, when the glass height h 3 is lower than the glass h 1 in FIG. 4, the incident light 16a, 16b causing the ghost phenomenon is
The light range changes in the direction away from the optical axis compared to a and 12b. As a result, the effective incident light area 13 and the incident light area 1 causing the ghost phenomenon are formed on the top surface 2a of the glass.
Since 6a and 16b are separated, there is no need for strict attachment accuracy of the mask 5, and accidents of blocking the effective incident light area 13 are reduced. The lower the glass height, the less mask attachment precision is required, and the incident light range that causes the ghost phenomenon moves away from the optical axis 17 direction, so the probability that light rays will be incident on this range decreases. Lower height is more advantageous.

尚、ガラス高が低いと条件によつてはマスク5
が必要でない場合も出てくるがガラス高が低くて
マスクを必要としないものについては後述する。
In addition, if the glass height is low, depending on the conditions, mask 5
There are cases where this is not necessary, but cases where the glass height is low and do not require a mask will be discussed later.

次に、マスク5の貼付け位置とゴースト現象と
の関係について説明する。
Next, the relationship between the pasting position of the mask 5 and the ghost phenomenon will be explained.

第7図はマスク51をリニアイメージセンサの
ガラス上面2aに貼りつけた状態を示す図であ
る。この例ではマスク51のスリツト巾の中心軸
18aと光軸17が一致せず、e1だけずれて貼ら
れており、ゴースト現象を起こす入射光域を、す
べて遮光していない。マスク5はそのスリツト巾
の中心軸18aと光軸17を一致させて、貼りつ
ける事が理想であるが、実際の作業では程度の差
こそあれ、この例のように貼られるケースが多
い。図の如く、ゴースト現象を起こす入射光域内
に、ある角度を持つた光c,dが、リニアイメー
ジセンサに入射している。光dはマスク51によ
り遮光されるが、光cはマスク51により遮光さ
れず反射面に到達し、前記理由により画素3に入
射され、ゴースト現象を起こす。
FIG. 7 is a diagram showing a state in which the mask 51 is attached to the glass upper surface 2a of the linear image sensor. In this example, the central axis 18a of the slit width of the mask 51 and the optical axis 17 do not coincide with each other, and are pasted with a deviation of e1 , so that the incident light range that causes the ghost phenomenon is not entirely blocked. Ideally, the mask 5 should be pasted with the central axis 18a of the slit width aligned with the optical axis 17, but in actual work, it is often pasted as shown in this example, although there are differences in degree. As shown in the figure, lights c and d at certain angles are incident on the linear image sensor within the incident light range that causes the ghost phenomenon. The light d is blocked by the mask 51, but the light c is not blocked by the mask 51 and reaches the reflective surface, and for the reason described above, enters the pixel 3, causing a ghost phenomenon.

第8図はリニアイメージセンサを光軸17に対
し、θ1だけ傾けたものである。前記光c、光dは
第7図と同様なる条件でリニアイメージセンサに
入射するが、この時光c、光dのどちらもマスク
51により遮光されることなく受光領域内に到達
する。しかし、この時光cは、ゴースト現象を起
こす入射光域12b外の光線となる為画素面3に
到達せず、従つて、光cによりゴースト現象は起
きない。これに対し、光dはゴースト現象を起こ
す入射光域12a内を進む光線である為、前記理
由により、ゴースト現象を起こす。
In FIG. 8, the linear image sensor is tilted by θ 1 with respect to the optical axis 17. The light c and the light d enter the linear image sensor under the same conditions as in FIG. 7, but at this time, neither the light c nor the light d reaches the light receiving area without being blocked by the mask 51. However, at this time, the light c does not reach the pixel surface 3 because it is outside the incident light area 12b that causes the ghost phenomenon, and therefore, the ghost phenomenon does not occur due to the light c. On the other hand, since the light d is a light ray that travels within the incident light area 12a that causes a ghost phenomenon, it causes a ghost phenomenon for the above-mentioned reason.

以上のようにリニアイメージセンサを光軸17
に対して傾斜調節可能に構成することにより、ゴ
ースト現象を起こす入射光を変えることにより、
視覚的に目立たない部分にゴーストを発生させる
如く調節することが出来る。これをさらに図をも
つて詳述する。
As described above, the linear image sensor is connected to the optical axis 17.
By changing the incident light that causes the ghost phenomenon,
It can be adjusted to generate ghosts in visually inconspicuous areas. This will be further explained in detail using figures.

第9図は第3図の画像処理装置により、リニア
イメージセンサ11を第7図のごとき状態にしコ
ントラストの高い透過原稿を入力しその情報を出
力した画像である。光cによるゴースト像fは出
力画像の中心に発生しているものとする。第10
図は前記装置によりリニアイメージセンサ11を
第8図のごとき状態にして、透過原稿を入力しそ
の情報を出力した画像である。光dによるゴース
ト像gは、出力画像の周辺部に発生する。これは
光dは、光cよりも外側を進む光線であり、従つ
て光dの持つ透過原稿の情報は、光cの持つそれ
に比べ外側、つまり周辺部のものであるからであ
る。このようにリニアイメージセンサを傾けるこ
とにより、ゴースト現象を起こす入射光をかえる
事が可能となり、それにより出力画像に発生する
ゴーストの位置をかえる事が可能で、中心付近で
発生しているゴースト現象を周辺部に移動させ、
目立たぬようにすることが出来る。
FIG. 9 shows an image obtained by using the image processing apparatus shown in FIG. 3, with the linear image sensor 11 in the state shown in FIG. 7, inputting a transparent original with high contrast, and outputting the information. It is assumed that a ghost image f caused by light c is generated at the center of the output image. 10th
The figure shows an image obtained by setting the linear image sensor 11 to the state shown in FIG. 8 using the above-mentioned apparatus, inputting a transparent original, and outputting the information. A ghost image g caused by the light d is generated at the periphery of the output image. This is because the light d is a light ray that travels on the outside of the light c, and therefore the information of the transparent original that the light d has is on the outside, that is, the peripheral part, compared to the information that the light c has. By tilting the linear image sensor in this way, it is possible to change the incident light that causes the ghost phenomenon, and thereby the position of the ghost that occurs in the output image, making it possible to eliminate the ghost phenomenon that occurs near the center. move to the periphery,
It can be done inconspicuously.

また、光軸17とリニアイメージセンサの角度
θ1が大きくなれば、光軸17とゴースト現象を起
こす入射光域12aのなす角も大きくなり、同域
12aに光線が入射される確率も低くなり、ゴー
スト現象は起こらなくなる。
Furthermore, as the angle θ 1 between the optical axis 17 and the linear image sensor increases, the angle between the optical axis 17 and the incident light area 12a that causes the ghost phenomenon also increases, and the probability that light rays will be incident on the same area 12a decreases. , the ghost phenomenon will no longer occur.

第11図はガラス上面2aにマスク52を貼り
付けた状態を示す図である。マスク52のスリツ
ト巾の中心軸18bと光軸17が一致しておらず
e2だけずれており、有効入射域13を一部遮光し
ている。
FIG. 11 is a diagram showing a state in which a mask 52 is attached to the top surface 2a of the glass. The central axis 18b of the slit width of the mask 52 and the optical axis 17 do not match.
It is shifted by e 2 and partially blocks light from the effective incident area 13.

第12図は第11図のリニアイメージセンサを
θ2だけ傾け、有効入射光域13を遮光しないよう
にしたものである。このように、リニアイメージ
センサを光軸に対して傾ける事によりマスク5の
貼付け位置のずれを補正する事が可能である。
FIG. 12 shows the linear image sensor of FIG. 11 tilted by θ 2 so that the effective incident light area 13 is not blocked. In this way, by tilting the linear image sensor with respect to the optical axis, it is possible to correct the deviation in the attachment position of the mask 5.

以上述べたように、電極4a,4bに照射され
る光線を遮光するマスク5をウインドガラス2に
貼付けたから、リニアイメージセンサにとつて有
害な反射がなくなり、ゴースト現象の発生を防止
したりリニアイメージセンサが得られる。従つ
て、上記構造のリニアイメージセンサを画像処理
装置に使用する場合、第3図に示すように光源は
固定光源とすることが出来る。
As described above, since the mask 5 that blocks the light rays irradiated to the electrodes 4a and 4b is attached to the window glass 2, harmful reflections for the linear image sensor are eliminated, preventing the occurrence of ghost phenomena and improving the linear image. A sensor is obtained. Therefore, when the linear image sensor having the above structure is used in an image processing apparatus, the light source can be a fixed light source as shown in FIG.

なお、上記実施例は受光領域である画素列3と
光反射領域である蓄積電極4a,4bがボンデイ
ングワイヤで接続されており、蓄積電極4a,4
bつまり蓄積領域に一度蓄積された受光情報を読
み出し転送部から順次読み出す構造のものである
が、MOS型のように受光領域と蓄積領域が同一
領域で、その両側に読み出し転送部が配置され、
受光領域以外の領域に光が照射されないように、
受光領域を除く部分をアルミニウムなどの金属膜
によつて遮光したものに実施しても全く同じ効果
が得られる。
In the above embodiment, the pixel row 3, which is a light receiving area, and the storage electrodes 4a, 4b, which are light reflecting areas, are connected by bonding wires.
b That is, it has a structure in which the light reception information once stored in the storage area is read out sequentially from the readout transfer section, but like the MOS type, the light reception area and the storage area are the same area, and the readout and transfer sections are arranged on both sides.
To prevent light from irradiating areas other than the light receiving area,
Exactly the same effect can be obtained even if the portion other than the light receiving area is shielded from light by a metal film such as aluminum.

また、光反射領域が受光領域の両側に配置され
ているので、スリツトを設けたマスクを貼付けた
が、ストリツプ状のマスクをスリツトに相当する
巾をあけて2枚貼付けてもよく、光反射領域が片
側だけに配置されたものでは1枚貼付ければよい
ことは明らかである。
In addition, since the light-reflecting areas are placed on both sides of the light-receiving area, a mask with slits is attached, but two strip-shaped masks may be attached with a width corresponding to the slits. It is clear that in the case where is placed only on one side, it is sufficient to paste one sheet.

さらに、マスクを貼付けるかわりに、ガラス面
に直接前記マスク形状を印刷あるいは蒸着しても
よい。
Furthermore, instead of pasting a mask, the mask shape may be printed or vapor deposited directly on the glass surface.

次に、ガラス高hが一定の条件を満足すればマ
スクが不要となる点について以下詳述する。
Next, the point that a mask is not required if the glass height h satisfies a certain condition will be described in detail below.

第15図に於いてθ30は最大入射角、は受光
部から反射面迄の距離、θ20はゴーストを起こす
入射光の範囲の限界入射角であり、 θ10=π/2−θ20である。
In Figure 15, θ 30 is the maximum angle of incidence, θ 20 is the distance from the light receiving part to the reflecting surface, θ 20 is the critical incidence angle of the range of incident light that causes ghosting, and θ 10 = π/2 - θ 20 . be.

θ30/2<θ20=π/2−θ10 …… ここで、θ10=tan-12h/であるからの式は θ30/2<π/2−tan-12h/ …… と表わされる。 θ 30 /2<θ 20 =π/2−θ 10 ... Here, since θ 10 = tan -1 2h/, the formula is θ 30 /2<π/2−tan -1 2h/ ... expressed.

ここで、tan-12h/=π/2−θ30/2であるから
式 は 2h/<tan(π/2−θ30/2) h</2tan(π/2−θ30/2) …… 但し0°<θ30/2<θc(ここでθcは空気→ガラス
臨界 角で約45°) 即ち、上記式の条件を満足するガラス高hで
ある場合はマスクは不要となる。
Here, since tan -1 2h/=π/2−θ 30 /2, the formula is 2h/<tan(π/2−θ 30 /2) h</2tan(π/2−θ 30 /2) ... However, 0° < θ 30 /2 < θ c (where θ c is the air→glass critical angle of approximately 45°) In other words, if the glass height h satisfies the conditions of the above formula, a mask is not required. .

勿論θ30/2が臨界角に達する前にセラミツクパツ ケージ1にかかれば入射光線はカツトされる。 Of course, the incident light beam will be cut off if it hits the ceramic package 1 before θ 30 /2 reaches the critical angle.

従つて、リニアイメージセンサの有効開口半値
幅をmとすれば第16図より明らかな通りm<
+h/tanθ10である。
Therefore, if the effective aperture half width of the linear image sensor is m, then m<
+h/ tanθ10 .

ここで、tanθ10=2h/であるから ∴m<+h×/2h=3/2 …… 但し有効開口半値幅mを小さくしていき、有効
光束内にセラミツクパツケージ1がはいつて来て
有効光束をけつてしまう。それを防ぐには m>h×tanθ30/2 …… 式と式により、htanθ30/2<m<3/2…… 即ちセラミツクパツケージの寸法設計を行なう
際式を満足する如く設計すればゴーストを防ぐ
ことができる。
Here, since tanθ 10 = 2h/, ∴m<+h×/2h=3/2... However, as the effective aperture half-width m becomes smaller, the ceramic package 1 comes into the effective luminous flux and becomes effective. It kills the luminous flux. To prevent this, m>h×tanθ 30 /2... According to the formula, htanθ 30 /2<m<3/2... In other words, if the dimensions of the ceramic package are designed to satisfy the formula, ghosts can be prevented. can be prevented.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明によれば受光領
域と光反射領域とを覆う透明板状部材に、前記光
反射領域に照射される光線を遮光するマスクを設
けたから、リニアイメージセンサにとつて有害な
反射がなくなる。従つて、階調表現の必要が画像
処理装置に使用してもゴーストの発生のない忠実
な画像再現が可能となる。
As explained above, according to the present invention, a mask is provided on the transparent plate-like member that covers the light-receiving area and the light-reflecting area to block the light rays irradiated to the light-reflecting area, which is harmful to the linear image sensor. There will be no reflections. Therefore, even when used in an image processing apparatus that requires gradation expression, faithful image reproduction without the occurrence of ghosts is possible.

また、マスクの取付位置の誤差等によつて光反
射領域に照射される光線を完全に遮光できない場
合に、リニアイメージセンサの画素が配列された
基板と透明板状部材を光軸に対して傾斜させるこ
とによつて、ゴーストの発生位置を視覚的に目立
たない位置に変えることができる。
In addition, if it is not possible to completely block the light rays irradiating the light reflection area due to errors in the mounting position of the mask, etc., the substrate on which the pixels of the linear image sensor are arranged and the transparent plate-like member can be tilted with respect to the optical axis. By doing so, the location where the ghost occurs can be changed to a location where it is visually less noticeable.

また、マスクの取付位置の誤差等によつて本来
画素に入射すべき有効光束がマスクで遮光されて
しまう場合に、リニアイメージセンサの基板と透
明板状部材を光軸に対して傾斜させることによつ
て、有効光束の遮光を回避することができる。
In addition, if the effective light beam that should normally enter the pixel is blocked by the mask due to an error in the mounting position of the mask, it is possible to tilt the substrate and transparent plate-like member of the linear image sensor with respect to the optical axis. Therefore, blocking of the effective light beam can be avoided.

さらに、色々な角度の光に対してもゴースト発
生がないため、固定光源の装置に使え、従来のよ
うにセンサのスキヤンに合わせて光源にスリツト
をかぶせたスリツト光源を移動させるという複雑
な構造を必要としないので、装置の簡素化に有効
である。
Furthermore, since ghosts do not occur even when exposed to light from various angles, it can be used in devices with fixed light sources, instead of the conventional complex structure of moving a slit light source with a slit covering the light source according to the scan of the sensor. Since this is not necessary, it is effective in simplifying the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の実施例を示す正面図、第2
図は第1図の断面図、第3図はリニアイメージセ
ンサを用いた画像処理装置の要素の配置を示した
上面図、第4図、第5図及び第6図はこの発明の
原理を説明するための説明図、第7図はマスクの
貼付け位置とゴースト現象との関係を示す第1の
説明図、第8図は第7図に示すリニアイメージセ
ンサを傾けた状態を示す説明図、第9図は第3図
に示す画像処理装置に入力された透過原稿の情報
の出力画像を示し第7図と対応させた説明図、第
10図は同じく出力画像を示し第8図と対応させ
た説明図、第11図はマスクの貼付け位置とゴー
スト現象との関係を示す第2の説明図、第12図
は第11図に示すリニアイメージセンサを傾けた
状態を示す説明図、第13図は従来のイメージセ
ンサの断面図、第14図は従来のイメージセンサ
の光入力情報入射側から見た正面図、第15図は
ガラス高とゴースト現象との関係を示す説明図、
第16図は有効開口半値幅とゴースト現象との関
係を示す説明図である。 1……セラミツクパツケージ、2……ウインド
ガラス、2a……ウインドガラス2の上面、2b
……ウインドガラス2の下面、3……画素列、4
a,4b……蓄積電極、5,51,52……マス
ク、5a……スリツト、6……照明用ランプ、7
……投光レンズ群、8……透過原稿、9……投影
レンズ群、10……投影領域、11……リニアイ
メージセンサ。
Figure 1 is a front view showing an embodiment of the invention, Figure 2 is a front view showing an embodiment of the invention.
The figure is a sectional view of Fig. 1, Fig. 3 is a top view showing the arrangement of elements of an image processing device using a linear image sensor, and Figs. 4, 5, and 6 explain the principle of the invention. FIG. 7 is a first explanatory diagram showing the relationship between the mask attachment position and the ghost phenomenon. FIG. 8 is an explanatory diagram showing the linear image sensor shown in FIG. 7 in a tilted state. FIG. 9 is an explanatory diagram showing an output image of the information of the transparent original inputted to the image processing device shown in FIG. 3 and corresponds to FIG. 7, and FIG. 10 also shows an output image and corresponds to FIG. 8. FIG. 11 is a second explanatory diagram showing the relationship between the mask attachment position and the ghost phenomenon, FIG. 12 is an explanatory diagram showing the linear image sensor shown in FIG. 11 in a tilted state, and FIG. A cross-sectional view of a conventional image sensor, FIG. 14 is a front view of the conventional image sensor as seen from the light input information incident side, and FIG. 15 is an explanatory diagram showing the relationship between glass height and ghost phenomenon.
FIG. 16 is an explanatory diagram showing the relationship between the effective aperture half width and the ghost phenomenon. 1...Ceramic package, 2...Window glass, 2a...Top surface of window glass 2, 2b
...Bottom surface of window glass 2, 3...Pixel row, 4
a, 4b... Storage electrode, 5, 51, 52... Mask, 5a... Slit, 6... Illumination lamp, 7
. . . Projection lens group, 8 . . . Transparent original, 9 . . . Projection lens group, 10 .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 光学系を介して入射する光線を光電変換する
ための画素を直線状に配列してなる受光領域と、
光反射領域とを有する基板の表面を透明板状部材
で覆う如く構成したリニアイメージセンサに於
て、 前記光反射領域に照射される光線を遮光するマ
スクを前記透明板状部材に設けると共に、前記基
板及び透明板状部材を前記光学系の光軸に対して
傾斜調整可能に構成したことを特徴とするリニア
イメージセンサ。
[Scope of Claims] 1. A light-receiving area formed by linearly arranging pixels for photoelectrically converting light rays incident through an optical system;
In a linear image sensor configured such that a surface of a substrate having a light reflecting area is covered with a transparent plate-like member, a mask is provided on the transparent plate-like member to block light rays irradiated to the light reflecting area, and the transparent plate-like member A linear image sensor characterized in that a substrate and a transparent plate-like member are configured to be tilt adjustable with respect to the optical axis of the optical system.
JP60014541A 1985-01-30 1985-01-30 linear image sensor Granted JPS61174865A (en)

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