JPH054131B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の詳細な説明〕 （産業上の利用分野） 本発明は、一つの反応域から他の反応域へ重力
流によつて通りつつある触媒のような特定の型式
をもつ接触材料に反応し又はこれを処理するため
に気体又は蒸気が使用される形式の装置に関す
る。このような装置において実施されるプロセス
の諸例には、例えば改質、水素化処理、脱水素化
及び脱水素環化二量体化
（Dehydrocyclodimerization）並びにこれらに関
連し、コークスによつて汚染された触媒の再生作
業のような各種の接触炭化水素転化技術が含まれ
る。

（従来の技術） 一つの接触改質操作中に表面がコークスにより
覆われている一つの触媒が、一つのカーボン燃焼
区分を経て、ハロゲン化区分を経て、かつ乾燥区
分中に移動するという触媒再生装置の一つの特種
の例は、グリーンウツド（Greenwood）その他
の米国特許3652231号に開示されている。この米
国特許の主題は本願明細書中に参考事項として記
載されている。この米国特許の装置にあつては、
触媒は一対の隔離して同心状の有孔ふるい間にあ
る環状空間中を下方へ移動し、かつ、触媒は相対
的に低い酸素含有量をもつ第１の放射方向に流れ
る再循環燃焼廃ガスを最初に受け、次に、放射方
向に流れる第２のガスを含む空気、ハロゲン及び
水蒸気を受ける。これらの第１及び第２のガス
は、環状のふるいを取り巻く環状の長方形の物質
の充満した空間中に共に持ち込まれ、さらに、こ
の空間中においてこの空間を２個の領域に分割す
る一つの環状の邪魔板により分離される。この配
置によれば、明らかに、一部の再循環ガスは第２
のガスを受けつつある触媒領域に下方へ拡散し、
第２のガスの一部は第１のガスを受けつつある触
媒領域に上方へ拡散することが可能である。拡散
現象の生ずる限り、触媒のコークス化表面が所望
の限度まで燃焼してしまつた後にその触媒を表現
するものと言い得る一つの試料を得るために、触
媒より試料を採取し得る環状空間中に特定の場所
があるか否かを決定することは不可能ではないま
でも困難である。

米国特許3768682号及び3973440号に示されるよ
うな試料採取装置がたしかに存在はするが、通常
の方法にあつては、コークスが燃焼し切る限度を
測定せんとする時は、ハロゲン化及び乾燥のよう
な下方域を操作することなく再生器の燃焼域のみ
を操作するのが普通である。非操作ハロゲン化及
び乾燥域を触媒が通過して容器の底部に達し得る
に足る時間再生器が操作された後に、一つの試料
が容器を離れる触媒から取り出される。このよう
な方法は明らかに時間を浪費することであり、こ
の方法が操作の始動によつてのみ行われることは
しばしばである。

（発明が解決しようとする問題点） 特定の触媒材料の一つのカラムを重力によつ
て、一つの第１のガスが接触する一つの上方の処
理域より、一つの第２のガスが接触する別の下方
の処理域へ移送する装置であつて、上記の接触材
料の試料が採取されて、同時に、上記の上方の処
理域における完全な処理が行われた後の接触材料
の状態を表現するような一つの域が決定されるこ
とが、本発明の解決せんとする目的である。

一つのの上方の処理域と一つのの下方の処理域
との間の特定の触媒材料の重力による運動を助け
ることが、本発明の解決せんとする目的である。

上記の重力による運動を自由に行いつつ、下方
の処理域のガスが上方の処理域へ上向きに運動し
ないようにするのも、本発明の目的である。

（問題点を解決するための手段） 触媒の球状粒子のような特定の接触材料は一つ
の処理域から他の処理域へ連続的に移送される。
本発明の装置は触媒再生器について燃焼域及び塩
素処理域を含み、触媒粒子は一つの反応器から本
発明の装置へ移送され、この反応器においては炭
化水素流と反応する過程にて触媒粒子は少なくと
も部分的にコークスにて覆われる。上流の処理域
への触媒粒子の移送はあるリフト噛み合い機或い
は他の適当な移送手段により行われるが、この移
送手段そのものは本発明の一部ではない。触媒粒
子を低位の処理域より他の処理域へ或いはまた反
応器へ移送するのに使用される特殊の装置も同様
に本発明の一部ではない。

第１の、すなわち上方の処理域には、複数の支
持棒の周りをらせん状に包みかつ溶接されたくさ
び形線により製作されるふるいのような、一対の
垂直方向に延伸しかつ放射方向に離隔する有孔部
品が含まれる。上記の米国特許3652231号に示さ
れるように、このふるいは切断後その当初の位置
に直角に再巻き付けされ、くさび形線が触媒粒子
の垂直の流路に並行に伸びるようにすることが好
ましい。このように位置を決めることにより、部
品間の環状空間内を下向きに運動する触媒粒子の
台の損耗は最小となり、かつくさび形線により限
界を決められる垂直流のみぞ穴中に触媒粒子が束
縛される結果を放射方向に流れるガスの圧力によ
り生ずる機会もまた減少する。このみぞ穴中にお
いて、触媒粒子が背圧を増大する可能性があり、
また、ガスの不正分布を生ずる可能性がある筈で
ある。本発明の装置には一対の離隔するふるいの
周りに一つの環状の物質の充満した空間、すなわ
ち領域が含まれ、この空間内へ制御された量の空
気が加えられている再循環燃焼廃ガスのような第
１の処理ガスが導入される。この再循環燃焼廃ガ
スが、例えば0.8％のような相対的に低い酸素量
をもつように空気の付加が制御される。触媒粒子
を廃ガスと共に相対的に長く存在させることによ
り、かつ、ふるい及び触媒粒子を通して廃ガスの
大容積を変更することなく再循環させることによ
り、触媒粒子中のコークスは次第に燃焼して粒子
中の炭素の量百分率は約５％より0.2％に減少す
る。燃焼生成物と共に処理ガスはふるいの放射方
向に内方に位置する中央の蒸気集中域中へ通ず
る。

酸素量がさらに増すと炭素の燃焼がさらに速く
なり、かつ、触媒台にさらに高い温度を生ずるの
で、上方域において酸素量を極めて低く保つこと
が必要である。温度の上昇により破壊を生ずるこ
ととなり、又は、触媒粒子の予期される寿命が少
なくとも減少することはよく知られている。しか
し、以下に検討することにより、触媒粒子が下方
域において酸素を多量に含有するガスに接触する
時にこの粒子が過熱されて破壊されないように、
酸素が十分に与えられて触媒上方域においては十
分のコークスが燃焼されて、また、触媒粒子に十
分の酸素が残されていないこともまた必要であ
る。

本発明の一実施例における遷移域の壁は、底部
におけるものよりも頂部におけるものにおいて離
隔し、この壁は上方域の限界を定める円筒状ふる
いの下向きの延長部を構成する。遷移域の内壁は
その全長において直線状であることが望ましく、
この内壁は触媒粒子についての平滑な流面を現
す。外壁もまた直線状に下向きに延長して不変の
横断面を有する遷移域を設ける。しかしながら、
外壁は、その上方端及び下方端の間にある一つの
中間の領域においては、概して内向きに傾斜して
いるものが好ましい。この構成により、上記の遷
移域の底部は、その頂部におけるよりも環状の横
断面が狭い面積を有することとなる。遷移域の放
射方向における幅が段階的に減少することによつ
ても、この幅内にある触媒粒子の量は、円筒状ふ
るいから下向きに延伸し、同一の高さおよび平行
する壁をもつ一つの域内にあるものに比し、相当
に減少する。横断面の減少が、同一の高さ及び平
行する側面を持つ一つの遷移域に比し、ガス流の
減少を生ずることはさらに重要である。傾斜する
壁によつて試料採取の構造について良い取り付け
位置も与えられる。

遷移域の垂直方向の寸法は、円筒状ふるいの間
の距離に少なくとも等しいか、又は、望ましく
は、この距離より大きくされるべきである。この
寸法によれば、上方域及び下方域間の圧力降下
は、上方域を横切る方向の放射方向の圧力降下よ
り小さくないことが確実となる。上記の関係をも
つ寸法を維持することにより、第１のガスの主要
部分は、上方域のふるい放射方向の内方へ、か
つ、中央の集中域へ通過する。下方域中の上昇ガ
スもまた垂直方向に中央の集中域へ通り、この集
中域は、第１のガス及び第２のガスがそれぞれの
付随する域へ入るときに、それらのガスの有する
圧力より低い一つの圧力にあることは言うまでも
ない。第２のガスは、触媒台の相当程度の背圧及
び第１のガスの小さい下向きの流れを受けるか
ら、遷移域には入らない。第２のガスは、むしろ
背圧のない中央の集中域へ通るのが当然であろ
う。下方領域中の触媒粒子の頂層は集中域の底部
の限界を決めるからここには背圧は存在しない。

遷移域の高さはこの遷移域中の触媒粒子を通じ
て一つの圧力降下が達成される程度であるように
選ばれることが好ましい。この圧力降下とは、遷
移域と下方域との接合点において触媒粒子の流動
化を生ずるに足るだけ圧力降下が遷移域を通して
第１のガスの下向きの流れを阻止するに十分な大
きさをもつ圧力降下である。流動化が生ずれば、
触媒粒子は急速に損耗するはずである。逆に、第
１のガスの少なくとも一部分の相対的には少量の
ものが下向きに流れ続けるのに十分な程遷移域の
高さに短くあるべきである。第１のガスの下向き
の流れにより遷移域を通る触媒粒子の重力による
流れが助成される。第１の域にあるふるい間の距
離に少なくとも等しい遷移高さは、この距離の少
なくとも３倍に等しい遷移高さについて得られる
最高の結果を伴うのに欠くことができない。

（作用） 下方の円筒状域に含まれる触媒粒子は、この円
筒状域の底部から材料が引き出されるにつれて、
この円筒状域を通つて重力により下向きに動く。
遷移域にて上方域及び下方域は結合され、触媒粒
子は上方域より下方域へ均等に分布される。放射
方向の流れの上方域において、第１のガスの大量
の部分及び少量の酸素が空気の形で加えられた再
循環燃焼廃ガスが、連続的に一つの送風機により
典型的に再循環されて、触媒粒子上のコークス表
面を次第に燃焼し切らなげればならない。しかし
ながら、下方の円筒状域においては、触媒粒子が
第２のガス中に単に浸されることによつて状態を
再び整えられることが判明しているから、ガス流
量は実質的には必要でない。第２のガスは第１の
ガスに比し相対的に酸素に富み、Cl₂、HClのよ
うな塩素処理剤、又は有機塩化物の加えられた空
気であることが好ましい。第２のガスは下方の台
を経て中央の蒸気集中域へ徐々に上向きに流れる
ようになる。蒸気集中域の底部は下方の域内にあ
る触媒粒子の上方表面により限界を決められ、ま
た、蒸気集中域の両側面のうち、下方の端部は遷
移域の内方の有孔壁により限界を決められ、さら
に蒸気集中域の両側面のうち、上方の端部は環状
の上方の域の内方の有孔壁により限界を決められ
る。第２のガスにおける浸し期間中において、触
媒粒子が白金を含む状態の下においては、触媒粒
子は少なくとも、この白金が支持体の有用表面積
上に等しく再分布され得るような条件を選択して
再び状態を整えられる。触媒粒子の白金成分は、
コークスが上方の域において触媒粒子を燃焼し切
るにつれて不均等に分布されてくるという傾向が
あることにより、上記の操作が望ましい。

遷移域は一対の内方及び外方の無孔壁から成
り、この壁により一つの垂直方向に延伸するほぼ
環状の流路の限界が決められ、この流路を経て環
状の上方の域を離れつつある触媒粒子はほぼ円筒
状の下方の域の環状の外方の縁部へ実質上均等に
流れ得る。

（実施例） 第１図において、一つの２段階再生器区分から
成る本発明の装置の一具体例は、一つの垂直の圧
力容器１０を含むものと了解される。この圧力容
器１０の円筒状の外壁１４には、図示してない締
め付け手段によつて、一つの取り外し可能の頭部
１２が結合されている。一つの無孔の端部環１６
の上方端部が頭部１２に、また、下方端部が一つ
の有効の内部ふるい円筒１８の上方端部に溶着さ
れている。反応器、或いは他の材料源からの使用
済触媒を受けるのに適する複数の触媒取り入れ導
管２０が頭部１２に取り付けられて、かつ、これ
を貫通している。一つのガス出口取り付け部２２
も頭部１２に取り付けられて圧力容器１０の内部
よりガス類を取り除く。一つの放射状に延長する
ふるい支持用のフランジ２４は頭部１２及び外壁
１４に、フランジ１２′及び１４′の間において取
り付けられて、垂れ下がる一つの上端取り付け環
２７を有する有孔の外部ふるい円筒２６を取り付
けるのに役立つている。内部ふるい円筒１８と外
部ふるい円筒２６との間にある環状空間は、一つ
の上方のガス処理域２８の限界を決め、このガス
処理域２８にはコークス析出物を上にもつ使用済
の触媒粒子３２から成る一つのカラム３０が含ま
れる。触媒粒子の約５重量％に炭素を処理するよ
うな限度をコークスは有するものが典型的であ
る。触媒粒子３２が連続的に一つの第１の処理ガ
スの流れに接触するとき、典型的には、コークス
は実質的に取り除かれ、或いは燃焼されるので、
ガス処理域２８は、また「カーボン燃焼域」とも
称する。上記の第１の処理ガスは、外壁１４とふ
るい円筒２６との間にある一つの環状の分布区分
３６及び一つのガス上記取り入れ部３４を通して
ガス処理域２８に入る。上記の第１の処理ガス
は、ガス出口取り付け部２２を通つて出るガスの
ような再循環燃焼廃ガスであることが好ましく、
この廃ガスに対して十分の空気の量が加えられ、
例えば、約0.8％のような相対的に低い酸素量を
このガスは生ずる。この低い酸素量によりカーボ
ン燃焼比率は低く保たれ、このようにして、触媒
粒子が受ける最高温度は制御されて触媒粒子が過
熱されないように保護される。前述するように、
本発明の装置が正確な試料採取を許容する能力に
より、上記の処理ガスの酸素水準における調整は
可能となり、第１処理ガスの温度を最低にし、か
つ触媒の寿命を増加する。

「カーボン燃焼域」２８の直下には一つの遷移
域４４があり、この遷移域４４は一つの内部無孔
円筒状の端部環５０及び同様の端部環５２によつ
て上方の端部の限界を決められる。端部環５０は
内部ふるい円筒１８の底部端に、また端部環５２
は外部ふるい円筒２６にそれぞれ溶接されてい
る。遷移域４４の下方端の内面は円筒状内壁５４
により限界を決められており、この内壁５４は端
部環５０に溶接される。また、端部環５０を長く
して内壁５４を長くする要求を満たすこともでき
る。

第２図において明らかなごとく、遷移域４４の
外方壁は角付き円錐部分５６及び垂直部分５８に
より限界を決められているので、一つの概して下
方に傾斜する断面を有する。遷移域４４の頂部は
内部ふるい円筒１８及び外部ふるい円筒２６間の
半径方向の空間の幅ｄに等しい幅を有し、底部は
幅ｄの50％より小さいことが好ましい一つの幅
d′を有する。遷移域４４は並列の側壁と一定の幅
の環状の断面積を有するが、図示の概略的に傾斜
する設計のある与えられた高さｈのものについて
は、この遷移域を下方に通過し得る第１の処理ガ
スの量は幅d′の域を通過し得るものに比して減少
することになる。触媒粒子３２が制限された開口
部を通過すべきときに、触媒台中の触媒粒子によ
り生ずる背圧の増加により、上記の流量の減少は
引き起こされる。遷移域４４に傾斜する断面を設
けることにより、触媒粒子３２がこの遷移域を下
方に通過するにつれてカラム３０中に速度の減少
も引き起こされる。触媒粒子の下方への運動は、
第２図の流線により示されるように、分布区分３
６中の処理ガスの小部分が下方へ流れようとする
ことにより助けられる。

上方のガス処理域２８を通る下方への行程を完
了し遷移域４４中へ通過する触媒粒子３２′は、
ガス処理域２８中において達成されたコークスの
燃焼度を正しく表現することは容易に明らかであ
ろう。ガスの取り入れ部６２より入り下方円筒状
の処理域６６を上方に通つて、流体６８のような
分布手段によつて分布される相対的に酸素に富む
ガスに触媒粒子３２′が遷移域４４にて接触する
という機会は事実上無いので、上記の燃焼を正し
く表現する状態は存在するであろう。処理域６６
を上方に通つて流れるガスは中央の収集域７２へ
直接流れる傾向があり、収集域７２において上記
のガスはガス処理域２８を経て放射方向に内方へ
流れるガスと混合し、ガス出口取り付け部２２を
通り処理域から出る。収集域７２の圧力は取り入
れ部３４及び取り入れ部３２の圧力より低い。処
理域６６の頂部６６′は触媒粒子３２″によつての
み限界を決められ、触媒粒子３２″は円筒状内壁
５４の下方縁部５４″の周りを重力によつて流れ、
この上方に流れるガスが遷移域４４へ流れ込む傾
向はない。この流れは、遷移域４４内の触媒粒子
３２′がガスに背圧を導入するので、起こるはず
がない。遷移域４４内にて下方へ流れるガスの少
量も、中央の収集域７２中の圧力よりも高い圧力
にある。

ガス処理域２８及び円筒状の処理域６６を通る
カラム３０の流量は、触媒粒子３２″が出口７４
を経て処理域６６を離れる率によつて定められ
る。処理域６６を離れる触媒粒子は、所望であれ
ば、乾燥操作のような付加的処理を受けることが
あり得るが、これは本発明の一部ではない。

遷移域４４内の触媒粒子３２′の試料を採取す
るために、試料採取装置７６が利用され得る。こ
の試料採取装置の特定の型式は、本発明の一部分
ではないが、一つの弁８０を有し、流量制御弁８
６を有する一つの出口８４にフランジ８２により
結合される試料ボンベ７８から成るものでもよ
い。

第３図は、ガス処理域２８の形状を単に説明す
るもので、棒９２及び９４に溶接されて内部ふる
い円筒１８及び外部ふるい円筒２６を形成するく
さび形線８８及び９０は、みぞ穴９６を有し、こ
のみぞ穴９６は触媒粒子３２の直径より小さい寸
法を有するので、ガスはみぞ穴９６を通つて流れ
が、触媒粒子は流れない。

（発明の効果） 遷移域にある触媒粒子は、コークスが燃焼し切
つた程度を全く均等に現すことが上記の説明から
容易に明らかとなる。このようにして、遷移域に
ある触媒粒子の試料が採取されると、この採取さ
れた試料は燃焼域において達成された処理の水準
を正確に示す。試料採取は連続的に、又は少なく
とも周期的に行われ得るので、再生過程をさらに
よく制御し、過熱により触媒粒子に対して生じ得
べき損傷を最小にすることが可能となる。例え
ば、十分のコークスが燃焼し切つていないことが
試料採取により決定されれば、第１のガス中の酸
素量は増加される。同様に、燃焼が十分に完成し
たと判明すれば燃焼ガスの酸素量は減少され得
る。燃焼度を正確に決定し得る能力は、触媒粒子
の表面上になおかなりの量のコークスを伴つて高
い酸素含有量をもつ下方の域に入り得る触媒粒子
がこの酸素と急速に反応して、2000〓（約1100
℃）を超える温度まで瞬時に触媒粒子は加熱され
得ることを考慮すれば、特に重要である。このよ
うな高温では、触媒粒子は共に溶融し破壊され、
また、上昇してはいるが、やや低い温度では触媒
粒子の有効寿命を大いに短縮する。理想的には、
上方の燃焼域を離れる触媒粒子がコークスを十分
に失つて、酸素に富む下方の域に達する時におい
ても損傷を生ずるような温度増加を受けないよう
になるのに丁度足りる程度に、第１のガスの酸素
水準はあるべきである。上方の域において、上記
のように最小にされた酸素水準は、触媒粒子が上
方の域において最低の温度を受けることをも確実
にする。かくして、触媒粒子の有効寿命を最大に
することができる。従来は、所望する程度のコー
クスの燃焼を確実にするために、上方の域におい
ては絶対的に必要とされものよりも僅かに多い酸
素を設ける試みをするのが必要であつたが、少し
でも過剰の酸素が存在すれば、触媒粒子の温度は
明らかに上昇して触媒の寿命は短縮される。触媒
温度を僅かでも低下する能力、特に、触媒粒子が
１時間、又はそれよりも長い時間滞留する上方の
域において低下する能力は、温度は触媒粒子の寿
命に極めて臨界的であるから、実質的に重要性を
有する。本発明の装置においては、一部のコーク
スが触媒粒子の中央部分に残留するから、上方の
域における低酸素量のガスが触媒粒子上のすべて
のコークスを燃焼し切ることがあり得ない。上方
の域を離れる時に全炭素含有量が約0.2％になる
ようにする残留成分は、触媒粒子がまず下方の域
へ入り、次に高酸素含有ガスに接触する時に、急
速に燃焼し切るであろう。この燃焼により触媒粒
子は当然加熱されるが、その粒子のコークスが所
望の水準にまで低減されることを確実にし、また
この燃焼により上方の燃焼域の上方の部分におい
て到達される温度より僅かでも高い温度が生じ、
この温度は下方の域の残留分の水準まで間もなく
低下する。コークスは殆ど存在せず、また、残り
のコークスが存在する触媒粒子の中央部中へ酸素
が拡散するには、相当の時間が必要であるから、
温度の僅かの期間の上昇もまた別に重大な結果を
生ずることもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の粒子を一つの域から他の域
へ移送するための装置の一具体例の一部切断した
正面図であつて、この装置においては、触媒粒子
は再び状態を整えられ、又は再生され、下降する
触媒粒子は環状の上方の域と環状の遷移域と下方
のほぼ円筒状の域との間を順次遷移され、上記の
遷移域において触媒粒子の試料が採取される。第
２図は、第１図に示す具体例の一部拡大された断
面図であり、遷移域とこの遷移域の上方の域及び
下方の域への取り付け部を示す。第３図は、第２
図の線３−３に沿う横断面図である。 図において、１０；圧力容器、１４；円筒状の
外壁、１６；無孔端部環、１８；内部ふるい円
筒、２０；触媒取り入れ導管、２２；ガス出口取
り付け部、２４；ふるい支持用のフランジ、２
６；外部ふるい円筒、２７；上端取り付け環、２
８；ガス処理域（カーボン燃焼域）、３０；カラ
ム、３２，３２′，３２″；使用済の触媒粒子、３
４；ガス蒸気の取り入れ部、４４；遷移域、５
０，５２；端部環、５４；円筒状内壁、６２；ガ
スの取り入れ部、６６；下方円筒状の処理域、６
８；流体分布器、７２；中央の収集域、７４；出
口、７６；試料採取装置、８８，９０；くさび形
線。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下向きに動く接触材料の粒子を、一つの上方
   の環状域を放射方向に貫通して流れる一つの第１
   のガス流に接触するのに適する上記の上方の環状
   域より、上記の接触材料の粒子が一つの第２のガ
   ス流に接触するのに適する一つの下方の域へ移送
   し又は分布するための装置であつて、上記の上方
   の環状域は一対の同軸で放射方向に離隔するふる
   い要素の軸方向に延伸する部分により限界が決め
   られており、上記の延伸する部分はこれを貫通し
   てガス流は許容されるが接触粒子は許容されない
   寸法の複数のガス流開口部を含むように形成され
   ており、上記の下方の域はこの下方の域中にある
   接触粒子を放射方向に制限する一つの垂直方向に
   延伸する無孔の外側の壁部を有し概して円筒状の
   形状をもつものであり、上記の外側の壁部は上記
   の一対のふるい要素の放射方向に外方のものに一
   つの概して環状の遷移要素の外方の壁によつて結
   合されており、上記の環状の遷移要素は上記の下
   方の域の外側の壁部にまた外方のふるい要素に結
   合される一つの外方の壁部及び一つの概して円筒
   状の無孔の内方の壁部を含むものであり、この無
   孔の内方の壁部は上記の一対のふるい要素の放射
   方向に内側のものに結合されており、上記の内方
   の壁部の底端部は上記の下方の域内において接触
   粒子の到達し得る上方の高さの限度を決めるもの
   であり、上記の下方の域はこの域の上方に位置す
   る一つの概して円筒状の蒸気集中域と同軸でかつ
   これと直接開放して流通するものであり、この蒸
   気集中域の側壁はその下方の部分において上記の
   装置により少なくとも上記の上方の環状域に近い
   一つの場所において限界を決められており、一つ
   の選定された圧力を有する上記の第２ガス流を上
   記の装置の下方の部分に導入しこのガス流が上記
   の下方の域を経て上向きに流れ得るようにする手
   段が設けられ、上記の第１及び第２のガス流はそ
   れぞれの域内にある接触粒子の台を経てまず流
   れ、ついで上記の蒸気集中域へ流れるのにおのお
   の適しており、この蒸気集中域は第１及び第２の
   ガス流のいずれかの選定された圧力より低い圧力
   に維持されて上記の第２のガス流は上記の下方の
   域の頂部から上記の蒸気集中域へ直接通過し、上
   記の遷移要素の内方の壁部は上記の上方の域及び
   下方の域の間にある一つの粒子を含む遷移域の垂
   直方向の高さの限界を決めるのに役立ち、この遷
   移域は上記のふるい要素間の放射方向の距離より
   は小さくなく、かつ接触材料の粒子を十分に含ん
   で上記の第２ガス流が上記の遷移域に入らないよ
   うにする背圧を発生するのに足りる垂直方向の高
   さを有するものであることを特徴とする粒子を一
   つの域から他の域へ移送するための装置。 ２ 上記の遷移域は上記のふるい要素間の放射方
   向の距離の少なくとも３倍の垂直方向の高さを有
   する特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ３ 上記の遷移域はこの遷移域を通る上記の第１
   のガス流の下向きの流れをいずれの粒子をも流動
   化するには不十分である一つの速度に制限するの
   に十分な一つの垂直方向の高さを有する特許請求
   の範囲第１項に記載の装置。 ４ 上記の接触材料は多孔触媒粒子から成る特許
   請求の範囲第１項に記載の装置。 ５ 一つの試料採取場所が上記の上方の域及び下
   方の域の間にある一つの位置において上記の遷移
   要素に取り付けられ、この試料採取において上記
   の遷移域にある接触材料粒子の試料採取が可能と
   なる特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ６ 上記の遷移要素の壁部がその底部においては
   その頂部におけるよりもさらに接近して合体する
   ようにこの遷移要素が形成される特許請求の範囲
   第１項に記載の装置。 ７ 上記の遷移要素の壁部がその底部において上
   記のふるい要素間の放射方向の距離50％より小さ
   い放射方向の空間を壁部の相互間に置く特許請求
   の範囲第６項に記載の装置。